JPH0820736B2 - 光重合性組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は活性光線の照射により重合し、硬化しうる光
重合性組成物に関する。詳しくは金属表面、特に銅への
接着性が良好で、かつ赤変やメツキ剥れのない光重合性
組成物に関する。更に詳しくは、本発明は容易に光硬化
性であり、メツキ用各種液及びエツチヤントに対する耐
性を有するフオトレジストを形成するのに有用な光重合
性組成物に関する。

〔従来の技術〕

プリント配線板の製造において用いられる特公昭45−
25231号公報に見られるようなドライフイルムフオトレ
ジストは、銅張積層板（基板）に積層され、配線パター
ンを有する原稿を通して活性光線を照射され、次に適当
な現像液を用いて未露光部を溶解し、基板上に硬化した
画像を得る。得られた硬化画像をレジストとして、露出
された銅は、種々の方法、例えば、エツチング、メツキ
又は陽極処理によつて変性され、プリント回路板が製造
される。しかし、ドライフイルムレジストは液状のフオ
トレジストに比較して金属表面への接着性が弱くエツチ
ングあるいはメツキの際に種々の好ましくない現象が発
生する。たとえば、エツチング液のスプレー時、または
メツキ液への浸漬時に、液がレジストと銅基板との間に
浸入し、レジストが分離し、銅基板から浮きあがり、ア
ンダーエツチング、アンダープレーテイング（メツキも
ぐり）等の現象が発生する。その結果、画像のエツジが
不明瞭になり、レジスト像が欠損し、所望の精度のパタ
ーンが得られず多数の基板が無駄となる。

ドライフイルムレジストを使用したプリント配線板の
製造において、基板上にレジストパターンを作成する場
合、レジストパターンの部分を基板の上に全面的に密着
させる場合もあるが、他方、あらかじめ基板を通して穴
（スルーホールと呼ばれる）が設けられ、基板の表、裏
両面及びスルーホールの内部表面に銅などの金属層が配
置された基板を用い、最終的に基板の表裏両面にプリン
ト配線を作成し、かつスルーホール内部を通して表裏両
面の配線が電気的に導通されているようなプリント配線
を作る場合には、レジスト膜全面を金属表面に密着させ
ることなく、スルーホールの上又は下に、レジスト膜を
張る必要がある（これをテンテイング法と呼ぶ）。これ
はエツチングによつてプリント配線を作成する時、スル
ーホール内部の金属層がエツチングされるのを防ぐため
である。このようなテンテイング法の場合、形成される
レジスト膜は、スルーホールの出口のまわりの微少面積
に於いてのみ基板と密着しており、膜の他の部分は、そ
れ自体の凝集力でスルーホール上に保持され、通常、使
われているスプレー式エツチング法のスプレーによつて
も剥離しない接着性が要求されるが、必ずしも充分に大
きくないため、テント膜横からエツチング液がしみこむ
ことがあつた。

これらの問題を改善するために、金属表面をあらかじ
め表面処理する方法が提案されている（特公昭54−5292
号、特開昭51−64919、特開昭51−64920号）。

一方、感光性樹脂層中に種々の化合物を添加すること
により、接着性を改善する方法が提案されている（特公
昭50−9177号、特公昭54−5,292号、特公昭55−22,481
号、特開昭51−64,919号、特開昭51−64,920号、特開昭
50−63,087号、特開昭51−2,724号、特開昭53−702号、
特開昭53−124,541号、特開昭53−124,594号、特開昭54
−133,585号、特開昭54−133,586号、特開昭55−65,947
号、特公昭57−46,053号、特公昭57−46,054号、特開昭
56−11,904号、特公昭57−21,697号、特開昭56−75,642
号、特開昭56−67,844号、特公昭57−40,500号、特開昭
56−99,202号、特開昭56−100,803号、特開昭57−60,32
7号、特開昭57−62,047号、DAS2448850号、US4629679
号、特公昭57−49,894号、特開昭57−148,392号、特開
昭57−192,946号、特開昭58−100,844号、特開昭59−11
3,432号、特開昭59−125,725号、特開昭59−125,726
号、特開昭59−125,727号、特開昭59−125,728号、特開
昭59−152,439号、特開昭59−154,440号、特開昭59−15
4,441号、特開昭59−165,051号、特開昭60−12,543号、
特開昭60−12,544号、特開昭60−135,931号、特開昭60
−138,540号、特開昭60−146,233号、特開昭61−4,038
号、特開昭61−6,644号、特開昭61−6,646号、特開昭61
−166,541号、特開昭61−172,139号、特開昭61−186,95
2号、特開昭61−190,330号、特開昭61−198,146号、特
開昭61−223,836号、特開昭61−282,835号、特開昭61−
360,237号、特開昭62−91,935号、特開昭62−96,939
号、特開昭62−180,354号、特開昭62−180,355号、特開
昭62−180,356号、特開昭62−180,357号、特開昭62−18
1,303号、特開昭62−208,042号、特開昭62−240,950
号、特開昭62−277,405号、特開昭62−286,035号、特開
昭62−290,702号、特公昭63−13,526号、特開昭63−24,
243号、特開昭63−57,622号、特開昭63−61,241号）。

「発明が解決しようとする問題点」 前者の方法は、新たに付加的な工程が必要であるのに
較べ、後者が優れていることは明らかであるが、現像後
の基板の銅露出表面が赤変するという現象が見られ、エ
ツチング・メツキ・ハンダ付等の後加工に悪い影響を与
えたり、染料を脱色したり、光重合反応を阻害したり、
あるいは光重合性樹脂組成物への溶解性が悪く、製造上
不都合な点が多いなどの種々の問題点を有している。特
に密着性を向上させるのに有効な添加剤としては特開昭
60−12544号記載の化合物（本願（Ｉ）の化合物）が知
られているが、赤変やメツキはがれが発生する点で十分
とはいえなかつた。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記のような問題点がなく、しか
も、金属面への接着性が良好で、かつ赤変やメツキ剥れ
のない光重合性組成物を提供することである。

