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JPH08256290A - Image pickup device - Google Patents

Image pickup device

Info

Publication number
JPH08256290A
JPH08256290A JP7058904A JP5890495A JPH08256290A JP H08256290 A JPH08256290 A JP H08256290A JP 7058904 A JP7058904 A JP 7058904A JP 5890495 A JP5890495 A JP 5890495A JP H08256290 A JPH08256290 A JP H08256290A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
control
state
exposure state
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7058904A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kyoji Tamura
恭二 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP7058904A priority Critical patent/JPH08256290A/en
Priority to US08/614,196 priority patent/US6980251B1/en
Publication of JPH08256290A publication Critical patent/JPH08256290A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Image Input (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

PURPOSE: To correct an exposure of an object optimizingly with a simple operation by selecting a video image area intended by a photographer, detecting an exposure state of the video area corresponding to position information with emphasis and storing the corrected exposure. CONSTITUTION: A 2-dimension position selection means 21 selects a signal corresponding to a prescribed part of a screen from a video signal outputted from an image pickup element 3, and a photometry control means 20 and an AE detection circuit 17 detect an exposure state of a video image area corresponding to a position selected by the 2-dimension position selection means 21 with emphasis. Then an automatic exposure control section 18e, an AGC control section 18a, an electronic shutter control section 18b and an iris control section 18c control the exposure state in response to the detection signal and when an exposure state discrimination section 18f discriminates an optimum exposure state, a data hold section 18d stores control variables to keep the exposure state. Thus, a video image intended by a photographer is obtained with a simple operation regardless of performance of a monitor means such as an electronic view finder or the like.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は撮像装置の露出制御に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to exposure control of an image pickup device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ビデオカメラ等の映像機器の進歩
は著しく、その多機能化、高性能化が図られており、と
くにいかなる撮影状況でも常に最適な撮影を行うことが
できるようにするためには、その露出制御が極めて重要
である。
2. Description of the Related Art In recent years, video equipment such as a video camera has been remarkably advanced, and its multifunction and high performance have been improved. In particular, in order to always perform optimal shooting in any shooting situation. The exposure control is extremely important for the camera.

【0003】図4は本願に先行するビデオカメラ等の撮
像装置装置の一例の構成を示すブロツク図である。
FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of an example of an image pickup apparatus such as a video camera prior to the present application.

【0004】同図における撮像装置の構成は1は被写体
の結像用レンズ群、2は入射光量を制御する絞り羽根構
造のアイリスや透過光量を制御する液晶手段などの絞り
機構でありここではアイリスを用いた場合を示す。
The structure of the image pickup apparatus in the figure is as follows: 1 is an image forming lens group for an object, and 2 is a diaphragm mechanism such as an iris of a diaphragm blade structure for controlling the amount of incident light or liquid crystal means for controlling the amount of transmitted light. Shows the case of using.

【0005】3は入射した光を光電変換するCCD等の
撮像素子、4は前記絞り機構の状態を検出するホール素
子等を用いた絞り検出手段、5は前記絞り機構を駆動す
るIGメーター等の駆動モーター、6は前記撮像素子3
を制御し光電変換された撮像信号を読み出すとともに、
信号の蓄積時間を制御するいわゆる電子シヤツター機能
を制御する撮像素子制御回路、7は前記撮像素子3で光
電変換された信号をサンプリングするサンプルホールド
回路、8はサンプルホールド回路7より出力された撮像
信号を電気的に増幅するゲインを可変のオートゲインコ
ントロール回路(以下AGC回路と称す)である。
Reference numeral 3 is an image pickup device such as a CCD for photoelectrically converting incident light, 4 is a diaphragm detecting means using a hall element for detecting the state of the diaphragm mechanism, and 5 is an IG meter for driving the diaphragm mechanism. Drive motor, 6 is the image pickup device 3
And read out the photoelectrically converted image pickup signal,
An image sensor control circuit for controlling a so-called electronic shutter function for controlling a signal storage time, 7 is a sample hold circuit for sampling a signal photoelectrically converted by the image sensor 3, and 8 is an image signal output from the sample hold circuit 7. Is an automatic gain control circuit (hereinafter, referred to as an AGC circuit) having a variable gain for electrically amplifying.

【0006】9はガンマー補正、色分離、色差マトリク
ス等の処理を施した後、同期信号を加え標準TV信号を
生成するカメラ信号処理回路であり、アナログ信号状態
で処理を施すカメラ信号処理回路である。
Reference numeral 9 is a camera signal processing circuit for generating a standard TV signal by adding a synchronizing signal after processing such as gamma correction, color separation, and color difference matrix, and is a camera signal processing circuit for processing in an analog signal state. is there.

【0007】10はビデオ信号をテープに記録するビデ
オテープレコーダ(以下VTRと称す)、11は撮影し
ている映像をモニターするための電子ビユーフアインダ
(以下EVFと称す)、12は前記AGC回路8の出力
映像信号から被写体の露出状態を検出するAE検波回路
であり、映像信号の輝度レベルを所定期間において積分
する積分回路からなる。
Reference numeral 10 is a video tape recorder (hereinafter referred to as VTR) for recording a video signal on a tape, 11 is an electronic viewfinder (hereinafter referred to as EVF) for monitoring an image being photographed, and 12 is the AGC circuit 8. An AE detection circuit for detecting the exposure state of the subject from the output video signal, and an integration circuit for integrating the luminance level of the video signal in a predetermined period.

【0008】13は前記AE検波回路12の検出信号か
ら前記絞り機構2、前記撮像素子制御回路6で制御され
る電子シヤツターのシヤツター速度、前記AGC回路8
のゲイン等を制御する露出制御回路である。
Reference numeral 13 denotes a shutter speed of an electronic shutter controlled by the diaphragm mechanism 2 and the image pickup device control circuit 6, based on the detection signal of the AE detection circuit 12, and the AGC circuit 8.
Is an exposure control circuit for controlling the gain and the like of the.

【0009】また14は前記露出制御回路13の出力に
応じて前記絞り機構2を駆動するモーターを動かすアイ
リス駆動回路、15はマニユアル露出制御時の露出設定
を行なう露出設定キー、16は露出制御方法を選択する
露出制御オート/マニユアル選択キーである。
Reference numeral 14 is an iris drive circuit for moving a motor for driving the diaphragm mechanism 2 in accordance with the output of the exposure control circuit 13, reference numeral 15 is an exposure setting key for setting exposure during manual exposure control, and 16 is an exposure control method. Exposure control auto / manual selection key to select.

【0010】露出制御回路13の内部の構成は、AE検
波回路12から出力された平均輝度レベル出力は、オー
トアイリス制御を行うためのオート露出制御回路13d
へと供給され、ここで基準信号と比較され、映像信号の
輝度レベルが所定値に一定となるようにAGC制御部1
3a,撮像素子の蓄積時間を可変する電子シヤツター制
御部13b,アイリス制御部13cを制御して、それぞ
れAGC,電子シヤツタ,アイリスの動作状態を制御す
るように構成されている。
The internal configuration of the exposure control circuit 13 is such that the average brightness level output from the AE detection circuit 12 is an automatic exposure control circuit 13d for performing automatic iris control.
To the AGC control unit 1 so that the luminance level of the video signal becomes constant at a predetermined value.
3a, an electronic shutter control section 13b and an iris control section 13c for varying the storage time of the image pickup device, respectively, to control the operating states of the AGC, electronic shutter and iris, respectively.

