JPH08254690A

JPH08254690A - フィルム液晶ディスプレイ用複合体

Info

Publication number: JPH08254690A
Application number: JP7084832A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Oike; 均尾池; Hiroshi Hatakeyama; 弘畠山
Original assignee: Oike and Co Ltd
Current assignee: Oike and Co Ltd
Priority date: 1995-03-16
Filing date: 1995-03-16
Publication date: 1996-10-01

Abstract

(57)【要約】【目的】連続処理方法により生産性の向上、コストの
低減、大型化、物性及び膜厚等の安定したフィルム液晶
ディスプレイ用複合体を提供する事である。【構成】複合体がポリマー・フィルム(20)の片面に
接着膜(14)を介して透明導電性膜(13)を形成、複合体
がポリマー・フィルム(20)の片面に接着膜(14)を介して
透明導電性膜(13)が形成され、他の片面に接着膜(14)を
介してガスバリア膜(15)を形成、複合体がポリマー・
フィルム(20)の片面に接着膜(14)を介してガスバリア膜
(15)、透明導電性膜(13)を形成、複合体がポリマー・
フィルム(20)の片面に接着膜(14)を介してガスバリア膜
(15)、透明導電性膜(13)が形成され、他の片面に接着膜
(14)を介してガスバリア膜(15)を形成。【効果】量産性、製品品質の安定性、低コスト性に優
れたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はフィルム液晶ディスプレ
イに使用する複合体に関する。更に詳しくはポリマー・
フィルム(20)の片面に少なくとも接着膜(14)を介して透
明導電性膜(13)を形成したフィルム液晶ディスプレイ用
複合体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は表
示用デバイスとして多方面に使用されている。ところが
現状の液晶ディスプレイは、通常ガラス基板を使ってい
るものが多く、厚くって重く大型化しにくく、取り扱い
性も悪い。又、薄く軽量化して取り扱い性を改良する為
にガラス基板を薄くする事も試みられているが割れやす
く成り、取り扱い性が更に悪く成っている。その上、枚
葉にて加工するので生産性が低く、製品価格が高いもの
である。

【０００３】従って、特に小型情報機器向け液晶ディス
プレイは、携帯性の向上、落下や外押圧ストレスに対す
る耐衝撃性の向上という点で、ガラス基板にかえて枚葉
ポリマー・フィルムを基板に使用したフィルム液晶ディ
スプレイが使用され始めている。一方、大型のテレビジ
ョンをはじめ航空機、船舶等の運航に必要な各種の計器
盤、操作盤等においても、より軽量で破損しにくく、取
り扱い性が良好で、より安価なフィルム液晶ディスプレ
イの出現が期待されているが、未だこの期待にそえるも
のはない。

【０００４】尚、本発明では、「ポリマー」と「プラス
チック」という用語は特に区別せず「ポリマー」には
「プラスチック」をも含む用語として使用する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来、ポリマー・フィ
ルム基板を使った液晶ディスプレイは、枚葉のポリマー
・フィルム基板上に枚葉で透明導電性膜を真空蒸着法、
スパッタリング法等で形成するか、又はロール巻きポリ
マー・フィルム上にロール搬送系を有し連続処理できる
真空蒸着法、スパッタリング法等で形成していた。

【０００６】然しながら、前者の方法では、枚葉のポリ
マー・フィルム基板を枚葉にて加工する事による生産性
の低さ、即ちコスト高という問題点があった。更に枚葉
にて加工する真空蒸着装置、スパッタリング装置では、
枚葉のポリマー・フィルム基板等が大型化するほど生産
性が低く、コスト高になる傾向が一層顕著と成り、又、
透明導電性膜等の物性、膜厚等の均一なものが形成しに
くく成るという問題点があった。

【０００７】又、ロール巻きポリマー・フィルムを使用
した後者の方法では、ガスバリア膜、ハードコート膜、
反射防止膜等を形成する後加工工程で、ロール巻きポリ
マー・フィルムを連続的に搬送させるローラでの摩擦等
により透明導電性膜に傷がつき、導電性が損なわれると
いう問題点があった。そこでガスバリア膜、ハードコー
ト膜、反射防止膜を形成した後、透明導電性膜を形成す
る方法も試みられているが、反射防止膜に傷がついて外
観が損なわれるという問題点があり実用段階には未だ至
っていない。

【０００８】従って、本発明が解決しようとする問題点
は、前述のような種々の問題点を解決する事である。そ
の解決目的は、連続処理方法により生産性の向上、コス
トの低減、大型化、物性及び膜厚等の安定したフィルム
液晶ディスプレイ用複合体を提供する事である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、片面に少なく
とも透明導電性膜(13)を形成したポリマー・フィルム(2
0)からなる複合体の透明導電性膜側を内側にして対向さ
せ、その隙間に液晶を封入したフィルム液晶ディスプレ
イに使用する複合体において、該フィルム液晶ディスプ
レイ用複合体が、ポリマー・フィルム(20)の片面に
接着膜(14)を介して透明導電性膜(13)が形成されている
構成、ポリマー・フィルム(20)の片面に接着膜(14)
を介して透明導電性膜(13)が形成され、他の片面に接着
膜(14)を介してガスバリア膜(15)が形成されている構
成、接着膜(14)と透明導電性膜(13)の間にガスバリ
ア膜(15)が形成されている又はの構成を採用した事
により、前記の種々の問題点を解決した。