さらに詳しくは、印刷回路板の製造に利用されるドラ
イフイルムレジストを形成するのに有用な光重合性組成
物を提供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者らは、下記に示す一般式（Ｉ）と（II）のヘ
テロ環式化合物を添加した光重合性組成物により、赤変
やメツキ剥れを発生することなく金属表面への接着性が
改善されることを見い出した。

すなわち、本発明の目的は、少くとも（１）〜（４）
を含有することを特徴とする光重合性組成物により達成
された。

（１）少なくとも２個の末端不飽和基を有し、重合体を
形成しうる非ガス状エチレン性不飽和化合物、 （２）熱可塑性有機高分子結合剤、 （３）活性光線によつて活性化しうる光重合開始剤系 （４）一般式（Ｉ）及び（II）で表わされるヘテロ環式
化合物 一般式（Ｉ） R₁は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アミノ基、また
は置換アミノ基を表わし、 R₂、R₃は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、またはアラルキル基を表わし、 R₄、R₅は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、またはアラルキル基を表わし、Ｎ原子とと
もにピロリジン、ピペリジン、モルホリンまたはＮ−置
換ピペラジン核を形成してもよい。Ｘは酸素原子、硫黄
原子 またはＮ−R₆〔R₆は水素原子、アルキル基またはアリ
ール基を表わす。〕を表わし、Ｙは酸素原子または硫黄
原子を表わす。

一般式（II） また、R₁〜R₁₁において、アルキル基は炭素数１〜20
のものが好ましい。

これらのヘテロ環式化合物の好ましい添加量は光重合
性組成物の固形分に対し、 式（Ｉ）の化合物:0.001〜0.1重量％ 式（II）の化合物:0.01〜0.5重量％ で、更に好ましくは 式（Ｉ）の化合物:0.01〜0.04重量％ 式（II）の化合物:0.04〜0.2重量％ である。

式（Ｉ）の化合物の添加量が0.001重量％以下である
とレジストの密着性が不十分で、メツキもぐりやエツチ
ング時におけるレジストの浮きが生じたり、細線が現像
時に剥れたりする。

同化合物の添加量が0.1重量％以上であると、銅板が
赤変したり、メツキ剥れを生じやすい。

式（II）の化合物の添加量が0.01重量％以下である
と、赤変を防止する効果がなくなる。

同化合物の添加量が0.5重量％以上であると、ロイコ
色素が保存状態で発色したり、メツキ剥れを生じる。

本発明に用いられる好適なエチレン性不飽和化合物
は、少なくとも２個の末端不飽和基を有する、活性光線
の照射により、光重合が可能な化合物である。以下多官
能モノマーと略す。

具体的には、特公昭35−5,093号公報、特公昭35−14,
719号公報、特公昭44−28,727号公報等に記載される下
記の化合物である。

先ずアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル
類としては、多価アルコールのポリアクリレート類及び
ポリメタクリレート類（ここで「ポリ」とはジアクリレ
ート以上を指す。）がある。上記多価アルコールとして
は、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリブチレングリコール、ポリシクロヘキセンオキ
サイド、ポリスチレンオキサイド、ポリオキセタン、ポ
リテトラヒドロフラン、シクロヘキサンジオール、キシ
リレンジオール、ジ−（β−ヒドロキシエトキシ）ベン
ゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネオペンチルグリコ
ール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、
ソルビタン、ソルビトール、ブタンジオール、ブタント
リオール、２−ブテン−1,4−ジオール、２−ｎ−ブチ
ル−２−エチル−プロパンジオール、２−ブチン−1,4
−ジオール、３−クロル−1,2−プロパンジオール、1,4
−シクロヘキサンジメタノール、３−シクロヘキセン−
1,1−ジメタノール、デカリンジオール、2,3−ジブロム
−２−ブテン−1,4−ジオール、2,2−ジエチル−1,3−
プロパンジオール、1,5−ジヒドロキシ−1,2,3,4−テト
ラヒドロナフタレン、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジ
オール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,2
−ジフエニル−1,3−プロパンジオール、ドデカンジオ
ール、メゾエリスリトール、２−エチル−1,3−ヘキサ
ンジオール、２−エチル−２−（ヒドロキシメチル）−
1,3−プロパンジオール、２−エチル−２−メチル−1,3
−プロパンジオール、ヘプタンジオール、ヘキサンジオ
ール、３−ヘキセン−2,5−ジオール、ヒドロキシベン
ジルアルコール、ヒドロキシエチルレゾルシノール、２
−メチル−1,4−ブタンジオール、２−メチル−2,4−ペ
ンタンジオール、ノナンジオール、オクタンジオール、
ペンタンジオール、１−フエニル−1,2−エタンジオー
ル、プロパンジオール、2,2,4,4−テトラメチル−1,3−
シクロブタンジオール、2,3,5,6−テトラメチル−ｐ−
キシレン−α，α′−ジオール、1,1,4,4−テトラフエ
ニル−1,4−ブタンジオール、1,1,4,4−テトラフエニル
−２−ブチン−1,4−ジオール、1,2,6−トリヒドロキシ
ヘキサン、1,1′−ビ−２−ナフトール、ジヒドロキシ
ナフタレン、1,1′−メチレンジ−２−ナフトール、1,
2,4−ベンゼントリオール、ビフエノール、2,2′−ビス
（４−ヒドロキシフエニル）ブタン、1,1−ビス（４−
ヒドロキシフエニル）シクロヘキサン、ビス（ヒドロキ
シフエニル）メタン、カテコール、４−クロルレゾルシ
ノール、3,4−ジヒドロキシハイドロシンナミツクアシ
ツド、ハイドロキノン、ヒドロキシベンジルアルコー
ル、メチルハイドロキノン、メチル−2,4,6−トリヒド
ロキシベンゾエート、フロログルシノール、ピロガロー
ル、レゾルシノール、グルコース、α−（１−アミノエ
チル）−ｐ−ヒドロキシベンジルアルコール、２−アミ
ノ−２−エチル−1,3−プロパンジオール、２−アミノ
−２−メチル−1,3−プロパンジオール、３−アミノ−
1,2−プロパンジオール、Ｎ−（３−アミノプロピル）
−ジエタノールアミン、N,N′−ビス−（２−ヒドロキ
シエチル）ピペラジン、2,2−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−2,2′,2″−ニトリロトリエタノール、2,2−ビス
（ヒドロキシメチル）プロピオニツクアシツド、1,3−
ビス（ヒドロキシメチル）ウレア、1,2−ビス（４−ピ
リジル）−1,2−エタンジオール、Ｎ−ｎ−ブチルジエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−エチレンジ
エタノールアミン、３−メルカプト−1,2−プロパンジ
オール、３−ピペリジノ−1,2−プロパンジオール、２
−（２−ピリジル）−1,3−プロパンジオール、トリエ
タノールアミン、α−（１−アミノエチル）−ｐ−ヒド
ロキシベンジールアルコール、３−アミノ−４−ヒドロ
キシフエニルスルホンなどがある。これらのアクリル酸
エステル類、及びメタクリル酸エステル類のうち、最も
好ましいものは、その入手の容易さから、エチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリ
コールジアクリレート、ドデカンプロピレングリコール
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジ
アクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、グリ
セリントリアクリレート、ジグリセリンジメタクリレー
ト、1,3−プロパンジオールジアクリレート、1,2,4−ブ
タントリオールトリメタクリレート、1,4−シクロヘキ
サンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジオール
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、エチレンオキサイド付加したトリメチロールプロパ
ンのトリアクリル酸エステル等である。

