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JPH08212531A - Magnetic recording medium and method of manufacturing the same - Google Patents

Magnetic recording medium and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JPH08212531A
JPH08212531A JP7020697A JP2069795A JPH08212531A JP H08212531 A JPH08212531 A JP H08212531A JP 7020697 A JP7020697 A JP 7020697A JP 2069795 A JP2069795 A JP 2069795A JP H08212531 A JPH08212531 A JP H08212531A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
underlayer
recording medium
magnetic
magnetic recording
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7020697A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Kataoka
宏之 片岡
Tetsuya Kanbe
哲也 神▲邊▼
Hidekazu Kashiwase
英一 柏瀬
Shioji Fujita
塩地 藤田
Kenji Furusawa
賢司 古澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP7020697A priority Critical patent/JPH08212531A/en
Publication of JPH08212531A publication Critical patent/JPH08212531A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高密度記録を行なった際に記録ノイズの発生
が少ない多層膜形の磁気記録媒体の構造と製造方法を提
供することを目的とする。 【構成】 非磁性基板6にCr,Ti,Zr,Al,S
i,V,Nb,Mo、またはそれらの金属を主成分とす
る合金からなる第一の下地層5と、TaまたはHfから
なる第二の下地層4と、Cr,Vまたはそれらの合金か
らなる第三の下地膜3と、Co合金からなる磁性層2
と、保護潤滑層1と、を順次積層する。 【効果】 類似の構造を持つ従来の磁気記録媒体に比較
して、平均的な保磁力が10から20%向上し、規格化
ノイズ係数が少なくとも10%、最大18%減少する。
(57) [Summary] [Object] An object of the present invention is to provide a structure and a manufacturing method of a multi-layered magnetic recording medium in which recording noise is less likely to occur when high density recording is performed. [Structure] Cr, Ti, Zr, Al, S on the non-magnetic substrate 6
i, V, Nb, Mo, or a first underlayer 5 made of an alloy whose main component is a metal, a second underlayer 4 made of Ta or Hf, and Cr, V or an alloy thereof. Third underlayer 3 and magnetic layer 2 made of Co alloy
And the protective lubricating layer 1 are sequentially laminated. As compared with the conventional magnetic recording medium having a similar structure, the average coercive force is improved by 10 to 20%, and the normalized noise coefficient is decreased by at least 10% and up to 18%.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録に対応した
磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium compatible with high density recording and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録の分野では、情報の記録密度、
転送速度が急速に向上している。そのため、高密度の書
き込み、読み出しが可能な磁気ディスク装置や磁気テー
プ装置が求められている。
2. Description of the Related Art In the field of magnetic recording, the recording density of information,
The transfer speed is improving rapidly. Therefore, a magnetic disk device and a magnetic tape device capable of high-density writing and reading are required.

【0003】高密度記録の可能な磁気記録媒体を実現す
るには、線記録密度の向上と、読み出し信号電圧の対雑
音電圧比(S/N比)の向上と、が必要である。線記録
密度を向上させるには、記録膜を薄膜化するとともに、
保磁力を増加させる必要がある。また、磁気ヘッドのギ
ャップやMR素子と磁気記録媒体の距離を極力近づけて
信号の分解能を高める必要がある。
In order to realize a magnetic recording medium capable of high density recording, it is necessary to improve the linear recording density and the read signal voltage-to-noise voltage ratio (S / N ratio). To improve the linear recording density, thin the recording film and
It is necessary to increase the coercive force. Further, it is necessary to increase the signal resolution by making the gap between the magnetic head and the distance between the MR element and the magnetic recording medium as close as possible.

【0004】S/N比を向上させるには、磁気記録媒体
の磁化パターン乱れの減少や磁化単位の縮小によるノイ
ズ低減が必要である。
In order to improve the S / N ratio, it is necessary to reduce the disturbance of the magnetization pattern of the magnetic recording medium and the noise by reducing the magnetization unit.

【0005】記録膜は、一般に、基板となるディスクや
テープの表面に形成される。ヘッドを磁気記録媒体(記
録膜)に近づけるには、基板表面ができるだけ平坦でな
ければならない。そのため、ディスク基板には精密に平
面研磨加工が施されている。
The recording film is generally formed on the surface of a disk or tape serving as a substrate. In order to bring the head close to the magnetic recording medium (recording film), the substrate surface must be as flat as possible. Therefore, the disk substrate has been subjected to precision surface polishing.

【0006】ディスク基板としては、アルミにニッケル
・リン合金をメッキし、これを研磨したものがこれまで
用いられてきた(以下”ニッケル・リン基板”とい
う)。また、近年では、磁気ディスク装置の小型化に伴
って、非金属(例えば、ガラス)のディスク基板も用い
られるようになってきている。特に、直径65mm以下
で板厚が薄い基板を用いるものでは、この傾向が強い。
これは、ガラス等の非金属のディスク基板は、表面が硬
いため精密研磨しやすく、安価である等の理由によるも
のである。
As a disk substrate, a substrate obtained by plating aluminum with a nickel-phosphorus alloy and polishing the same has been used so far (hereinafter referred to as "nickel-phosphorus substrate"). Further, in recent years, with the miniaturization of magnetic disk devices, non-metal (eg, glass) disk substrates have come to be used. This tendency is particularly strong in the case of using a substrate having a diameter of 65 mm or less and a thin plate thickness.
This is because a non-metal disk substrate such as glass has a hard surface, is easily precision-polished, and is inexpensive.

【0007】磁気記録媒体は、一般に、非磁性の基板
に、下地層、磁性層(記録膜)、保護潤滑層を順に形成
した構成を採っている。そして、高性能な磁気記録媒体
を実現するために、下地層を2層に分けることが有効で
あることが知られている。このような技術の一例として
は、例えば、特開昭63−187416号公報に開示さ
れている技術がある。該公報には、図10に示すとお
り、下地層を2層に分け、特定の材料の組み合わせや膜
形成条件を用いることで、出力電圧のモジュレーション
やS/N比が改善されたことが記載されている。
A magnetic recording medium generally has a structure in which a base layer, a magnetic layer (recording film) and a protective lubricating layer are sequentially formed on a non-magnetic substrate. It is known that it is effective to divide the underlayer into two layers in order to realize a high performance magnetic recording medium. As an example of such a technique, there is a technique disclosed in JP-A-63-187416. The publication describes that, as shown in FIG. 10, by dividing the underlayer into two layers and using a specific material combination and film forming conditions, the modulation of the output voltage and the S / N ratio were improved. ing.

【0008】ガラス基板を用いた場合の記録媒体の形成
技術は、特開平4−188427号に記載されている。
この技術では、基板にタンタル膜を形成し、その上にコ
バルト合金膜を形成した構造で実験を行っている。その
結果、(200)配向をもつ体心立方格子構造のクロム
合金上に、(11.0)配向をもつ稠密六方格子構造の
コバルト合金が成長し、電磁変換特性を著しく向上させ
るとしている。
A technique for forming a recording medium when a glass substrate is used is described in JP-A-4-188427.
In this technique, an experiment is conducted with a structure in which a tantalum film is formed on a substrate and a cobalt alloy film is formed on the tantalum film. As a result, a cobalt alloy having a dense hexagonal lattice structure having a (11.0) orientation grows on a chromium alloy having a body-centered cubic lattice structure having a (200) orientation, and electromagnetic conversion characteristics are remarkably improved.

【0009】なお、CoやCo合金の薄膜は、稠密六方
格子と面心立方格子の構造をとりえる。このうち磁気記
録媒体として高い性能を示すのは稠密六方格子である。
さらに、面内記録媒体としては、(11.0)配向した
稠密六方格子が好ましい。このCoの配向は、CrやC
r合金薄膜が体心立方格子の構造を採り(200)配向
している上に形成すると現れることが知られている。
The thin film of Co or Co alloy can have a structure of a dense hexagonal lattice and a face-centered cubic lattice. Among them, the dense hexagonal lattice has high performance as a magnetic recording medium.
Furthermore, as the in-plane recording medium, a dense hexagonal lattice with (11.0) orientation is preferable. The orientation of Co is Cr or C
It is known that the r alloy thin film has a body-centered cubic lattice structure and is formed on the (200) -oriented structure.

【0010】なお、体心立方構造の結晶に対して(20
0)配向と(100)配向とは同じ配向を指す。X線回
折等の測定では(200)配向だけが検出されるため、
(200)配向という表現が用いられる。以下において
は、(200)配向という表現を用いる。
For a crystal with a body-centered cubic structure (20
The 0) orientation and the (100) orientation refer to the same orientation. Since only the (200) orientation is detected by measurement such as X-ray diffraction,
The expression (200) orientation is used. In the following, the expression (200) orientation is used.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】高密度記録をめざす磁
気記録媒体では、高い保磁力と角型比および低いノイズ
が必要である。ガラス基板にタンタル等の層を介してク
ロム層を形成した記録媒体は、磁気特性や記録再生特性
には優れた点を有する。しかしながら、タンタル等はガ
ラス基板に対する密着性が悪いため、剥離しやすいとい
う欠点を有する。高密度記録を行うためには磁気ヘッド
と記録媒体の距離を小さくする必要があり、磁気ヘッド
が磁気記録媒体の表面に接触する機会も増加するため、
膜が剥離する現象は重大な障害となる。
A magnetic recording medium aiming at high density recording requires high coercive force, squareness ratio and low noise. A recording medium in which a chromium layer is formed on a glass substrate via a layer of tantalum or the like has excellent magnetic characteristics and recording / reproducing characteristics. However, since tantalum or the like has poor adhesion to the glass substrate, it has a drawback that it easily peels off. In order to perform high-density recording, it is necessary to reduce the distance between the magnetic head and the recording medium, and the chances of the magnetic head coming into contact with the surface of the magnetic recording medium also increase.
The phenomenon of film peeling is a serious obstacle.

