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JPH08203121A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

Info

Publication number
JPH08203121A
JPH08203121A JP7012192A JP1219295A JPH08203121A JP H08203121 A JPH08203121 A JP H08203121A JP 7012192 A JP7012192 A JP 7012192A JP 1219295 A JP1219295 A JP 1219295A JP H08203121 A JPH08203121 A JP H08203121A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
optical recording
transparent protective
recording medium
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7012192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Kubota
毅 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP7012192A priority Critical patent/JPH08203121A/en
Priority to US08/529,471 priority patent/US5698284A/en
Priority to DE69524171T priority patent/DE69524171T2/en
Priority to EP19950306645 priority patent/EP0703545B1/en
Publication of JPH08203121A publication Critical patent/JPH08203121A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain an optical recording medium which has excellent scratching resistance and hardly causes warpage or cracks by bending. CONSTITUTION: A multilayered hardened layer 9 is formed on a transparent protective layer 1 by using a radiation-curing resin in such a manner that the shrinking rate due to hardening increases from the innermost layer (first layer 6) to the outermost layer (third layer 8) and that the thickness of each layer in the hardened layer 9 is decreased from the innermost layer (first layer 6) to the outermost layer (third layer 8). Thus, the obtd. medium has little warpage as a whole and has excellent pencil scratching hardness and Taber's wear resistance is obtd. by the synergistic effect of layers.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光カード、フレキシブ
ルディスク等に使用される光記録媒体に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium used for optical cards, flexible disks and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、低融点金属や有機染料の薄膜を記
録層として基材上に設け、レーザー光等を照射してこの
薄膜の一部に変化を生じさせて記録を行い、記録された
データを光学的に再生する光記録媒体が知られている。
この光記録媒体の記録方式には、読出し専用(ROM)
型、追記(DRAW)型、消去書込み(E−DRAW)
型があり、それぞれについて記録媒体及び構成が検討さ
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a thin film of a low melting point metal or an organic dye is provided as a recording layer on a substrate, and recording is performed by irradiating a laser beam or the like to cause a change in a part of the thin film and recording. Optical recording media that optically reproduce data are known.
The recording method of this optical recording medium is read-only (ROM)
Type, write-once (DRAW) type, erase write (E-DRAW)
There are types, and recording media and configurations are being examined for each.

【0003】このような光記録媒体をカード形態とした
所謂光カードは基本的に図1に示す如き層構成をしてい
る。図中1は支持体としての透明保護層であり、記録再
生に使用する光源の波長域で透過率が高く、且つ後工程
において変形、劣化等を生じることなく、また機械的強
度、光学的特性を満たすものであれば特に限定されるも
のではなく、一般にはポリカーボネート樹脂、アクリル
樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、ポリオレフィン樹脂、スチレンポリカーボネートブ
レンド樹脂等が用いられている。2は透明保護層1の下
面に2P法で設けられるパターン層であり、トラックと
なる凹凸溝を備えて構成される。なお、2P法によらず
にインジェクション法、キャスティング法でパターンを
形成する場合には透明保護層1とパターン層との境界は
なくなる。3はパターン層2の凹凸溝を覆うように設け
られる光記録層であり、例えばDRAW型ではテルル、
ビスマス、アルミニウム等の低融点金属及びその合金か
らなる無機系材料或いはアントラキノン系、ナフトキノ
ン系、トリフェニルメタン系、カルボシアニン系、メロ
シアニン系、キサンテン系、アゾ系、アジン系、チアジ
ン系、オキサジン系、フタロシアニン系等の有機色素を
含む有機染料で一般に形成される。またROM型であれ
ばアルミニウム等の高反射性金属により予め情報を記録
した形で形成されている。4はカード基材であり、接着
層5を介して前記構成の光記録媒体を支持するものであ
る。このように光カードは、表側の透明保護層1と裏側
のカード基材4により光記録層3を中に挟持した構造に
なっている。また、カードの携帯時や使用時において表
面に傷がつくことを防止し、カードの耐久性と書込み及
び読取り精度における信頼性の向上を図るようにするた
め、必要に応じて透明保護層1の表側に表面硬化層が設
けられる。そして、この表面硬化層は通常の場合、放射
線硬化型樹脂を用いて形成されることが多い。
A so-called optical card having such an optical recording medium as a card basically has a layer structure as shown in FIG. In the figure, 1 is a transparent protective layer as a support, which has a high transmittance in the wavelength range of the light source used for recording and reproduction, and does not cause deformation or deterioration in the subsequent steps, and has a mechanical strength and an optical characteristic. There is no particular limitation as long as it satisfies the requirements, and generally, a polycarbonate resin, an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a polyvinyl chloride resin, a polyolefin resin, a styrene polycarbonate blend resin or the like is used. Reference numeral 2 is a pattern layer provided on the lower surface of the transparent protective layer 1 by the 2P method, and is provided with concave and convex grooves to be tracks. When the pattern is formed by the injection method or the casting method instead of the 2P method, the boundary between the transparent protective layer 1 and the pattern layer disappears. Reference numeral 3 is an optical recording layer provided so as to cover the concave and convex grooves of the pattern layer 2. For example, in the DRAW type, tellurium,
Inorganic materials made of low melting point metals such as bismuth and aluminum and alloys thereof, or anthraquinone series, naphthoquinone series, triphenylmethane series, carbocyanine series, merocyanine series, xanthene series, azo series, azine series, thiazine series, oxazine series, It is generally formed of an organic dye including an organic dye such as a phthalocyanine type. In the case of the ROM type, it is formed in a form in which information is recorded in advance by a highly reflective metal such as aluminum. Reference numeral 4 denotes a card base material, which supports the optical recording medium having the above-mentioned structure via the adhesive layer 5. Thus, the optical card has a structure in which the optical recording layer 3 is sandwiched between the transparent protective layer 1 on the front side and the card base material 4 on the back side. In addition, in order to prevent the surface from being scratched when carrying or using the card, and to improve the durability of the card and the reliability of writing and reading accuracy, the transparent protective layer 1 may be used as necessary. The surface hardened layer is provided on the front side. The surface-cured layer is usually formed of a radiation-curable resin in most cases.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の技術
で述べた如き光カードでは、光記録層の支持体である透
明保護層にポリカーボネート樹脂を用いることが望まれ
る。すなわち、ポリカーボネート樹脂は低価格であり、
吸水性がない上に、反りや割れを生じず曲げ適正に優れ
る等の利点を有しているからである。しかしながら、ポ
リカーボネート樹脂は擦り傷に対する硬度(鉛筆硬度)
が低いため、これを透明保護層に使用した場合には耐擦
傷性を上げるため表面に硬化層を設ける必要がある。こ
の場合、硬化収縮率の大きな通常の放射線硬化型樹脂を
用いて透明保護層上に表面硬化層を形成すると、放射線
による硬化時に収縮して反りが生じたり、さらには曲げ
による割れが発生する恐れのあることから、15μm以
上の厚みで形成することができない。このように表面硬
化層の厚みがせいぜい15μm程度では、鉛筆硬度試験
を行った時に下地の透明保護層の影響を受けてしまい、
F〜HB程度の硬度しか得られず、耐擦傷性が十分とな
る硬度H以上の表面硬化層が得られないという問題点が
ある。
By the way, in the optical card as described in the prior art, it is desired to use a polycarbonate resin for the transparent protective layer which is the support of the optical recording layer. That is, the polycarbonate resin has a low price,
This is because it has advantages such as no water absorption and excellent bending suitability without warping or cracking. However, polycarbonate resin has a hardness against scratches (pencil hardness)
Therefore, when this is used for the transparent protective layer, it is necessary to provide a cured layer on the surface in order to improve scratch resistance. In this case, if a surface-cured layer is formed on the transparent protective layer using a normal radiation-curable resin that has a high curing shrinkage, it may shrink and warp when cured by radiation, or even cracks due to bending may occur. Therefore, it cannot be formed with a thickness of 15 μm or more. As described above, when the thickness of the surface-hardened layer is at most about 15 μm, it is affected by the underlying transparent protective layer when a pencil hardness test is performed,
There is a problem that only a hardness of F to HB can be obtained, and a surface hardened layer having a hardness of H or more, which is sufficient for scratch resistance, cannot be obtained.

