JPH08179202A - 紫外線結像光学システム - Google Patents
紫外線結像光学システムInfo
- Publication number
- JPH08179202A JPH08179202A JP6321033A JP32103394A JPH08179202A JP H08179202 A JPH08179202 A JP H08179202A JP 6321033 A JP6321033 A JP 6321033A JP 32103394 A JP32103394 A JP 32103394A JP H08179202 A JPH08179202 A JP H08179202A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- parallel
- light
- imaging
- ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 67
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 39
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 86
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 abstract description 29
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 5
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 3
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
- G02B13/143—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation for use with ultraviolet radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 組立調整時及び使用時にレンズ性能を容易に
評価することができる紫外線結像光学システムを得るこ
と。 【構成】 紫外線光源からの光束を平行光束化するコリ
メートレンズと;このコリメートレンズからの平行光束
を結像する結像レンズと;コリメートレンズからの射出
平行光束と、結像レンズを透過して反射体で反射して再
び結像レンズを透過した反射光との少なくとも一方を外
部観察系へ導く、コリメートレンズから結像レンズに至
る平行光束中に配設された光分岐系と;を備えた紫外線
結像光学システム。
評価することができる紫外線結像光学システムを得るこ
と。 【構成】 紫外線光源からの光束を平行光束化するコリ
メートレンズと;このコリメートレンズからの平行光束
を結像する結像レンズと;コリメートレンズからの射出
平行光束と、結像レンズを透過して反射体で反射して再
び結像レンズを透過した反射光との少なくとも一方を外
部観察系へ導く、コリメートレンズから結像レンズに至
る平行光束中に配設された光分岐系と;を備えた紫外線
結像光学システム。
Description
【0001】
【技術分野】本発明は、紫外線を光源として微細パター
ンをウエハ上に縮小投影する紫外線結像光学システムに
関する。
ンをウエハ上に縮小投影する紫外線結像光学システムに
関する。
【0002】
【従来技術およびその問題点】IC、LSI等の集積回
路の微細パターンを半導体基板上に縮小投影する投影装
置では、集積回路の一層の高密度化の要求から、使用光
の短波長化が進み、エキシマレーザのような紫外線(紫
外域光)が使用されつつある。この紫外線結像光学シス
テムは、使用できるガラス材料が事実上、紫外域での透
過率に優れている石英(SiO2 )と蛍石(CaF2 )
に限られること、これらの精密加工が必要であること、
収差補正が困難であること、等の問題点の他に、組立調
整時のレンズ系の評価、及び使用状態におけるレンズ系
の評価が困難という問題がある。すなわち、紫外線を用
いた投影光学系は、回折限界の像形成を目的としている
ため、光学系に残存する収差量を波長に比例して小さく
する必要があり、このため、可視光用のレンズに比べ、
レンズ製造時の面精度等の加工精度を高めるとともに高
精度に調整する必要がある。特に高精度の調整が可能で
あれば、加工精度をそれほど高める必要がなくなるの
で、加工がしやすい。
路の微細パターンを半導体基板上に縮小投影する投影装
置では、集積回路の一層の高密度化の要求から、使用光
の短波長化が進み、エキシマレーザのような紫外線(紫
外域光)が使用されつつある。この紫外線結像光学シス
テムは、使用できるガラス材料が事実上、紫外域での透
過率に優れている石英(SiO2 )と蛍石(CaF2 )