【００１０】より具体的には、本発明は、ロール搬送系
を有しロール巻きベースフィルム(11)を連続処理できる
真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装置
等の量産性、製品品質の安定性、低コスト性に優れた装
置を用いて、各種のフィルム液晶ディスプレイに要求さ
れる各種の機能付与膜を有する転写箔、例えば透明導電
性膜転写箔を予め製造しておく。次いで必要に応じて、
これらの機能付与膜を有する転写箔の内から所望の転写
箔、例えば透明導電性転写箔を例えば枚葉式の汎用転写
機を用いて、所望のポリマー・フィルム(20)の所望面
に、所望膜を全面に或は所望の部位に所望のパターンで
転写形成して、本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複
合体を得る事ができる。従って、本発明では透明導電性
膜(13)をフォトエッチング法でパターン加工する必要も
ない。つまり、従来のやり方では、例えば透明導電性膜
(13)はポリマー・フィルムの片面を全面に渡って被覆し
ているので透明導電性膜をフォトエッチング法でパター
ン加工しなければ成らない。その為に特殊なレジスト材
料とレジスト塗膜の塗布装置、特殊な露光装置、特殊な
エッチング剤とエッチング装置、特殊な洗浄溶液と洗浄
装置などが必要である。又、その際にアンダーエッチン
グ現象、エッチングパターンの不良や傷が生じ製品の歩
留を悪くしている。従って、従来のやり方では、仮に巧
く透明導電性膜をポリマー・フィルム面に形成できたと
してもその後の工程が極めて煩雑であったという課題も
同時に解消できる効果も発揮できる。

【００１１】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合
体に有用な機能付与膜を有する転写箔としては、例え
ば、（ア）ロール巻きベースフィルム(11)の片面に直接
又は離型膜(12)を介して透明導電性膜(13)及び接着膜(1
4)を順次形成した透明導電性膜転写箔（図５、図６参
照）、（イ）ロール巻きベースフィルム(11)の片面に直
接又は離型膜(12)を介して透明導電性膜(13)、ガスバリ
ア膜(15)及び接着膜(14)順次形成した透明導電性膜転写
箔（図７、図８参照）、（ウ）ロール巻きベースフィル
ム(11)の片面に直接又は離型膜(12)を介してガスバリア
膜(15)及び接着膜(14)を順次形成したガスバリア膜転写
箔（図９、図１０参照）、（エ）ロール巻きベースフィ
ルム(11)の片面に直接又は離型膜(12)を介してハードコ
ート膜(17)及び接着膜(14)を順次形成したハードコート
膜転写箔（図１１、図１２参照）、（オ）ロール巻きベ
ースフィルム(11)の片面に直接又は離型膜(12)を介して
反射防止膜(16)及び接着膜(14)を順次形成した反射防止
膜転写箔（図１３、図１４参照）、（カ）ロール巻きベ
ースフィルム(11)の片面に直接又は離型膜(12)を介して
反射防止膜(16)、ガスバリア膜(15)及び接着膜(14)を順
次形成した複合機能付与膜転写箔（図１５、図１６参
照）、（キ）ロール巻きベースフィルム(11)の片面に直
接又は離型膜(12)を介して反射防止膜(16)、ハードコー
ト膜(17)、ガスバリア膜(15)及び接着膜(14)を順次形成
した複合機能付与膜転写箔（図１７、図１８参照）等が
あげられる。

【００１２】

【作用】本発明の、例えばポリマー・フィルム(20)の片
面に少なくとも透明導電性膜(13)を接着膜(14)を介して
形成したフィルム液晶ディスプレイ用複合体を得るに
は、ポリマー・フィルムの他に前記の機能付与膜を有す
る透明導電性膜転写箔が必要である。かかる目的に使用
する転写箔は容易に得られる。以下にその構成と製造方
法の例をあげるが、これにより限定されるものではな
い。

【００１３】機能付与膜を有する転写箔を構成するロー
ル巻きベースフィルム(11)としては、特に制限はなく、
例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン
テレフタレート−イソフタレート共重合体等のポリエス
テル系をはじめ、ポリカーボネート系、ポリアミド系、
ポリオレフィン系等のフィルムがあげられる。又、これ
らのポリマーは２種又はそれ以上のものがブレンドされ
ていてもよく、例えばポリエチレンテレフタレートにポ
リエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体が
ブレンドされていてもよい。更に又、これらのフィルム
が２種又はそれ以上のものが積層された複層フイルムで
あってもよい。

【００１４】更に、これらのベースフィルム(11)の表面
は各種の表面処理が施されていてもよい。特に透明導電
性膜(13)との剥離性を増す為に真空中でフッ素系化合物
を用いて表面をプラズマ処理する方法、大気中で高温の
熱処理を行ないベースフィルムの表面にオリゴマーを滲
出す方法、窒素ガス雰囲気中で電子線を照射しベースフ
ィルム表面を変質させる方法、ベースフィルムの製膜工
程においてアクリル樹脂系、ポリビニルアルコール系、
ポリオレフィン系等の異種ポリマー・フィルムを積層
し、表面を改質する方法等が適宜用いられる。

【００１５】これらのベースフィルム(11)は二軸延伸さ
れたものが好ましい。又、厚さとしては、特に制限はな
く、例えば通常９〜７５μｍの範囲、好ましくは１２〜
３８μｍの範囲から適宜選択使用される。ベースフィル
ムの厚さが９μｍより薄い場合には、ベースフィルムに
皺、カール等の欠点が発生し易く、取り扱いにくいので
好ましくない。一方、厚さが７５μｍより厚い場合に
は、熱転写時の熱伝導が遅く、転写の作業性が劣るので
好ましくなく、又、ベースフィルムの剛性が強い為、搬
送中に擦り傷が入りやすく好ましくない。

【００１６】機能付与膜を有する転写箔には、ベースフ
ィルム(11)の表面とその上に形成する透明導電性膜(1
3)、ガスバリア膜(15)、ハードコート膜(17)や反射防止
膜(16)との離型性が良くない場合に離型膜(12)を適宜形
成する。従って離型膜はその上に形成する透明導電性
膜、ガスバリア膜、ハードコート膜や反射防止膜との界
面において容易に離型する事が重要である。かかる目的
で形成する離型膜を構成する樹脂としては、特に制限は
なく、例えばエポキシ−メラミン樹脂、アクリル−メラ
ミン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、尿素−メラミン樹
脂、シリコーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、フッ
素樹脂等があげられる。これらの樹脂の１種又はそれ以
上の樹脂の有機溶剤溶液、エマルジョン等のコーティン
グ剤をロールコーティング法、グラビアコーティング法
等の通常コーティング法によりベースフィルム上に塗布
し、溶媒を乾燥（熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫
外線硬化性樹脂等の場合は硬化）する事によって形成す
る。