【0012】一方で、磁気ディスクを大量に生産するた
めには、磁気記録媒体を単純な構成の真空設備で容易に
製造できることが必要である。
On the other hand, in order to mass-produce magnetic disks, it is necessary that the magnetic recording medium can be easily manufactured by a vacuum equipment having a simple structure.

【0013】本発明は、小型化に適した基板(例えば、
ガラス基板)を用いつつ、優れた磁気特性と、耐久性・
信頼性(特に、基板との下地層との密着性)を実現した
磁気記録媒体およびその製造方法を提供することを目的
とする。
The present invention provides a substrate suitable for miniaturization (for example,
While using a glass substrate), it has excellent magnetic properties and durability.
An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium that realizes reliability (particularly, adhesion between a substrate and an underlayer) and a method for manufacturing the same.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】発明者は、基板面に垂直
な方向に(200)配向をもつ体心立方格子構造のクロ
ム合金上に、基板面に垂直な方向に(11.0)配向を
もつ稠密六方格子構造のコバルト合金が成長し、電磁変
換特性を向上させる現象は、非金属基板の上にハフニウ
ムを形成した場合にも見られることを見いだした。しか
し、ハフニウムも非磁性基板から剥離しやすいことがわ
かった。
The inventor has found that on a chromium alloy having a body-centered cubic lattice structure having a (200) orientation in the direction perpendicular to the substrate surface, a (11.0) orientation in the direction perpendicular to the substrate surface. It was found that the phenomenon in which a cobalt alloy with a close-packed hexagonal lattice structure that grows and that improves the electromagnetic conversion characteristics is also observed when hafnium is formed on a non-metallic substrate. However, it was found that hafnium is also easily separated from the nonmagnetic substrate.

【0015】発明者らは、種々の材料を用いて様々なプ
ロセス条件を検討した。その結果、ガラス基板の上にタ
ンタルやハフニウムを形成する前に、ガラスに対する密
着性の優れた材料の薄膜層を設けた構造とすることで、
この剥離しやすいという欠点を解消できることを見いだ
した。つまり、基板と、タンタルやハフニウムからなる
第二の下地層との間に、第一の下地層として、クロム、
チタン、ジルコニウム、アルミ、シリコン、バナジウ
ム、ニオブまたはモリブデンからなる薄膜を形成する
と、その上の膜(第二の下地層)が剥がれなくなる事を
見いだした。また、上記第一の下地層としては、これら
の金属を主成分とする合金でも良い事も見いだした。し
かしながら、これらの第一の下地層として用いるに適し
た金属の中には、第二の下地層を介して形成した第三の
下地層の結晶配向に、影響を与えるものがあることも判
明した。
The inventors have investigated various process conditions using various materials. As a result, by forming a thin film layer of a material having excellent adhesion to glass before forming tantalum or hafnium on the glass substrate,
It was found that the drawback of easy peeling can be eliminated. That is, between the substrate and the second underlayer made of tantalum or hafnium, chromium is used as the first underlayer.
It has been found that when a thin film made of titanium, zirconium, aluminum, silicon, vanadium, niobium or molybdenum is formed, the film (second underlayer) thereon cannot be peeled off. It was also found that the first underlayer may be an alloy containing these metals as main components. However, it was also found that some of the metals suitable for use as the first underlayer affect the crystal orientation of the third underlayer formed via the second underlayer. .

【0016】これらの材料のうち、特にクロム、ジルコ
ニウム、モリブデンを第一の下地層として用いた場合に
は、TaまたはHfからなる第二の下地層が、第三の下
地層の体心立方格子からなる結晶を(200)配向させ
る効果が大きく、その上の磁性層の稠密六方格子からな
る結晶を(11.0)配向させるため、C軸が面内に強
く配向することを見いだした。つまり、クロム、ジルコ
ニウム、モリブデンからなる第一の下地層は、第二の下
地層の持つ効果(第三の下地層の結晶を(200)配向
させる効果)を、消失させるようなことはない。
When chromium, zirconium, or molybdenum is used as the first underlayer among these materials, the second underlayer made of Ta or Hf is the body-centered cubic lattice of the third underlayer. It was found that the C-axis is strongly oriented in the plane because the crystal composed of (2) has a large effect of (200) orientation and the crystal composed of the dense hexagonal lattice of the magnetic layer thereon is (11.0) oriented. That is, the first underlayer made of chromium, zirconium, and molybdenum does not eliminate the effect of the second underlayer (the effect of orienting the crystals of the third underlayer to (200) orientation).

【0017】このため本発明の磁気記録媒体は、比較例
に対して同等の磁気特性や低ノイズ性を持ち、かつ高い
密着性を示した。
Therefore, the magnetic recording medium of the present invention has the same magnetic characteristics and low noise characteristics as those of the comparative example, and exhibits high adhesion.

【0018】第一の下地層として、上記以外のチタン、
アルミ、シリコン、バナジウム、ニオブを用いた場合
は、第二の下地層が、第三の下地層の結晶を(200)
配向させる効果がやや劣るため、クロム、ジルコニウ
ム、モリブデンに比較して、磁気特性や低ノイズ性がや
や劣る。しかし、高い密着性を示し、磁気ディスクとし
ての信頼性は良好であった。
As the first underlayer, titanium other than the above is used,
When aluminum, silicon, vanadium, or niobium is used, the second underlayer forms a crystal of the third underlayer (200).
Since the effect of orientation is slightly inferior, magnetic properties and low noise properties are slightly inferior to those of chromium, zirconium and molybdenum. However, it showed high adhesion and had good reliability as a magnetic disk.

【0019】また、発明者らはこの配向は、上記第二の
下地層の膜厚が薄いほど強く生じることを見いだした。
他の膜特性にも左右されるが、ほぼ150nm以下の膜
厚でこの様な配向が観察される。しかし、膜厚が150
nmより厚いと、Crの配向が(110)方向へと変化
して行くので望ましくないことも判明した。また、上記
第二の下地層の膜厚が薄すぎると、不連続な膜になりや
すく、C軸を面内に配向させる効果が小さくなることが
観察され、望ましくは3nm以上必要であることが判明
した。
The inventors have also found that this orientation is stronger as the thickness of the second underlayer is smaller.
Although depending on other film characteristics, such an orientation is observed at a film thickness of approximately 150 nm or less. However, the film thickness is 150
It was also found that when the thickness is thicker than nm, the orientation of Cr changes to the (110) direction, which is not desirable. It is also observed that if the thickness of the second underlayer is too thin, a discontinuous film is likely to be formed, and the effect of orienting the C axis in the plane becomes small, and it is preferably 3 nm or more. found.

【0020】さらに発明者らは、この作用は、第二の下
地層の表面が僅かに酸化している状態の方が、酸化層が
ない状態よりも強く現れる傾向を見いだした。僅かな酸
化層は、上記第二の下地層を形成した後、一端真空槽か
ら取り出して大気中で一定時間保管することで形成可能
であった。この様な方法は、一端真空槽から取り出した
後の製造プロセスがニッケル・リン基板を用いた磁気デ
ィスクと全く同じであり、従来の装置を用いて製造を行
うことができるため、有利な製造方法である。
Furthermore, the inventors have found that this effect tends to be stronger when the surface of the second underlayer is slightly oxidized than when it is not oxidized. A slight oxide layer could be formed by forming the second underlayer and then taking it out of the vacuum chamber and storing it in the atmosphere for a certain period of time. This method is an advantageous manufacturing method because the manufacturing process after taking it out from the vacuum chamber is exactly the same as that of the magnetic disk using the nickel-phosphorus substrate, and the manufacturing can be performed using the conventional apparatus. Is.

【0021】また、酸素や水分を含む低圧雰囲気中で保
持することでも形成可能であった。また、加熱やプラズ
マ励起などの手法で、第二の下地層の表面をより短時間
で酸化させる方法も見いだした。
It could also be formed by holding in a low pressure atmosphere containing oxygen and water. We also found a method of oxidizing the surface of the second underlayer in a shorter time by a method such as heating or plasma excitation.

【0022】また発明者らは、上記第二の下地層の表面
に、方向性を持った溝を機械的な研磨手段で設け、その
上に第三の下地層以降を形成して作製した磁気記録媒体
を評価した。この記録媒体では、磁気異方性が認めら
れ、優れた磁気特性を有する磁気記録媒体を得た。
Further, the inventors of the present invention produced a magnetic field by forming grooves having directionality on the surface of the second underlayer by mechanical polishing means, and forming the third underlayer and the subsequent layers on the grooves. The recording medium was evaluated. In this recording medium, magnetic anisotropy was recognized, and a magnetic recording medium having excellent magnetic characteristics was obtained.

【0023】この様な磁気記録媒体を有する磁気ディス
クを使用して磁気ディスク装置を製作し、記録再生特性
等を評価した。結果は、ノイズが特に低い本磁気記録媒
体の特性を反映し、高密度まで書き込み読み出しが可能
なだけでなく、コンタクトスタート・ストップ試験に高
い強度を示す高信頼な磁気ディスク装置が実現できた。
A magnetic disk device was manufactured using a magnetic disk having such a magnetic recording medium, and the recording / reproducing characteristics and the like were evaluated. The results reflect the characteristics of the magnetic recording medium of which the noise is particularly low, and it is possible to realize a highly reliable magnetic disk device that not only enables writing and reading at high density but also exhibits high strength in contact start / stop tests.