【0011】また13eはマニユアルアイリス制御を行
うためのマニユアル露出制御回路で、露出設定キー15
の操作により、ルツクアツプテーブル13hより、その
露出設定キー15の操作にアイリス絞り値を読み出し、
比較回路13gへと供給され、アイリスエンコーダ4か
らの絞り値情報と比較され、露出設定キー15の操作値
とアイリスエンコーダ4からの絞り値の差に応じた情報
を出力するように構成されている。
Reference numeral 13e is a manual exposure control circuit for controlling the manual iris, and the exposure setting key 15
Operation, the iris aperture value is read from the look-up table 13h by operating the exposure setting key 15,
It is supplied to the comparison circuit 13g, is compared with the aperture value information from the iris encoder 4, and is configured to output information according to the difference between the operation value of the exposure setting key 15 and the aperture value from the iris encoder 4. .

【0012】そして比較回路13gより出力されたアイ
リス制御情報は、補正演算回路13fによつて所定の露
出補正、あるいは絞りの特性の補正を行った後、アイリ
ス駆動部13cへと供給され、アイリス駆動モーター6
を介してアイリス2を駆動する。
The iris control information output from the comparison circuit 13g is supplied to the iris drive section 13c after being subjected to predetermined exposure correction or aperture characteristic correction by the correction calculation circuit 13f, and then iris drive. Motor 6
Drive iris 2 via.

【0013】この結果アイリス2は、比較回路13gの
入力が互いに等しくなるように、すなわちその絞り値
が、露出設定キー15で設定した絞り値に等しくなるま
で、駆動されることになり、マニユアルによるアイリス
制御が可能となる。
As a result, the iris 2 is driven so that the inputs of the comparison circuit 13g become equal to each other, that is, until the aperture value becomes equal to the aperture value set by the exposure setting key 15, which depends on the manual operation. Iris control is possible.

【0014】またA/MSWは、露出制御オート/マニ
ユアル選択キー16により、それぞれA接点側に切り換
えた場合にオート露出制御回路13dを選択し、M接点
側に切り換えた場合にマニユアル露出制御回路13eを
選択するスイツチである。
Further, the A / MSW selects the automatic exposure control circuit 13d by the exposure control auto / manual selection key 16 when it is switched to the A contact side, and the manual exposure control circuit 13e when it is switched to the M contact side. Is a switch for selecting.

【0015】上記構成による撮像装置によれば、様々な
場所、様々な状況下で簡単な撮影で最適な映像が得られ
ることを可能とするために、AE検波回路12で映像信
号より被写体の変化による露出の変化を検出し、露出制
御回路13において前記AE検波回路12の検出信号を
基に絞り機構2、撮像素子3の蓄積時間を制御する電子
シヤツター、AGC回路8のゲイン等の露出制御パラメ
ーターの選択及び各パラメーターの補正量を決定し、常
に安定した最適な露出になるように制御を行なう。
According to the image pickup apparatus having the above-mentioned structure, in order to enable the optimum image to be obtained by simple photographing in various places and under various conditions, the AE detection circuit 12 changes the subject from the image signal. The exposure control parameters such as the gain of the AGC circuit 8 and the electronic shutter for controlling the accumulation time of the diaphragm mechanism 2 and the image pickup device 3 are detected by the exposure control circuit 13 based on the detection signal of the AE detection circuit 12 And the correction amount of each parameter are determined, and control is performed so that stable and optimum exposure is always obtained.

【0016】このように撮影者の手を煩わすこと無く、
自動で最適な露出制御を行なうことが可能である。更に
前記AE検波回路12において、露出制御のための映像
信号の検出領域や検出位置の設定により測光分布を制御
することでより最適な撮影を可能とする。
Thus, without bothering the photographer's hand,
It is possible to automatically perform optimum exposure control. Further, in the AE detection circuit 12, by controlling the photometric distribution by setting the detection area and the detection position of the video signal for exposure control, more optimal photography is possible.

【0017】例えば全映像領域を検出し、該検出信号が
一定のレベルになるように露出制御するいわゆる平均測
光や映像領域の中心部分だけを検出し、該検出信号が一
定のレベルになるように露出制御する中央重点測光方法
を行なうことが可能である。
For example, so-called average photometry in which the entire image area is detected and exposure control is performed so that the detection signal has a constant level, or only the central portion of the image area is detected, and the detection signal has a constant level. It is possible to implement a center-weighted metering method with exposure control.

【0018】またAE検波回路において全映像領域の検
出データと中央重点領域の検出データにそれぞれ重み付
けを行い、各データを一定の比率で加算して得られた検
出データを基に露出制御を行なうことで、平均測光と中
央重点測光を組み合わせた測光による露出制御が可能で
あり、それぞれの測光方式の欠点を補い、より最適な露
出を提供する。
Further, in the AE detection circuit, the detection data of the entire image area and the detection data of the central emphasis area are respectively weighted, and exposure control is performed based on the detection data obtained by adding each data at a constant ratio. With this, exposure control can be performed by photometry that combines average photometry and center-weighted photometry, and it compensates for the shortcomings of each photometry method and provides more optimal exposure.

【0019】また画面を細分割しそれぞれの領域の映像
検出を行ない、露出制御に用いる検出データの領域を制
限したり、重み付けを変えたりすることで、より細かな
露出制御を行なうことができる。
Further, finer exposure control can be performed by subdividing the screen to detect the image of each area and limiting the area of the detection data used for the exposure control or changing the weighting.

【0020】しかし上述した測光方法においても露出制
御された状態が常に撮影者が意図する露出状態であると
は限らない。
However, even in the above-described photometric method, the exposure-controlled state is not always the exposure state intended by the photographer.

【0021】例えば逆光での人物撮影の場合、背景の明
るい部分に影響され人物の露出状態が暗く沈む、いわゆ
る黒つぶれになったり、スポツトライト光で照らされた
人物撮影のように過順光の場合は、逆に人物の露出状態
が明るくなりすぎてしまう、いわゆる白飛びになったり
する。
For example, in the case of shooting a backlit person, the exposure state of the person is darkened by what is affected by the bright part of the background, that is, it becomes a so-called black shadow, or when the person is illuminated by a spotlight, the light is over-exposure. In such a case, on the contrary, the exposure state of the person becomes too bright, or so-called overexposure occurs.

【0022】このような撮影状況に対応するために従来
より撮影者が手動で露出状態を設定するマニユアル露出
補正手段が考案されている。マニユアル露出補正手段の
一手段である前記絞り機構2の状態を前記AE検波回路
12の検出信号と関係無く、撮影者が設定した絞り状態
を保持する、いわゆるマニユアルアイリス手段を説明す
る。
In order to deal with such a photographing situation, conventionally, a manual exposure correcting means has been devised in which a photographer manually sets an exposure state. A so-called manual iris means for holding the diaphragm state set by the photographer regardless of the state of the diaphragm mechanism 2 which is one means of the manual exposure correcting means and the detection signal of the AE detection circuit 12 will be described.

【0023】撮影者は露出制御オート/マニユアル選択
キー16によって露出制御方法の自動・手動を選択し、
手動による露出制御方法を選択した場合は露出制御回路
13内部の制御手段がマニユアル露出制御部に切り換わ
る。
The photographer selects automatic / manual exposure control method with the exposure control auto / manual selection key 16.
When the manual exposure control method is selected, the control means inside the exposure control circuit 13 is switched to the manual exposure control section.

