JPH08245670A - １，３−ジ置換シクロペンタジエニル−配位子との遷移金属錯体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ３位置換−２−シクロペンテン−１−エンか
ら出発して１，３−ジアルキルシクロペンタジエンを製
造する反応を中間生成物を単離せずに、高収率で１，３
−ジアルキルシクロペンタジエンを合成し、これを直接
金属化し、相応するジアルキルシクロペンタジエニル遷
移金属錯体に変換することのできる方法を提供する。 【解決手段】 第１工程で３位置換−シクロペント−２
−エン−１−オンをグリニャール化合物でアルコールを
生成し、該アルコールを化学量論的量の水で１工程で加
水分解および脱水し、第２工程で金属化し、遷移金属ハ
ロゲン化物で相応する錯体に変換する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、３位置換−２−シ
クロペンテン−１−オンから出発して高収率で１，３−
ジアルキルシクロペンタジエンを生成し、これを直接金
属化し、相応する１，３−ジアルキルシクロペンタジエ
ニル−遷移金属錯体に変換する改良方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機合成ならびに殊にオレフィンの重合
における触媒としての上記の遷移金属錯体の多種多様の
適用可能性に基づき、シクロペンタジエニル基に２個の
置換基を有するサンドウィッチ錯体の能率的な工業的製
造可能性が次第に重要になっている（ＥＰ−Ａ−０１２
８０４５，ＥＰ−Ａ−０３６６２９０，ＥＰ−Ａ−０２
８３７３９，ＥＰ−０５８２４８０，ＵＳ−ＰＳ４８７
４８８０）．かかる化合物の製造は原則的に公知であ
る。このため、一般に化学式１により行うことができ
る：

【０００３】

【化６】

【０００４】［式中Ｍ＝Ｌｉ，ＭｇＣｌ，ＭｇＢｒであ
り、Ｒ，Ｒ^１（同じかまたは異なる）＝アルキル−また
はアリール基であってもよい］。

【０００５】従来この場合の欠点は、３−アルキル−シ
クロペンテン−１−オンとグリニャール化合物またはリ
チウムアルキルとの反応後、生じるアルコラート（２）
は初めに水により加水分解し、アルコール（３）として
単離しなければならず、それから別個に接触的脱水およ
び後処理した後に所望の１，３−ジアルキルシクロペン
タジエン成分（４）を得、これは別個に乾燥した後に初
めて次の反応に使用することができたことである（Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ １９６５，２１，２３１３；Ｃｈ
ｅｍ．Ｂｅｒ．１９６７，１０９，３２９；Ｊ．Ｏｒｇ
ａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，１９９１，４１７，９）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、反応Ｉ．，ＩＩ．およびＩＩＩ．（化学式１）を、
１つの反応で中間生成物を単離することなしに、高い収
率で１，３−ジ置換シクロペンタジエンに合成すること
のできる方法を利用できる程度に簡単にすることであ
り、次にこの化合物は、たとえば化学式２により、相応
する遷移金属錯体に変換することができる：

【０００７】

【化７】

【０００８】［式中Ｍ’＝金属化剤であり、Ｍ^１＝遷移
金属であり、Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉであり、ｍ＝Ｍ^１の酸
化数であり、ｎ＜ｍである］。

【０００９】

【課題を解決するための手段】ところで意外にも、１，
３−ジアルキルシクロペンタジエンを製造するための上
記の反応（反応式１）は、殊にグリニャール化合物を使
用する場合にアルコールの生成および脱水を有利に現場
で中間単離なしにできることが判明した。

【００１０】さらに、その際生じるマグネシウム塩は同
時に乾燥剤として使用され、それで得られる溶液は１，
３−ジアルキルシクロペンタジエニル遷移金属錯体を製
造するために直ちに使用できる。それというのも無水で
生じる１，３−ジアルキルシクロペンタジエンの溶液に
基づき、この溶液に直ちに水分に敏感な金属化試薬（Ｎ
ａ，ＮａＨ，Ｌｉ−アルキル）を加え、１，３−ＲＲ^１
ＣｐＭ’に変え、次いで通常の方法で遷移金属塩と反応
させることができる（化学式３）：