【0024】[0024]

【作用】本発明は、ガラスに対する接着性(密着性)が
優れ、一方でタンタルやハフニウムに対する密着性も高
い金属材料である、クロム,チタン,ジルコニウム,ア
ルミ,シリコン,バナジウム,ニオブまたはモリブデン
を用いることにより、多層下地構造を持つ磁気記録媒体
膜の基板に対する密着性を改善させた。特に、Cr,Z
r,Moを用いた場合には、同時に、3層からなる下地
層を用いてCo合金結晶の磁化容易軸を面内方向へ配向
させるこで、優れた磁気特性や記録再生特性を実現させ
る。
The present invention uses chromium, titanium, zirconium, aluminum, silicon, vanadium, niobium or molybdenum, which is a metal material having excellent adhesion (adhesion) to glass and high adhesion to tantalum or hafnium. As a result, the adhesion of the magnetic recording medium film having the multilayer underlayer structure to the substrate was improved. Especially, Cr, Z
When r and Mo are used, excellent magnetic characteristics and recording / reproducing characteristics are realized by simultaneously orienting the easy axis of magnetization of the Co alloy crystal in the in-plane direction by using an underlayer composed of three layers.

【0025】[0025]

【実施例】本発明の実施例を図面を用いて説明する。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0026】図1に本実施例の磁気記録媒体の内部構造
を模式的に示した。
FIG. 1 schematically shows the internal structure of the magnetic recording medium of this embodiment.

【0027】本実施例の磁気記録媒体は、非磁性基板6
の上に、第一の下地層5と、第二の下地層4と、第三の
下地層3と、磁性層2と、保護層と、潤滑膜と、を順次
形成した構造を持つ。図中には、保護層と潤滑膜とをま
とめて描き符号1を付した。
The magnetic recording medium of this embodiment has a non-magnetic substrate 6
A first underlayer 5, a second underlayer 4, a third underlayer 3, a magnetic layer 2, a protective layer, and a lubricating film are sequentially formed on the above. In the figure, the protective layer and the lubricating film are collectively drawn and denoted by reference numeral 1.

【0028】非磁性基板6には、強化ガラスを用いた。A tempered glass was used for the non-magnetic substrate 6.

【0029】第一の下地層5にはクロム、チタン、ジル
コニウム、アルミ、シリコン、バナジウムまたはニオブ
を用いた。
For the first underlayer 5, chromium, titanium, zirconium, aluminum, silicon, vanadium or niobium was used.

【0030】第二の下地層4には、タンタルあるいはハ
フニウムを用いた。
For the second base layer 4, tantalum or hafnium was used.

【0031】第三の下地層3には、磁性層との格子整合
を調整するために、チタンを原子比率で10%添加した
クロム合金を用いた。
For the third underlayer 3, a chromium alloy containing 10% of titanium in atomic ratio is used in order to adjust the lattice matching with the magnetic layer.

【0032】磁性層2には、コバルトに14原子比%の
クロムと8原子比%の白金を含む合金を用いた。
For the magnetic layer 2, an alloy containing 14 atomic% chromium and 8 atomic% platinum in cobalt was used.

【0033】保護層には、非晶質カーボンを用いた。Amorphous carbon was used for the protective layer.

【0034】潤滑膜には、パーフルオロアルキルポリエ
ーテル系の材料をフルオロカーボン系溶剤で希釈して塗
布して用いた。
For the lubricating film, a perfluoroalkylpolyether material was diluted with a fluorocarbon solvent and applied.

【0035】該磁気記録媒体の製造方法を製造設備と共
に説明する。
A method of manufacturing the magnetic recording medium will be described together with manufacturing equipment.

【0036】製造装置は真空成膜装置であり、槽の内部
の気体を排気するためのポンプ、バルブの類や制御のた
めの電子・電気回路を有する。しかし、説明に不用な真
空ポンプ、搬送機構、ガス導入機構、真空槽架台等の図
示を省略している。
The manufacturing apparatus is a vacuum film forming apparatus, and has pumps and valves for exhausting the gas inside the tank, and electronic and electric circuits for control. However, illustrations of a vacuum pump, a transfer mechanism, a gas introduction mechanism, a vacuum tank stand, etc., which are unnecessary for the description, are omitted.

【0037】[製法1]まず、製造途中大気中にワーク
を取り出すことなく、真空槽内の連続的な処理で磁気記
録媒体を製造する方法を図2を用いて説明する。
[Manufacturing Method 1] First, a method of manufacturing a magnetic recording medium by continuous processing in a vacuum chamber without taking out a work into the atmosphere during manufacturing will be described with reference to FIG.

【0038】洗浄したワーク(ここでは非磁性基板6に
相当する基板8)を、加熱室10にドアバルブを通して
搬送し、その後、ドアバルブを閉じた。槽内を真空ポン
プで真空排気してからヒーター11を点灯して、ワーク
を摂氏約150度に加熱した。
The cleaned work (here, the substrate 8 corresponding to the non-magnetic substrate 6) was conveyed to the heating chamber 10 through the door valve, and then the door valve was closed. The inside of the tank was evacuated by a vacuum pump, and then the heater 11 was turned on to heat the work to about 150 degrees Celsius.

【0039】加熱したワークを第一の下地層形成室13
にドアバルブを通して搬送した。そして、圧力が0.6
Pa程度となるまで、第一の下地層形成室13にアルゴ
ンガスを導入した。第一の下地層金属のターゲット33
にグロー放電プラズマ30を生じさせ、その正面に配置
したワークの表面に、スパッタリング法によって第一の
下地層5を20nm形成した。
The heated work is placed in the first underlayer forming chamber 13
Was transported through the door valve. And the pressure is 0.6
Argon gas was introduced into the first underlayer forming chamber 13 until the pressure became about Pa. First Underlayer Metal Target 33
A glow discharge plasma 30 was generated on the surface of the work, and a first underlayer 5 having a thickness of 20 nm was formed on the surface of the work arranged in front of the work by sputtering.

【0040】続いて、第二の下地層形成室14におい
て、ワークに第二の下地層4を20nm形成した。
Then, in the second underlayer forming chamber 14, the second underlayer 4 of 20 nm was formed on the work.

【0041】続いて、加熱室24においてワークを摂氏
約350度に再加熱した。加熱はヒーター11によって
行った。
Subsequently, the work was reheated to about 350 degrees Celsius in the heating chamber 24. The heating was performed by the heater 11.

【0042】さらに、第三の下地層形成室15におい
て、第二の下地層4の上に、Cr・Ti合金膜(第三の
下地層3)を80nm程度形成した。
Further, in the third underlayer forming chamber 15, a Cr / Ti alloy film (third underlayer 3) was formed on the second underlayer 4 to a thickness of about 80 nm.

【0043】この後、磁性層形成室16、保護層形成室
17において、磁性層2、保護層1を形成した。なお、
磁性層2、保護層1の形成方法は、本発明の特徴とする
ところではなく、また既に広く使用されている技術であ
るため、ここでの説明は省略する。このようにして図1
に示した内部構造を有する磁気記録媒体を製造すること
ができた。
After that, in the magnetic layer forming chamber 16 and the protective layer forming chamber 17, the magnetic layer 2 and the protective layer 1 were formed. In addition,
The method of forming the magnetic layer 2 and the protective layer 1 is not a feature of the present invention and is a technique that has already been widely used, and thus the description thereof is omitted here. In this way
It was possible to manufacture a magnetic recording medium having the internal structure shown in FIG.

【0044】ワークを逆方向に搬送できるのであれば、
加熱室24と加熱室10とを共用する装置構成を採用し
てもよい。また、基板の出し入れに伴う真空排気の時間
を節約するために、専用の仕込み室と取り出し室とを、
加熱室10の前と保護層形成室17の後にそれぞれ接続
してもよい。搬送方法の違いによっても、製造装置には
様々な変形例が考えられる。例えば、仕込みと取り出し
兼用の真空室を持つ装置を使用してもよい。
If the work can be conveyed in the opposite direction,
A device configuration in which the heating chamber 24 and the heating chamber 10 are shared may be adopted. In addition, in order to save the time of vacuum evacuation accompanying the loading and unloading of the substrate, a dedicated loading chamber and unloading chamber
You may connect before the heating chamber 10 and after the protection layer formation chamber 17, respectively. Various modifications can be considered for the manufacturing apparatus depending on the difference in the transportation method. For example, an apparatus having a vacuum chamber for both loading and unloading may be used.

【0045】但し、製造装置には、基板を加熱する手段
と、第一の下地層、第二の下地層、第三の下地層、磁性
層、保護層を形成する手段の全てを具備する必要があ
る。
However, the manufacturing apparatus must include all means for heating the substrate and means for forming the first underlayer, the second underlayer, the third underlayer, the magnetic layer, and the protective layer. There is.

【0046】本発明の第2の実施例を説明する。A second embodiment of the present invention will be described.

【0047】該第2の実施例の磁気記録媒体は、図3に
示すとおり、第二の下地層4と第三の下地層3との間
に、第二の下地層4を構成する金属の酸化物を含んだ薄
い層(以下、単に”酸化層”と呼ぶ”)41を設けたこ
とを特徴とするものである。
In the magnetic recording medium of the second embodiment, as shown in FIG. 3, between the second underlayer 4 and the third underlayer 3, the metal of the second underlayer 4 is formed. It is characterized in that a thin layer (hereinafter, simply referred to as “oxide layer”) 41 containing oxide is provided.

【0048】この磁気記録媒体の製造方法を2種類(製
法2−1、製法2−2)説明する。
Two types of manufacturing methods of this magnetic recording medium (manufacturing method 2-1 and manufacturing method 2-2) will be described.