【0024】マニユアル露出制御部ではルツクアツプテ
ーブル(以下LUT)と該LUTデータとアイリスの絞
り具合を検出するアイリスエンコーダー4の検出信号と
を比較する比較手段を備え、LUTには図6のに示す
ように、アイリスのオープン状態からクローズ状態まで
のF値で表されるような代表的な絞り状態を設定し、そ
れぞれの絞り状態に対応したアイリスエンコーダー4の
値が設定されている。
The manual exposure control section is provided with a look-up table (LUT) and a comparing means for comparing the LUT data with the detection signal of the iris encoder 4 for detecting the aperture of the iris. As described above, a typical aperture state represented by the F value from the open state to the closed state of the iris is set, and the value of the iris encoder 4 corresponding to each aperture state is set.

【0025】露出設定キー15で撮影者がEVF11の
画面をモニターしながら被写体の明るさを意図する明る
さに選択することにより、露出設定キー15の設定信号
に応じてLUTの読み出すデータが選択され、データと
前記アイリスエンコーダー4の出力信号とを比較手段で
比較を行なう。
The exposure setting key 15 allows the photographer to monitor the screen of the EVF 11 while selecting the brightness of the subject to be the intended brightness, whereby the data to be read by the LUT is selected in accordance with the setting signal of the exposure setting key 15. , And the output signal of the iris encoder 4 are compared by a comparison means.

【0026】前記比較手段の比較結果、差がある場合は
補正量を演算し、アイリスエンコーダー4の値がルツク
アツプテーブルで読み出したデータと等しくなるように
アイリスを制御する。
If there is a difference as a result of the comparison by the comparing means, a correction amount is calculated, and the iris is controlled so that the value of the iris encoder 4 becomes equal to the data read out from the look-up table.

【0027】これにより被写体の露出状態を撮影者が意
図する明るさに補正することが可能となる。この際、A
GC、電子シヤツターの制御値はあらかじめLUTに設
定された固定値に設定されるか、露出制御方法をオート
からマニユアルに切り換えたときの制御値に固定される
が、アイリスと同様に露出設定キーで設定値を選択する
ようにした場合は撮影状況に合わせた細かな露出設定が
行なえる。
This makes it possible to correct the exposure state of the subject to the brightness intended by the photographer. At this time, A
The control values for the GC and electronic shutter are set to the fixed values set in advance in the LUT, or fixed to the control values when the exposure control method is switched from auto to manual. If you select a setting value, you can make detailed exposure settings according to the shooting conditions.

【0028】[0028]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
マニユアルアイリス手段に限らずマニユアル露出制御手
段ではEVF11等のモニター手段で露出状態を確認し
ながら露出補正を行なう必要があるにも係わらず、モニ
ター手段であるEVF11は片目で見るような小型化さ
れているものが一般的であるために画面サイズが小さ
く、更にカラー化に伴い液晶手段を用いたEVFにおい
てはダイナミツクレンジが十分ではない不具合などによ
り、正確な被写体の露出状態を確認することが困難であ
るために最適な露出設定が行ない難く、撮影者が意図す
る露出状態と実際に設定された露出状態にずれが生じた
りすることがある。
However, not only the above-mentioned manual iris means but also the manual exposure control means need to perform exposure correction while confirming the exposure state with the monitor means such as EVF11. A certain EVF 11 is generally small in size so that it can be seen with one eye, so the screen size is small, and due to the fact that the EVF using liquid crystal means does not have a sufficient dynamic range due to colorization. Since it is difficult to confirm the accurate exposure state of the subject, it is difficult to set the optimum exposure, and the exposure state intended by the photographer may deviate from the actually set exposure state.

【0029】更に複雑なキー入力操作を必要とするため
に、ある程度の撮影経験が必要となり、撮影経験の少な
い撮影者では使いこなせない問題がある。
Since a more complicated key input operation is required, a certain amount of photography experience is required, and there is a problem that a photographer with little photography experience cannot use it.

【0030】そこで本発明の課題は、EVFなどのモニ
ター手段の性能に係わらず、簡単な操作で撮影者が狙っ
た被写体の露出状態を最適に補正することが可能な撮像
装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide an image pickup apparatus capable of optimally correcting the exposure state of a subject aimed by a photographer by a simple operation regardless of the performance of a monitor means such as an EVF. is there.

【0031】[0031]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本願の請求項1に記載の発明によれば、撮像手段
(実施例では撮像素子3に相当する)と、前記撮像手段
より出力された映像信号中より、画面内の所定部分に相
当する信号を選択する位置選択手段(実施例では2次元
位置選択手段21に相当する)と、前記位置選択手段で
選択された位置に対応した映像領域の露出状態を重点的
に検出する検出手段(実施例では測光エリア制御手段2
0,AE検波回路17に相当する)と、前記検出手段の
検出信号に応じて露出状態を制御する露出制御手段(実
施例ではオート露出制御部18e,AGC制御部18
a,電子シヤツター制御部18b,アイリス制御部18
cに相当する)と、前記露出状態が最適になったか否か
の判別を行なう露出状態判別手段(実施例では露出状態
判別部18fに相当する)と、前記露出制御手段の制御
値を記憶して前記露出状態を保持する露出状態保持手段
(実施例ではデータホールド部18dに相当する)と、
前記検出手段で検出した検出信号を基にして前記位置選
択手段で選択された位置に対応した領域の露出状態が最
適になるように前記露出制御手段に露出制御を行わせ、
前記露出状態判別手段で露出状態が最適になったと判断
されると前記露出状態保持手段にその時点の露出状態を
保持させる制御手段(実施例では露出補正実行キー2
2,スイツチSW1,スイツチSW2に相当する)とを
備えた構成とする。
In order to solve the above-mentioned problems, according to the invention described in claim 1 of the present application, an image pickup means (corresponding to the image pickup element 3 in the embodiment) and the image pickup means are provided. Corresponding to the position selection means (corresponding to the two-dimensional position selection means 21 in the embodiment) for selecting a signal corresponding to a predetermined portion in the screen from the output video signals, and the position selected by the position selection means. Detection means (in the embodiment, the photometric area control means 2) that focuses on detecting the exposed state of the image area.
0, which corresponds to the AE detection circuit 17) and an exposure control unit (in the embodiment, an automatic exposure control unit 18e and an AGC control unit 18) that controls the exposure state according to the detection signal of the detection unit.
a, electronic shutter control unit 18b, iris control unit 18
(corresponding to c), an exposure state determination unit (corresponding to the exposure state determination unit 18f in the embodiment) for determining whether or not the exposure state has been optimized, and a control value of the exposure control unit. Exposure state holding means for holding the exposure state (corresponding to the data hold unit 18d in the embodiment),
Causing the exposure control means to perform exposure control so that the exposure state of the region corresponding to the position selected by the position selection means becomes optimum based on the detection signal detected by the detection means,
When the exposure state determination means determines that the exposure state is optimized, the exposure state holding means holds the exposure state at that time (in the embodiment, the exposure correction execution key 2).
2, the switch SW1 corresponds to the switch SW2).

【0032】また本願の請求項2に記載の発明によれ
ば、前記位置選択手段(実施例では2次元位置選択手段
21に相当する)として前記電子ビユーフアインダーの
画面における撮影者が注視している位置情報を検出する
注視点位置検出手段、ジヨイステイツク、トラツクボー
ル、マウス、タツチパネルなどの2次元位置選択手段を
用いた構成を用いる。
According to the invention of claim 2 of the present application, the photographer on the screen of the electronic viewfinder is gazing as the position selecting means (corresponding to the two-dimensional position selecting means 21 in the embodiment). A structure using two-dimensional position selecting means such as a gazing point position detecting means for detecting position information, a joystick, a track ball, a mouse, a touch panel, etc. is used.