【００１７】離型膜(12)の厚さとしては、特に制限はな
く、例えば通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは
０．２〜５μｍの範囲から適宜選択使用される。離型膜
の厚さが０．１μｍより薄い場合には、ベースフィルム
(11)上に均一な離型膜の形成が困難で離型が重く目的と
する離型性を得る事ができないので好ましくない。一
方、厚さが１０μｍより厚い場合には離型が軽すぎる為
に、離型膜上に順次形成する膜が加工工程中で脱落する
可能性があるので好ましくない。

【００１８】又、離型膜(12)は、次の方法によっても形
成する事ができる。水酸基、エーテル基、カルボキシル
基、アミノ基等を１個以上有する水溶性有機物質、例え
ばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等のビ
ニル系水溶性樹脂、メチルセルロース、カルボキシルメ
チルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース
等の繊維素エーテル系樹脂、アクリル酸ソーダ、アクリ
ル酸アンモニウム等のアクリル酸系水溶性物質、澱粉、
デキストリン、ニカワ、ゼラチン等の天然水溶性物質、
カゼイン、カゼイン酸ソーダ、カゼイン酸アンモニウム
等のタンパク質系水溶性物質、その他ポリエチレンオキ
サイド、カラギーナン、グルコマンガン等の１種又はそ
れ以上の物質の水溶液のコーティング剤をロールコーテ
ィング法、グラビアコーティング法等の通常コーティン
グ法によりベースフィルム(11)上に塗布し、乾燥する事
により形成する。

【００１９】これらの水溶性離型膜(12)を形成した場合
は、その上に透明導電性膜(13)、ガスバリア膜(15)、ハ
ードコート膜(17)、反射防止膜(16)や接着膜(14)等を形
成し、ポリマー・フィルム(20)に転写した後、水溶性離
型膜と透明導電性膜、ガスバリア膜、ハードコート膜や
反射防止膜等との界面において離型ができず、ベースフ
ィルム(11)と水溶性離型膜の間で離型して、水溶性離型
膜が残っても水洗によって容易に水溶性離型膜を完全に
除去する事ができ所望の透明導電性膜、ガスバリア膜、
ハードコート膜や反射防止膜等を露出する事ができる。

【００２０】機能付与膜を有する転写箔を構成する透明
導電性膜(13)は導電性と透明性を共に有するものであ
る。透明導電性膜を構成する材料としては、特に制限は
なく、例えばＩＴＯ膜として知られる酸化インジウム−
酸化錫系をはじめ、金、パラジウム等の金属、酸化イン
ジウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化イン
ジウム−酸化亜鉛系、酸化亜鉛−酸化アルミニウム系、
酸化インジウム−酸化ガリウム系等の金属酸化物があげ
られる。特に好ましくは酸化インジウム−酸化錫を真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等
により前記ベースフィルム(11)の片面に直接又は離型膜
(12)を介して形成した透明導電性膜である。

【００２１】透明導電性膜(13)の厚さとしては、特に制
限はなく、例えば通常５０〜１０００Åの範囲、表面電
気抵抗値として通常１０Ω／□〜１０⁴ Ω／□の範囲、
好ましくは２０Ω／□〜５００Ω／□の範囲から適宜選
択実施される。又、透明導電性膜の光線透過率は波長５
５０ｎｍでの平行光線透過率で通常６０〜９５％の範
囲、好ましくは８０〜９５％の範囲から適宜選択実施さ
れる。表面電気抵抗値が１０Ω／□以下の場合にはフィ
ルム液晶ディスプレイに誤動作を生じたり、精度が悪く
成るので好ましくない。一方、１０⁴ Ω／□以上の場合
にはフィルム液晶ディスプレイの作動時間にタイムラグ
が生じるので好ましくない。又、光線透過率が６０％以
下に成るとフィルム液晶ディスプレイの表示が著しく見
にくく成るので好ましくない。

【００２２】機能付与膜を有する転写箔を構成する接着
膜(14)は、透明性、耐熱性、接着性が良好なものであれ
ば、特に制限はない。接着膜を構成する樹脂としては、
例えばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート系、ポリアミド
系、セルロース系等の樹脂及びこれらの変性物の１種又
は２種以上の混合物から成る樹脂があげられる。接着膜
はこれらの樹脂を有機溶剤に溶解したコーティング剤を
グラビアコーティング法、ロールコーティング法、リバ
ースロールコーティング法等の通常のコーティング法に
より前記透明導電性膜(13)、ガスバリア膜(15)、ハード
コート膜(17)や反射防止膜(16)の上に塗布乾燥して形成
する。又、ポリアミド系、ポリエステル系等のホットメ
ルト接着剤で接着膜を形成する場合にはホットメルト用
コーターや押出コーティング装置を用いる。又、ホット
メルト接着膜を形成する樹脂は紫外線や電子線によって
アフターキュアにより硬化して接着性を増すものも好適
である。

【００２３】接着膜(14)の厚さとしては、被着体である
ポリマー・フィルム(20)の表面状態にもよるが、通常
０．３〜２０μｍの範囲、好ましくは０．５〜３μｍの
範囲から適宜選択実施される。接着膜の厚さが０．３μ
ｍより薄い場合には、充分な接着力が得られず好ましく
ない。一方、厚さが２０μｍより厚い場合には、著しく
透明性を阻害するので好ましくない。

【００２４】機能付与膜を有する転写箔を構成するガス
バリア膜(15)は、透明性が良好で、且つガスバリア性が
良好なものであれば、特に制限はなく、例えばケイ素、
アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウム等の
金属化合物の１種又は２種以上の混合物、特に好ましく
は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウ
ム、酸化ケイ素−酸化アルミニウム、酸化ケイ素−酸化
マグネシウム、酸化アルミニウム−酸化マグネシウム等
を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法、プラズマＣＶＤ法等によって前記ベースフィルム
(11)の片面に直接又は離型膜(12)を介して形成するか、
或は前記透明導電性膜(13)の上に形成するか、或は反射
防止膜(16)やハードコート膜(17)の上に形成する。