【0049】[製法2−1]この製法2−1では、第一
の下地層5及び第二の下地層4を図4の装置で形成し、
第三の下地層3以降の膜(層)は図5の設備を用いて形
成している。
[Manufacturing Method 2-1] In this manufacturing method 2-1, the first underlayer 5 and the second underlayer 4 are formed by the apparatus shown in FIG.
The film (layer) after the third underlayer 3 is formed by using the equipment shown in FIG.

【0050】図4において、大気圧下、加熱室10にワ
ーク(ここでは非磁性基板6に対応する基板8)を搬送
した。そして、加熱室10を真空排気した後、ヒーター
11で基板8を加熱した。
In FIG. 4, the work (here, the substrate 8 corresponding to the non-magnetic substrate 6) was conveyed to the heating chamber 10 under atmospheric pressure. Then, the heating chamber 10 was evacuated and then the substrate 8 was heated by the heater 11.

【0051】続いて、該基板8を第一の下地層形成室1
3に搬送し、第一の下地層金属のターゲット33の正面
に配置した。そして、スパッタリング法によって、該ワ
ークの表面に第一の下地層5を約20nm形成した。
Subsequently, the substrate 8 is placed in the first underlayer forming chamber 1
It was transported to No. 3 and placed in front of the target 33 of the first underlayer metal. Then, a first underlayer 5 of about 20 nm was formed on the surface of the work by the sputtering method.

【0052】次に、第一の下地層形成室13の下流側の
ドアバルブを開け、ワーク(ここでは、第一の下地層5
の形成された基板8)を第二の下地層形成室14に搬送
し、第2の下地層金属のターゲット34の正面に配置し
た。そして、スパッタリングによって、ワークの上に第
二の下地層4を約20nm形成した。
Next, the door valve on the downstream side of the first underlayer forming chamber 13 is opened, and the work (here, the first underlayer 5) is opened.
The substrate 8) on which was formed was transferred to the second underlayer forming chamber 14 and placed in front of the target 34 of the second underlayer metal. Then, the second underlayer 4 having a thickness of about 20 nm was formed on the work by sputtering.

【0053】この後、真空槽を大気圧に戻し、ドアバル
ブ12を通じて大気に取り出した。そして、5時間ほど
常温の大気中で保管した。該保管中に、大気中の酸素に
よって第二の下地層4の表面が酸化されて酸化層41が
形成された。この後は、以下において述べるとおり、図
5の製造設備を用いて第三の下地層3以降の膜(層)を
形成した。
After this, the vacuum chamber was returned to atmospheric pressure and taken out to the atmosphere through the door valve 12. Then, it was stored in the atmosphere at room temperature for about 5 hours. During the storage, the surface of the second underlayer 4 was oxidized by oxygen in the atmosphere to form an oxide layer 41. After that, as described below, the film (layer) after the third underlayer 3 was formed using the manufacturing equipment of FIG.

【0054】図5において、ワークを加熱室10に搬送
し、真空排気した。この後、ヒーター11で該ワークを
摂氏約350度に加熱した。
In FIG. 5, the work was transferred to the heating chamber 10 and evacuated. Then, the work was heated to about 350 degrees Celsius by the heater 11.

【0055】続いて、第三の下地層形成室15におい
て、スパッタリングによって、第三の下地膜層3を約8
0nm程度の厚さで形成した。第三の下地層金属のター
ゲット35には、Cr・Ti合金を用いた。
Then, in the third underlayer forming chamber 15, the third underlayer 3 is sputtered to about 8 times.
It was formed with a thickness of about 0 nm. A Cr / Ti alloy was used for the target 35 of the third underlayer metal.

【0056】続いて、磁性層形成室16において、スパ
ッタリング法によって、第三の下地層3の上にコバルト
合金の膜(磁性層2)を形成した。ここではコバルト合
金の膜(磁性層2)の厚さを約33nmとした。
Then, in the magnetic layer forming chamber 16, a cobalt alloy film (magnetic layer 2) was formed on the third underlayer 3 by the sputtering method. Here, the thickness of the cobalt alloy film (magnetic layer 2) was set to about 33 nm.

【0057】その後、保護層形成室17で、スパッタリ
ング法によって、磁性層2の上に非晶質カーボン膜(保
護層)を形成した。ここでは、保護層の厚さを約15n
mとした。
Thereafter, in the protective layer forming chamber 17, an amorphous carbon film (protective layer) was formed on the magnetic layer 2 by the sputtering method. Here, the thickness of the protective layer is about 15n.
m.

【0058】なお、図4の装置は、ニッケル・リン基板
を用いる磁気ディスクの製造装置と全く同様の構成であ
る。そのため、容易に製造プロセスの構築ができ、しか
も設備に無駄が生じることはない。
The apparatus shown in FIG. 4 has the same structure as that of a magnetic disk manufacturing apparatus using a nickel-phosphorus substrate. Therefore, the manufacturing process can be easily constructed, and the equipment is not wasted.

【0059】[製法2−2]該製法2−2は、途中、ワ
ークを真空槽から取り出すことなく、酸化層41を形成
している点が製法2−1とは異なる。
[Manufacturing Method 2-2] The Manufacturing Method 2-2 is different from the Manufacturing Method 2-1 in that the oxide layer 41 is formed without taking out the work from the vacuum chamber on the way.

【0060】該製法2−2を図2を用いて説明する。The manufacturing method 2-2 will be described with reference to FIG.

【0061】加熱室10,第一の下地層形成室13,第
二の下地層形成室14において、第1の下地層5,第二
の下地層4を形成した。この間の手順は上述の製法1
(製法2−1)と同じであるため説明を省略する。
In the heating chamber 10, the first underlayer forming chamber 13 and the second underlayer forming chamber 14, the first underlayer 5 and the second underlayer 4 were formed. The procedure during this time is the above-mentioned manufacturing method
The description is omitted because it is the same as (Production method 2-1).

【0062】この後、第二の下地層4を形成した後のワ
ークを、加熱室24に移した。そして、加熱室24に酸
化ガス導入口22を通じて、0.01Pa程度の圧力ま
で酸素を導入した。そして、この雰囲気中、ワークを摂
氏約350度に加熱することで、第二の下地層4の表面
を酸化させ酸化層41を形成した。
After this, the work on which the second underlayer 4 was formed was transferred to the heating chamber 24. Then, oxygen was introduced into the heating chamber 24 through the oxidizing gas introduction port 22 to a pressure of about 0.01 Pa. Then, in this atmosphere, the work was heated to about 350 degrees Celsius to oxidize the surface of the second underlayer 4 to form the oxide layer 41.

【0063】この後、第三の下地層3、磁性層2、保護
層1を順次形成することで、磁気記録媒体が完成する。
第三の下地層3、磁性層2、保護層1の形成方法につい
ては、上述した製法と同じでよいため説明を省略する。
After that, the third underlayer 3, the magnetic layer 2, and the protective layer 1 are sequentially formed to complete the magnetic recording medium.
The method of forming the third underlayer 3, the magnetic layer 2, and the protective layer 1 may be the same as the above-described manufacturing method, and thus the description thereof is omitted.

【0064】第一の下地層5および第二の下地層4は、
常温より高い温度で形成する事がより望ましい。しか
し、常温で形成しても後述する密着性は向上する。従っ
て、図2と図4の加熱室10は、省略することが可能で
ある。ただし、図2の設備で加熱室24を省略した場合
は、加熱室10を省略することはできない。
The first underlayer 5 and the second underlayer 4 are
It is more desirable to form at a temperature higher than room temperature. However, even if it is formed at room temperature, the adhesion described later is improved. Therefore, the heating chamber 10 of FIGS. 2 and 4 can be omitted. However, when the heating chamber 24 is omitted in the equipment of FIG. 2, the heating chamber 10 cannot be omitted.

【0065】酸化層41を形成する方法は、上述した方
法以外にも様々な方法が考えられる。
As a method of forming the oxide layer 41, various methods other than the above-mentioned method can be considered.

【0066】例えば、酸素の代わりに水蒸気を加熱室2
4内に導入することによっても、第二の下地層4の表面
を酸化させることが可能である。この場合には、加熱室
24内の圧力が0.001から0.01Paとなる程度
に水蒸気を導入する。但し、真空度の良くない製造設備
を用いた場合は、特に酸素や水蒸気を導入しなくてもこ
の程度の分圧となる場合がある。その場合は特にガス導
入口を設けなくとも良い。また、特に加熱を行わなくて
も、酸素または水蒸気を1Pa程度含んだ雰囲気で1時
間放置するだけでも、第二の下地層4の表面に酸化層を
形成することは可能である。
For example, instead of oxygen, steam is used in the heating chamber 2
It is also possible to oxidize the surface of the second underlayer 4 by introducing it into the second underlayer 4. In this case, the steam is introduced so that the pressure in the heating chamber 24 becomes 0.001 to 0.01 Pa. However, when a manufacturing facility with a low degree of vacuum is used, a partial pressure of this level may be obtained without introducing oxygen or water vapor. In that case, it is not necessary to provide a gas inlet. Further, it is possible to form an oxide layer on the surface of the second underlayer 4 by leaving it for 1 hour in an atmosphere containing oxygen or water vapor at about 1 Pa without any particular heating.