【００１１】

【化８】

【００１２】［式中Ｒ^２，Ｒ^３＝互いに独立にＣ_１−Ｃ
_２０の、場合により置換されたアルキル−、アルケニル
−、シクロアルキル−、アリール、アリールアルキル基
であり、Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉであり、Ｍ’＝金属化剤、
たとえばＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＮａＨ，ＫＨ，Ｌｉアルキル
であり、Ｍ^１＝Ｓｃ，Ｔｉ、Ｚｒ，Ｈｆ、Ｆｅ，Ｖ，Ｃ
ｒであり、Ｘ^１＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉであり、ｍ＝Ｍ^１の酸
化数であり、ｎ＜ｍである］。

【００１３】反応式３により本発明による反応の実施
は、先行技術による方法では不可能である。それという
のも化学式１、工程ＩＩにより製造されたアルコールを
初めに単離し、引き続き化学式２、工程ＩＩＩにより別
個に脱水し、この反応において遊離する水を、反応式２
により遷移金属錯体への次の反応を実施しうる前に、完
全に除去しなければならないからである。

【００１４】本発明の対象は、第１工程で３位置換−シ
クロペント−２−エン−１−オンをグリニャール化合物
と、化学式（Ａ）

【００１５】

【化９】

【００１６】により反応させ、生成したアルコラートを
化学量論的量の水で化学式（Ｂ）により１工程で加水分
解し、脱水し

【００１７】

【化１０】

【００１８】［式中Ｒ^２，Ｒ^３は互いに独立にＣ_１−Ｃ
_２０の、場合により置換されたアルキル−、アルケニル
−、シクロアルキル−、アリール−、アリールアルキル
基であり、Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉである］、第２工程で自
体公知の方法により直接化学式（Ｃ）

【００１９】

【化１１】

【００２０】［式中Ｍ’＝金属化剤であり、Ｍ^１＝Ｓ
ｃ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｆｅ，Ｖ，Ｃｒであり、Ｘ^１＝
Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉであり、ｍ＝Ｍ^１の酸化数であり、ｎ＜
ｍである］により金属化し、遷移金属ハロゲン化物で相
応する錯体に変換することを特徴とする１，３−ジ置換
シクロペンタジエニル−遷移金属錯体の製造方法であ
る。

【００２１】本発明の他の対象は請求項に記載されてい
る。

【００２２】化学式（Ａ）により一緒に使用されるグリ
ニャール化合物Ｒ^２ＭｇＸは、市販製品であるかまたは
一般に公知の方法により適当な有機塩素−、有機臭素−
または有機沃素−化合物と金属マグネシウムとの反応に
より製造することができる（たとえばＨｏｕｂｅｎ−Ｗ
ｅｙｌ，ＸＩＩ／２ａ巻−有機金属化合物Ｂｅ，Ｍｇ，
Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ；４７ページ−有機マグ
ネシウム化合物−Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ出版 Ｓｔ
ｕｔｔｇａｒｔ−１９７３の記載参照）。

【００２３】好ましくは化ｓ合物Ｒ^２ＭｇＸ［式中Ｒ２
は場合により置換された１〜２０Ｃ原子を有するアルキ
ル基またはシクロアルキル基である］が使用される。

【００２４】本発明により一緒に使用される、３位置換
−シクロペント−２−エン−１−オンは、文献公知の方
法によって製造できる（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９
５２，１１２７；ＯＳ ２３１３５０４；Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，１９６５，２１，２３１３；
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９７２，３９７；Ｂｕｌｌ．Ｓ
ｏｃ．Ｃｈｉｅｍ．，１９７０，２９８１）。基Ｒ３
は、場合により置換された１〜２０Ｃ原子を有するアル
キル−、アルケニル−、シクロアルキル−、アリール−
またはアリールアルキル基であり、その際Ｒ３がメチル
−またはフェニル基である本発明による化合物がとくに
好ましい。