【0005】また、透明保護層にアクリル樹脂を使用す
ることも多いが、一般にアクリル樹脂はポリカーボネー
ト樹脂より鉛筆硬度は優れるものの、さらに耐擦傷性を
上げるために硬化収縮率の大きな放射線硬化型樹脂を用
いて表面に表面硬化層を形成しようとすると、前記した
のと同じ理由でやはり15μm以上の厚みで形成するこ
とができない。
Although an acrylic resin is often used for the transparent protective layer, in general, an acrylic resin is superior in pencil hardness to a polycarbonate resin, but in order to further improve scratch resistance, a radiation curable resin having a large curing shrinkage is used. If an attempt is made to form a surface-hardened layer on the surface using the same, it is still impossible to form a surface-hardened layer with a thickness of 15 μm or more for the same reason as described above.

【0006】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、耐擦傷性
に優れるとともに、反りが生じたり曲げによる割れを発
生したりすることのない光記録媒体を提供することにあ
る。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide excellent abrasion resistance, warpage and cracking due to bending. It is to provide a non-optical recording medium.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る光記録媒体は、少なくとも透明保護層
と光記録層を積層した光記録媒体において、前記透明保
護層上に、最内層から最外層に向けて順に硬化収縮率が
大きくなる放射線硬化型樹脂を用いて形成した多層の硬
化層を設けるとともに、該硬化層を形成する各層の厚み
を最内層から最外層に向けて順に薄くしたことを特徴と
する。
To achieve the above object, an optical recording medium according to the present invention is an optical recording medium in which at least a transparent protective layer and an optical recording layer are laminated, and the innermost layer is formed on the transparent protective layer. From the outermost layer to the outermost layer in order to increase the curing shrinkage is provided with a multilayer curing layer formed by using a radiation curable resin, the thickness of each layer forming the cured layer from the innermost layer to the outermost layer sequentially thin It is characterized by having done.

【0008】そして、前記硬化層の最外層にレベリング
剤を添加したり、最外層を除く層に内部硬化型のレベリ
ング剤を添加するのが好ましく、また硬化層の各層に帯
電防止剤を添加するのが好ましい。
Then, it is preferable to add a leveling agent to the outermost layer of the cured layer, or to add an internally curable leveling agent to the layers other than the outermost layer, and to add an antistatic agent to each layer of the cured layer. Is preferred.

【0009】[0009]

【作用】硬化収縮率が低い放射線硬化型樹脂は厚くコー
ティングしても透明保護層の反りを小さく抑えることが
できるため、鉛筆硬度試験を行った時に下地の透明保護
層の影響を受けないようにするのに必要な厚みでのコー
ティングが可能となり、このような厚みでコーティング
することによりH〜2Hの鉛筆硬度を得ることができ
る。しかし、硬化収縮率が低い放射線硬化型樹脂はフレ
キシビリティはあるが樹脂自体は柔らかいため、厚くコ
ーティングすることで鉛筆硬度は向上するものの、テー
バー磨耗(ASTM D1044に定めるテーバー磨耗
試験)、落砂磨耗(JIS T8147に定める落砂磨
耗試験)などの擦り傷テストに対しては弱い面がある。
逆に、硬化収縮率の大きい放射線硬化型樹脂は収縮時の
反りは大きいがテーバー磨耗等に優れている。したがっ
て、最内層から最外層に向けて順に硬化収縮率の大きい
放射線硬化型樹脂を積層し、しかも各層の厚みを最内層
から最外層に向けて順に薄くした多層の硬化層を設ける
ことにより、反りが押さえられるとともに、各層の相乗
効果によって鉛筆硬度、テーバー磨耗等に優れた光記録
媒体が得られる。
[Function] A radiation-curable resin having a low curing shrinkage ratio can suppress the warp of the transparent protective layer to a small extent even if it is thickly coated, so that it is not affected by the underlying transparent protective layer when performing a pencil hardness test. Coating with a thickness necessary to achieve this is possible, and a pencil hardness of H to 2H can be obtained by coating with such a thickness. However, the radiation curable resin, which has a low curing shrinkage rate, is flexible but the resin itself is soft, so a thick coating improves the pencil hardness, but Taber abrasion (Taber abrasion test stipulated in ASTM D1044) and falling sand abrasion. There is a weak side to the abrasion test such as (Sandfall abrasion test defined in JIS T8147).
On the contrary, the radiation curable resin having a large curing shrinkage has a large warp at the time of shrinkage, but is excellent in Taber abrasion. Therefore, by stacking radiation curable resins having a large curing shrinkage in order from the innermost layer to the outermost layer, and further providing a multilayer cured layer in which the thickness of each layer is successively decreased from the innermost layer to the outermost layer, warpage The optical recording medium is excellent in pencil hardness, Taber abrasion, etc. due to the synergistic effect of each layer.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0011】図2は本発明に係る光記録媒体の一形態で
ある光カードの一実施例を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of an optical card which is one form of the optical recording medium according to the present invention.