【0067】また、基板8に電圧を印加して放電を発生
させることで、第二の下地層4の表面を酸化することも
可能である。この方法によれば、短時間に酸化層41を
形成することができる。この方法を適用する場合には、
図6に示す真空室を、図2の第二の加熱室24と入れ替
えて設置して使用する。酸化性ガス(例えば、酸素、水
蒸気またはその混合ガス)を、1Pa程度の圧力まで真
空室に導入する。該酸化性ガスの導入は、酸化ガス導入
口22を通じて行なう。そして、基板ホルダー9に搭載
された基板8に電圧印加手段23によって交流電圧を印
加することで、基板8の周辺にグロー放電プラズマを生
じさせた(酸素プラズマ処理)。すると、イオン化また
は励起された酸素またはOHの衝突によって、約5秒程
度で第二の下地層4の表面に酸化層41を形成できる。
以下の説明においては、該酸素プラズマ処理を用いて酸
化層41を形成した製造方法を、”製法2−2’”と呼
ぶ。
It is also possible to oxidize the surface of the second underlayer 4 by applying a voltage to the substrate 8 to generate a discharge. According to this method, the oxide layer 41 can be formed in a short time. When applying this method,
The vacuum chamber shown in FIG. 6 is used by replacing it with the second heating chamber 24 shown in FIG. An oxidizing gas (for example, oxygen, water vapor or a mixed gas thereof) is introduced into the vacuum chamber up to a pressure of about 1 Pa. The oxidizing gas is introduced through the oxidizing gas inlet 22. Then, an AC voltage was applied to the substrate 8 mounted on the substrate holder 9 by the voltage application means 23 to generate glow discharge plasma around the substrate 8 (oxygen plasma treatment). Then, the oxide layer 41 can be formed on the surface of the second underlayer 4 in about 5 seconds by the collision of ionized or excited oxygen or OH.
In the following description, the manufacturing method in which the oxide layer 41 is formed by using the oxygen plasma treatment is referred to as “manufacturing method 2-2 ′”.

【0068】製造装置には様々な変形があり得るが、基
板を加熱する手段と、第一の下地層、第二の下地層、第
三の下地層、磁性層、保護層録を形成する手段と、酸化
手段との全てを具備する必要がある。装置によっては角
形ターゲットを用いる場合がある。搬送方式の違いによ
って、真空槽の構成も異なる設備もある。また、ワーク
を停止させた状態で成膜するのではなく、搬送しながら
順次成膜する設備もある。しかし、磁気記録媒体の層構
成にかかわらない相違点は、本発明の製造方法と本質に
おいて異なるのもではない。
The manufacturing apparatus may have various modifications, but means for heating the substrate and means for forming the first underlayer, the second underlayer, the third underlayer, the magnetic layer, and the protective recording layer. And it is necessary to provide all of the oxidation means. A rectangular target may be used depending on the device. Some facilities have different vacuum chamber configurations depending on the transfer method. Further, there is also equipment for sequentially forming a film while transporting it, instead of forming a film while the work is stopped. However, the difference irrespective of the layer structure of the magnetic recording medium does not differ from the manufacturing method of the present invention in essence.

【0069】本発明の磁気記録媒体は、上述した実施例
に限定されない。特に、製造方法の説明において挙げ
た、各層の厚さ,材料等は一例にすぎない。
The magnetic recording medium of the present invention is not limited to the above embodiment. In particular, the thicknesses, materials, etc. of the layers mentioned in the description of the manufacturing method are merely examples.

【0070】次に、実施例1、実施例2で示した本発明
の磁気記録媒体の各種特性(密着性、静磁気特性、結晶
配向)を測定した結果を図7を用いて説明する。
Next, the results of measuring various characteristics (adhesion, magnetostatic characteristics, crystal orientation) of the magnetic recording media of the present invention shown in Examples 1 and 2 will be described with reference to FIG.

【0071】測定対象及び測定方法は以下のとおりであ
る。
The measurement target and measurement method are as follows.

【0072】測定対象(ディスク型磁気記録媒体) 潤滑層 :パーフルオロアルキルポリエーテル系の材料
をフルオロカーボン系溶剤で希釈して塗布 保護層 :非晶質カーボン 磁性層2:Co・Cr・Pt合金、厚さ33nm 第三の下地層3:Cr・Ti合金、厚さ80nm 第二の下地層4:材料は図7参照、厚さ20nm 第一の下地層5:材料は図7参照、厚さ20nm、 ガラス基板6:アルミノシリケート系の強化ガラス 外径65mm、内径20mm、板厚0.635mm 試料番号1,2のサンプルは、比較例であり、第一の下
地層5を形成していない。
Measurement target (disk type magnetic recording medium) Lubrication layer: Perfluoroalkyl polyether type material diluted with fluorocarbon type solvent and applied Protective layer: Amorphous carbon Magnetic layer 2: Co.Cr.Pt alloy, Thickness 33 nm Third underlayer 3: Cr / Ti alloy, thickness 80 nm Second underlayer 4: material see FIG. 7, thickness 20 nm First underlayer 5: material see FIG. 7, thickness 20 nm Glass substrate 6: aluminosilicate-based tempered glass Outer diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, plate thickness 0.635 mm Samples Nos. 1 and 2 are comparative examples, and the first underlayer 5 is not formed.

【0073】試料番号3〜13のサンプルは、実施例1
に対応するものであって、酸化層41を設けていない
(製法1)。
The samples of sample Nos. 3 to 13 are those of Example 1.
And the oxide layer 41 is not provided (manufacturing method 1).

【0074】試料番号14〜26のサンプルは、実施例
2に対応するものである。
The samples of sample numbers 14 to 26 correspond to the second embodiment.

【0075】試料番号14〜15,17〜20のサンプ
ルは、大気中で自然酸化させることで酸化層41を形成
したものである(製法2−1)。
The samples Nos. 14 to 15 and 17 to 20 have the oxide layer 41 formed by natural oxidation in the atmosphere (manufacturing method 2-1).

【0076】試料番号16のサンプルは、上述の製法2
−1を適用して製造した。但し、第二の下地層4形成後
第三の下地層3を形成前に、円周方向に微細な溝を形成
するテクスチャ加工を行った。このテクスチャ加工は、
アルミナ砥粒(粒径約2μm)を接着したテープを、4
00rpmで回転させているワークの表面に100gの
圧力で押しつけることで行った。テクスチャ加工後は洗
浄し、図5の設備を用いて第三の下地層3,磁性層2と
保護層1を形成した。
The sample of sample No. 16 is the above-mentioned manufacturing method 2.
It was manufactured by applying -1. However, after the second underlayer 4 was formed and before the third underlayer 3 was formed, texturing was performed to form fine grooves in the circumferential direction. This texturing is
Apply 4 pieces of tape to which alumina abrasive grains (particle diameter about 2 μm) are bonded.
It was performed by pressing the surface of the workpiece rotated at 00 rpm with a pressure of 100 g. After the texturing, it was washed and the third underlayer 3, magnetic layer 2 and protective layer 1 were formed using the equipment shown in FIG.

【0077】試料番号21〜23のサンプルは、酸素雰
囲気中熱酸化することで酸化層41を形成したものであ
る。(製法2−2)。
The samples Nos. 21 to 23 have the oxide layer 41 formed by thermal oxidation in an oxygen atmosphere. (Production method 2-2).

【0078】試料番号24〜26のサンプルは、酸素プ
ラズマ処理によって酸化層41を形成したものである
(製法2−2’)。
The samples Nos. 24 to 26 are those in which the oxide layer 41 is formed by the oxygen plasma treatment (manufacturing method 2-2 ').

【0079】サンプル毎に異なるその他の詳細な仕様
は、図7中に示した。
Other detailed specifications which differ for each sample are shown in FIG.

【0080】[1]密着性 測定方法 付着力の高いポリエステルベースの粘着テープを、格子
状にキズを付けた磁気記録媒体に接着し、引き剥がすこ
とにより、どれだけの磁気記録媒体膜が基板から剥がれ
るかを測定した。
[1] Adhesion measurement method A polyester-based adhesive tape having a high adhesive force was adhered to a magnetic recording medium having a scratch in a grid pattern and peeled off to find out how much the magnetic recording medium film from the substrate. The peeling was measured.

【0081】測定結果およびその評価 膜が残存した面積の比率を図7に密着性として示した。Measurement results and evaluation thereof The ratio of the area where the film remained is shown in FIG. 7 as adhesion.

【0082】試料番号1,2(比較例)のサンプルで
は、完全に剥がれてしまった。
The samples Nos. 1 and 2 (comparative examples) were completely peeled off.

【0083】これに対し試料番号3〜26のサンプル
(本発明)は高い密着性を示した。なかでも、Ti,Z
r,Moを第一の下地層5として用いた場合(試料番号
4,5,10,11,12,14,15,16,18,
19,21,22,23,24,25,26のサンプ
ル)には、第二の下地層4がTa,Hfいずれであって
も良好な密着性を示した。このように第一の下地層5を
設けることで、基板に対するTa,Hfの密着性が向上
することが確認された。
On the other hand, samples Nos. 3 to 26 (invention) showed high adhesion. Among them, Ti, Z
When r and Mo are used as the first underlayer 5 (sample numbers 4, 5, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 18,
Nos. 19, 21, 22, 23, 24, 25, and 26) showed good adhesion regardless of whether the second underlayer 4 was Ta or Hf. It was confirmed that the adhesion of Ta and Hf to the substrate was improved by providing the first underlayer 5 in this manner.

【0084】なお、テクスチャ加工を施した試料番号1
6のサンプルについては、上記のテクスチャ加工時にも
膜剥がれが全く観察されなかった。これに対し、試料番
号1のサンプル(比較例)にテクスチャ加工を施したも
のは、図7には示していないが、Ta膜がガラス基板か
ら剥がれ、磁気ディスクとして用いるのが困難であっ
た。
Sample No. 1 which was textured
Regarding the sample of No. 6, no film peeling was observed during the above-mentioned texturing. On the other hand, although the sample of the sample No. 1 (comparative example) subjected to the texturing is not shown in FIG. 7, the Ta film was peeled off from the glass substrate, and it was difficult to use it as a magnetic disk.