一方、アクリルアミド類、及びメタクリルアミド類と
しては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメ
タリルアミドのほか、エチレンジアミン、ジアミノプロ
パン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジアミン、ヘキ
サメチレン、ビス（２−アミノプロピル）アミン、ジエ
チレントリアミンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、
オクタメチレンジアミン並びに異種原子により中断され
たポリアミン、環を有するポリアミン（例えばフエニレ
ンジアミン、キシリレンジアミン、β−（４−アミノフ
エニル）エチルアミン、ジアミノベンゾイツクアシツ
ド、ジアミノトルエン、ジアミノアントラキノン、ジア
ミノフルオレンなど）のポリアクリルアミド及びポリメ
タクリルアミドがある。

アリル化合物としては、例えばフタル酸、テレフタル
酸、セバシン酸、アジピン酸、グルタール酸、マロン
酸、蓚酸等のジカルボン酸のジアリルエステル、例え
ば、アントラキノンジスルホン酸、ベンゼンジスルホン
酸、2,5−ジヒドロキシ−ｐ−ベンゼンジスルホン酸、
ジヒドロキシナフタレンジスルホン酸、ナフタレンジス
ルホン酸などのジスルホン酸のジアリルエステル、ジア
リルアミドなどがある。

ビニルエーテル化合物としては、前記多価アルコール
のポリビニルエーテルがあり、例えばエチレングリコー
ルジビニルエーテル、1,3,5−トリ−β−ビニロキシエ
トキシベンゼン、1,3−ジ−β−ビニロキシエトキシベ
ンゼン、グリセロールトリビニルエーテルなどがある。

ビニルエステル類としては、ジビニルサクシネート、
ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテ
レフタレート、ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホネー
ト、ジビニルブタン−1,4−ジスルホネートなどがあ
る。

スチレン化合物としては、ジビニルベンゼン、ｐ−ア
リルスチレン、ｐ−イソプロペンスチレンなどがある。

Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルアミ
ド）エチルアクリレート、N,N−ビス（β−メタクリロ
キシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレートな
どの如き、異なつた付加重合性不飽和結合を２個以上有
する化合物も、本発明に好適に用いられる。

更に、少なくとも二つの水酸基を有するポリオール化
合物と、やや過剰の少なくとも二つのイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物とを反応させた反応
生成物に、少なくとも一つの水酸基と少なくとも一つの
エチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られ
る少なくとも二つのエチレン性不飽和基を有する多官能
ウレタン化合物も本発明に好適に用いられる。

これらの多官能モノマーは単独あるいは二種以上を併
用して用いることができ、光重合性組成物の固形分の５
〜90重量％、好ましくは15〜60重量％の範囲で用いられ
る。

本発明の光重合性組成物に用いられる結合剤は、広範
な種類の合成、半合成、天然の高分子物質の中から次の
条件を満足するものが用いられる。即ち、多官能モノマ
ー、光重合開始剤及び本発明のヘテロ環式化合物との相
溶性が塗布液の調製から、塗布、乾燥に至る製造工程中
に脱混合を起こさない程度に良いこと、本発明の使用法
に応じた性質、例えば、テンテイング用フオトレジスト
に用いる場合にはポリマーの強度、延伸性、耐摩耗性、
耐薬品性などが適当であること、さらに、ポリマーの分
子量、分子間力、硬さ、軟化温度、結晶性、破壊伸度な
どが適切なことなどである。