【0012】同図に示されるようにこの光カードは、透
明保護層1の下面にパターン層2とこのパターン層2の
凹凸溝を覆うようにして光記録層3が設けられ、光記録
層3を中に挟持するようにしてカード基材4が接着層5
を介して積層され、さらに透明保護層1上に第一層6、
第二層7及び第三層8からなる3層の硬化層9が積層さ
れた構成になっている。
As shown in the figure, in this optical card, an optical recording layer 3 is provided on the lower surface of the transparent protective layer 1 so as to cover the pattern layer 2 and the concave and convex grooves of the pattern layer 2, and the optical recording layer 3 is provided. The card substrate 4 has an adhesive layer 5 so that the
And the first layer 6 on the transparent protective layer 1,
It has a configuration in which three hardened layers 9 including the second layer 7 and the third layer 8 are laminated.

【0013】透明保護層1に用いる樹脂は光学特性に富
んでいるものがよく、具体的には、光線透過率90%以
上(780nm,830nm)、複屈折100nm以下
(シングルパス)又は光学弾性軸±5%以下のものを使
用するのがよい。厚みは、硬化層9と合わせて380±
20μm程度が好ましい。一般に使用されている樹脂の
中でもポリカーボネート樹脂(PC)が特に好ましく、
上記光学特性をもつアクリル樹脂を用いてもよい。例え
ば2P法によりその片面にパターン層2を形成する場合
には、ポリカーボネート樹脂を押出し成形した「帝人
製、パンライトフィルム」、「GE製、レキサンフィル
ム」等を使用することができる。
The resin used for the transparent protective layer 1 is preferably rich in optical characteristics. Specifically, the light transmittance is 90% or more (780 nm, 830 nm), the birefringence is 100 nm or less (single pass), or the optical elastic axis. It is better to use the one with ± 5% or less. The thickness is 380 ± including the hardened layer 9.
About 20 μm is preferable. Of the commonly used resins, polycarbonate resin (PC) is particularly preferable,
An acrylic resin having the above optical characteristics may be used. For example, when the pattern layer 2 is formed on one surface by the 2P method, "Teijin-made Panlite film", "GE-made, Lexan film" or the like obtained by extruding a polycarbonate resin can be used.

【0014】硬化層9のうちの第一層6は、官能性モノ
マー及び/又は官能性オリゴマーを含む硬化収縮率の低
い放射線硬化型樹脂を用いて透明保護層1上に厚さ20
μm以上に形成する。例えば200×200mm、厚さ
0.4mmのPCシート上に硬化収縮率12.3%の放
射線硬化型樹脂を20μmの厚さで形成して机上に置い
た場合、PCシートの反りが4.5mmとなるが、枚葉
による工程をとる場合、このように反りが4mm以上あ
ると後工程に支障を生じるので好ましくない。また、カ
ード形態になった時、カードの反りはPCシートの反り
を受け継いで2.2mmとなりカードとしてスペックア
ウトとなり、さらには光学的特性が劣ることになる。同
様に、硬化収縮率11.9%の放射線硬化型樹脂を20
μmの厚さで形成して机上に置いた場合、PCシートの
反りが4.0mmとなり、カードとした時の反りは1.
8mmとなってスペック内となる。したがって、本実施
例では硬化収縮率12%以下の放射線硬化型樹脂を使用
する。
The first layer 6 of the hardened layer 9 is formed on the transparent protective layer 1 with a thickness of 20 by using a radiation curable resin containing a functional monomer and / or a functional oligomer and having a low cure shrinkage.
It is formed to a thickness of μm or more. For example, when a radiation curable resin having a curing shrinkage ratio of 12.3% is formed in a thickness of 20 μm on a PC sheet of 200 × 200 mm and a thickness of 0.4 mm and placed on a desk, the warp of the PC sheet is 4.5 mm. However, in the case where a single-wafer process is performed, a warp of 4 mm or more as described above is not preferable because it interferes with a subsequent process. Further, when the card is formed into a card form, the warp of the card inherits the warp of the PC sheet and becomes 2.2 mm, which is out of the specification as a card, and further the optical characteristics are deteriorated. Similarly, a radiation curable resin having a cure shrinkage of 11.9% is used as
When formed with a thickness of μm and placed on a desk, the warp of the PC sheet becomes 4.0 mm, and the warp when formed into a card is 1.
It is within 8 mm and is within specifications. Therefore, in this embodiment, a radiation curable resin having a curing shrinkage rate of 12% or less is used.

【0015】官能性モノマーとしては、単官能アクリレ
ート(2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリ
レート等)、2官能アクリレート(1,3−ブタンジオ
ールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート等)、3官能アクリレート(ペン
タエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート等)、4官能アクリレート(ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート等)、5官能ア
クリレート(ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト等)、6官能アクリレート(ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート等)、5官能以上アクリレート(ジ
ペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート
等)の多官能アクリレートのもの等が使用できる。
As the functional monomer, monofunctional acrylates (2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, etc.), bifunctional acrylates (1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butane) are used. Diol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, etc., trifunctional acrylate (pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, etc.), tetrafunctional acrylate (pentaerythritol tetraacrylate) Etc.) 5-functional acrylates (dipentaerythritol pentaacrylate, etc.), 6-functional acrylates (dipentaerythritol hexaacryl) Etc.), 5 as such multifunctional acrylates or more functional acrylate (dipentaerythritol penta and hexaacrylate, etc.) can be used.

【0016】官能性オリゴマーとしては、エポキシアク
リレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリ
レート、ポリエーテルアクリレート、シリコーンアクリ
レート、不飽和ポリエステル、ポリエン/チオール等が
使用できる。
As the functional oligomer, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, silicone acrylate, unsaturated polyester, polyene / thiol and the like can be used.