【0085】[2]静磁気特性 測定方法 静磁気特性は、サンプルを切断して振動試料型磁力計で
測定した。磁界を周方向に印加して測定した場合の保磁
力Hc(Th)と、半径方向に印加した場合の保磁力と、の比
率を配向比と定義する。配向比が1より大きい場合、周
方向に測定した保磁力が半径方向に測定した保磁力より
大きいことを意味する。
[2] Method for Measuring Magnetostatic Characteristics Magnetostatic characteristics were measured with a vibrating sample magnetometer after cutting the sample. The ratio of the coercive force Hc (Th) when a magnetic field is applied in the circumferential direction to the coercive force when applied in the radial direction is defined as the orientation ratio. When the orientation ratio is larger than 1, it means that the coercive force measured in the circumferential direction is larger than the coercive force measured in the radial direction.

【0086】測定結果及び評価 試料番号16のサンプルにおいては、円周方向に磁界を
印加して測定した保磁力が32.3kA/m、一方、半
径方向に磁界を印加して測定した保磁力が26.5kA
/mであった。配向比は1.22であり、異方性を備え
ていることが明らかとなった。また、円周方向の保磁力
の値も最も大きい。従って、第二の下地層4の表面に行
ったテクスチャ加工によって円周方向の磁気異方性が誘
起されていることがわかった。
Measurement Results and Evaluation In the sample No. 16, the coercive force measured by applying a magnetic field in the circumferential direction was 32.3 kA / m, while the coercive force measured by applying a magnetic field in the radial direction was 26.5kA
Was / m. The orientation ratio was 1.22, which revealed that the film had anisotropy. The value of the coercive force in the circumferential direction is also the largest. Therefore, it was found that the magnetic anisotropy in the circumferential direction was induced by the texturing performed on the surface of the second underlayer 4.

【0087】[3]記録特性 測定方法 サンプルに実際に信号を書き込んで記録特性を測定し
た。記録特性のうち最も重要なノイズの測定には、薄膜
磁気ヘッドを用いて記録層の表面と記録ギャップ先端と
の空間的な距離を約50nmに保持し、5.5kビット
/mmの記録密度で記録を行った。そして、そのときの
ディスクノイズの実効値を、低周波で書き込んだ場合の
出力電圧のピーク値で規格化することで規格化ノイズ係
数を求めた。トラック幅や周速等の条件は全て同じであ
るため、ここではこの規格化ノイズ係数に基づいて媒体
の持つ相対的な記録ノイズを評価した。
[3] Recording Characteristic Measurement Method Recording characteristics were measured by actually writing a signal in the sample. To measure the most important noise among the recording characteristics, a thin film magnetic head was used to maintain the spatial distance between the surface of the recording layer and the tip of the recording gap at about 50 nm, and at a recording density of 5.5 kbit / mm. Recorded. Then, the normalized noise coefficient was obtained by normalizing the effective value of the disk noise at that time with the peak value of the output voltage when writing at a low frequency. Since the conditions such as track width and peripheral speed are all the same, the relative recording noise of the medium was evaluated based on this normalized noise coefficient.

【0088】測定結果およびその評価 試料番号3〜13のサンプルのうち試料番号4,5,
7,11,12,13のサンプルの規格化ノイズと、試
料番号14〜20のサンプルの規格化ノイズと、を比較
すると試料番号14〜20のサンプルのノイズのほうが
小さい。
Measurement Results and Evaluation thereof Sample Nos. 4 and 5 among Sample Nos. 3 to 13
Comparing the normalized noise of the samples of Nos. 7, 11, 12, and 13 with the normalized noise of the samples of Sample Nos. 14 to 20, the noise of the samples of Sample Nos. 14 to 20 is smaller.

【0089】また、同様に、試料番号21〜23,24
〜26のサンプルの規格化ノイズと、試料番号4,5,
11のサンプルの規格化ノイズとを比較すると、試料番
号21〜23,24〜26のサンプルの方が、規格化ノ
イズが小さい。
Similarly, sample numbers 21 to 23, 24
Normalized noise of the samples of ~ 26 and sample numbers 4, 5,
Comparing with the standardized noise of the 11th sample, the standardized noises of the samples of sample numbers 21 to 23 and 24 to 26 are smaller.

【0090】試料番号4,5,11のサンプルの断面を
透過型電子顕微鏡で観察したところ、数ナノメーター程
度の酸化層41が形成されているのが観察された。この
ことから、酸化層41が存在することで、規格化のイズ
係数が減少することがわかった。これは、本発明が特に
低ノイズ化にも役立つ事を示すものである。
When the cross sections of the samples Nos. 4, 5, and 11 were observed with a transmission electron microscope, it was observed that the oxide layer 41 having a size of several nanometers was formed. From this, it was found that the presence of the oxide layer 41 reduces the normalized Iz coefficient. This shows that the present invention is particularly useful for noise reduction.

【0091】Taと同様にHfも第二の下地層4として
用いるに好適な材料であることがわかった。
It was found that Hf, like Ta, is a suitable material for use as the second underlayer 4.

【0092】[3]結晶配向 測定対象および測定方法 第二の下地層4の厚さを様々に変更したサンプルを作成
し、これを測定対象とした。第二の下地層4の厚さ以外
の条件(例えば、材料、製法)は、試料番号5のサンプ
ルと同様とした。結晶配向の測定は、X線回折によって
行った。
[3] Crystal Orientation Measurement Target and Measurement Method Samples having various thicknesses of the second underlayer 4 were prepared and used as measurement targets. The conditions (for example, material and manufacturing method) other than the thickness of the second underlayer 4 were the same as those of the sample of Sample No. 5. The crystal orientation was measured by X-ray diffraction.

【0093】測定結果 X線回折の結果、CrTi膜(第三の下地層3)の配向
が(200)で、Co合金膜(磁性層2)の配向が(1
1.0)であることがわかった。この様子を図8に示
す。図8では横軸は第二の下地層4の厚さである。縦軸
は試料のエックス線回折スペクトルから求めたCo(1
1.0)回折とCr(200)回折とのピーク強度とし
ている。
Measurement Results As a result of X-ray diffraction, the orientation of the CrTi film (third underlayer 3) was (200) and the orientation of the Co alloy film (magnetic layer 2) was (1).
It was found to be 1.0). This state is shown in FIG. In FIG. 8, the horizontal axis represents the thickness of the second underlayer 4. The vertical axis represents Co (1 obtained from the X-ray diffraction spectrum of the sample.
The peak intensities of 1.0) diffraction and Cr (200) diffraction are used.

【0094】第二の下地層4の膜厚が増加すると、Cr
Ti膜の(200)配向とCo合金膜の(11.0)配
向強度が減少する。また、3nm以下の非常に薄い領域
でも、これらの配向強度が減少する。配向強度がこのよ
うな挙動を示す原因は、第二の下地層4の厚さが非常に
薄い領域では、該第二の下地層4が不連続になることに
あることが透過電子顕微鏡による観察結果から判明し
た。以上のことから、第二の下地層4の層厚は、3nm
程度以上、75nm程度以下とすることが最も好ましい
と結論づけられる。第二の下地層4の厚さをこのような
範囲内にすれば、Cr合金のC軸が面内に配向する傾向
が非常に強いため、磁気特性に優れ、ノイズの低い記録
媒体となることがわかる。但し、第二の下地層4の厚さ
が150nm程度までは、規格化ノイズ係数が低かっ
た。
As the thickness of the second underlayer 4 increases, Cr
The (200) orientation of the Ti film and the (11.0) orientation strength of the Co alloy film decrease. Further, even in a very thin region of 3 nm or less, the orientation strength of these is reduced. Observation by a transmission electron microscope is that the cause of the orientation strength exhibiting such a behavior is that the second underlayer 4 becomes discontinuous in a region where the thickness of the second underlayer 4 is very thin. It turned out from the result. From the above, the layer thickness of the second underlayer 4 is 3 nm.
It is concluded that it is most preferable that the thickness is not less than about 75 nm and not more than about 75 nm. When the thickness of the second underlayer 4 is within such a range, the C-axis of the Cr alloy has a very strong tendency to be oriented in the plane, so that the recording medium has excellent magnetic characteristics and low noise. I understand. However, the normalized noise coefficient was low until the thickness of the second underlayer 4 was about 150 nm.

【0095】この様な結晶配向の特徴は、試料番号3〜
26のサンプル全てに見られるが、特にCr,Zr,M
oではこの傾向が強く、保磁力も高めなものが得られ
る。その他のTi,Al,Si,V,Nbでは、(11
0)配向したCr合金や、(10.0)配向したCo合
金のピークが僅かに観察される。従って、Cr,Zr,
Moは、TaやHfがCrを(200)配向させる効果
を阻害することなく、密着性を向上させる優れた第一の
下地層であると言える。
The characteristics of such crystal orientation are as follows.
Found in all 26 samples, especially Cr, Zr, M
In the case of o, the tendency is strong and the coercive force is high. For other Ti, Al, Si, V and Nb, (11
The peaks of the (0) oriented Cr alloy and the (10.0) oriented Co alloy are slightly observed. Therefore, Cr, Zr,
It can be said that Mo is an excellent first underlayer that improves adhesion without inhibiting the effect of Ta or Hf to orient Cr in the (200) direction.