結合剤の具体例を挙げると塩素化ポリエチレン、塩素
化ポリプロピレンなどの塩素化ポリオレフイン、ポリメ
チルメタアクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸ア
ルキルエステル（アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、ブチル基など）、（メタ）アクリル酸と（メタ）
アクリル酸アルキルエステル（アルキル基は同上）との
共重合物、ポリ（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル
酸アルキルエステル（アルキル基は同上）とアクリロニ
トリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタ
ジエン等のモノマーの少くとも一種との共重合物、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニトリルとの共重合
物、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロニ
トリルとの共重合物、酢酸ビニルと塩化ビニルとの共重
合物、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルとスチ
レンとの共重合物、アクリロニトリルとブタジエン及び
スチレンとの共重合物、スチレンと無水マレイン酸など
の不飽和二塩基酸無水物との共重合物、ポリビニルブチ
ラール、スチレンブタジエンゴム、塩化ゴム、環化ゴ
ム、アセチルセルロースなどのホモポリマー又は共重合
物などがある。

共重合物の場合、その成分モノマーの含有比は広範囲
の値をとりうるが、一般には他の共重合モノマーがモル
比で５％以上含まれているものが好適である。またこれ
ら以外のポリマーであつても、前記の条件を満たすもの
であれば、本発明の結合剤として用いることが出来る。

上記のポリマーの内、本発明の結合剤として特に好適
に用いられるものは、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン、ポリメチルメタアクリレート、メチルメタ
クリレート−アクリロニトリル共重合物（メチルメタク
リレートのモル含量20〜80％）、塩化ビニル−アクリロ
ニトリル共重合物（塩化ビニルのモル含量20〜80％）、
塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合物（塩化ビニ
リデンのモル含量20〜80％）、スチレン−無水マレイン
酸共重合物、特願昭59−114736号（結合剤は、メタクリ
ル酸メチル／メタクリル酸/2−エチルヘキシルメタクリ
レート／ベンジルメタクリレート四元共重合体であ
る）、特公昭54−34327号（結合剤は、例えばメタクリ
ル酸メチル／メタクリル酸/2−エチルヘキシル／メタク
リル酸の三元共重合体である）、特公昭55−38961号
（結合剤は例えばスチレン／マレイン酸モノ−ｎ−ブチ
ルエステル共重合体である）、特公昭54−25957号（結
合剤は例えばスチレン／メタクリル酸メチル／アクリル
酸エチル／メタクリル酸の四元共重合体である）、特開
昭52−99810号（結合剤は例えばメタクリル酸ベンジル
／メタクリル酸共重合体である）、特公昭58−12577号
（結合剤は例えばアクリロニトリル／メタクリル酸２−
エチルヘキシル／メタクリル酸の三元共重合体である）
および特公昭55−6210号（結合剤は例えばメタクリル酸
メチル／アクリル酸エチル／アクリル酸の三元共重合体
とイソプロパノールで一部分エステル化したスチレン／
マレイン酸無水物共重合体の２種である）の各明細書記
載の結合剤などである。

これらのポリマーは、単独で結合剤として用いてもよ
いが、二種以上の塗布液の調製から、塗布、乾燥に至る
製造工程中に脱混合を起さない程度に互いに相溶性のあ
るポリマーを適当な比で混合して結合剤として用いるこ
とが出来る。

結合剤として用いられる高分子物質の分子量は、ポリ
マーの種類によつて広範な値をとりうるが、一般的には
5,000〜2,000,000、より好ましくは、50,000〜1,000,00
0の範囲のものが本発明に好適に用いられる。結合剤の
量は光重合性組成物の固形分の５〜95重量％、好ましく
は40〜80重量％である。

一方、本発明に用いられる光重合開始剤としては、従
来の公知のものを好適に用いることができ、例えば、J.
コーサー著「ライトセンシテイブシステムズ」第５章に
記載されているようなカルボニル化合物、有機硫黄化合
物、過酸化物、レドツクス系化合物、アゾ並びにジアゾ
化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素などがある。代
表的な具体例を挙げれば、カルボニル化合物としては例
えばベンゾフエノン、4,4′−ビス（ジメチルアミノ）
ベンゾフエノン、4,4′−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフエノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベン
ゾフエノン、4,4′−ジメトキシベンゾフエノン、４−
ジメチルアミノベンゾフエノン、４−ジメチルアミノア
セトフエノン、アントラキノン、２−tert−ブチルアン
トラキノン、２−メチルアントラキノン、フエナントラ
キノン、キサントン、チオキサントン、２−クロルチオ
キサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエ
チルチオキサントン、フルオレノン、アクリドンおよび
ベンゾイン、ベンゾインエーテル類、例えばベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインフエニルエーテル、ベンジルジメチルケ
タールなどがある。

有機硫黄化合物としては、ジ−ｎ−ブチルジサルフア
イド、ジベンジルジサルフアイド、２−メルカプトベン
ズチアゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、チ
オフエノール、エチルトリクロロメタンスルフエネート
などがある。

2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体類としては
例えば、２−（ｏ−クロロフエニル）−4,5−ジフエニ
ルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフエニル）−
4,5−ジ（ｍ−メトキシフエニル）イミダゾール二量
体、２−（ｏ−フルオロフエニル）−4,5−ジフエニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフエニル）−
4,5−ジフエニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メト
キシフエニル）4,5−ジフエニルイミダゾール二量体な
どがある。