【００２５】グリニャール化合物と３位置換−シクロペ
ント−２−エン−１−オンとの反応は、好ましくはモル
比１：１で、エーテル、とくにジエチルエーテル、殊に
テトラヒドロフラン中、−２０〜１２０℃、とくに０〜
７０℃の温度で実施される。

【００２６】グリニャール化合物のエーテル溶液に、シ
クロペンテノン化合物を、場合によりエーテルに溶かし
て、連続的または少量ずつ添加し、反応混合物を添加終
了後なお約１〜３ｈ引き続き撹拌する。

【００２７】反応終了後、生成したマグネシウムアルコ
ラートを室温でとくに化学量論的量の水の添加により加
水分解する。１工程で行われる加水分解および脱水の完
結は、引き続き約２０〜１００℃、とくに約７０℃で１
〜３ｈ行われる。

【００２８】生成したマグネシウム塩は、反応混合物中
に含まれている水を完全に結合するので、室温に冷却
し、沈殿したマグネシウム塩を分離した後、固体および
水を含有しない透明な溶液が存在し、該溶液は直接金属
化剤との反応に使用し、その後遷移金属ハロゲン化物と
化学式（Ｃ）により反応させて相応する遷移金属錯体を
得ることができる。

【００２９】この反応は、一般に公知の方法によって行
われる（たとえば“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ ｏｒｇ
ａｎｏｚｉｒｃｏｎｉｕｍ ａｎｄ −ｈａｆｎｉｕｍ
ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ”，Ｄ．Ｊ．Ｃａｒｄｉｎ，Ｍ．
Ｆ．Ｌａｐｐｅｒｔ，Ｃ．Ｌ．Ｒａｓｔｏｎ；１９８
６，Ｅｌｌｉｓ Ｈｏｒｗｏｏｄ Ｌｉｍｉｔｅｄ；
“Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ
ｏｆ Ｔｉｔａｎｉｕｍ，Ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ，ａｎ
ｄ Ｈａｆｎｉｕｍ”１９７４−ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒ
ｅｓｓ Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ ａｎｄ Ｌｏｎｄｏｎ，
Ｐ．Ｃ．Ｗａｉｌｅｓ，Ｒ．Ｓ．Ｐ．Ｃｏｕｔｔｓ，Ｈ
ｅｉｇｏｌｄ；Ｇｍｅｌｉｎ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅ
ｒ ａｎｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ−Ｓｕ
ｐｐｌｅｍｅｎｔ ｔｏ ８ｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎ−Ｖ
ｏｌｕｍｅｓ １０ａｎｄ１１，“Ｚｉｒｃｏｎｉｕｍ
−ｕｎｄ Ｈａｆｎｉｕｍ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅ Ｖ
ｅｒｂｉｎｄｕｎｇｅｎ”，Ｓ．２６ｆｆ−Ｖｅｒｌａ
ｇ Ｃｈｅｍｉｅ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ−１９７３の記載
参照）。

【００３０】

【実施例】

例１．ビス（１−メチル−３−オクチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロリドの製造 マグネシウムリボン１７。２６ｇ（０．７１ｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）３０ｍｌ中に装入し、グ
リニャール反応を開始するため、オクチルブロミド２ｇ
を加えた。グリニャール反応の開始した後、残りのオク
チルブロミド（合計１１５．９ｇ；０．６ｍｏｌ）を、
ＴＨＦ７０ｍｌに溶かして、穏やかな還流が生じるよう
に添加した。

【００３１】添加終了後、なお２ｈ還流下に後反応させ
た。

【００３２】次いで、０℃に冷却し、この温度で３−メ
チル−２−シクロペンテン−１−オン（０．５ｍｏｌ，
４８．１ｇ）を、ＴＨＦ２０ｍｌおよびヘキサン８０ｍ
ｌに溶かして添加した。

【００３３】添加後、３ｈ室温（ＲＴ）で後反応させ
た。

【００３４】ＲＴでヘキサン１７０ｍｌおよび加水分解
に必要な、化学量論的量の水（０．６ｍ０ｌ，１０．８
ｇ）の添加を行った。

【００３５】添加終了後、なお２ｈ還流させ、引き続き
ＲＴに冷却し、マグネシウム塩を除去した。固体不含の
澄明な濾液を装入し、ブチルリチウム（ヘキサン中２．
５モル溶液、０．４ｍｏｌ，１６０ｍｌ）をＲＴで３０
ｍｉｎ内に加えた。５０℃で１ｈ後撹拌した。