【0017】透明保護層1にポリカーボネート樹脂を用
いる場合、上記官能性モノマー及び/又は官能性オリゴ
マーに、接着性付与剤及び反応希釈剤としてのN−ビニ
ルピロリドン、開始剤(ベンゾイン系、アセトフェノン
系、チオキサンソン系、パーオキシド系等)であるイル
ガキュア651,184等を組み合わせ、硬化収縮率が
12%以下になるように放射線硬化型の樹脂を作製す
る。場合によっては、光開始助剤(アミン系、キノン系
等)、熱重合禁止剤、充填剤(無機、有機)、チクソ付
与剤、可塑剤、非反応ポリマー、着色剤等を加えてもよ
い。一般に、多官能アクリレートを用いると、硬度が上
がって硬化収縮率が大きくなる傾向にある。下地の影響
を受けないように第一層6の厚さを20μm以上にする
には、反りを小さくして硬度を保つために硬化収縮率1
2%までが許容範囲となる。厚みは25〜30μm程度
が最も適当である。
When a polycarbonate resin is used for the transparent protective layer 1, N-vinylpyrrolidone as an adhesiveness-imparting agent and a reaction diluent, an initiator (benzoin-based, acetophenone-based, A radiation curable resin is produced by combining Irgacure 651, 184 (which is a thioxanthone type, a peroxide type, etc.) and the like so that the curing shrinkage rate is 12% or less. Depending on the case, a photoinitiator aid (amine-based, quinone-based, etc.), a thermal polymerization inhibitor, a filler (inorganic or organic), a thixotropic agent, a plasticizer, a non-reactive polymer, a colorant and the like may be added. Generally, when a polyfunctional acrylate is used, the hardness tends to increase and the curing shrinkage rate tends to increase. In order to reduce the thickness of the first layer 6 to 20 μm or more so as not to be influenced by the base, the curing shrinkage ratio is 1 in order to reduce the warp and maintain the hardness.
The allowable range is up to 2%. The most suitable thickness is about 25 to 30 μm.

【0018】第二層7は、硬度及び硬化収縮率が前記の
第一層6と後述する第三層8との中間にある放射線硬化
型樹脂を用いて形成する。具体的には硬化収縮率が12
〜15%程度となるように官能性モノマー、官能性オリ
ゴマーを選択すればよい。厚みとしては10〜20μm
が最も適当である。
The second layer 7 is formed by using a radiation curable resin whose hardness and cure shrinkage are between those of the first layer 6 and the third layer 8 described later. Specifically, the cure shrinkage is 12
The functional monomer and the functional oligomer may be selected so as to be about 15%. 10 to 20 μm as thickness
Is the most suitable.

【0019】第三層8は、表面層として硬度を出す必要
があるため、3官能〜5官能の官能性モノマーを主剤と
し、これに官能性オリゴマーを若干加えたものを含む硬
化収縮率の比較的高い放射線硬化型樹脂を使用して第二
層7上に形成する。さらにレベリング剤としてシリコー
ン等を固形分100重量部に対し0.01〜10重量部
混合するのが好ましい。レベリング剤を添加することに
より、面欠陥が少なくなり、また滑り性が増すため見か
けの硬度が上がる。しかし、10重量部を越えて混合す
ると第二層7への密着性が悪くなり、0.01重量部に
満たないと効果がない。また必要に応じて、光開始助剤
(アミン系、キノン系等)、熱重合禁止剤、充填剤(無
機、有機)、チクソ付与剤、可塑剤、非反応ポリマー、
着色剤等を加えてもよい。なお、曲げ適正を向上させる
ためには官能性オリゴマーの割合を増やせばよく、場合
によっては第二層7の樹脂を0〜30%程度混合しても
よい。そして、使用する放射線硬化型樹脂の硬化収縮率
は15%以上に設定すればよい。この第三層8を15μ
mより大きな厚みで形成すると、光カードとしての反り
が大きくなり、またベンディングテストでクラックが生
じるなど曲げ適正に劣ることになる。逆に厚みが2μm
より小さくなると硬度が不足する。したがって、2〜1
5μmがよいが、曲げと硬度の両方を満足するためには
2〜5μmが最も適当である。
Since the third layer 8 needs to have hardness as a surface layer, a comparison of curing shrinkage including a main component of a trifunctional to pentafunctional functional monomer and a small amount of a functional oligomer added thereto. It is formed on the second layer 7 by using a highly radiation-curable resin. Further, it is preferable to mix 0.01 to 10 parts by weight of silicone or the like as a leveling agent with respect to 100 parts by weight of solid content. By adding the leveling agent, surface defects are reduced and the slipperiness is increased, so that the apparent hardness is increased. However, if the amount is more than 10 parts by weight, the adhesion to the second layer 7 is deteriorated, and if the amount is less than 0.01 parts by weight, there is no effect. Also, if necessary, a photoinitiator aid (amine-based, quinone-based, etc.), thermal polymerization inhibitor, filler (inorganic, organic), thixotropic agent, plasticizer, non-reactive polymer,
A colorant or the like may be added. In addition, in order to improve the bendability, the proportion of the functional oligomer may be increased, and in some cases, the resin of the second layer 7 may be mixed at about 0 to 30%. The cure shrinkage of the radiation curable resin used may be set to 15% or more. This third layer 8 is 15μ
If it is formed with a thickness larger than m, the warp as an optical card becomes large, and cracking occurs in the bending test, resulting in poor bendability. Conversely, the thickness is 2 μm
If it becomes smaller, the hardness becomes insufficient. Therefore, 2-1
5 μm is preferable, but 2 to 5 μm is most suitable for satisfying both bending and hardness.

【0020】硬化層9を構成する第一層6、第二層7及
び第三層8には帯電を防止するためにそれぞれ帯電防止
剤を添加してもよい。そして、第一層6、第二層7及び
第三層8ともに、グラビアコーティング法、ロールコー
ト法、コンマコーティング法、スピンコーティング法、
ナイフコーティング法、シルクスクリーン法、T−ダイ
コーティング法、スライドコーティング法、スリットリ
バース法等により塗布する。この場合、溶剤で適度に希
釈してコーティングするようにしてもよい。なお、第一
層6及び第二層7は重ね刷りして多層状態に形成しても
よい。
An antistatic agent may be added to each of the first layer 6, the second layer 7 and the third layer 8 constituting the hardened layer 9 in order to prevent charging. Then, for each of the first layer 6, the second layer 7, and the third layer 8, a gravure coating method, a roll coating method, a comma coating method, a spin coating method,
It is applied by a knife coating method, a silk screen method, a T-die coating method, a slide coating method, a slit reverse method or the like. In this case, the coating may be performed by appropriately diluting with a solvent. The first layer 6 and the second layer 7 may be overprinted to form a multi-layered state.