【0096】次に、ガラス以外の材料からなる基板を用
いた磁気記録媒体の特性を測定した結果を図10を用い
て説明する。測定・評価は、上述の場合と同様の方法で
行った。また、図10中における各種条件を示す用語
(あるいは、表現)は、図7と同じ意味で用いている。
Next, the results of measuring the characteristics of the magnetic recording medium using a substrate made of a material other than glass will be described with reference to FIG. The measurement / evaluation was performed by the same method as described above. Further, terms (or expressions) indicating various conditions in FIG. 10 have the same meaning as in FIG. 7.

【0097】測定対象(ディスク型磁気記録媒体) 潤滑層 :パーフルオロアルキルポリエーテル系の材料
をフルオロカーボン系溶剤で希釈して塗布 保護層 :非晶質カーボン 磁性層2:Co・Cr・Pt合金、厚さ33nm 第三の下地層3:Cr・Ti合金、厚さ80nm 第二の下地層4:タンタル、厚さ20nm 第一の下地層5:材料は図9参照、厚さ20nm、 基板6:材料は図9参照 外径65mm、内径20mm、板厚0.635mm 試料番号27〜30のサンプルは、非晶質のガラス状カ
ーボン基板の表面を研磨したものを基板として用いた。
試料番号31〜37のサンプルは、基板全体がチタン酸
化物からなる基板を用いた。試料番号35〜38のサン
プルは、研磨した金属チタンの基板の表面だけに、厚さ
約500nmの酸化膜を形成したものを用いた。
Measurement target (disk type magnetic recording medium) Lubrication layer: Perfluoroalkyl polyether type material diluted with fluorocarbon type solvent and applied Protective layer: Amorphous carbon Magnetic layer 2: Co.Cr.Pt alloy, Thickness 33 nm Third underlayer 3: Cr / Ti alloy, thickness 80 nm Second underlayer 4: tantalum, thickness 20 nm First underlayer 5: See FIG. 9 for material, thickness 20 nm, Substrate 6: For the material, see FIG. 9. Outer diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, plate thickness 0.635 mm. Samples Nos. 27 to 30 were obtained by polishing the surface of an amorphous glassy carbon substrate.
As the samples of sample numbers 31 to 37, substrates in which the entire substrate was made of titanium oxide were used. As the samples of sample numbers 35 to 38, those in which an oxide film having a thickness of about 500 nm was formed only on the surface of a polished metal titanium substrate were used.

【0098】試料番号30,34,38のサンプルは、
第二の下地層の表面にテクスチャ加工を施した。
The samples of sample numbers 30, 34 and 38 are
The surface of the second underlayer was textured.

【0099】その他の条件は、図9に示した。なお、試
料番号27,31,35のサンプルは、比較例として示
したものであって、第1の下地層を設けていない。ま
た、上述した試料番号1のサンプル(ガラス基板を用い
た従来例)、試料番号5,12のサンプル(ガラス基板
を用いた本発明)のデータも、図10に掲載した。
Other conditions are shown in FIG. The samples of sample numbers 27, 31, and 35 are shown as comparative examples, and the first underlayer is not provided. Further, the data of the above-mentioned sample No. 1 (conventional example using a glass substrate) and sample Nos. 5 and 12 (present invention using a glass substrate) are also shown in FIG.

【0100】第1の下地層を設けていない試料番号2
7,31,35のサンプルでは、密着性が0〜24%で
あった。これは、試料番号1の結果とほぼ同程度であ
り、磁気ディスクとしての仕様は困難であった。これに
対し、試料番号28〜30、32〜34、36〜38
は、密着性が100%であり、これらの基板に対しても
密着性の向上が見られた。試料番号28,32,36の
サンプル(第一の下地層:Zr)は、試料番号27,3
1,35のサンプル(比較例)に比べて、規格化ノイス
係数がわずかに減少している。また、周方向の保持力H
cがわずかに増加している。
Sample No. 2 without the first underlayer
Adhesion was 0 to 24% in the samples 7, 31, and 35. This is almost the same as the result of Sample No. 1, and it was difficult to specify it as a magnetic disk. On the other hand, sample numbers 28-30, 32-34, 36-38
Had an adhesiveness of 100%, and the adhesiveness was improved also on these substrates. Sample Nos. 28, 32, 36 (first underlayer: Zr) are Sample Nos. 27, 3
Compared to the 1,35 samples (comparative example), the normalized Neuss coefficient is slightly reduced. Also, the holding force H in the circumferential direction
c is slightly increased.

【0101】試料番号27,28,31,32,35,
36のサンプルについて結晶配向を調べた。その結果、
クロム合金の(200)配向とコバルト合金(11.
0)配向は、Zrからなる第一の下地層5の有無に依存
しないことがわかった。また、ガラス基板を用いた場合
と同様に、CrとMoも上記配向を生じさせていた。T
i,Al,Si,V,Nbは、上記以外の配向を生じさ
せるために、規格化ノイズ係数が増加する傾向が見られ
た。従って、このようなカーボン等の基板を用いた場合
でも、Zr,Cr,Moが第一の下地層5として適する
ことがわかった。
Sample Nos. 27, 28, 31, 32, 35,
The crystal orientation of 36 samples was examined. as a result,
(200) orientation of chromium alloy and cobalt alloy (11.
It was found that the 0) orientation does not depend on the presence or absence of the first underlayer 5 made of Zr. Further, as in the case of using the glass substrate, Cr and Mo also produced the above orientation. T
Since i, Al, Si, V, and Nb have orientations other than the above, the normalized noise coefficient tends to increase. Therefore, it was found that Zr, Cr, and Mo are suitable as the first underlayer 5 even when such a substrate such as carbon is used.

【0102】テクスチャ加工を施した試料番号30,3
4,38のサンプルでは、配向比11.5〜11.8
と、大きな値を示した。また、周方向に磁化容易方向を
持つ磁気異方性を示した。これにより周方向の保持力は
向上し、規格化ノイズ係数も向上した。
Sample Nos. 30 and 3 with texture processing
In the samples of Nos. 4 and 38, the orientation ratio was 11.5 to 11.8.
Showed a large value. In addition, magnetic anisotropy having an easy magnetization direction in the circumferential direction was shown. As a result, the holding force in the circumferential direction was improved and the normalized noise coefficient was also improved.

【0103】上述した実験(図7〜図9)では、ガラス
基板としてアルミノシリケート系のガラスを用いたが、
これ以外の種類のガラス(例えば、ソーダライム系ガラ
ス、結晶化ガラス)についても本発明の効果が得られ
た。また、上述の各種効果は、第三の下地層の厚さが3
00nm以下であれば、第三の下地層の厚さにほとんど
依存することなく得られた。
In the above experiment (FIGS. 7 to 9), the aluminosilicate glass was used as the glass substrate.
The effect of the present invention was obtained for other types of glass (for example, soda lime glass and crystallized glass). Further, the above-mentioned various effects are obtained when the thickness of the third underlayer is 3
When the thickness is 00 nm or less, it was obtained almost without depending on the thickness of the third underlayer.

【0104】本発明の第3の実施例を説明する。A third embodiment of the present invention will be described.

【0105】本発明の磁気記録媒体8をディスク状(基
板材料:ガラス、外径:65mm、内径:20mm、厚
さ:0.635mm、磁性層:両面に形成)に形成し
た。そして、該ディスク型の磁気記録媒体8を回転軸に
取り付け、薄膜磁気ヘッド、ヘッド駆動機構、記録再生
ICとともに筐体に組み込んで磁気ディスク装置を作製
した。線記録密度3.94kビット/mm(100kビ
ット/インチ)、トラック密度236トラック/mm
(6kトラック/インチ)で記録再生し、エラー発生率
が低く、良好な磁気ディスク装置を得た。
The magnetic recording medium 8 of the present invention was formed into a disk shape (substrate material: glass, outer diameter: 65 mm, inner diameter: 20 mm, thickness: 0.635 mm, magnetic layer: formed on both sides). Then, the disk-type magnetic recording medium 8 was attached to the rotary shaft, and the thin-film magnetic head, the head drive mechanism, and the recording / reproducing IC were incorporated into a housing to manufacture a magnetic disk device. Linear recording density 3.94 kbit / mm (100 kbit / inch), track density 236 tracks / mm
Recording / reproduction was performed at (6 k tracks / inch), and a good magnetic disk device with a low error occurrence rate was obtained.

【0106】本発明は、ディスク型の記録媒体に限らな
い。また、この他の基板を用いる磁気テープなどの長手
方向の磁気記録媒体にも適用可能である。
The present invention is not limited to the disk type recording medium. Further, it is also applicable to a longitudinal magnetic recording medium such as a magnetic tape using another substrate.

【0107】[0107]

【発明の効果】本発明は、磁気記録媒体の読み出時のノ
イズ低減に対し、記録ノイズが低減されるという大きな
効果を持つ。本発明は、ディスク型の磁気記録媒体のみ
ならず、磁気テープ等の長手方向記録方式の磁気記録媒
体においても、同様な層構成を取る限り本実施例と同等
な効果が見込まれる。
The present invention has a great effect that the recording noise is reduced as compared with the noise reduction when reading the magnetic recording medium. The present invention is expected to have the same effect as that of this embodiment not only in the disk type magnetic recording medium but also in the longitudinal recording type magnetic recording medium such as a magnetic tape as long as the same layer structure is adopted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1である磁気記録媒体の内部構
造を示す模式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the internal structure of a magnetic recording medium that is Embodiment 1 of the present invention.

【図2】実施例1の磁気記録媒体を真空槽内の連続処理
で製造する設備を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing equipment for manufacturing the magnetic recording medium of Example 1 by continuous processing in a vacuum chamber.

【図3】本発明の実施例2である磁気記録媒体の内部構
造を示す模式的な断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the internal structure of a magnetic recording medium that is Embodiment 2 of the present invention.