【0033】[0033]

【作用】本願の請求項1に記載の発明によれば、画面内
の任意の位置の被写体に測光エリアを移動することがで
き、その被写体に対して露出状態を最適に補正した後、
その露出制御状態を保持することができる。
According to the invention described in claim 1 of the present application, the photometric area can be moved to a subject at an arbitrary position on the screen, and after the exposure state is optimally corrected for the subject,
The exposure control state can be maintained.

【0034】また本願の請求項2に記載の発明によれ
ば、注視点位置検出手段、ジヨイステイツク、トラツク
ボール、マウス、タツチパネルなどの2次元位置選択手
段を用いで画面の任意の位置における露出状態を最適化
できる。
According to the second aspect of the present invention, the exposure state at any position on the screen can be determined by using the two-dimensional position selecting means such as the gazing point position detecting means, the joystick, the track ball, the mouse and the touch panel. Can be optimized.

【0035】[0035]

【実施例】【Example】

(第1の実施例)以下、本発明の実施例を図面を用いて
説明する。
(First Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0036】図1は本発明の第1の実施例の構成を表す
ブロツク図である。前述の図4に示す先行例と同符号で
示した部分は同様の機能を有するものであり、その説明
は省略する。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the first embodiment of the present invention. The parts denoted by the same reference numerals as those of the preceding example shown in FIG. 4 have the same functions, and the description thereof will be omitted.

【0037】図4の構成と異なる点は、画面内における
任意の位置を指定する(2次元)位置選択手段21、測
光エリア制御手段20、露出補正実行キー22が新たに
追加されたこと、及びAE検波回路17、露出制御回路
18の機能が異なる点である。他の映像信号を処理する
過程は同様である。
The difference from the configuration of FIG. 4 is that a (two-dimensional) position selection means 21 for designating an arbitrary position on the screen, a photometric area control means 20, and an exposure correction execution key 22 are newly added. The difference is that the functions of the AE detection circuit 17 and the exposure control circuit 18 are different. The process of processing other video signals is similar.

【0038】通常は図4の先行例と同様にAE検波回路
17で映像信号より被写体の変化による露出の変化を検
出し、露出制御回路18において前記AE検波回路17
の検出信号を基に絞り機構(アイリス)2、撮像素子3
の蓄積時間を制御する電子シヤツター、AGC回路8の
ゲイン等の露出制御パラメーターの選択及び各パラメー
ターの補正量を決定し、常に安定した最適な露出になる
ように制御を行なう。
Normally, as in the prior art example of FIG. 4, the AE detection circuit 17 detects the change in exposure due to the change in the subject from the video signal, and the exposure control circuit 18 detects the change in the AE detection circuit 17.
Aperture mechanism (iris) 2 and image sensor 3 based on the detection signal of
The exposure control parameters such as the electronic shutter and the gain of the AGC circuit 8 for controlling the storage time of the exposure parameters are selected and the correction amount of each parameter is determined, and the control is performed so that the exposure is always stable and optimal.

【0039】露出制御回路18の内部の構成は、AE検
波回路17から出力された平均輝度レベル出力は、オー
トアイリス制御を行うためのオート露出制御回路18e
へと供給され、ここで基準信号と比較され、映像信号の
輝度レベルが所定値に一定となるようにAGC制御部1
8a,撮像素子の蓄積時間を可変する電子シヤツター制
御部18b,アイリス制御部18cを制御して、それぞ
れAGC,電子シヤツタ,アイリスの動作状態を制御す
るように構成されている。
The internal structure of the exposure control circuit 18 is such that the average luminance level output from the AE detection circuit 17 is an automatic exposure control circuit 18e for performing automatic iris control.
To the AGC control unit 1 so that the luminance level of the video signal becomes constant at a predetermined value.
8a, an electronic shutter control unit 18b and an iris control unit 18c for varying the storage time of the image pickup device, respectively, to control the operating states of the AGC, electronic shutter, and iris, respectively.

【0040】ただしオート露出制御回路18eとAGC
制御部18a,電子シヤツター制御部18b,アイリス
制御部18cとの間には、それぞれその制御データをホ
ールドするAGCデータホールド部181,電子シヤツ
ターデータホールド部182,アイリスデータホールド
部183からなるデータホールド部18dが設けられて
いる。
However, the automatic exposure control circuit 18e and the AGC
A data hold consisting of an AGC data hold unit 181, an electronic shutter data hold unit 182, and an iris data hold unit 183, which hold control data for the control unit 18a, the electronic shutter control unit 18b, and the iris control unit 18c, respectively. The portion 18d is provided.

【0041】また18fは、後述のスイツチSW1がO
N状態の場合だけスイツチSW2をONしてオート露出
制御部の演算結果より適性露出状態になったか否かの判
別を行ない、適性露出状態と判別される場合にデータホ
ールド部がホールドON状態となる制御信号を出力する
露出状態判別部である。
Further, in 18f, the switch SW1 to be described later becomes O.
Only in the N state, the switch SW2 is turned on to determine whether or not the proper exposure state has been obtained based on the calculation result of the auto exposure control unit. When the proper exposure state is determined, the data hold unit is in the hold ON state. The exposure state determination unit outputs a control signal.

【0042】したがつて、上記構成によれば、様々な場
所、様々な状況下で簡単な撮影で最適な映像が得られる
ことを可能とするために、AE検波回路17で映像信号
より被写体の変化による露出の変化を検出し、露出制御
回路18において前記AE検波回路17の検出信号を基
に絞り機構2、撮像素子3の蓄積時間を制御する電子シ
ヤツター、AGC回路8のゲイン等の露出制御パラメー
ターの選択及び各パラメーターの補正量を決定し、常に
安定した最適な露出になるように制御を行なう。
Therefore, according to the above configuration, in order to enable the optimum image to be obtained by simple photographing in various places and under various conditions, the AE detection circuit 17 detects the object from the image signal. The exposure control circuit 18 detects the change in the exposure, and the exposure control circuit 18 controls the exposure time of the aperture mechanism 2 and the image pickup device 3 based on the detection signal of the AE detection circuit 17 and the electronic shutter for controlling the storage time of the image sensor 3. The parameters are selected and the amount of correction for each parameter is determined, and control is performed so that stable and optimum exposure is always achieved.

【0043】一方、(2次元)位置選択手段21は、E
VF画面を見ながら、画面内の注視点を検出する視線検
出装置、ジヨイステイツク、トラツクボール、マウス、
タツチパネル等の2次元平面内において、その水平位置
及び垂直位置を指定できるものであれば適用可能であ
る。そしてこの(2次元)位置選択手段21によつて選
択された指定位置は、表示回路19に供給されて所定の
指標(例えば枠表示、カーソル表示等)をEVE11の
画面にスーパーインポーズ表示する。
On the other hand, the (two-dimensional) position selecting means 21
A line-of-sight detection device that detects the gazing point on the screen while looking at the VF screen, a Joystick, a trackball, a mouse,
It is applicable as long as the horizontal position and the vertical position can be designated within a two-dimensional plane such as a touch panel. The designated position selected by the (two-dimensional) position selecting means 21 is supplied to the display circuit 19 and a predetermined index (for example, frame display, cursor display, etc.) is superimposed on the screen of the EVE 11.