【0021】また、第一層6及び第二層7は、面を綺麗
に出すためレベリング剤を添加するのが好ましい。ただ
し、レベリング剤が表面にブリードしてくると後密着性
が悪くなるため、内部硬化型のレベリング剤を用いるこ
とが好ましい。
Further, it is preferable to add a leveling agent to the first layer 6 and the second layer 7 in order to make the surfaces clean. However, if the leveling agent bleeds to the surface, the post-adhesion property deteriorates, so it is preferable to use an internally curable leveling agent.

【0022】なお、本実施例では硬化層9が3層の場合
を示したが、2層、4層、5層等でもよい。この場合
も、各層を構成する放射線硬化型樹脂の硬化収縮率を最
内層から最外層に向けて順に大きくすると、カードの反
りを押さえながらカード表面の硬度を大きくすることが
できる。そして、各層の厚みを最内層から最外層に向け
て順に薄くした方が曲げに対して強くなる。また、カー
ドの反りの状態は各層の硬化収縮率と厚みによって変化
するため、反りを最小限に押さえるようにこの2つをパ
ラメーターとして最終の層構成を決定すればよい。
In this embodiment, the case where the hardened layer 9 is three layers is shown, but it may be two layers, four layers, five layers or the like. Also in this case, the hardness of the surface of the card can be increased while suppressing the warp of the card by increasing the curing shrinkage rate of the radiation-curable resin forming each layer in order from the innermost layer to the outermost layer. Then, it becomes stronger against bending if the thickness of each layer is sequentially reduced from the innermost layer to the outermost layer. Further, since the warp state of the card changes depending on the curing shrinkage ratio and the thickness of each layer, the final layer constitution may be determined using these two as parameters so as to minimize the warp.

【0023】透明保護層1の下面に形成するパターン層
2は、一般に既知の2P法、インジェクション法、キャ
スティング法等を用いてパターン層として形成される。
この時、2P法でパターン層2を形成する場合はUVで
硬化する樹脂を用い、インジェクション法、キャスティ
ング法では透明保護層1と同一のものを使用する。
The pattern layer 2 formed on the lower surface of the transparent protective layer 1 is formed as a pattern layer by the generally known 2P method, injection method, casting method or the like.
At this time, when the pattern layer 2 is formed by the 2P method, a UV-curable resin is used, and by the injection method or the casting method, the same transparent protective layer 1 is used.

【0024】光記録層3としては、一般に用いられてい
る金属系光記録材料のテルル系、ビスマス系等の他に、
染料系光記録材料のフタロシアニン系、ナフトキノン系
等を使用できる。また、追記型だけでなくROM型でも
よい。
As the optical recording layer 3, in addition to the commonly used metallic optical recording materials such as tellurium and bismuth,
Phthalocyanine-based and naphthoquinone-based dye recording materials can be used. Further, not only the write-once type but also the ROM type may be used.

【0025】カード基材4としては、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレンテレフタレート、AS、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン等を用いることができる。ポリ塩化
ビニルを使用する場合、構成としては、0.05/0.
20/0.05mm、0.05/0.24/0.05m
m、0.05/0.26/0.05mm、0.05/
0.30/0.05mm等の3層、0.20/0.10
mm、0.24/0.10mm、0.26/0.10m
m、0.30/0.10mm等の2層、0.30mm、
0.34mm、0.36mm、0.40mmの1層な
ど、いずれの層構成も可能である。なお、0.10m
m、0.05mmのものは透明ポリ塩化ビニルであり、
0.20mm以上のものは乳白ポリ塩化ビニルである。
そして、印刷の耐磨耗性を上げるため、乳白ポリ塩化ビ
ニルに印刷を施し、透明ポリ塩化ビニルで熱融着する2
層又は3層の方が好ましい。
As the card base material 4, polyvinyl chloride,
Polyethylene terephthalate, AS, polycarbonate, polypropylene and the like can be used. When polyvinyl chloride is used, the composition is 0.05 / 0.
20 / 0.05mm, 0.05 / 0.24 / 0.05m
m, 0.05 / 0.26 / 0.05 mm, 0.05 /
3 layers of 0.30 / 0.05mm, 0.20 / 0.10
mm, 0.24 / 0.10 mm, 0.26 / 0.10 m
m, two layers of 0.30 / 0.10 mm, 0.30 mm,
Any layer structure is possible, such as one layer of 0.34 mm, 0.36 mm, and 0.40 mm. In addition, 0.10m
m and 0.05 mm are transparent polyvinyl chloride,
Those with 0.20 mm or more are opalescent polyvinyl chloride.
Then, in order to increase the abrasion resistance of printing, printing is performed on opal white polyvinyl chloride, and heat fusion is performed with transparent polyvinyl chloride. 2
Layers or three layers are preferred.

【0026】接着層5に用いる接着剤としては、ウレタ
ン系、エポキシ系、アクリル系、ビニル系、アミド系な
ど従来既知のものが使用できるが、接着剤は光記録層3
に直接接触するため、記録感度がよく、温湿度適性に優
れているものが好ましい。膜厚は10〜100μm程度
が望ましく、グラビアコーティング法、スピンコーティ
ング法、ナイフコーティング法、シルクスクリーン法、
ミヤバーコーティング法、T−ダイコーティング法等に
より塗布し、平プレス法、ロールプレス法等により熱プ
レスして接着する。
As the adhesive used for the adhesive layer 5, conventionally known adhesives such as urethane type, epoxy type, acrylic type, vinyl type and amide type can be used. The adhesive is the optical recording layer 3
Since it is in direct contact with, it is preferable to have good recording sensitivity and excellent temperature and humidity suitability. A film thickness of about 10 to 100 μm is desirable, and a gravure coating method, a spin coating method, a knife coating method, a silk screen method,
It is applied by the Miyabar coating method, the T-die coating method or the like, and is heat pressed and adhered by the flat pressing method, the roll pressing method or the like.