【００３６】次に、四塩化ジルコニウム４６．６ｇ
（０．２ｍｏｌ）を０℃で添加し、ＲＴで１ｈ、還流下
に２ｈ撹拌した。

【００３７】引き続き、沈殿したＬｉＣｌを分離し、溶
媒を蒸留した。

【００３８】残留物をヘキサンから再結晶した。生成物
７７．４ｇが得られた（収率：７１％）。

【００３９】 Ｚｒ（計算値：１６．７４） 実測値：１６．９ Ｃｌ（計算値：１３．０２） 実測値：１３．３ ^１ Ｈ−ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３） ６．１−５．８（ｍ，６ｈ，Ｃｐ）；２．６−２．３５
（ｍ，４ｈ，−ＣＨ_２−）；２．２（ｓ，６Ｈ，Ｃ
Ｈ_２）；１．６−１．１（ｍ，２４Ｈ，−（ＣＨ_２）_６
−）；ｏ．８５（ｔ，６Ｈ，−ＣＨ_３） 例２．ビス（１−ｉ−ブチル−３−メチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロリドの製造 実施および使用物質は例１．と同様、単にオクチルブロ
ミドの代わりにｉ−ブチルクロリド０．６ｇを使用し
た。生成物６１．４ｇが得られた（収率：７１％）。

【００４０】 Ｚｒ（計算値：２１．１） 実測値：２０．８ Ｃｌ（計算値：１６．４） 実測値：１６．１^１ Ｈ−ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３） （図１参照） 例３．ａ）ビス（１−ｎ−ブチル−３−メチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロリドの製造 実施および使用物質は例１．と同様、オクチルブロミド
の代わりにｎ−ブチルクロリド０．６ｍｏｌを使用し
た。生成物６７．５ｇが得られた（収率：７８％）。

【００４１】 Ｚｒ（計算値：２１．１） 実測値：２０．７ Ｃｌ（計算値：１６．４） 実測値：１６．１^１ Ｈ−ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３） ６．１−５．９（ｍ，６Ｈ，Ｃｐ）；２．６５−２．３
８（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ２−）；２．２（ｓ，６Ｈ，−Ｃ
Ｈ_３）；１．６−１．２５（ｍ，８Ｈ，−ＣＨ_２ＣＨ_２
−）；０．９（ｔ，６Ｈ，−ＣＨ_３） 例３．ｂ）中間生成物１−ｎ−ブチル−３−メチルシク
ロペンタジエンを単離するビス（１−ｎ−ブチル−３−
メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド
の製造 マグネシウムリボン１９．４４ｇ（０．８ｍｏｌ）を、
ＴＨＦ４０ｍｌ中へ装入し、グリニャール反応を開始す
るために、ｎ−ブチルクロリド１ｇを加えた。

【００４２】グリニャール反応の開始した後、ｎ−ブチ
ルクロリド６３．８ｇ（合計０．７ｍｏｌ）を、テトラ
ヒドロフラン１５０ｍｌに溶かして、穏和な還流が生じ
るように滴加した。

【００４３】添加終了後、なお２ｈ還流下に後反応し
た。次に、０℃に冷却し、３−メチル−２−シクロペン
テン−１−オン６７．３ｇ（０．７ｍｏｌ）を、テトラ
ヒドロフラン４０ｍｌおよびヘキサン１４０ｍｌに溶か
して、添加した。