【0044】20は(2次元)位置選択手段21によつ
て指定された画面内の位置に、測光エリアを設定するた
めの測光エリア制御手段(回路)であり、AE検波回路
17ないのゲート回路をON/OFFすることにより、
(2次元)位置選択手段21によつて指定された位置に
相当するAE検波回路17内の出力のみを通過させるよ
うに制御する。
Reference numeral 20 is a photometric area control means (circuit) for setting a photometric area at a position on the screen designated by the (two-dimensional) position selection means 21, and is a gate circuit of the AE detection circuit 17. By turning ON / OFF,
It is controlled so that only the output in the AE detection circuit 17 corresponding to the position designated by the (two-dimensional) position selection means 21 is passed.

【0045】22は露出補正実行キーであり、これをO
N/OFFすることによりAE検波回路17と測光エリ
ア制御回路20の間に設けられたスイツチSW1、オー
ト露出制御部18eと露出状態判別部18fの間に設け
られたスイツチSW2をON/OFFするものである。
Reference numeral 22 denotes an exposure correction execution key, which is set to O
A switch SW1 provided between the AE detection circuit 17 and the photometric area control circuit 20 and a switch SW2 provided between the automatic exposure control section 18e and the exposure state determination section 18f are turned on / off by turning it on / off. Is.

【0046】そして、露出補正実行キーがOFFの状態
では、スイツチSW1はOFF状態であり、AE検波回
路17は測光エリア制御手段20と切り離され、固定の
測光エリアの測光情報を出力し、またスイツチSW2も
OFFになることから、露出状態判別部18fがオート
露出制御部18eと切り離され、データホールド部18
dを制御する出力信号もホールドOFF信号が出力さ
れ、通常の図4で説明したオート露出制御動作と同様
に、映像信号の変化に追従して各露出制御パラメーター
の補正が行なわれる状態となり、常に安定した最適な露
出制御が自動的に行なわれる。
When the exposure correction execution key is in the OFF state, the switch SW1 is in the OFF state, the AE detection circuit 17 is disconnected from the photometry area control means 20, outputs the photometry information of the fixed photometry area, and switches the switch. Since SW2 is also turned off, the exposure state determination unit 18f is separated from the automatic exposure control unit 18e, and the data hold unit 18
A hold-OFF signal is also output as an output signal for controlling d, and similarly to the normal auto-exposure control operation described with reference to FIG. 4, the exposure control parameters are corrected in accordance with changes in the video signal, and are always Stable and optimal exposure control is automatically performed.

【0047】次に本発明の特徴であるマニユアル露出補
正手段の詳細を説明する。
Next, details of the manual exposure correction means, which is a feature of the present invention, will be described.

【0048】本発明では映像信号に含まれる部分の少な
くとも一部分を選択できる(2次元)位置選択手段21
と前記2次元位置選択手段21で選択された画像位置を
モニター手段であるEVF11の画面上に図7のように
表示する表示回路19を備えていることは前述の通りで
ある。
In the present invention, the (two-dimensional) position selecting means 21 capable of selecting at least a part of the part included in the video signal.
The display circuit 19 for displaying the image position selected by the two-dimensional position selecting means 21 on the screen of the EVF 11 which is the monitor means as shown in FIG. 7 is as described above.

【0049】前記(2次元)位置選択手段21にはジヨ
イステイツク、トラツクボール、マウス、タツチパネル
などを入力手段とするものやEVF11の画面における
撮影者が注視している位置情報を検出する注視点位置検
出手段を用いて撮影者の視点を入力手段とする構成など
がある。
The (two-dimensional) position selecting means 21 uses input means such as a joystick, a trackball, a mouse, and a touch panel, or a position of a gazing point for detecting the position information of the photographer on the screen of the EVF 11. For example, there is a configuration in which the viewpoint of the photographer is used as the input means by using the means.

【0050】また図7のに示すように選択したい被写
体の中心位置を選択したり、図7ののようにあらかじ
め指定された映像領域を固定枠で表示し、固定枠内に狙
った被写体が入るように固定枠の位置を選択設定するだ
けでなく、図7ののように狙った被写体の位置を選択
するだけでなく被写体の大きさに合わせて映像領域も自
由に選択できる構成にしても良い。
Further, as shown in FIG. 7, the center position of the object to be selected can be selected, or a predetermined image area can be displayed in a fixed frame as shown in FIG. 7, and the target object can be put in the fixed frame. In addition to selectively setting the position of the fixed frame as described above, not only the position of the target subject as shown in FIG. 7 but also the video area may be freely selected according to the size of the subject. .

【0051】ここでは図7ののようにあらかじめ指定
された映像領域を固定枠で表示し、固定枠内に狙った被
写体が入るように固定枠の位置を選択設定する場合を中
心に説明を行なっていく。
Here, as shown in FIG. 7, a description will be given focusing on a case where a predesignated image area is displayed in a fixed frame and the position of the fixed frame is selectively set so that a target object is included in the fixed frame. To go.

【0052】前述の構成において自動露出制御では狙っ
た被写体が逆光による黒つぶれや過順光による白飛びな
ど最適な露出状態にならない場合は、撮影者は前記(2
次元)位置選択手段21により最適な露出状態にしたい
被写体の位置に固定枠位置を設定する。
In the above-described structure, if the target subject is not optimally exposed by the automatic exposure control, such as blackout due to backlighting or overexposure due to over-exposure, the photographer may use the above (2)
The (dimensional) position selecting means 21 sets the fixed frame position to the position of the subject to be optimally exposed.

【0053】(2次元)位置選択手段の位置信号は測光
エリア制御手段20に入力され、(2次元)位置選択手
段で選択された固定枠位置に対応した映像領域の露出状
態を検出するための測光エリアの制御を行なう。
The position signal of the (two-dimensional) position selection means is input to the photometric area control means 20 to detect the exposure state of the image area corresponding to the fixed frame position selected by the (two-dimensional) position selection means. Controls the photometric area.

【0054】前記測光エリア制御は(2次元)位置選択
手段として図7ののように被写体の位置だけでなく、
被写体の大きさに合わせて映像領域も自由に選択できる
構成にした場合は、(2次元)位置選択手段で選択され
た位置に対応して測光エリア位置を制御するだけでな
く、選択された映像領域に対応して測光領域も制御す
る。
The photometric area control is not limited to the position of the object as shown in FIG.
When the image area can be freely selected according to the size of the subject, not only the photometric area position is controlled corresponding to the position selected by the (two-dimensional) position selecting means, but also the selected image is selected. The photometric area is also controlled corresponding to the area.

【0055】しかし、この段階ではスイツチSW2がO
FF状態で測光エリア制御手段20からの出力信号はA
E検波回路17には入力されない。前記スイツチSW2
は露出補正実行キー22の出力信号で制御され、該露出
補正実行キー22は前記2次元位置選択手段21による
露出補正を行ないたい被写体位置への固定枠位置設定が
終了した後、露出補正動作を開始したい時に撮影者がト
リガー信号を入力する入力手段の一つであり、露出補正
実行キー22によりトリガー信号が入力されるとスイツ
チ2がON状態となる。スイツチ2がON状態になると
測光エリア制御手段20で設定された測光エリアに対応
した映像領域の露出状態を前記AE検波回路17で検出
を行なう。
However, at this stage, the switch SW2 becomes O.
In the FF state, the output signal from the photometric area control means 20 is A
It is not input to the E detection circuit 17. The switch SW2
Is controlled by the output signal of the exposure correction execution key 22, and the exposure correction execution key 22 performs the exposure correction operation after the fixed frame position setting for the subject position to be subjected to the exposure correction by the two-dimensional position selection means 21 is completed. This is one of the input means by which the photographer inputs a trigger signal when he / she wants to start it. When the trigger signal is input by the exposure correction execution key 22, the switch 2 is turned on. When the switch 2 is turned on, the exposure state of the image area corresponding to the photometric area set by the photometric area control means 20 is detected by the AE detection circuit 17.