ポリハロゲン化合物としては例えば四臭化炭素、フエ
ニルトリブロモメチルスルホン、フエニルトリクロロメ
チルケトン、および特開昭53−133428号公報、特公昭57
−1819号公報、特公昭57−6096号公報および米国特許第
3615455号明細書に開示されている化合物を挙げること
ができる。

これらの化合物は単独で使用してもよく、また二種以
上の組合せにて使用してもよい。好ましい組合せとして
は、例えば2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体と
２−メルカプトベンズオキサゾールまたはロイコクリス
タルバイオレツト等との組合せ、また米国特許第342715
号明細書に記載の4,4′−ビス（ジメチルアミノ）ベン
ゾフエノンとベンゾフエノンまたはベンゾインメチルエ
ーテルとの組合せ、および米国特許第4239850号明細書
に記載のベンゾイル−Ｎ−メチルナフトチアゾリンと2,
4−ビス（トリクロロメチル）−６−４−メトキシフエ
ニルトリアゾールの組合せ、また特開昭57−23602号公
報に記載のジメチルオキサントンと４−ジアルキルアミ
ノ安息香酸エステルの組合せ、特開昭57−189536号に記
載の、4,4′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフエノ
ンとベンゾフエノン及びポリハロゲン化合物の三種混合
系が挙げられる。

過酸化物としては、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、
過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンパオキサイドな
どがある。

レドツクス化合物は、過酸化物と還元剤の組合せから
なるものであり、第一鉄イオンと過硫酸イオン、第二鉄
イオンと過酸化物などがある。

アゾ及びジアゾ化合物としては、α，α′−アゾビス
イソブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチルブチロ
ニトリル、ｐ−アミノジフエニルアミンのジアゾニウム
塩などがある。

ハロゲン化合物としては、クロルメチルナフチルクロ
ライド、フエナシルクロライド、クロルアセトン、ナフ
タレンスルホニルクロライド、フエニルトリブロモメチ
ルスルホン、トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジンなどがある。

光還元性色素としては、ローズベンガル、エリスロシ
ン、エオシン、アクリフラビン、リボフラビン、チオニ
ンなどがある。

これらの光重合開始剤およびそれらの組合せ系の含有
量は、多官能モノマー100重量部に対して0.1〜20重量部
の範囲で用いるが、好ましくは0.5〜10重量部の範囲で
ある。

本発明に使用される光重合性組成物には、更に熱重合
禁止剤を加えることが好ましい。熱重合禁止剤の具体例
としては、例えば、ｐ−メトキシフエノール、ハイドロ
キノン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、
ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、塩化第一銅、ク
ロラニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、2,6−
ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピリジン、ニトロベ
ンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トルイジン、メチレン
ブルー、有機銅、サリチル酸メチルなどがある。これら
の熱重合禁止剤は、多官能モノマーに対して0.001〜５
重量％の範囲で含有されるのが好ましい。

本発明において、膜物性をコントロールするために、
可塑剤を添加してもよく、代表例としては、ジメチルフ
タレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、
ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オク
チルカプリールフタレート、ジシクロヘキシルフタレー
ト、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレー
ト、ジイソデシルフタレート、ジアリールフタレートな
どのフタル酸エステル類、ジメチルグリコースフタレー
ト、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタ
リールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグ
リコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エス
テルなどのグリコールエステル類、トリクレジールフオ
スフエート、トリフエニルフオスフエートなどの燐酸エ
ステル類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペ
ート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオ
クチルセバケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩
基酸エステル類、ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエ
ンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミドなどの
アミド類、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチ
ルエステル、ラウリル酸ブチルなどがある。

本発明の光重合性組成物に有機ハロゲン化合物とロイ
コ色素の組合せ系を混合することができる。

このような機能を有する有機ハロゲン化合物の例とし
ては、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン化アルコール化合
物、ハロゲン化カルボニル化合物、ハロゲン化エーテル
化合物、ハロゲン化エステル化合物、ハロゲン化アミド
化合物、およびハロゲン化スルホン化合物を挙げること
ができる。

ハロゲン化炭化水素の例としては、四臭化炭素、ヨー
ドホルム、1,2−ジブロモエタン、1,1,2,2テトラブロモ
エタン、1,1−ビス（ｐ−クロロフエニル）2,2,2−トリ
クロロエタン、1,2−ジブロモ−1,1,2−トリクロロエタ
ン、1,2,3−トリブロモプロパン、１−ブロモ−４−ク
ロロブタン、1,2,3,4−テトラブロモブタン、テトラク
ロロシクロプロペン、ヘキサクロロシクロペンタンジエ
ン、ジブロモシクロヘキサンなどを挙げることができ
る。

ハロゲン化アルコール化合物の例としては、2,2,2−
トリクロロエタノール、トリブロモエタノール、トリブ
ロモエタノール、1,3−ジクロロ−２−プロパノール、
1,1,1−トリクロロ−２−プロパノール、ジ（ヨードヘ
キサメチレン）アミノイソプロパノール、トリブロモ−
tert−ブチルアルコール、2,2,3−トリクロロブタン−
1,4−ジオールなどを挙げることができる。

ハロゲン化カルボニル化合物の例としては1,1−ジク
ロロアセトン、1,3−ジクロロアセトン、ヘキサクロロ
アセトン、ヘキサブロモアセトン、1,1,3,3−テトラク
ロロアセトン、1,1,1−トリクロロアセトン、3,4−ジブ
ロモ−２−ブタノン、1,4−ジクロロ−２−ブタノン、
ジブロモシクロヘキサノンなどを挙げることができる。

ハロゲン化エーテル化合物の例としては、２−ブロモ
エチルメチルエーテル、２−ブロモエチルエチルエーテ
ル、ジ（２−ブロモエチル）エーテル、1,2−ジクロロ
エチルエチルエーテルなどを挙げることができる。