【００４４】引き続き、ＲＴでなお２ｈ撹拌した。

【００４５】次に、ヘキサン２００ｍｌをＲＴで添加し
ならびにＨ_２Ｏ１２．６ｇ（０．７ｍｏｌ）を徐々に添
加した。

【００４６】水の添加後、なお１ｈ還流した。ＲＴに冷
却した後、沈殿したマグネシウム塩を分離し、濾液から
溶媒を除去した。溶媒を蒸留した後の残留物を^１Ｈ−Ｎ
ＭＲで調べ、未脱水アルコール、１−ｎ−ブチル−３−
メチルシクロペント−２−エン−１−オールの残分を示
さなかった［図２）参照およびさらにｎ−ブチルグリニ
ャールの代わりにｎ−ブチルリチウムとの反応−例４．
例３．ｂ）に対する比較例をも対照］。

【００４７】次いで、残留物を４５℃／１ｍｂａｒで蒸
留した。留出物８５が得られた。

【００４８】留出物７０ｇをペンタン２００ｍｌおよび
テトラヒドロフラン２６ｍｌ中に装入し、ＲＴでブチル
リチウム１４６ｍｌ（ヘキサン中２．５ｍｏｌ溶液；
０．３６５ｍｏｌ）を滴加した。ブチルリチウムの添加
後、なお３０ｍｉｎ還流した。０℃に冷却した反応混合
物中へ、四塩化ジルコニウム４２．５ｇ（０．１８３ｍ
ｏｌ）を導入した。その後、なお１ｈ還流した。

【００４９】ＲＴに冷却した後、沈殿したＬｉＣｌを分
離し、濾液を−２０℃に冷却した。沈殿した生成物を濾
過し、乾燥した。

【００５０】生成物６５．５ｇ（理論値の８３％）が得
られた。

【００５１】^１ＨＮＭＲは、例３．ａ）におけると同
じ。

【００５２】例４． 例３．ｂ）に対する比較例：グリ
ニャールの代わりにブチルリチウムを使用した ブチルリチウム４１．６ｍｌ（ヘキサン中２．５ｍｏｌ
溶液；１０４ｍｍｏｌ）を−１０℃で装入した。

【００５３】４５ｍｉｎ内に、ヘキサン２７ｍｌ、ＴＨ
Ｆ９ｍｌおよび３−メチル−２−シクロペンテン−１−
オン１０ｇ（０．１０４ｍｏｌ）からなる混合物を滴加
した。添加終了後ＲＴで４ｈ撹拌した。次いで、水１．
８７ｇ（０．１０４ｍｏｌ）を滴加し、ＲＴで１ｈ還流
下に攪拌し、冷却し濾過した。濾液から溶媒を除去し、
^１ＨＮＭＲにより調べた。純粋なアルコール１−ｎ−ブ
チル−３−メチル−シクロペント−２−エン−１−オー
ルのみを確認することができた。

【００５４】^１ ＨーＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）： （図３参照）。

【００５５】脱水されず、従って１−ブチル−３−メチ
ル−シクロペンタジエンは形成しなかった。

【００５６】例５．ビス（１−エチル−３−メチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドの製造 実施および使用物質は例１．と同様；オクチルブロミド
の代わりにエチルブロミド０．６ｍｏｌを使用した。生
成物５１．２ｇが得られた（収率：６８％）。

【００５７】 Ｚｒ（計算値：２４．２３） 実測値：２３．５ Ｃｌ（計算値：１８．８３） 実測値：１８．６^１ ＨＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３）： ６．１−５．９（ｍ，６Ｈ，Ｃｐ）；２．７２−２．４
９（ｍ，４Ｈ，ＣＨ_２−）；２．２（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ
_３）；１．１５（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ_３）。

【図面の簡単な説明】

【図１】例２による生成物ビス（１−ｉ−ブチル−３−
メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド
のＮＭＲスペクトル

【図２】例３．ｂ）による生成物ビス（１−ｎ−ブチル
−３−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリドのＮＭＲスペクトル

【図３】例４（例３．ｂ）による比較例）による生成物
１−ｎ−ブチル−３−メチルシクロペント−２−エン−
１−オールのＮＭＲスペクトル

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１工程で３位置換−シクロペント−２
   −エン−１−オンをグリニャール化合物と化学式（Ａ） 【化１】 により反応させ、形成したアルコラートを化学量論的量
   の水で一工程で化学式（Ｂ） 【化２】 ［式中Ｒ^２，Ｒ^３は互いに独立にＣ_１−Ｃ_２０の、場合
   により置換されたアルキル−、アルケニル−、シクロア
   ルキル−、アリール−、アリールアルキル基を表わし、
   Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉである］により一工程で加水分解お
   よび脱水し、第２工程で自体公知の方法により直接化学
   式（Ｃ） 【化３】 ［式中Ｍ’＝金属化剤であり、Ｍ^１＝Ｓｃ，Ｔｉ，Ｚ
   ｒ，Ｈｆ、Ｆｅ，Ｖ，Ｃｒであり、Ｘ^１＝Ｃｌ，Ｂｒ，
   Ｉであり、ｍ＝Ｍ^１の酸化数であり、ｎ＜ｍである］に
   より金属化し、遷移金属ハロゲン化物で相応する錯体に
   変換することを特徴とする１，３−ジ置換シクロペンタ
   ジエニル−遷移金属錯体の製造方法。
2. 【請求項２】 グリニャール化合物として、Ｒ²ＭｇＸ
   化合物［Ｒ^２はｎ−ブチル−、ｉ−ブチル、ｎ−オクチ
   ル基である］を使用することを特徴とする請求項１記載
   の１，３−ジ置換シクロペンタジエニル−遷移金属錯体
   の製造方法。
3. 【請求項３】 置換シクロペント−２エン−１−オン化
   合物として、Ｒ^３がメチル−またはフェニル基であるよ
   うな化合物を使用することを特徴とする請求項１記載の
   １，３−ジ置換シクロペンタジエニル−遷移金属錯体の
   製造方法。
4. 【請求項４】 化学式（Ａ）中のグリニャール化合物Ｒ
   ^２ＭｇＸを、溶媒としてテトラヒドロフラン中で使用す
   ることを特徴とする請求項１記載の１，３−ジ置換シク
   ロペンタジエニル−遷移金属錯体の製造方法。
5. 【請求項５】 反応（Ｂ）をヘキサンおよび／またはヘ
   プタン：エーテルの比＝１：１〜４：１で実施すること
   を特徴とする請求項１記載の１，３−ジ置換シクロペン
   タジエニル−遷移金属錯体の製造方法。
6. 【請求項６】 反応（Ｂ）により得られるシクロペンタ
   ジエン誘導体ＣｐＲ^２Ｒ^３を次の反応前に単離すること
   を特徴とする請求項１記載の１，３−ジ置換シクロペン
   タジエニル−遷移金属錯体の製造方法。
7. 【請求項７】 第１工程で３位置換−シクロペンタジエ
   ニル−２−エン−１−オンをグリニャール化合物と化学
   式（Ａ） 【化４】 により反応させ、形成したアルコラートを化学量論的量
   の水で１工程で化学式（Ｂ） 【化５】 ［式中Ｒ^２，Ｒ^３は互いに独立にＣ_１〜Ｃ_２０の、場合
   により置換されたアルキル−、アルケニル−、シクロア
   ルキル−、アリール−、アリールアルキル基であり、Ｘ
   ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉである］により加水分解し、脱水する
   ことを特徴とする１，３−ジ置換シクロペンタジエニル
   化合物の製造方法。
8. 【請求項８】 グリニャール化合物として、Ｒ^２ＭｇＸ
   化合物［Ｒ^２はｎ−ブチル−、ｉ−ブチル−、ｎ−オク
   チル基である］化合物を使用することを特徴とする請求
   項７記載の方法。
9. 【請求項９】 置換シクロペント−２−エン−１−オン
   化合物として、Ｒ^３がメチル−またはフェニル基である
   ような化合物を使用することを特徴とする請求項１記載
   の１，３−ジ置換シクロペンタジエニル化合物の製造方
   法。
10. 【請求項１０】 化学式（Ａ）におけるグリニャール化
    合物Ｒ^２ＮｇＸを溶媒としてテトラヒドロフラン中で使
    用することを特徴とする請求項１記載の１，３−ジ置換
    シクロペンタジエニル化合物の製造方法。