【図4】第一および第二の下地層の形成に用いられる装
置を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an apparatus used for forming first and second underlayers.

【図5】第三の下地層等を形成するのに用いられる装置
を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an apparatus used for forming a third underlayer and the like.

【図6】基板に電圧を印加して放電を発生させて短時間
に酸化層41を形成する装置(酸化手段)を示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram showing an apparatus (oxidizing means) for applying a voltage to a substrate to generate a discharge to form an oxide layer 41 in a short time.

【図7】本発明の磁気記録媒体の密着性,磁気特性およ
び規格化ノイズ係数の測定結果を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing measurement results of adhesion, magnetic characteristics and normalized noise coefficient of the magnetic recording medium of the present invention.

【図8】本発明の磁気記録媒体の結晶配向を、X線回折
で測定した結果を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing the results of measuring the crystal orientation of the magnetic recording medium of the present invention by X-ray diffraction.

【図9】本発明においてガラス以外の基板を用いた磁気
ディスクの特性(密着性、磁気特性、規格化ノイズ)の
測定結果を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing measurement results of characteristics (adhesiveness, magnetic characteristics, normalized noise) of a magnetic disk using a substrate other than glass in the present invention.

【図10】下地層を2層に分ける従来技術を示す図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing a conventional technique in which a base layer is divided into two layers.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…保護層と潤滑膜、 2…磁性層、 3…第三の下地
層、 4…第二の下地層、 5…第一の下地層、 6…
非磁性基板、 8…磁気ディスク基板、 9…基板ホル
ダー、 10…加熱室、 11…ヒーター、 12…ド
アバルブ、 13…第一の下地層形成室、 14…第二
の下地層形成室、 15…第三の下地膜層形成室、 1
6…磁性層形成室、 17…保護層形成室、 22…酸
化ガス導入口、 23…電圧印加手段、 24…第二の
加熱室、 30…グロー放電プラズマ、 33…第一の
下地層金属のターゲット、 34…第二の下地層金属の
ターゲット、 35…第三の下地層金属のターゲット、
36…磁性層金属のターゲット、 37…保護膜材の
ターゲット、 41…第二の下地層金属の酸化物膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Protective layer and lubricating film, 2 ... Magnetic layer, 3 ... 3rd underlayer, 4 ... 2nd underlayer, 5 ... 1st underlayer, 6 ...
Non-magnetic substrate, 8 ... Magnetic disk substrate, 9 ... Substrate holder, 10 ... Heating chamber, 11 ... Heater, 12 ... Door valve, 13 ... First underlayer forming chamber, 14 ... Second underlayer forming chamber, 15 ... Third base film layer forming chamber, 1
6 ... Magnetic layer forming chamber, 17 ... Protective layer forming chamber, 22 ... Oxidizing gas inlet, 23 ... Voltage applying means, 24 ... Second heating chamber, 30 ... Glow discharge plasma, 33 ... First underlayer metal Target, 34 ... Target of second underlayer metal, 35 ... Target of third underlayer metal,
36 ... Target of magnetic layer metal, 37 ... Target of protective film material, 41 ... Oxide film of second underlayer metal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤田 塩地 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 古澤 賢司 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shioji Fujita 2880, Kozu, Odawara, Kanagawa Stock Company Hitachi Storage Systems Division (72) Inventor Kenji Furusawa 2880, Kozu, Odawara, Kanagawa Hitachi, Ltd. Storage System Division

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】非磁性基板上に、非磁性金属からなる下地
層を形成し、その上にコバルトを含有する合金からなる
磁性層を形成した磁気記録媒体に於いて、 前記下地層は、上記非磁性基板上の側からCr, Ti, Zr,
Al, Si, V, Nb, Mo、またはそれらの金属を主成分とす
る合金からなる第一の下地層と、 Ta、Hfまたはそれぞれを主成分とする合金からなる第二
の下地層と、 Cr, Vまたはこれらを主成分とする合金からなる第三の
下地層と、を順次積層した構造を有すること、 を特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium comprising a non-magnetic substrate on which a base layer made of a non-magnetic metal is formed, and a magnetic layer made of an alloy containing cobalt is formed on the base layer. From the side on the non-magnetic substrate, Cr, Ti, Zr,
A first underlayer made of Al, Si, V, Nb, Mo, or an alloy mainly containing these metals, and a second underlayer made of Ta, Hf, or an alloy mainly containing each of them, and Cr. , V or a third underlayer made of an alloy containing these as main components, and a structure in which the third underlayer is sequentially laminated.
【請求項2】非磁性基板上に、非磁性金属からなる下地
層を形成し、その上にコバルトを含有する合金からなる
磁性層を形成した磁気記録媒体に於いて、 前記下地層は、上記非磁性基板上の側から、 Cr, Zr, Mo、またはそれらの金属を主成分とする合金か
らなる第一の下地層と、 Ta、Hfまたはそれぞれを主成分とする合金からなる第二
の下地層と、 Cr, Vまたはこれらを主成分とする合金からなり、その
結晶構造が体心立方格子であり、且つ、その配向方向が
上記基板の基板面に垂直に(100)方向をとる第三の
下地層と、 を順次積層した構造を有し、 上記磁性層は、その結晶構造が稠密六方格子であり、且
つ、その配向方向が上記基板の基板面に垂直に(11.
0)方向をとるものであること、 を特徴とする磁気記録媒体。
2. A magnetic recording medium in which an underlayer made of a nonmagnetic metal is formed on a nonmagnetic substrate, and a magnetic layer made of an alloy containing cobalt is formed on the underlayer. From the side above the non-magnetic substrate, the first underlayer made of Cr, Zr, Mo, or an alloy containing these metals as the main components, and the second underlayer made of Ta, Hf, or an alloy containing each of these components as the main component. A third layer consisting of a stratum and Cr, V or an alloy containing these as the main components, whose crystal structure is a body-centered cubic lattice, and whose orientation direction is the (100) direction perpendicular to the substrate surface of the substrate. In the magnetic layer, the crystal structure is a dense hexagonal lattice, and the orientation direction is perpendicular to the substrate surface of the substrate (11.
0) The magnetic recording medium is characterized by having a direction.
【請求項3】上記第二の下地層は、その厚さが3ナノメ
ートル以上、150ナノメートル以下であることを特徴
とする請求項1または2記載の磁気記録媒体。
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the second underlayer has a thickness of 3 nm or more and 150 nm or less.
【請求項4】上記第二の下地層と上記第三の下地層の間
に、上記第二の下地層を構成する金属の酸化物を含んだ
層をさらに備えたこと、 を特徴とする請求項1、2または3記載の磁気記録媒
体。
4. A layer containing an oxide of a metal forming the second underlayer is further provided between the second underlayer and the third underlayer. Item 1. The magnetic recording medium according to Item 1, 2 or 3.
【請求項5】少なくとも上記第2の下地層は、上記第3
の下地層の側の界面において方向性をもった溝を有する
こと、 を特徴とする請求項1,2,3または4記載の磁気記録
媒体。
5. The at least second underlayer comprises the third
5. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium has a groove having directionality at the interface on the underlayer side.
【請求項6】上記非磁性基板は、ガラス、カーボンまた
は酸化チタンであること、 を特徴とする請求項1,2,3,4または5記載の磁気
記録媒体。
6. The magnetic recording medium according to claim 1, 2, 3, 4 or 5, wherein the non-magnetic substrate is glass, carbon or titanium oxide.
【請求項7】磁気記録媒体の製造方法において、 真空槽内でスパッタリングすることによって、Cr, Ti,
Zr, Al, Si, V, Nb, Mo、またはそれらの金属を主成分
とする合金からなる第一の下地層と、Ta、Hfまたはそれ
ぞれを主成分とする合金からなる第二の下地層とを、非
磁性基板上または少なくとも表面が非金属である基板上
に順次形成し、 この後、上記第一の下地層及び第二の下地層の形成され
た基板を一端真空槽から取り出し、その後再び真空槽内
に戻して、Cr, Vまたはこれらを主成分とする合金から
なる第三の下地層を形成し、 さらに上記第三の下地層の上この上に磁性層を形成する
こと、 を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
7. A method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein sputtering of Cr, Ti,
A first underlayer made of Zr, Al, Si, V, Nb, Mo, or an alloy containing these metals as a main component, and a second underlayer made of Ta, Hf or an alloy containing each of them as a main component. Are sequentially formed on a non-magnetic substrate or a substrate whose surface is at least non-metallic, and then the substrate on which the first underlayer and the second underlayer are formed is once taken out from the vacuum chamber and then again. After returning to the vacuum chamber, a third underlayer made of Cr, V or an alloy containing these as a main component is formed, and a magnetic layer is further formed on the third underlayer. And a method for manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項8】上記第二の下地層を形成した後上記第三の
下地層を形成する前に、該第二の下地層の表面に方向性
を持った微細な溝を形成すること、 を特徴とする請求項7項記載の磁気記録媒体の製造方
法。
8. Forming directional fine grooves on the surface of the second underlayer after forming the second underlayer and before forming the third underlayer. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 7, wherein
【請求項9】請求項1,2,3,4または5記載の磁気
記録媒体と、 上記磁気記録媒体へ信号を書き込む書き込み手段と、上
記磁気記録媒体から信号の読み出しを行う読み出し手段
と、のうちの少なくとも一方と、 を備えたことを特徴とする磁気記録装置。
9. A magnetic recording medium according to claim 1, 2, 3, 4 or 5, write means for writing a signal to the magnetic recording medium, and read means for reading a signal from the magnetic recording medium. A magnetic recording device comprising: at least one of
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