【0027】なお、光記録層3の記録感度が低い場合、
光記録層3と接着層5との間に増感層を形成するが、記
録感度が十分である場合にはその必要はない。また、接
着層5は光記録層3と接するが、接着剤によって光記録
層3の感度が劣化する場合にはこれを避けるために透明
保護層を設ける。そして増感層を設けた場合にはこの透
明保護層は接着層5との間に形成されるものではある
が、上記増感層と兼ねることも可能である。けれども、
光記録層3の劣化がない材料を選んだ場合にはこの透明
保護層は設ける必要がない。
When the recording sensitivity of the optical recording layer 3 is low,
A sensitizing layer is formed between the optical recording layer 3 and the adhesive layer 5, but it is not necessary if the recording sensitivity is sufficient. Further, the adhesive layer 5 is in contact with the optical recording layer 3, but if the sensitivity of the optical recording layer 3 deteriorates due to the adhesive, a transparent protective layer is provided to avoid this. When the sensitizing layer is provided, the transparent protective layer is formed between the transparent protective layer and the adhesive layer 5, but it can also serve as the sensitizing layer. However,
When a material that does not deteriorate the optical recording layer 3 is selected, it is not necessary to provide this transparent protective layer.

【0028】また、カード使用上の多様化を図る場合に
は、光記録媒体と同一面又は反対面若しくはカード基材
4の両面に磁気ストライプを設けたり、光記録媒体と同
一面又は反対面にICモジュールを設けるようにすると
よい。
In order to diversify the use of the card, a magnetic stripe may be provided on the same surface or the opposite surface of the optical recording medium or both surfaces of the card substrate 4, or on the same surface or the opposite surface of the optical recording medium. It is advisable to provide an IC module.

【0029】次に、比較例とともに具体例を挙げて説明
する。
Next, a specific example will be described together with a comparative example.

【0030】(具体例1)厚さ0.4mmで200×2
00mmサイズの押出し成形ポリカーボネートを透明保
護層1として用い、その片面に下記組成よりなる放射線
硬化型樹脂を厚さ20μmになるようにミヤバーで塗工
した後、これにUVランプ(フュージョン製、マイクロ
ウェーブ方式)を照射して硬化させ第一層6を形成し
た。なお、この放射線硬化型樹脂のUV硬化時における
収縮率は9.6%で、透明保護層1に第一層6を形成し
た時点での反りは2.5mmであった。
(Specific Example 1) 200 × 2 with a thickness of 0.4 mm
Extrusion-molded polycarbonate having a size of 00 mm was used as the transparent protective layer 1, and a radiation curable resin having the following composition was applied on one side of the transparent protective layer 1 with a miya bar to a thickness of 20 μm. Method) to cure and form the first layer 6. The shrinkage factor of this radiation-curable resin during UV curing was 9.6%, and the warp when the first layer 6 was formed on the transparent protective layer 1 was 2.5 mm.

【0031】 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 100重量部 ヘキサメチレンジアクリレート (日本化薬製、カヤラッドHDDA) 3重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 3重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部Urethane acrylate oligomer (Nippon Synthetic Chemical Industry, Gocerac UV7500B) 100 parts by weight Hexamethylene diacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad HDDA) 3 parts by weight Pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 3 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Geigy, Irgacure) 184) 10 parts by weight

【0032】この第一層6の上に下記組成よりなる放射
線硬化型樹脂を厚さ10μmになるようにミヤバーで塗
工した後、これにUVランプ(フュージョン製、マイク
ロウェーブ方式)を照射して硬化させ第二層7を形成し
た。なお、この放射線硬化型樹脂のUV硬化時における
収縮率は13.0%で、第二層7を形成した時点での反
りは3.0mmであった。
A radiation curable resin having the following composition was coated on the first layer 6 with a miya bar so as to have a thickness of 10 μm, and then this was irradiated with a UV lamp (made by Fusion, microwave system). The second layer 7 was formed by curing. The shrinkage factor of this radiation-curable resin during UV curing was 13.0%, and the warp when the second layer 7 was formed was 3.0 mm.

【0033】 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 80重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocerac UV7500B) 80 parts by weight pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 10 parts by weight pentaerythritol tetraacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M- 450) 10 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (manufactured by Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Geigy, Irgacure 184) 10 parts by weight

【0034】この第二層7の上に、放射線硬化型樹脂
(東亜合成化学製、UV−3700)100重量部に対
して反応性シリコーン(信越シリコン製、X−22−5
002)0.5重量部を分散した組成物を厚さ5μmと
なるようにミヤバーで塗工した後、UVランプ(フュー
ジョン製、マイクロウェーブ方式)を照射して硬化させ
第三層8を形成した。なお、この放射線硬化型樹脂の硬
化収縮率は14.5%であった。この時点でテーバー磨
耗はCS−10、1kg荷重、100回転でヘイズ値
9.8%であり、また鉛筆硬度はHであった。
On this second layer 7, a silicone (X-22-5, manufactured by Shin-Etsu Silicon, manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd.) which is reactive with 100 parts by weight of a radiation curable resin (UV-3700, manufactured by Toagosei Kagaku).
002) A composition in which 0.5 parts by weight was dispersed was applied with a miya bar so as to have a thickness of 5 μm, and was then cured by irradiation with a UV lamp (made by Fusion, microwave system) to form the third layer 8. . The cure shrinkage of this radiation curable resin was 14.5%. At this point, Taber abrasion was CS-10, 1 kg load, 100 rotations, haze value was 9.8%, and pencil hardness was H.

【0035】次に、この第一層6、第二層7及び第三層
8からなる硬化層9を有する透明保護層1の反対面に、
2P法で案内トラックのパターン層2を形成し、その上
からTeOxをスパッタリングして光記録層3を形成し
た。一方、0.20mmの乳白塩ビからなるコアシート
に両面シルクオフセットの印刷を行い、0.05mmの
オーバーシート2枚で挟み込み、熱融着にて3層のカー
ド基材4を作成した。オーバーシートの片面には650
エルステッドの磁気テープを形成しておいた。そして、
このカード基材4と透明保護層1を接着剤(東レ製、T
U−4210)を用いて接着した。接着剤の硬化後、カ
ードサイズ(85.5×54mm)に打ち抜いて光カー
ドを作製した。
Next, on the opposite surface of the transparent protective layer 1 having the hardened layer 9 composed of the first layer 6, the second layer 7 and the third layer 8,
The guide track pattern layer 2 was formed by the 2P method, and TeOx was sputtered on the guide track pattern layer 2 to form the optical recording layer 3. On the other hand, double-sided silk offset printing was performed on a core sheet of 0.20 mm opalescent vinyl chloride, sandwiched between two sheets of 0.05 mm oversheet, and heat-fused to form a three-layer card base material 4. 650 on one side of the overseat
The Oersted magnetic tape was formed. And
An adhesive (made by Toray, T
U-4210) was used for adhesion. After the adhesive was cured, it was punched out into a card size (85.5 × 54 mm) to produce an optical card.