【００２５】又、ガスバリア膜(15)はエチレン−ビニル
アルコール系重合体、酸化ケイ素の前駆体であるポリシ
ラザン系樹脂から得られるＳｉＮ系化合物、アクリロニ
トリル系共重合体等の重合体溶液をコーティングし、溶
媒を乾燥、後処理等を施す事によっても形成する事がで
きる。

【００２６】ガスバリア膜(15)の厚さとしては、真空蒸
着薄膜の場合は通常５０〜１０００Åの範囲、重合体膜
から形成する場合は通常０．１〜１０μｍの範囲、好ま
しくは０．５〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。

【００２７】真空蒸着薄膜から成るガスバリア膜(15)の
厚さが５０Åより薄い場合には、ガスバリア性が不足す
るので好ましくない。一方１０００Åより厚い場合に
は、クラックが発生しやすいので好ましくない。重合体
膜から成るガスバリア膜の厚さが０．１μｍより薄い場
合には、ガスバリア性が不足するので好ましくない。一
方１０μｍより厚い場合には透明性を阻害するので好ま
しくない。

【００２８】機能付与膜を有する転写箔を構成する反射
防止膜(16)は、反射防止性を有し、且つ透明性を有する
ものである。反射防止膜を構成する材料としては、特に
制限はなく、例えば酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アル
ミニウム、酸化ジルコニウム、フッ化マグネシウム等の
金属化合物があげられる。これらはフッ化マグネシウム
のように１層で反射防止性を示すものもあるが、二酸化
チタン／二酸化ケイ素のように２層構成で反射防止性を
示すもの、二酸化チタン／二酸化ケイ素／二酸化チタン
／二酸化ケイ素のように４層構成で優れた反射防止性を
示すもの等種々の多層構成がある。

【００２９】反射防止膜(16)の形成は、金属化合物を真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、プラズマＣＶＤ法等によって前記ベースフィルム(1
1)の片面に直接又は離型膜(12)を介して形成する。又は
金属を酸素ガス等の存在下で真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等に
よって前記ベースフィルムの片面に直接又は離型膜を介
して金属化合物膜として形成する。更に又、湿式コーテ
ィング法式によって形成することもでき、例えば有機金
属化合物を加水分解して生成するヒドロキシシリケー
ト、ヒドロキシチタネート等の溶液を湿式コーティング
した後、加熱キュアによって前記ベースフィルムの片面
に直接又は離型膜を介して金属化合物膜（二酸化ケイ
素、二酸化チタンの膜）として形成する。更に又、フッ
素系合成樹脂コーティング剤、二酸化ケイ素の前駆体で
あるポリシラザンをコーティングし、加熱及び加湿又は
酸、アルカリ処理等によって前記ベースフィルムの片面
に直接又は離型膜を介して金属化合物膜（二酸化ケイ素
の膜）として形成する。

【００３０】反射防止膜(16)の厚さとしては、０．０１
〜５μｍの範囲で適宜選択実施される。これら膜厚は所
望の反射特性を得る為に選択される材料構成、即ち屈折
率によって決定される。反射防止膜の厚さが０．０１μ
ｍ、即ち１００Å以下の場合は反射防止性が発現しにく
く、又、多層構成で５μｍ以上の場合もあり得るが、膜
形成に長時間を要しコスト高になり好ましくない。

【００３１】機能付与膜を有する転写箔を構成するハー
ドコート膜(17)は、透明性がよく、耐擦傷性が良好なも
のである。ハードコート膜を構成する材料としては、特
に制耐はなく、例えばポリメタアクリル酸樹脂、ポリメ
タアクリル酸エステル樹脂、ポリメチル（メタ）アクリ
ル酸エステル樹脂等のアクリル酸系樹脂及びアクリルポ
リオール、ポリエステルポリオール等のエステル結合を
有するポリオール系樹脂及びポリエステル樹脂、アクリ
ル樹脂等を用いることができる。又、モノマー、オリゴ
マーとしてはアクリレートモノマー、アクリレートオリ
ゴマーがあり、例えばポリオールアクリレートとして
は、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（ヘキサ）アクリレート等があり、エポキシアクリレー
トとしては、グリセリントリグリシジルアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルテトラ
アクリレート等があげられる。その他、ポリエステルア
クリレート、ウレタンアクリレート等もあげられる。こ
れらのモノマー及びオリゴマーは、光重合開始剤を添加
し、紫外線照射によって容易にポリマーとなり、硬質な
膜を形成する。

【００３２】光重合開始剤としては、紫外線照射により
容易にフリーラジカルを発生する化合物で、例えばベン
ゾフェノン、トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキサイド、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、メチルフェニルグリ
オキシレート等があげられる。ハードコート膜はこれら
樹脂、モノマー、オリゴマー、光重合開始剤、溶媒等か
らなるコーティング剤をグラビアコーティング法、ロー
ルコーティング法、リバースロールコーティング法等の
通常のコーティング法により、前記ベースフィルム(11)
の片面に直接又は離型膜(12)を介して塗布し、溶媒を乾
燥後、熱硬化、紫外線照射硬化、電子線照射硬化等によ
って硬化してハードコート膜を形成するか、或は前記反
射防止膜(16)の上に塗布し、溶媒を乾燥後、熱硬化、紫
外線照射硬化、電子線照射硬化等によって硬化してハー
ドコート膜を形成する。

【００３３】ハードコート膜(17)の厚さとしては、特に
制限はなく、例えば通常０．３〜１０μｍの範囲、好ま
しくは１〜５μｍの範囲から適宜選択使用される。ハー
ドコート膜の厚さが０．３μｍより薄い場合には、耐擦
傷性が十分でなく好ましくない。一方、厚さが１０μｍ
より厚い場合には、硬化時の歪みによるカールが生じや
すいという欠点があるので好ましくない。