【0056】露出制御回路18のオート露出制御部18
eでは前記AE検波回路17の(2次元)位置選択手段
によつて設定された測光エリア内の検出信号に応じて絞
り機構2、撮像素子3の蓄積時間を制御する電子シヤツ
ター、AGC回路8のゲイン等の露出制御パラメーター
の選択及び各パラメーターの補正量を決定し、安定した
最適な露出になるように制御値の演算を行なう。
The automatic exposure control section 18 of the exposure control circuit 18
At e, an electronic shutter for controlling the accumulation time of the diaphragm mechanism 2 and the image pickup device 3 according to the detection signal in the photometric area set by the (two-dimensional) position selection means of the AE detection circuit 17, and the AGC circuit 8. The exposure control parameter such as gain is selected and the correction amount of each parameter is determined, and the control value is calculated so as to obtain stable and optimal exposure.

【0057】一方、前記露出補正実行キー22のトリガ
ー信号は露出制御回路18のスイツチSW1をON状態
にし、オート露出制御部18eの演算結果が露出状態判
別部18fに入力される。
On the other hand, the trigger signal of the exposure correction execution key 22 turns on the switch SW1 of the exposure control circuit 18, and the calculation result of the automatic exposure control section 18e is input to the exposure state determination section 18f.

【0058】前記露出状態判別部18fはスイツチSW
1がON状態の場合だけオート露出制御部18eの演算
結果より適性露出状態になったか否かの判別を行ない、
適性露出状態と判別される場合にデータホールド部18
dがホールドON状態となる制御信号を出力する。
The exposure state determination unit 18f is a switch SW.
Only when 1 is in the ON state, it is determined whether or not the proper exposure state is obtained based on the calculation result of the automatic exposure control unit 18e,
The data hold unit 18 when it is determined that the exposure state is appropriate.
The control signal that outputs the hold ON state is output.

【0059】スイツチSW1がOFF状態の時、または
前記露出状態判別部の結果が露出状態が適性でないと判
別した場合はデータホールド部18dの状態をホールド
OFF状態となる制御信号を出力する。
When the switch SW1 is in the OFF state, or when the result of the exposure state determination section determines that the exposure state is not appropriate, the control signal for outputting the state of the data hold section 18d to the hold OFF state is output.

【0060】データホールド部18dでは前記露出状態
判別部からの制御信号に応じてオート露出制御部18e
で演算したアイリス制御値、電子シヤツター制御値、A
GC制御値等の露出制御パラメーターの選択及び各パラ
メーターの補正値をホールドするか否かを制御する。
In the data hold unit 18d, the automatic exposure control unit 18e is responsive to the control signal from the exposure state determination unit.
Iris control value, electronic shutter control value, A
It controls the selection of the exposure control parameter such as the GC control value and whether to hold the correction value of each parameter.

【0061】ホールドOFF状態(SW2がOFF)の
ときはオート露出制御部で演算したアイリス制御値、電
子シヤツター制御値、AGC制御値等の露出制御パラメ
ーターの選択及び各パラメーターの補正値を各々アイリ
ス制御部、電子シヤツター制御部、AGC制御部にその
まま出力し、映像信号の変化に追従して補正動作が行な
われる。
When in the hold-off state (SW2 is OFF), the iris control values selected by the auto exposure control unit, the electronic shutter control value, the AGC control value, and other exposure control parameters are selected, and the correction values for each parameter are controlled by the iris control. Section, the electronic shutter control section, and the AGC control section as they are, and the correction operation is performed by following changes in the video signal.

【0062】ホールドON(SW2がON)状態のとき
は前記露出状態判別部からホールドON信号が出力され
た瞬間のアイリス制御値、電子シヤツター制御値、AG
C制御値等の露出制御パラメーターの選択及び各パラメ
ーターの補正値を記憶し、被写体の明るさの変化に係わ
り無く、該記憶された値を各々アイリス制御部、電子シ
ヤツター制御部、AGC制御部に出力する。
In the hold ON state (SW2 is ON), the iris control value, electronic shutter control value, AG
Selection of exposure control parameters such as C control values and correction values of each parameter are stored, and the stored values are respectively stored in the iris control unit, the electronic shutter control unit, and the AGC control unit regardless of changes in the brightness of the subject. Output.

【0063】ここでアイリスデータホールド部は絞り機
構2としてステツピングモータで駆動される絞り羽根や
透過光量を液晶手段等で制御する手段を用いる場合は制
御データをホールドするだけで良いが、IGメーターを
用いた絞り羽根のような手段を用いた場合はアイリスの
状態を検出してフイードバツク制御を行なう必要が有
り、そのような構成の場合は図5のような構成にする。
Here, when the iris data hold unit uses a diaphragm blade driven by a stepping motor as the diaphragm mechanism 2 or a means for controlling the amount of transmitted light by a liquid crystal means or the like, it is sufficient to hold the control data. When a means such as a diaphragm blade using is used, it is necessary to detect the state of the iris and perform feedback back control. In such a configuration, the configuration shown in FIG. 5 is used.

【0064】すなわちデータホールド183ないには、
データホールド回路183cより出力された露出制御デ
ータとアイリスエンコーダからの絞り値とを比較回路1
83bで比較し、その差に応じた信号を補正演算回路1
83aを介してアイリス制御部へと出力する。すなわち
データホールド回路183cより出力された露出制御デ
ータとアイリスエンコーダとが等しくなるように絞り機
構2が制御される。
That is, there is no data hold 183,
Comparison circuit 1 compares the exposure control data output from data hold circuit 183c with the aperture value from the iris encoder.
83b, and a signal corresponding to the difference is compared with the correction arithmetic circuit 1
It outputs to the iris control unit via 83a. That is, the aperture mechanism 2 is controlled so that the exposure control data output from the data hold circuit 183c and the iris encoder become equal.

【0065】このように前記露出補正実行キー22から
トリガー信号が入力されると前記2次元位置選択手段2
1で選択された映像領域すなわち測光エリアの露出状態
が最適になるように補正動作を開始し、前記露出状態判
別部で露出状態が最適になったと判断する状態までの
間、補正動作を続ける。
In this way, when the trigger signal is input from the exposure correction execution key 22, the two-dimensional position selecting means 2
The correction operation is started so that the exposure state of the image area selected in step 1, that is, the photometry area is optimized, and the correction operation is continued until the exposure state determination unit determines that the exposure state is optimized.

【0066】最適になったと判別されると補正動作を終
了するとともにデータホールド部をホールドON状態に
制御し最適露出制御状態を保持する。これによりズーム
倍率の変動が生じて、周辺の明るさが変化しても2次元
位置選択手段21で選択した被写体の露出状態は最適な
まま保持される。
When it is determined that the optimum exposure is achieved, the correction operation is terminated and the data hold unit is controlled to the hold ON state to maintain the optimum exposure control state. As a result, the zoom magnification fluctuates, and even if the surrounding brightness changes, the exposure state of the subject selected by the two-dimensional position selecting means 21 is maintained as it is.