【0036】以上のようにして得られた光カードに対
し、光カードR/W(オムロン製、3B3H−DJ−0
1)で100トラックのデータを書き込んで読み取った
ところ、エラーレートは1×10-4以下となり良好であ
った。また、折曲げ強度、密着性、透過性、反りのいず
れにも問題はなく、温湿度保存性も良く、カード使用に
十分耐えられるものであった。
In comparison with the optical card obtained as described above, an optical card R / W (manufactured by OMRON, 3B3H-DJ-0
When data of 100 tracks was written and read in 1), the error rate was 1 × 10 −4 or less, which was good. Further, there were no problems in bending strength, adhesiveness, permeability, and warpage, and the temperature and humidity storability was good, and the card was sufficiently durable to use.

【0037】(具体例2)具体例1において、硬化層9
の第三層8を次のように形成した。すなわち、放射線硬
化型樹脂(東亜合成化学製、UV−3700)100重
量部に対して反応性シリコーン(信越シリコン製、X−
22−5002)0.5重量部を分散し、さらに中間層
7で用いた樹脂を20重量部混合してなる組成物を厚さ
5μmとなるようにミヤバーで塗工した後、UVランプ
(フュージョン製、マイクロウェーブ方式)を照射して
硬化させ第三層8を形成した。なお、硬化収縮率は1
4.0%であった。この時点でテーバー磨耗はCS−1
0、1kg荷重、100回転でヘイズ値10.5%であ
り、また鉛筆硬度はHであった。そして、具体例1と同
様にして光カードを作製したところ、曲げ適正が一層良
好となった。
(Specific Example 2) In Specific Example 1, the hardened layer 9
The third layer 8 of was formed as follows. That is, 100 parts by weight of a radiation curable resin (UV-3700 manufactured by Toagosei) is reactive silicone (X-X manufactured by Shin-Etsu Silicon).
22-5002) 0.5 part by weight was dispersed, and a composition obtained by further mixing 20 parts by weight of the resin used in the intermediate layer 7 was applied by a bar to a thickness of 5 μm, and then UV lamp (fusion) Manufactured by a microwave method) and cured to form the third layer 8. The curing shrinkage is 1
It was 4.0%. At this point, Taber wear is CS-1
The haze value was 10.5% at 0, 1 kg load and 100 rotations, and the pencil hardness was H. When an optical card was manufactured in the same manner as in Example 1, the bending suitability was further improved.

【0038】(具体例3)具体例1と同じ押出し成形ポ
リカーボネートを透明保護層1として用い、その片面に
下記組成よりなる放射線硬化型樹脂を厚さ20μmにな
るようにミヤバーで塗工した後、これにUVランプ(フ
ュージョン製、マイクロウェーブ方式)を照射して硬化
させ第一層6を形成した。なお、この放射線硬化型樹脂
のUV硬化時における収縮率は11.9%で、透明保護
層1に第一層6を形成した時点での反りは4.0mmで
あった。
(Specific Example 3) The same extruded polycarbonate as in Specific Example 1 was used as the transparent protective layer 1, and a radiation curable resin having the following composition was applied to one side of the transparent protective layer with a miya bar so as to have a thickness of 20 μm. This was irradiated with a UV lamp (made by Fusion, microwave system) and cured to form the first layer 6. The shrinkage factor of this radiation-curable resin during UV curing was 11.9%, and the warp when the first layer 6 was formed on the transparent protective layer 1 was 4.0 mm.

【0039】 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 100重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部 反応性シリコーン (信越シリコン製、X−22−5002) 1重量部Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocerac UV7500B) 100 parts by weight pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 10 parts by weight pentaerythritol tetraacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M- 450) 10 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (manufactured by Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Geigy, Irgacure 184) 10 parts by weight Reactive silicone (Shin-Etsu Silicon, X-22-5002) 1 part by weight

【0040】この第一層6の上に下記組成よりなる放射
線硬化型樹脂を厚さ10μmになるようにミヤバーで塗
工した後、これにUVランプ(フュージョン製、マイク
ロウェーブ方式)を照射して硬化させ第二層7を形成し
た。なお、この放射線硬化型樹脂のUV硬化時における
収縮率は13.5%で、第二層7を形成した時点での反
りは3.2mmであった。
A radiation curable resin having the following composition was coated on the first layer 6 with a miya bar so as to have a thickness of 10 μm, and then this was irradiated with a UV lamp (made by Fusion, microwave system). The second layer 7 was formed by curing. The shrinkage ratio of this radiation-curable resin during UV curing was 13.5%, and the warp when the second layer 7 was formed was 3.2 mm.

【0041】 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 70重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部 反応性シリコーン (信越シリコン製、X−22−5002) 1重量部Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocelac UV7500B) 70 parts by weight pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 10 parts by weight pentaerythritol tetraacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M- 450) 10 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (manufactured by Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Geigy, Irgacure 184) 10 parts by weight Reactive silicone (Shin-Etsu Silicon, X-22-5002) 1 part by weight

【0042】この第二層7の上に下記組成よりなる放射
線硬化型樹脂を厚さ5μmとなるようにミヤバーで塗工
した後、UVランプ(フュージョン製、マイクロウェー
ブ方式)を照射して硬化させ第三層8を形成した。な
お、硬化収縮率は14.3%であった。この時点でテー
バー磨耗はCS−10、1kg荷重、100回転でヘイ
ズ値9.0%であり、また鉛筆硬度はHであった。
A radiation curable resin having the following composition was coated on the second layer 7 with a miya bar so as to have a thickness of 5 μm, and then irradiated with a UV lamp (made by Fusion, microwave system) to cure the resin. The third layer 8 was formed. The cure shrinkage was 14.3%. At this point, Taber abrasion was CS-10, 1 kg load, 100 rotations, haze value was 9.0%, and pencil hardness was H.