に限られること、これらの精密加工が必要であること、
収差補正が困難であること、等の問題点の他に、組立調
整時のレンズ系の評価、及び使用状態におけるレンズ系
の評価が困難という問題がある。すなわち、紫外線を用
いた投影光学系は、回折限界の像形成を目的としている
ため、光学系に残存する収差量を波長に比例して小さく
する必要があり、このため、可視光用のレンズに比べ、
レンズ製造時の面精度等の加工精度を高めるとともに高
精度に調整する必要がある。特に高精度の調整が可能で
あれば、加工精度をそれほど高める必要がなくなるの
で、加工がしやすい。
【0003】
【発明の目的】本発明は、組立調整時及び使用時にレン
ズ性能を容易に評価することができる紫外線結像光学シ
ステムを得ることを目的とする。
ズ性能を容易に評価することができる紫外線結像光学シ
ステムを得ることを目的とする。
【0004】
【発明の概要】本発明の紫外線結像光学システムは、紫
外線光源からの光束を平行光束化するコリメートレンズ
と;このコリメートレンズからの平行光束を結像する結
像レンズと;コリメートレンズからの射出平行光束と、
結像レンズを透過して反射体で反射して再び結像レンズ
を透過した反射光との少なくとも一方を外部観察系へ導
く、コリメートレンズから結像レンズに至る平行光束中
に配設された光分岐系と;を備えたことを特徴としてい
る。フォーカシングは、結像レンズのみを移動させて行
なうことができる。
外線光源からの光束を平行光束化するコリメートレンズ
と;このコリメートレンズからの平行光束を結像する結
像レンズと;コリメートレンズからの射出平行光束と、
結像レンズを透過して反射体で反射して再び結像レンズ
を透過した反射光との少なくとも一方を外部観察系へ導
く、コリメートレンズから結像レンズに至る平行光束中
に配設された光分岐系と;を備えたことを特徴としてい
る。フォーカシングは、結像レンズのみを移動させて行
なうことができる。
【0005】光分岐系には、コリメートレンズからの射
出平行光束と、結像レンズを透過して反射体で反射した
光を干渉させて干渉縞を作る干渉計を配設し、結像レン
ズの収差状態を観察しながら、組立調整を行なうことが
できる。
出平行光束と、結像レンズを透過して反射体で反射した
光を干渉させて干渉縞を作る干渉計を配設し、結像レン
ズの収差状態を観察しながら、組立調整を行なうことが
できる。
【0006】この光分岐系は、例えば、一方の面に半透
過膜を付し、他方の面に反射防止膜を付した略平行平面
板を作り、この略平行平面板をコリメートレンズから結
像レンズに至る平行光束中に光軸に対して斜めに配設し
て構成することができる。この略平行平面板を挿入した
場合、コリメートレンズの光軸と結像レンズの光軸は、
この略平行平面板による光軸のシフト量に対応させた量
だけ平行にシフトさせることが好ましい。この略平行平
面板は、その表裏面が完全に平行ではない微小角度の楔
状とすることが好ましい。
過膜を付し、他方の面に反射防止膜を付した略平行平面
板を作り、この略平行平面板をコリメートレンズから結
像レンズに至る平行光束中に光軸に対して斜めに配設し
て構成することができる。この略平行平面板を挿入した
場合、コリメートレンズの光軸と結像レンズの光軸は、
この略平行平面板による光軸のシフト量に対応させた量
だけ平行にシフトさせることが好ましい。この略平行平
面板は、その表裏面が完全に平行ではない微小角度の楔
状とすることが好ましい。
【0007】結像レンズによる焦点調節は、該結像レン
ズを透過して反射体で反射した反射光を光分岐系により
分岐させ、この反射光の情報によって得られる該結像レ
ンズの像点位置情報から、該結像レンズを反射体に対し
て光軸方向に相対的に動かして行なうことができる。
ズを透過して反射体で反射した反射光を光分岐系により
分岐させ、この反射光の情報によって得られる該結像レ
ンズの像点位置情報から、該結像レンズを反射体に対し
て光軸方向に相対的に動かして行なうことができる。
【0008】光分岐系には、コリメートレンズからの射
出平行光束と反射体からの反射光とを集光する集光レン
ズと、この集光レンズの後側焦点近傍に配置した空間フ
ィルタとをさらに有することが好ましい。光分岐系はま
た、コリメートレンズからの射出平行光束と、反射体か
らの反射光とのいずれか一方の進行方向を変化させるた
めの回転可能に保持された反射部材を有することが好ま
しい。
出平行光束と反射体からの反射光とを集光する集光レン
ズと、この集光レンズの後側焦点近傍に配置した空間フ
ィルタとをさらに有することが好ましい。光分岐系はま
た、コリメートレンズからの射出平行光束と、反射体か
らの反射光とのいずれか一方の進行方向を変化させるた
めの回転可能に保持された反射部材を有することが好ま
しい。
【0009】光分岐系に配置した干渉計を用いて結像レ
ンズの性能を測定するため、結像レンズの焦点面には、