ハロゲン化エステル化合物は、ハロゲン化カルボン酸
のエステル、カルボン酸のハロゲン化エステル、または
ハロゲン化カルボン酸のハロゲン化エステルであること
ができる。当該エステルの例としては、酢酸ブロモエチ
ル、トリクロロ酢酸エチル、トリクロロ酢酸トリクロロ
エチル、2,3−ジブロモプロピルアクリレートのホモポ
リマー及び共重合体、ジブロモプロピオン酸トリクロロ
エチル、α，β−ジクロロアクリル酸エチルなどを挙げ
ることができる。

ハロゲン化アミド化合物の例としては、クロロアセト
アミド、ブロモアセトアミド、ジクロロアセトアミド、
トリクロロアセトアミド、トリブロモアセトアミド、ト
リクロロエチルトリクロロアセトアミド、２−ブロモイ
ソプロピオンアミド、2,2,2−トリクロロプロピオンア
ミド、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシン
イミドなどを挙げることができる。

ハロゲン化スルホン化合物の例としては、米国特許第
3042515号および同第3502476号の各明細書に記載されて
いる化合物を挙げることができ、最も代表的な例として
はフエニルトリブロモメチルスルホンがある。

ハロゲン化合物のうちでは同一炭素原子に結合した一
個以上のハロゲン原子をもつハロゲン化物が好ましく、
特に好ましくは一個の炭素原子に三個のハロゲン原子を
もつハロゲン化物である。有機ハロゲン化合物は単独で
使用してもよく、二種以上併用してもよい。

本発明に用いられる有機ハロゲン化合物の量は光重合
性組成物の固形分の0.001重量％から５重量％の範囲で
ある。

さらに好ましくは、0.005重量％から１重量％であ
る。

本発明に使用しうるロイコ色素の代表的なものとして
は、次のものが含まれる。ビス（ｐ−ジブチルアミノフ
エニル）−〔ｐ−（２−シアノエチル）メチルアミノフ
エニル〕メタン、ビス（ｐ−ジメチルアミノフエニル）
−２−キノリルメタン、トリス（ｐ−ジプロピルアミノ
フエニル）メタン等のアミノトリアリールメタン類、3,
6−ビス（ジエチルアミノ）−９−フエニルキサンテ
ン、３−アミノ−６−ジメチルアミノ−２−メチル−９
−（ｏ−クロロフエニル）キサンテン等のアミノキサン
テン類、3,6−ビス（ジエチルアミノ）−９−（ｏ−エ
トキシカルボニルフエニル）チオキサンテン、3,6−ビ
ス（ジメチルアミノ）チオキサンテン等のアミノチオキ
サンテン類、3,6−ビス（ジエチルアミノ）−9,10−ジ
ヒドロ−９−フエニルアクリジン、3,6−ビス（ベンジ
ルアミノ）−9,10−ジヒドロ−９−メチルアクリジン等
のアミノ−9,10−ジヒドロアクリジン類、3,7−ビス
（ジエチルアミノ）フエノキサジン等のアミノフエノキ
サジン類、3,7−ビス（エチルアミノ）フエノチアジン
等のアミノフエノチアジン類、3,7−ビス（ジエチルア
ミノ）−５−ヘキシル−5,10−ジヒドロフエナジン等の
アミノジヒドロフエナジン類、ビス（ｐ−ジメチルアミ
ノフエニル）アニリノメタン等のアミノフエニルメタン
類、４−アミノ−４′−ジメチルアミノジフエニルアミ
ン、４−アミノ−α，β−ジシアノヒドロケイ皮酸メチ
ルエステル等のアミノヒドロケイ女酸類、１−（２−ナ
フチル）−２−フエニルヒドラジン等のヒドラジン類、
1,4−ビス（エチルアミノ）−2,3−ジヒドロアントラキ
ノン等のアミノ−2,3−ジヒドロアントラキノン類、N,N
−ジエチル−ｐ−フエネチルアニリン等のフエネチルア
ニリン類、10−アセチル−3,7−ビス（ジメチルアミ
ノ）フエノチアジン等の塩基性NH基を含むロイコ色素の
アシル誘導体、トリス（４−ジエチルアミノ−ｏ−トリ
ル）エトキシカルボニルメタン等の酸化しうる水素をも
つていないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合
物、ロイコインジゴイド色素、米国特許第3,042,515号
及び同第3,042,517号に記載されているような発色形に
酸化しうるような有機アミン類。この型の代表的な化合
物としては、次のものを挙げることができる。4,4′−
エチレンジアミン、ジフエニルアミン、N,N−ジメチル
アニリン、4,4′−メチレンジアミントリフエニルアミ
ン、Ｎ−ビニルカルバゾール。

本発明に用いるロイコ色素の量は光重合性組成物の固
形分100重量部当り、0.01〜10重量部の範囲で、更に好
ましくは0.05〜５重量部の範囲である。

本発明に用いる染料としては、ビクトリアピユアブル
ー、アラカイトグリーンシユウ酸塩、ダイヤモンドグリ
ーン硫酸塩、オーラミン塩基、クリスタルバイオレツ
ト、フクシン、オレオゾールフアストブルー、メチルオ
レンジ、アシツドバイオレツト等がある。

本発明の光重合性樹脂組成物は、溶剤に溶解または分
散して塗布液となし、支持体上に適当な方法で塗布し、
乾燥し、もし必要ならばその上に保護フイルムを重ね画
像形成材料として用いるのが一般的である。