【００３４】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合
体を構成するポリマー・フィルム(20)としては、特に制
限はないが耐熱性、透明性の優れたもので、かつ光学的
に配向性のないものが好ましい。例えばポリアリレー
ト、ポリエーテルサルホン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエステル系樹脂（ロンザ社製、ＩＳＡＲＹＬ
（登録商標））、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、
ポリノルボルネン系樹脂（日本合成ゴム株式会社製、Ａ
ＲＴＯＮ（登録商標））、ゼオネックス（登録商標）
（日本ゼオン株式会社製）等のフィルムがあげられる。
尚、本発明のフィルムはポリマー・フィルムから成る基
板に限らずポリマー・シートや、比較的薄いポリマー板
も含まれる概念である。

【００３５】以下に実施例をあげて本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定され
るものではない。

【００３６】

【実施例】

実施例１フッ素系化合物で表面をプラズマ処理した長尺の厚さ１
２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムのプラズ
マ処理した面上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１
０（重量比、以下同様）の組成のインジウム・錫酸化物
をロール搬送系連続処理できる真空蒸着機を用いスパッ
タリング法により付着した。スパッタリングは、１０^-3
Ｔｏｒｒにて、アルゴンガス導入のもとに行なった。処
理はフィルム走行速度１ｍ／分で行い付着膜厚は約５０
０Åであった。このようにして得られた透明導電性膜付
きフィルムは平行光線透過率８５％、表面電気抵抗値１
００Ω／□を示した。次に前記透明導電性膜の上に、ポ
リエステル樹脂１０部（重量部、以下同様）、トルエン
４０部、メチルエチルケトン５０部から成る溶液をリバ
ースロールコーティング法にて連続的に５０ｍ／分で塗
布、乾燥し厚さ１μｍの接着膜を形成して、本発明のフ
ィルム液晶ディスプレイ用複合体の製造に用いる透明導
電性膜を有する転写箔（図５）を得た。

【００３７】このようにして得た透明導電性膜を有する
転写箔を、厚さ２００μｍのポリカーボネートシートの
片面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレン
テレフタレートフィルムを離型し、本発明のフィルム液
晶ディスプレイ用複合体を（図１）を得た。

【００３８】実施例２連続した長尺の厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部、
トルエン４５部、メチルイソブチルケトン３５部から成
る溶液をロール搬送系を有するコーターでグラビアコ−
ティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ０．５μ
ｍの離型膜を５０ｍ／分の速度で形成した。次にこの離
型膜の上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０の組
成のインジウム・錫酸化物をロール搬送系連続処理でき
る真空蒸着機を用いスパッタリング法により付着した。
スパッタリングは、１０^-3Ｔｏｒｒにて、アルゴンガス
導入のもとに行なった。処理はフィルム走行速度１ｍ／
分で行い付着膜厚は約５００Åであった。このようにし
て得られた透明導電性膜付きフィルムは平行光線透過率
８５％、表面電気抵抗値１００Ω／□を示した。次に前
記透明導電性膜の上に、ポリエステル樹脂１０部、トル
エン４０部、メチルエチルケトン５０部から成る溶液を
リバースロールコーティング法にて連続的に５０ｍ／分
で塗布、乾燥し厚さ１μｍの接着膜を形成して、本発明
のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の製造に用いる透
明導電性膜を有する転写箔（図６）を得た。

【００３９】このようにして得た透明導電性膜を有する
転写箔を、厚さ２００μｍのポリカーボネートシートの
片面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレン
テレフタレートフィルムを離型膜とともに離型し、本発
明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体を（図１）を得
た。

【００４０】実施例３厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム片
面上にポリビニルアルコール８部、アクリル酸ソーダ２
部、沈降性硫酸バリウム６０部、メタノール２０部、イ
ソプロピルアルコール１０部の組成から成るコーテイン
グ剤を実施例２と同様のコーターで塗布した後、乾燥し
て、約２μｍの水溶性離型膜を形成した。次いで該水溶
性離型膜上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０の
組成のインジウム、錫酸化物をスパッタリング法により
実施例２と同様に付着させて、透明導電性膜を形成し
た。次いで前記透明導電性膜の上に、実施例２と同様の
接着膜を連続的に形成して、本発明のフィルム液晶ディ
スプレイ用複合体の製造に用いる透明導電性膜を有する
転写箔（図６）を得た。

【００４１】このようにして得た透明導電性膜を有する
転写箔を、厚さ２００μｍのポリアリレートシートの片
面に熱転写法により転写した。転写後にポリエチレンテ
レフタレートフィルムを離型しながら水溶性離型膜を水
洗により溶出させ、水分を乾燥除去し、本発明のフィル
ム液晶ディスプレイ用複合体を（図１）を得た。

【００４２】実施例４フッ素系化合物で表面をプラズマ処理した長尺の厚さ１
２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムのプラズ
マ処理した面上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１
０の組成のインジウム・錫酸化物をロール搬送系連続処
理できる真空蒸着機を用いスパッタリング法により付着
した。スパッタリングは、１０^-3Ｔｏｒｒにて、アルゴ
ンガス導入のもとに行なった。処理はフィルム走行速度
１ｍ／分で行い付着膜厚は約５００Åであった。このよ
うにして得られた透明導電性膜付きフィルムは平行光線
透過率８５％、表面電気抵抗値１００Ω／□を示した。
次に前記透明導電性膜の上に、酸化アルミニウムを電子
ビーム加熱真空蒸着法により付着した。真空蒸着は真空
度１０^-5Ｔｏｒｒにて行なった。フィルム走行速度ｍ／
分で付着膜厚は約５００Åであった。得られたガスバリ
ア膜付きフィルムは酸素ガス透過率１．５ｃｃ／ｍ² ／
２４ｈｒｓ、水蒸気透過率０．５ｇ／ｍ² ／２４ｈｒ
ｓ、平行光線透過率８４％を示した。次に前記ガスバリ
ア膜の上に、ポリエステル樹脂１０部、トルエン４０
部、メチルエチルケトン５０部から成る溶液をリバース
ロールコーティング法にて連続的に５０ｍ／分で塗布、
乾燥し厚さ１μｍの接着膜を形成して、本発明のフィル
ム液晶ディスプレイ用複合体の製造に用いる透明導電性
膜及びガスバリア膜を有する転写箔（図７）を得た。