【0067】上述したように本発明では撮影者が最適な
露出状態にしたい被写体の映像領域の選択と露出補正行
ないたいタイミングでトリガー信号を入力すると、選択
した映像領域の明るさの状態を検出し、露出状態が最適
になったか否かの判別を行ないながら、露出補正動作を
行ない、選択した映像領域の露出状態が最適状態に補正
されるとその露出状態を保持する、これら一連の補正動
作動作を自動的に行なう。
As described above, according to the present invention, when the photographer inputs a trigger signal at a timing when he / she wants to select an image area of a subject to be optimally exposed and to perform exposure correction, the brightness state of the selected image area is detected. , A series of correction operation operations in which the exposure correction operation is performed while determining whether or not the exposure status has been optimized, and the exposure status is maintained when the exposure status of the selected image area is corrected to the optimum status. Automatically.

【0068】(第2の実施例)図2は本発明の第2の実
施例の構成を表すブロツク図である。
(Second Embodiment) FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the second embodiment of the present invention.

【0069】第2の実施例は第1の実施例のカメラ信号
処理回路をデジタル信号処理を行なうカメラ信号処理回
路9’を用いた場合を示す。映像信号をA/D変化した
後所定の処理を行い、D/A変換の後出力する。
The second embodiment shows a case where a camera signal processing circuit 9'for performing digital signal processing is used as the camera signal processing circuit of the first embodiment. After the video signal is A / D changed, a predetermined process is performed, D / A conversion is performed, and then output.

【0070】また第1の実施例との差異は、露出制御回
路をマイクロコンピユータ23で構成し、第1の実施例
のAE検波回路17、測光エリア制御手段21をマイク
ロコンピユータ23内にAE検波回路23g、測光エリ
ア制御手段23hとして組み込むことにより、第1の実
施例において行った各処理をマイクロコンピユーター2
3内にてデジタル信号状態で行なうことが可能であり、
簡単な構成で実現できる。
The difference from the first embodiment is that the exposure control circuit is composed of a micro computer 23, and the AE detection circuit 17 and the photometric area control means 21 of the first embodiment are provided in the micro computer 23. 23 g and the photometric area control means 23 h are incorporated into the micro computer 2 for performing the respective processes performed in the first embodiment.
It is possible to do it in the digital signal state within 3.
It can be realized with a simple configuration.

【0071】また他の23a〜23fの各回路機能は第
1の実施例の図1における18a〜18fの回路機能と
同様であり、露出補正方法自体も第1の実施例と同様で
ある。
The other circuit functions of 23a to 23f are the same as the circuit functions of 18a to 18f in FIG. 1 of the first embodiment, and the exposure correction method itself is the same as that of the first embodiment.

【0072】(第3の実施例)第1、第2の実施例では
本発明の露出補正実行時に露出制御パラメーターとして
絞り機構2、撮像素子3の蓄積時間を制御する電子シヤ
ツター機能、AGC回路8を用いて露出補正に最適な制
御パラメーターの選択及び各制御パラメーターの補正量
を決定し、最適な露出状態になったところで各制御パラ
メーターの値をホールドする例を述べたが、露出補正動
作に前述した3つの制御パラメーターを必ずしも用いる
必要はなく、1つ、または2つの制御パラメーターの組
み合わせて用いても実現する。
(Third Embodiment) In the first and second embodiments, the AGC circuit 8 and the electronic shutter function for controlling the accumulation time of the diaphragm mechanism 2 and the image pickup device 3 as the exposure control parameters at the time of executing the exposure correction of the present invention. The example of holding the value of each control parameter when the optimum exposure condition is reached by selecting the optimum control parameter for exposure correction and determining the correction amount of each control parameter is described above. It is not always necessary to use the above three control parameters, and one or two control parameters can be used in combination.

【0073】第3の実施例では本発明の露出補正実行時
に用いる露出制御パラメーターとして絞り機構2だけを
用いる場合を説明する。
In the third embodiment, the case where only the diaphragm mechanism 2 is used as the exposure control parameter used when the exposure correction of the present invention is executed will be described.

【0074】第3の実施例において第1の実施例と動作
が異なるのは、露出補正実行キー22からトリガー信号
が入力されると電子シヤツター、AGCの制御パラメー
ターの制御値は露出補正実行キー22のトリガー信号が
入力された瞬間のデータ、またはあらかじめ設定された
データに固定し、絞り機構2だけで2次元位置選択手段
21で選択された映像領域の露出状態が最適になるよう
に露出補正動作を行なう点である。
The operation of the third embodiment differs from that of the first embodiment in that when a trigger signal is input from the exposure correction execution key 22, the control values of the electronic shutter and AGC control parameters are the exposure correction execution key 22. The exposure correction operation is performed by fixing the data at the moment when the trigger signal is input or the preset data and optimizing the exposure state of the image area selected by the two-dimensional position selecting means 21 only by the diaphragm mechanism 2. Is the point to do.

【0075】また露出状態判別部で露出状態が最適にな
ったと判断するとアイリスによる補正動作を終了すると
ともにデータホールド部をホールドON状態に制御し、
アイリスデータだけをホールドする。
When the exposure state determination unit determines that the exposure state has been optimized, the correction operation by the iris is ended and the data hold unit is controlled to the hold ON state,
Hold only the iris data.

【0076】これによつて構成及び処理を簡略化するこ
とができる。
As a result, the configuration and processing can be simplified.

【0077】(第4の実施例)図3は本発明の第4の実
施例の構成を表すブロツク図である。同図において、図
1の第1の実施例と異なるのは、露出制御回路24の構
成である。
(Fourth Embodiment) FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of the fourth embodiment of the present invention. In the figure, the difference from the first embodiment of FIG. 1 is the configuration of the exposure control circuit 24.

【0078】露出制御回路24内の回路構成24a〜2
4cは、図1の18a〜18cの回路構成に相当し、図
1の18d,18e,18fの回路構成は、それぞれ図
3の24f,24g,24hに相当する。
Circuit configurations 24a-2 in the exposure control circuit 24
4c corresponds to the circuit configuration of 18a to 18c of FIG. 1, and the circuit configurations of 18d, 18e, and 18f of FIG. 1 correspond to 24f, 24g, and 24h of FIG. 3, respectively.

【0079】第4の実施例におけるを備えた露出制御回
路24は、第1の実施例における露出制御回路18に対
してデータホールド部24fとアイリス制御部24c、
AGC制御部24a、電子シヤツター制御部24bの間
にLUTデータ変換部24dと各露出制御パラメーター
のデータが格納された図6のに示すようなLUT24
eを備えている。
The exposure control circuit 24 including in the fourth embodiment is different from the exposure control circuit 18 in the first embodiment in that the data hold unit 24f and the iris control unit 24c are provided.
The LUT 24 as shown in FIG. 6 in which the LUT data conversion section 24d and the data of each exposure control parameter are stored between the AGC control section 24a and the electronic shutter control section 24b.
e.

【0080】また露出設定キー25を追加することで、
第1の実施例と同様に選択した映像領域の露出状態を最
適に自動補正し、保持した状態から従来のマニユアルア
イリスのように露出設定キー25により再設定すること
が可能となる。
By adding the exposure setting key 25,
As in the first embodiment, the exposure state of the selected image area can be automatically and optimally corrected and can be reset from the held state by the exposure setting key 25 like the conventional manual iris.