塗布液の溶剤としては、例えばメタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、sec−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコ
ール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンな
どのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−ア
ミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメ
チル、安息香酸エチルなどのエステル類、トルエン、キ
シレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水
素類、四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホル
ム、1,1,1−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノク
ロロベンゼン、などのハロゲン化炭化水素類、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホオキサイド
などがある。

前述の支持体として用いられるものは、光の透過性が
良好であること及び表面が均一であることが必要であ
る。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セ
ルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、
ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビ
ニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリ
スチレン、セロフアン、ポリ塩化ビニリデン共重合物、
ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチ
レン等の各種のプラスチツクフイルムが使用できる。更
にこれ等の二種以上からなる複合材料も使用することが
できる。

支持体は、一般的には５〜150μｍのもの、好ましく
は10〜50μｍのものが使用されるが、上記以外の範囲で
も使用することができる。

支持体上に設けられる、前記光重合性組成物の層の厚
さは、最終的に形成される画像の所望の機能を果たすよ
うな厚さで設けられるが、一般的には５〜100μｍの範
囲であり、好ましくは、10〜80μｍの範囲である。

本発明の光重合性組成物は支持体上に塗布されて用い
られるが、必要に応じて、光重合性組成物層の上に保護
フイルムを設けることができる。かかる保護フイルムと
しては、前記支持体に使用されるものおよび、紙、たと
えばポリエチレン、ポリプロピレンなどがラミネートさ
れた紙などの中から適宜選ぶことができる。厚さは５〜
100μｍが一般的であり10〜50μｍがより好ましい。そ
の際、光重合性組成物層と支持体の接着力Ａと光重合性
組成物層と保護フイルムの接着力ＢとがＡ＞Ｂの関係に
なるようにする必要がある。支持体／保護フイルムの組
み合せの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート
／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリ
エチレン、ポリアミド（ナイロン６）／ポリエチレン、
ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポリイミド／ポリプロピ
レンなどがある。

上記のように支持体と保護フイルムを相互に異種のも
のから選ぶ方法のほかに、支持体および保護フイルムの
少くとも一方を表面処理することにより、前記のような
接着力の関係を満たすことができる。支持体の表面処理
は光重合性組成物層との接着力を高めるために施される
のが一般的であり、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電
処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グ
ロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザー光
線照射処理などがある。

また、保護フイルムの表面処理は、上記支持体の表面
処理とは逆に、光重合性組成物層との接着力を低めるた
めに施されるのが一般的であり、例えばポリオルガノシ
ロキサン、弗素化ポリオレフイン、ポリフルオロエチレ
ンなどを下塗層として設ける方法がある。

塗布後の乾燥は一般的には30℃〜150℃、特に50℃〜1
20℃で１〜30分間行うのがよい。

前記の画像形成材料が保護フイルムを有する場合には
それをはがして光重合性組成物層の表面を露出させ、こ
れを所望の清浄化した基板表面に加圧して積層する。

基板としては、本発明の使用目的に応じて種々のもの
が用いられ、例えば支持体に用いたものとは異つた光重
合性層との接着力を有するプラスチツクフイルム、紙、
木材、金属板、ガラス板などが用いられる。特に本発明
をプリント配線作成用のレジストとして用いる場合には
金属、例えば、銅、アルミニウム、銀などの薄い層をプ
ラスチツク板の上又は下、或いはプラスチツク板を通し
てあけられた穴、即ちスルーホールの内壁表面にはり合
わせた、あるいはメツキで付着させたプリント配線基
板、あるいは、うすいプラスチツクフイルム上に金属の
薄い膜を蒸着またはメツキ等によつて設けた基板などが
用いられ、さらに本発明を印刷版に用いる場合には、ア
ルミニウム板、アルミニウム層を設けたプラスチツクフ
イルムなどが用いられる。この場合、アルミニウム等の
金属表面は、シリケート処理、陽極酸化等の処理がほど
こされていることが好ましい。

光重合性組成物層のこれら基板への積層は室温（15〜
30℃）或いは加熱下（30〜180℃）で行うことが出来、
特に80〜140℃で行うのが好ましい。

かくして基板上に積層された感光層及び支持体を、次
に透明支持体を通して一般には原稿を通して画像状に露
光する。光源としては透明支持体を透過し、かつ用いら
れている光重合開始剤に対して活性な電磁波、波長が31
0〜700nm、より好ましくは350〜500nmの範囲の紫外ー可
視光線を発する光源が用いられる。例えば、高圧水銀
灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯、ハロゲンラン
プ、複写用の螢光管などが用いられる。この他にレーザ
ー光線、電子線、Ｘ線などを用いて露光してもよい。

画像状の露光後、透明支持体を除去し適当な現像液、
例えば、有機溶剤を含有したアルカリ水溶液またはアル
カリ水溶液などで未露光部を溶出し、基板上に光硬化し
た画像を得る。

画像形成後、必要ならば、所望の処理をすることがで
きる。例えば、プリント配線板を作成する場合には、塩
化銅水溶液、塩化第二鉄水溶液などの公知のエツチング
液を用いて露出した金属をエツチングしたり、ピロリン
酸銅、硫酸銅などの公知のメツキ液を用いて露出した金
属上にメツキをすることが出来る。

又、本発明の光重合性組成物を既述の溶媒に溶解した
液を、スピナー、ホイラー等を用いて基板上に直接塗
布、乾燥を行い、フオトレジストを作成することもでき
る。

本発明の光重合性樹脂組成物は、特にプリント配線板
の作成に好適に用いられるが、さらに、平板または凸版
印刷板の作成、レリーフ型の作成、光学的複製、写真等
の広範囲の目的に使用することが出来る。