【００４３】このようにして得た透明導電性膜及びガス
バリア膜を有する転写箔を、厚さ２００μｍのポリカー
ボネートシートの片面に熱転写法により転写した。転写
後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型し、本
発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体を（図３）を
得た。

【００４４】実施例５連続した長尺の厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部、
トルエン４５部、メチルイソブチルケトン３５部から成
る溶液をロール搬送系を有するコーターでグラビアコ−
ティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ０．５μ
ｍの離型膜を５０ｍ／分の速度で形成した。次にこの離
型膜の上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０の組
成のインジウム・錫酸化物をロール搬送系連続処理でき
る真空蒸着機を用いスパッタリング法により付着した。
スパッタリングは、１０^-3Ｔｏｒｒにて、アルゴンガス
導入のもとに行なった。処理はフィルム走行速度１ｍ／
分で行い付着膜厚は約５００Åであった。このようにし
て得られた透明導電性膜付きフィルムは平行光線透過率
８５％、表面電気抵抗値１００Ω／□を示した。次に前
記透明導電性膜の上に、酸化アルミニウムを電子ビーム
加熱真空蒸着法により付着した。真空蒸着は真空度１０
^-5Ｔｏｒｒにて行なった。フィルム走行速度ｍ／分で付
着膜厚は約５００Åであった。得られたガスバリア膜付
きフィルムは酸素ガス透過率１．５ｃｃ／ｍ² ／２４ｈ
ｒｓ、水蒸気透過率０．５ｇ／ｍ² ／２４ｈｒｓ、平行
光線透過率８４％を示した。次に前記ガスバリア膜の上
に、ポリエステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチル
エチルケトン５０部から成る溶液をリバースロールコー
ティング法にて連続的に５０ｍ／分で塗布、乾燥し厚さ
１μｍの接着膜を形成して、本発明のフィルム液晶ディ
スプレイ用複合体の製造に用いる透明導電性膜及びガス
バリア膜を有する転写箔（図８）を得た。

【００４５】このようにして得た透明導電性膜及びガス
バリア膜を有する転写箔を、厚さ２００μｍのポリカー
ボネートシートの片面に熱転写法により転写した。転写
後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型膜とと
もに離型し、本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合
体を（図３）を得た。

【００４６】実施例６厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム片
面上にポリビニルアルコール８部、アクリル酸ソーダ２
部、沈降性硫酸バリウム６０部、メタノール２０部、イ
ソプロピルアルコール１０部の組成から成るコーテイン
グ剤を実施例２と同様のコーターで塗布した後、乾燥し
て、約２μｍの水溶性離型膜を形成した。次いで該水溶
性離型膜上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０の
組成のインジウム、錫酸化物をスパッタリング法により
実施例２と同様に付着させて、透明導電性膜を形成し
た。次いで前記透明導電性膜の上に、酸化アルミニウム
を電子ビーム加熱真空蒸着法により付着した。真空蒸着
は真空度１０^-5Ｔｏｒｒにて行なった。フィルム走行速
度ｍ／分で付着膜厚は約５００Åであった。得られたガ
スバリア膜付きフィルムは酸素ガス透過率１．５ｃｃ／
ｍ² ／２４ｈｒｓ、水蒸気透過率０．５ｇ／ｍ² ／２４
ｈｒｓ、平行光線透過率８４％を示した。次いで前記ガ
スバリア膜の上に、実施例２と同様の接着膜を連続的に
形成して、本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる透明導電性膜及びガスバリア膜を有する
転写箔（図８）を得た。

【００４７】このようにして得た透明導電性膜及びガス
バリア膜を有する転写箔を、厚さ２００μｍのポリアリ
レートシートの片面に熱転写法により転写した。転写後
にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型しながら
水溶性離型膜を水洗により溶出させ、水分を乾燥除去
し、本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体を（図
３）を得た。

【００４８】実施例７フッ素系化合物で表面をプラズマ処理した長尺の厚さ１
２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムのプラズ
マ処理した面上に、酸化アルミニウムを電子ビーム加熱
真空蒸着法により付着した。真空蒸着は真空度１０^-5Ｔ
ｏｒｒにて行なった。フィルム走行速度ｍ／分で付着膜
厚は約５００Åであった。得られたガスバリア膜付きフ
ィルムは酸素ガス透過率１．５ｃｃ／ｍ² ／２４ｈｒ
ｓ、水蒸気透過率０．５ｇ／ｍ² ／２４ｈｒｓ、平行光
線透過率８４％を示した。次に前記ガスバリア膜の上
に、ポリエステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチル
エチルケトン５０部から成る溶液をリバースロールコー
ティング法にて連続的に５０ｍ／分で塗布、乾燥し厚さ
１μｍの接着膜を形成して、本発明のフィルム液晶ディ
スプレイ用複合体の製造に用いるガスバリア膜を有する
転写箔（図９）を得た。

【００４９】このようにして得たガスバリア膜を有する
転写箔を、実施例１で得たフィルム液晶ディスプレイ用
複合体を（図１）のポリカーボネートシート面側に熱転
写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを離型し、本発明のフィルム液晶ディスプ
レイ用複合体を（図２）を得た。