【0043】 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 5重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 0.5重量部 シリコンヘキサアクリレート (ダイセルUCB製、Ebecril−1360) 0.01重量部Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 10 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Toagosei Kagaku, Aronix M-450) 10 parts by weight Urethane acrylate oligomer (Nippon Synthetic Chemical Industry, Gocerac UV7500B) ) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 5 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Geigy, Irgacure 184) 0.5 parts by weight Silicon hexaacrylate (Daicel UCB, Ebecril) -1360) 0.01 parts by weight

【0044】以下、具体例1と同様にしてパターン層
2、光記録層3を形成し、カード基材4と貼り合わせて
からカードサイズに打ち抜いて光カードを作製した。そ
して、このようにして得られた光カードに対し、光カー
ドR/W(オムロン製、3B3H−DJ−01)で10
0トラックのデータを書き込んで読み取ったところ、エ
ラーレートは1×10-4以下となり良好であった。ま
た、折曲げ強度、密着性、透過性、反りのいずれにも問
題はなく、温湿度保存性も良く、カード使用に十分耐え
られるものであった。
Thereafter, the pattern layer 2 and the optical recording layer 3 were formed in the same manner as in Example 1, and after being bonded to the card base material 4, punched into a card size to manufacture an optical card. Then, with respect to the optical card thus obtained, the optical card R / W (manufactured by OMRON, 3B3H-DJ-01)
When the data of 0 track was written and read, the error rate was 1 × 10 −4 or less, which was good. Further, there were no problems in bending strength, adhesiveness, permeability, and warpage, and the temperature and humidity storability was good, and the card was sufficiently durable to use.

【0045】(比較例1)厚さ0.4mmで200×2
00mmサイズの押出し成形ポリカーボネートを透明保
護層として用い、その片面に下記組成よりなる放射線硬
化型樹脂をミヤバーで10μmの厚みで塗工し、これに
UVランプ(フュージョン製、マイクロウェーブ方式)
を照射して硬化させて1層の硬化層を形成した。なお、
この放射線硬化型樹脂のUV硬化時における収縮率は1
4.1%であった。
(Comparative Example 1) 200 × 2 with a thickness of 0.4 mm
Extrusion-molded polycarbonate of 00 mm size was used as a transparent protective layer, and a radiation curable resin having the following composition was applied on one side thereof with a miya bar to a thickness of 10 μm, and a UV lamp (made by Fusion, microwave method)
Was irradiated and cured to form one cured layer. In addition,
The shrinkage factor of this radiation-curable resin during UV curing is 1
It was 4.1%.

【0046】 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 2重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 5重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 0.5重量部Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 10 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Toa Gosei Kagaku, Aronix M-450) 10 parts by weight Urethane acrylate oligomer (Nippon Synthetic Chemical Industry, Gocerac UV7500B ) 2 parts by weight N-vinylpyrrolidone (manufactured by Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 5 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Geigy, Irgacure 184) 0.5 parts by weight

【0047】このように硬化層を10μmの厚みで形成
したところ、テーバー磨耗はCS−10、1kg荷重、
100回転でヘイズ値9.5%であり、鉛筆硬度はHB
であった。また、反りは3.5mmであった。このよう
に厚みが不十分であると、十分な鉛筆硬度が得られな
い。
When the hardened layer was formed to a thickness of 10 μm in this way, Taber abrasion was CS-10, 1 kg load,
Haze value is 9.5% at 100 rotations and pencil hardness is HB
Met. The warpage was 3.5 mm. If the thickness is insufficient as described above, sufficient pencil hardness cannot be obtained.

【0048】(比較例2)比較例1において、硬化層を
25μmの厚みで形成したところ、テーバー磨耗はヘイ
ズ値9.5%であり、鉛筆硬度はHであった。ただし、
この時の反りは4.8mmとなり、また曲げテストでク
ラックが生じた。このように、硬化収縮率の大きなもの
を使用した場合、厚みを大きくすると反りが大きくな
り、曲げ適正に劣ることになる。
Comparative Example 2 In Comparative Example 1, when the hardened layer was formed to a thickness of 25 μm, the Taber abrasion had a haze value of 9.5% and the pencil hardness was H. However,
The warp at this time was 4.8 mm, and cracks were generated in the bending test. As described above, when a material having a large curing shrinkage is used, the warp becomes large when the thickness is increased, resulting in poor bending appropriateness.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体は、少なくとも透明保護層と光記録層を積層した光記
録媒体において、前記透明保護層上に、最内層から最外
層に向けて順に硬化収縮率が大きくなる放射線硬化型樹
脂を用いて形成した多層の硬化層を設けるとともに、該
硬化層を形成する各層の厚みを最内層から最外層に向け
て順に薄くした構成にしたので、全体に反りが少なく、
曲げ適正に優れ、しかも耐擦傷性に優れたものとなる。
As described above, the optical recording medium of the present invention is an optical recording medium in which at least a transparent protective layer and an optical recording layer are laminated, on the transparent protective layer, from the innermost layer to the outermost layer. With the provision of a multilayer curing layer formed by using a radiation curable resin whose curing shrinkage increases in order, the thickness of each layer forming the curing layer is made thinner in order from the innermost layer to the outermost layer. There is little warpage on the whole,
It has excellent bendability and scratch resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】一般的な光カードの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a general optical card.

【図2】本発明に係る光カードの一実施例を示す断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of an optical card according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明保護層 2 パターン層 3 光記録層 4 カード基材 5 接着層 6 第一層(最内層) 7 中間層 8 第三層(最外層) 9 硬化層 1 Transparent Protective Layer 2 Pattern Layer 3 Optical Recording Layer 4 Card Base Material 5 Adhesive Layer 6 First Layer (Innermost Layer) 7 Intermediate Layer 8 Third Layer (Outermost Layer) 9 Cured Layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも透明保護層と光記録層を積層
した光記録媒体において、前記透明保護層上に、最内層
から最外層に向けて順に硬化収縮率が大きくなる放射線
硬化型樹脂を用いて形成した多層の硬化層を設けるとと
もに、該硬化層を形成する各層の厚みを最内層から最外
層に向けて順に薄くしたことを特徴とする光記録媒体。
1. An optical recording medium in which at least a transparent protective layer and an optical recording layer are laminated, wherein a radiation curable resin having a curing shrinkage increasing in order from the innermost layer to the outermost layer is used on the transparent protective layer. An optical recording medium, characterized in that a plurality of formed hardened layers are provided, and the thickness of each layer forming the hardened layer is successively reduced from the innermost layer to the outermost layer.
【請求項2】 前記硬化層の最外層にレベリング剤を添
加したことを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein a leveling agent is added to the outermost layer of the cured layer.
【請求項3】 前記硬化層のうちの最外層を除く層に内
部硬化型のレベリング剤を添加したことを特徴とする請
求項1又は2記載の光記録媒体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein an internally curable leveling agent is added to all layers of the cured layer except the outermost layer.
【請求項4】 前記硬化層の各層に帯電防止剤を添加し
たことを特徴とする請求項1,2又は3記載の光記録媒
体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein an antistatic agent is added to each layer of the cured layer.
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