以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する
が、本発明はこの実施例によつて限定されるものではな
い。「部」は特に断りのない限り「重量部」を意味す
る。

実施例１〜４ 下記に示した素材を混合させて均一な溶液を調製した
（以下、これを母液と称する）。

メタクリル酸メチル／メタクリル酸/2−エチルヘキシル
メタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体（モ
ル比＝55/28.8/11.7/4.5:重量平均分子量90000）の35重
量％溶液（溶媒はメチルエチルケトン/1＝メトキシ−２
−プロパノール＝2/1（重量比）） 42.9部 ポリプロピレングリコールジアクリレート（平均分子量
822） 6.5部 テトラエチレングリコールジメタクリレート 1.5部 ｐ−トルエンスルホンアミド 0.5部 ２−（ｏ−クロロフエニル）−4,5−ジフエニルイミダ
ゾール二量体の25重量％溶液（保土ケ谷化学（株）製
Ｂ−CIM、溶媒はトルエン／メタノール＝2/1（重量比）
溶媒） 2.0部 4,4−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノン 0.04部 ベンゾフエノン 1.0部 トリブロモメチルフエニルスルホン 0.05部 ロイコクリスタルバイオレツト 0.02部 マラカイトグリーンシユウ酸塩（１％メタノール溶液）
1.625部 上記の母液に、本発明の化合物（Ｉ）又は（II）に相
当するヘテロ環化合物（表１の１〜６）をそれぞれ表２
の実施例１〜４に示した量添加した。

更に攪拌、溶解したのち、各々の塗布液を25μｍのポ
リエチレンテレフタレート板支持体に塗布し、100℃で
２分間乾燥して約40μｍ厚の塗布膜を有する感材を得
た。この感材を清浄化した銅張積層板（基板）上に120
℃でラミネートし、ライン巾／スペース巾＝1/3、ライ
ン巾30、40、50、60及び70μｍのネガ原稿を介して5Kw
超高圧水銀灯（オーク（株）製HMW−6N）を用いて、10
秒間全面露光した。露光15分後、１％炭酸ナトリウム水
溶液（30℃）で40秒間スプレー現像（スプレー圧2kg/cm
²）した。

得られたレジストパターンを光学顕微鏡で観察し、基
板に密着している最も細いラインの線巾を記録した。

赤変の評価は以下のようにして行つた。整面した基板
に上述の方法で塗膜をラミネートしたのち、30℃80％RH
の恒温恒湿器に入れ、５日後に上記の条件で現像した。
露出した銅表面の赤味を目視で比較した。なお、赤変は
経時に伴い増大する傾向にある。

メツキは、ライン巾／スペース巾＝1/1、ライン巾＝1
00μｍの原稿を焼付けて現像したパターンを用いた。こ
れを脱脂（PC−455メルテツクス社製;25％、40℃、３
分）したのち過硫酸アンモニウム水溶液（12％、30℃、
40秒）で処理、10％硫酸洗浄し硫酸銅メツキを行つた。
２％苛性ソーダ水溶液（50℃）でレジストを剥離したの
ち、得られた銅メツキパターンにマイラーテープをはり
つけて急速にひきはがし、剥離テストを行つた。

表１に用いたヘテロ環化合物の構造を、表２に評価結
果を示した。

比較例１〜12 実施例で示した母液に添加するヘテロ環化合物の種類
又は／及び量を、表２の比較例１〜12に示した様に換え
た以外は実施例と同様にして感材を作成し、同様の評価
をおこなつた。結果を表２に示した。

表２に示すように、本発明（Ｉ）の化合物単独の使用
では密着の向上には大きな効果があるものの赤変の防止
が不十分である。（比較例２〜５） 本発明（II）の化合物及びその類似体であるNo.7、８
の化合物は単独使用では赤変を抑制する効果はあるもの
の、密着、メツキ剥れが不良。（比較例６〜10）。

本発明（Ｉ）と（II）の組合せによりはじめて密着、
赤変防止、メツキ剥れを全て満足させることができ（実
施例１〜４）、他の組合せでは（比較例11、12）達成す
ることはできなかつた。

（発明の効果） 本発明の化合物（Ｉ）（II）の組合せを含む光重合性
組成物を用いることにより密着にすぐれ、かつ赤変やメ
ツキ剥れのないフオトレジストを得ることができた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−702（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−12543（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−12544（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−223836（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも（１）〜（４）を含有すること
   を特徴とする光重合性組成物。 （１）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有し、重
   合体を形成しうる非ガス状エチレン性不飽和化合物 （２）熱可塑性有機高分子結合剤 （３）活性光線によつて活性化しうる光重合開始剤系 （４）光重合性組成物の固形分に対し0.001〜0.1重量％
   の一般式（Ｉ）で表されるヘテロ環化合物及び光重合性
   組成物の固形分に対し0.01〜0.5重量％の一般式（II）
   で表されるヘテロ環化合物 一般式（Ｉ） R₁は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
   基、置換アリール基、アラルキル基、アミノ基、または
   置換アミノ基を表わし、 R₂、R₃は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
   リール基、またはアラルキル基を表わし、 R₄、R₅は、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
   リール基、またはアラルキル基を表わし、Ｎ原子ととも
   にピロリジン、ピペリジン、モルホリンまたはＮ−置換
   ピペラジン核を形成してもよい。Ｘは酸素原子、硫黄原
   子 〔R₆は水素原子、アルキル基またはアリール基を表わ
   す。〕を表わし、Ｙは酸素原子または硫黄原子を表わ
   す。 一般式（II） R₇〜R₁₁：水素原子、アルキル基、またはアリール基を
   表わす。