【００５０】実施例８連続した長尺の厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部、
トルエン４５部、メチルイソブチルケトン３５部から成
る溶液をロール搬送系を有するコーターでグラビアコ−
ティング法にて連続的に塗布、乾燥して、厚さ０．５μ
ｍの離型膜を５０ｍ／分の速度で形成した。次にこの離
型膜の上に、酸化アルミニウムを電子ビーム加熱真空蒸
着法により付着した。真空蒸着は真空度１０^-5Ｔｏｒｒ
にて行なった。フィルム走行速度ｍ／分で付着膜厚は約
５００Åであった。得られたガスバリア膜付きフィルム
は酸素ガス透過率１．５ｃｃ／ｍ² ／２４ｈｒｓ、水蒸
気透過率０．５ｇ／ｍ² ／２４ｈｒｓ、平行光線透過率
８４％を示した。次に前記ガスバリア膜の上に、ポリエ
ステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチルエチルケト
ン５０部から成る溶液をリバースロールコーティング法
にて連続的に５０ｍ／分で塗布、乾燥し厚さ１μｍの接
着膜を形成して、本発明のフィルム液晶ディスプレイ用
複合体の製造に用いるガスバリア膜を有する転写箔（図
１０）を得た。

【００５１】このようにして得たガスバリア膜を有する
転写箔を、実施例２で得たフィルム液晶ディスプレイ用
複合体を（図１）のポリカーボネートシート面側に熱転
写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを離型し、本発明のフィルム液晶ディスプ
レイ用複合体を（図２）を得た。

【００５２】実施例９厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム片
面上にポリビニルアルコール８部、アクリル酸ソーダ２
部、沈降性硫酸バリウム６０部、メタノール２０部、イ
ソプロピルアルコール１０部の組成から成るコーテイン
グ剤を実施例２と同様のコーターで塗布した後、乾燥し
て、約２μｍの水溶性離型膜を形成した。次いで該水溶
性離型膜上に、酸化アルミニウムを電子ビーム加熱真空
蒸着法により付着した。真空蒸着は真空度１０^-5Ｔｏｒ
ｒにて行なった。フィルム走行速度ｍ／分で付着膜厚は
約５００Åであった。得られたガスバリア膜付きフィル
ムは酸素ガス透過率１．５ｃｃ／ｍ² ／２４ｈｒｓ、水
蒸気透過率０．５ｇ／ｍ²／２４ｈｒｓ、平行光線透過
率８４％を示した。次いで前記ガスバリア膜の上に、実
施例２と同様の接着膜を連続的に形成して、本発明のフ
ィルム液晶ディスプレイ用複合体の製造に用いるガスバ
リア膜を有する転写箔（図１０）を得た。

【００５３】このようにして得たガスバリア膜を有する
転写箔を、実施例３で得たフィルム液晶ディスプレイ用
複合体を（図１）のポリアリレートシートの片面に熱転
写法により転写した。転写後にポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを離型しながら水溶性離型膜を水洗により
溶出させ、水分を乾燥除去し、本発明のフィルム液晶デ
ィスプレイ用複合体を（図２）を得た。

【００５４】実施例１０実施例４で得た透明導電性膜及びガスバリア膜を有する
本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体（図３）の
ポリカーボネートシート側面に、実施例７で得たガスバ
リア膜を有する転写箔を熱転写法により転写した。転写
後にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型し、本
発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体を（図４）を
得た。

【００５５】実施例１１実施例で５得た透明導電性膜及びガスバリア膜を有する
本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体（図３）の
ポリカーボネートシート側面に実施例８で得たガスバリ
ア膜を有する転写箔を熱転写法により転写した。転写後
にポリエチレンテレフタレートフィルムを離型し、本発
明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体を（図４）を得
た。

【００５６】実施例１２実施例で６得た透明導電性膜及びガスバリア膜を有する
本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体（図３）の
ポリアリレートシート側面に実施例９で得たガスバリア
膜を有する転写箔を熱転写法により転写した。転写後に
ポリエチレンテレフタレートフィルムを離型しながら水
溶性離型膜を水洗により溶出させ、水分を乾燥除去し、
本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体を（図４）
を得た。

【００５７】比較例１実施例１、実施例２において、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムに透明導電性膜を有する転写箔を用いるか
わりに、厚さ２００μｍのポリカーボネートシートの片
面に直にインジウム・錫酸化物をスパッタリング法によ
り透明導電性膜を形成し、本発明のフィルム液晶ディス
プレイ用複合体（図１）に対応するフィルム液晶ディス
プレイ用複合体を得た。

【００５８】比較例２実施例３において、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに透明導電性膜を有する転写箔を用いるかわりに、厚
さ２００μｍのポリアリレートシートの片面にに直にイ
ンジウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電
性膜を形成し、本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複
合体（図１）に対応するフィルム液晶ディスプレイ用複
合体を得た。

【００５９】比較例３実施例４、実施例５において、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムに透明導電性膜／ガスバリア膜を有する転
写箔を用いるかわりに、厚さ２００μｍのポリカーボネ
ートシートの片面に直に酸化アルミニウムを電子ビーム
加熱真空蒸着法により付着し、次いでインジウム・錫酸
化物をスパッタリング法により透明導電性膜を形成し、
本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体（図３）に
対応するフィルム液晶ディスプレイ用複合体を得た。

【００６０】比較例４実施例６において、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに透明導電性膜／ガスバリア膜を有する転写箔を用い
るかわりに、厚さ２００μｍのポリアリレートシートの
片面に直に酸化アルミニウムを電子ビーム加熱真空蒸着
法により付着し、次いでインジウム・錫酸化物をスパッ
タリング法により透明導電性膜を形成し、本発明のフィ
ルム液晶ディスプレイ用複合体（図３）に対応するフィ
ルム液晶ディスプレイ用複合体を得た。

【００６１】比較例５比較例１で得たフィルム液晶ディスプレイ用複合体のポ
リカーボネートシート面側に、実施例７、実施例８にお
いてポリエチレンテレフタレートフィルムにガスバリア
膜を有する転写箔を用いるかわりに、直に酸化アルミニ
ウムを電子ビーム加熱真空蒸着法によりガスバリア膜を
形成し、本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
（図２）に対応するフィルム液晶ディスプレイ用複合体
を得た。