【0081】ここでは基本構成として第1の実施例の構
成の場合を取り上げたが第2、第3の実施例の構成にお
いても同様に行なうことができる。
Here, the case of the structure of the first embodiment is taken up as the basic structure, but the same can be applied to the structures of the second and third embodiments.

【0082】[0082]

【発明の効果】以上説明したように本願における請求項
1に記載の発明によれば、撮影者が意図する映像領域を
選択することができる2次元位置選択手段を備え、2次
元位置選択手段の位置情報に対応した映像領域の露出状
態を重点的に検出し、該検出信号を基に露出補正を行な
い、最適な露出状態になった時点の露出状態を保持する
ことで電子ビユーフアインダーなどのモニター手段の画
面で露出状態を確認しながら露出補正を行なう必要が無
く、モニター手段の性能に係わらず簡単操作で撮影者が
狙った主被写体の露出状態を最適に補正するとともに、
ズーム倍率の変動や主被写体の移動により周辺被写体の
露出状態が変化しても主被写体の露出状態は最適なまま
保持されることが可能となり、撮影者の意図通りの映像
を提供できるという効果が得られる。
As described above, according to the invention described in claim 1 of the present application, the two-dimensional position selecting means is provided with the two-dimensional position selecting means capable of selecting the image area intended by the photographer. Monitors such as electronic viewfinders by focusing on the exposure state of the video area corresponding to the position information, performing exposure compensation based on the detection signal, and maintaining the exposure state when the optimal exposure state is reached. There is no need to perform exposure compensation while checking the exposure state on the screen of the means, and regardless of the performance of the monitor means, the exposure state of the main subject aimed by the photographer can be optimally corrected with a simple operation,
Even if the exposure state of the surrounding subject changes due to the change of the zoom magnification or the movement of the main subject, the exposure state of the main subject can be maintained as it is, and it is possible to provide the image as the photographer intended. can get.

【0083】また本願における請求項2に記載の発明に
よれば、2次元位置選択手段として視線入力、ジヨイス
テイツク、トラツクボール、マウス、タツチパネルなど
を用いて選択できるので、より簡単な操作で撮影者が狙
った主被写体の露出状態を最適に補正することが可能と
なり撮影者の意図通りの映像を提供できるという効果が
得られる。
According to the second aspect of the present invention, the two-dimensional position selecting means can be selected using the line-of-sight input, the joystick, the trackball, the mouse, the touch panel, etc., so that the photographer can perform a simpler operation. It is possible to optimally correct the exposure state of the aimed main subject, and it is possible to provide the effect that the image as intended by the photographer can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の構成を示すブロツク図
である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a first exemplary embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例の構成を示すブロツク図
である。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a second exemplary embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第4の実施例の構成を示すブロツク図
である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a fourth exemplary embodiment of the present invention.

【図4】従来例の構成を示すブロツク図である。FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a conventional example.

【図5】アイリスデータホールド手段の構成を示すブロ
ツク図である。
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of iris data hold means.

【図6】ルツクアツプテーブルの一例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a look-up table.

【図7】選択位置の表示と測光するエリアを示す図であ
る。
FIG. 7 is a diagram showing a display of a selected position and an area for photometry.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被写体結像用レンズ群 2 絞り機構(アイリス) 3 撮像素子 4 絞り機構状態検出手段 5 絞り機構駆動モーター 6 撮像素子制御回路 7 サンプルホールド回路 8 オートゲインコントロール回路 9 カメラ信号処理回路 10 ビデオテープレコーダー 11 モニター用電子ビユーフアインダー 12 従来例のAE検波回路 13 従来例の露出制御回路 14 アイリス駆動回路 15 露出設定キー 16 露出制御オート/マニユアル選択キー 17 第1、第4の実施例のAE検波回路 18 第1の実施例の露出制御回路 19 表示回路 20 測光エリア制御手段 21 2次元位置選択手段 22 露出補正実行キー 23 マイクロコンピユーター 24 第4の実施例の露出制御回路 25 露出設定キー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Object imaging lens group 2 Aperture mechanism (iris) 3 Imaging device 4 Aperture mechanism state detection means 5 Aperture mechanism drive motor 6 Imaging device control circuit 7 Sample hold circuit 8 Auto gain control circuit 9 Camera signal processing circuit 10 Video tape recorder 11 Electronic View Finder for Monitor 12 AE Detection Circuit of Conventional Example 13 Exposure Control Circuit of Conventional Example 14 Iris Drive Circuit 15 Exposure Setting Key 16 Exposure Control Auto / Manual Selection Key 17 AE Detection Circuit of First and Fourth Embodiments 18 Exposure control circuit 19 of the first embodiment 19 Display circuit 20 Photometric area control means 21 Two-dimensional position selection means 22 Exposure correction execution key 23 Microcomputer 24 Exposure control circuit 25 of the fourth embodiment 25 Exposure setting key

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 撮像素子手段と、 前記撮像手段より出力された映像信号中より、画面内の
所定部分に相当する信号を選択する位置選択手段と、 前記位置選択手段で選択された位置に対応した映像領域
の露出状態を重点的に検出する検出手段と、 前記検出手段の検出信号に応じて露出状態を制御する露
出制御手段と、 前記露出状態が最適になったか否かの判別を行なう露出
状態判別手段と、 前記露出制御手段の制御値を記憶して前記露出状態を保
持する露出状態保持手段と、 前記検出手段で検出した検出信号を基にして前記位置選
択手段で選択された位置に対応した領域の露出状態が最
適になるように前記露出制御手段に露出制御を行わせ、
前記露出状態判別手段で露出状態が最適になったと判断
されると前記露出状態保持手段にその時点の露出状態を
保持させる制御手段と、を備えたことを特徴とする撮像
装置。
1. An image pickup device means, a position selection means for selecting a signal corresponding to a predetermined portion in a screen from among the video signals output from the image pickup means, and a position selected by the position selection means. Detection means for focusing on the exposure state of the image area, exposure control means for controlling the exposure state according to the detection signal of the detection means, and exposure for determining whether or not the exposure state is optimal. A state determination unit, an exposure state holding unit that stores the control value of the exposure control unit and holds the exposure state, and a position selected by the position selection unit based on a detection signal detected by the detection unit. Causing the exposure control means to perform exposure control so that the exposure state of the corresponding region is optimal,
An image pickup apparatus comprising: a control unit that causes the exposure state holding unit to hold the exposure state at that time when the exposure state determination unit determines that the exposure state is optimum.
【請求項2】 請求項1において、 前記位置選択手段として前記電子ビユーフアインダーの
画面における撮影者が注視している位置情報を検出する
注視点位置検出手段、ジヨイステイツク、トラツクボー
ル、マウス、タツチパネルなどの2次元位置選択手段を
用いたことを特徴とする撮像装置。
2. The position selecting means according to claim 1, such as a gazing point position detecting means for detecting position information of the photographer on the screen of the electronic viewfinder, a joystick, a trackball, a mouse, a touch panel, etc. An image pickup device using a two-dimensional position selecting means.
JP7058904A 1995-03-17 1995-03-17 Image pickup device Pending JPH08256290A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019078832A (en) * 2017-10-23 2019-05-23 キヤノン株式会社 Lens device and imaging apparatus

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