【００６２】比較例６比較例１で得たフィルム液晶ディスプレイ用複合体のポ
リアリレートシート面側に、実施例９においてポリエチ
レンテレフタレートフィルムにガスバリア膜を有する転
写箔を用いるかわりに、直に酸化アルミニウムを電子ビ
ーム加熱真空蒸着法によりガスバリア膜を形成し、本発
明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体（図２）に対応
するフィルム液晶ディスプレイ用複合体を得た。

【００６３】比較例７比較例３で得たフィルム液晶ディスプレイ用複合体のポ
リカーボネートシート側面に、実施例７、実施例８で得
たガスバリア膜を有する転写箔を用いるかわりに、直に
酸化アルミニウムを電子ビーム加熱真空蒸着法によりガ
スバリア膜を形成し、本発明のフィルム液晶ディスプレ
イ用複合体（図４）に対応するフィルム液晶ディスプレ
イ用複合体を得た。

【００６４】比較例８比較例４で得たフィルム液晶ディスプレイ用複合体のポ
リアリレートシート側面に、実施例９で得たガスバリア
膜を有する転写箔を用いるかわりに、直に酸化アルミニ
ウムを電子ビーム加熱真空蒸着法によりガスバリア膜を
形成し、本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
（図４）に対応するフィルム液晶ディスプレイ用複合体
を得た。

【００６５】次に実施例１〜１２及び比較例１〜８によ
り得たフィルム液晶ディスプレイ用複合体の各試料につ
いて、平行光線透過率、表面電気抵抗値、表面状態（傷
発生状態）、酸素ガス透過率、水蒸気透過率について評
価を行なった結果を表１に示した。

【００６６】＜評価方法＞ (1) 平行光線透過率ヘイズメータ（日本精密光学株式会社製、ＳＥＰ−ＩＩ
−Ｓ）を用い波長５５０ｎｍ（フィルタ使用）にて測定
する。

【００６７】(2) 表面電気抵抗値デジタルテスター（岩崎通信機株式会社製、ＶＯＡＣ７
０７）を使用し、ゴムロール硬度約６０のゴムシート上
に３５ｍｍ幅、対向距離３５ｍｍの電極をのせ、電極端
子間の抵抗を測定する。

【００６８】(3) 表面状態（傷発生状態）肉視及び光学顕微鏡観察による。

【００６９】(4) 酸素ガス透過率ＭＯＤＥＲＮＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲＣｏ．製、ＭＯ
ＤＥＬＯＸ−ＴＲＡＮ１００ＴＷＩＮを使用し、
２５℃、ＤＲＹ状態で測定する。

【００７０】(5) 水蒸気透過率ＭＯＤＥＲＮＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲＣｏ．製、ＭＯ
ＤＥＬＷＡＴＥＲＶＡＰＯＲＴＲＡＮＳＭＩＳＳＩ
ＯＮＤＬ１００を使用し、４０℃、９０％ＲＨ状態で
測定する。

【００７１】

【表１】

【００７２】尚、表面状態は透明導電性膜の表面状態で
ある。

【００７３】表１から実施例１〜１２のものはフィルム
液晶ディスプレイ用複合体の表面状態を調べたところ、
すり傷は全く発生していないことがわかる。これに対
し、比較例１〜８のものはすり傷が加工工程中に発生し
て、このすり傷のために酸素透過率及び水蒸気透過率は
共に増大し、ガスバリア性が低下したことがわかる。つ
まり、実施例１〜１２のものは比較例１〜８のものに比
較して何れも優れていることがわかる。

【００７４】

【発明の効果】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複
合体は、透明導電性膜、ガスバリア膜等の機能付与膜及
び接着膜の形成を連続処理できる真空蒸着装置、スパッ
タリング装置、コーティング装置等の量産性、製品品質
の安定性、低コスト性に優れた装置を用いて各種のベー
スフィルムに形成した転写箔を用いて所望のポリマー・
フィルムの所望面に機能付与膜を転写した構成としたの
で、量産性、製品品質の安定性、低コスト性に優れたも
のである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
実施例１〜実施例３を示す慨略断面図である。

【図２】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
実施例７〜実施例９を示す慨略断面図である。

【図３】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
実施例４〜実施例６を示す慨略断面図である。

【図４】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
実施例１０〜実施例１２を示す慨略断面図である。

【図５】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図で
ある。

【図６】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図で
ある。

【図７】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図で
ある。

【図８】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図で
ある。

【図９】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体の
製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図で
ある。

【図１０】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【図１１】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【図１２】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【図１３】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【図１４】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【図１５】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【図１６】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【図１７】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【図１８】本発明のフィルム液晶ディスプレイ用複合体
の製造に用いる機能付与膜を有する転写箔の慨略断面図
である。

【符号の説明】

１１ベースフィルム１２離型膜１３透明導電性膜１４接着膜１５ガスバリア膜１６反射防止膜１７ハードコート膜２０ポリマー・フィルム

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】片面に少なくとも透明導電性膜(13)を形
成したポリマー・フィルム(20)からなる複合体の透明導
電性膜(13)側を内側にして対向させ、その隙間に液晶を
封入したフィルム液晶ディスプレイに使用する複合体に
おいて、該複合体がポリマー・フィルム(20)の片面に接
着膜(14)を介して透明導電性膜(13)が形成されている事
を特徴とするフィルム液晶ディスプレイ用複合体。
【請求項２】複合体がポリマー・フィルム(20)の片面
に接着膜(14)を介して透明導電性膜(13)が形成され、他
の片面に接着膜(14)を介してガスバリア膜(15)が形成さ
れている事を特徴とする請求項１記載のフィルム液晶デ
ィスプレイ用複合体。
【請求項３】接着膜(14)と透明導電性膜(13)の間にガ
スバリア膜(15)が形成されている事を特徴とする請求項
１又は２記載のフィルム液晶ディスプレイ用複合体。