感光材料と、該焦点面内に位置する反射面または該焦点
面内に曲率中心を位置させる球面状反射面とを交換して
配置可能とし、一方、コリメートレンズの前側焦点位置
には、縮小露光用パターンと、ピンホール板とを交換し
て配置可能とすることが好ましい。そしてこの球面状反
射面は、その曲率中心を焦点面内に保持したまま移動可
能とする。
ンズの性能を測定するため、結像レンズの焦点面には、
感光材料と、該焦点面内に位置する反射面または該焦点
面内に曲率中心を位置させる球面状反射面とを交換して
配置可能とし、一方、コリメートレンズの前側焦点位置
には、縮小露光用パターンと、ピンホール板とを交換し
て配置可能とすることが好ましい。そしてこの球面状反
射面は、その曲率中心を焦点面内に保持したまま移動可
能とする。
【0010】本発明のシステムはさらに、集光レンズの
焦点を、ビデオカメラの撮像面と共役にする調整用観測
レンズを備えることが好ましい。
焦点を、ビデオカメラの撮像面と共役にする調整用観測
レンズを備えることが好ましい。
【0011】
【発明の実施例】以下図示実施例について本発明を説明
する。図1は、本発明による紫外線結像光学システムの
全体模式図である。本発明の紫外線結像光学システム
は、コリメートレンズ11と結像レンズ12の2つのレ
ンズを備えている。コリメートレンズ11は、レチクル
(縮小露光用チャート)13上の一点からの発散光を平
行光束とするもので、一方、結像レンズ12は、この平
行光束を受けて、ウエハ(感光材料)14上にレチクル
13の像を縮小投影する。コリメートレンズ11と結像
レンズ12の間は平行光束であり、このように2つのレ
ンズを光束が平行になっている部分で分離すると、結像
レンズ12だけを移動させてフォーカシングを行なって
も、倍率が変化しない。ステッパの用途では、レンズの
フォーカシングやウエハ14の微細な段差(露光面の意
図しない位置ズレ)により倍率が変化しない結像倍率の
安定性がきわめて重要な要素である。本発明では、平行
光束を作り出すコリメートレンズ11だけでなく、平行
光束が入射する結像レンズ12も無限補正(物体距離が
無限遠であるときの平行光束入射時に最も良好な性能が
得られるにように収差を補正すること)されているか
ら、結像レンズ12が移動しても、収差変化も起こらな
い。よって、フォーカシングは結像レンズ12だけの移
動で行なうことができ、レンズ全体を移動させてフォー
カシングを行なう従来例に比して、フォーカシング機構
の簡略化ができる。結像レンズ12の移動は、勿論、ウ
エハ14に対して相対的に生じればよいから、ウエハ1
4を移動させてもよいが、ウエハ14は、繰り返し露光
のため光軸と直交する方向の移動機構を要するから、さ
らに光軸方向の移動機構を付設すると移動機構が大型化
する。このため結像レンズ12側に光軸O方向の移動調
整機構を設けることが好ましい。また、露光面の微細な
段差(露光面の意図しない位置ズレ)に対しては、両側
テレセントリックになるように、両レンズの焦点位置を
定め、絞位置を定めることにより、結像倍率が変化しな
い。
する。図1は、本発明による紫外線結像光学システムの
全体模式図である。本発明の紫外線結像光学システム
は、コリメートレンズ11と結像レンズ12の2つのレ
ンズを備えている。コリメートレンズ11は、レチクル
(縮小露光用チャート)13上の一点からの発散光を平
行光束とするもので、一方、結像レンズ12は、この平
行光束を受けて、ウエハ(感光材料)14上にレチクル
13の像を縮小投影する。コリメートレンズ11と結像
レンズ12の間は平行光束であり、このように2つのレ
ンズを光束が平行になっている部分で分離すると、結像
レンズ12だけを移動させてフォーカシングを行なって
も、倍率が変化しない。ステッパの用途では、レンズの
フォーカシングやウエハ14の微細な段差(露光面の意
図しない位置ズレ)により倍率が変化しない結像倍率の
安定性がきわめて重要な要素である。本発明では、平行
光束を作り出すコリメートレンズ11だけでなく、平行
光束が入射する結像レンズ12も無限補正(物体距離が
無限遠であるときの平行光束入射時に最も良好な性能が
得られるにように収差を補正すること)されているか
ら、結像レンズ12が移動しても、収差変化も起こらな
い。よって、フォーカシングは結像レンズ12だけの移
動で行なうことができ、レンズ全体を移動させてフォー
カシングを行なう従来例に比して、フォーカシング機構
の簡略化ができる。結像レンズ12の移動は、勿論、ウ
エハ14に対して相対的に生じればよいから、ウエハ1
4を移動させてもよいが、ウエハ14は、繰り返し露光
のため光軸と直交する方向の移動機構を要するから、さ
らに光軸方向の移動機構を付設すると移動機構が大型化
する。このため結像レンズ12側に光軸O方向の移動調
整機構を設けることが好ましい。また、露光面の微細な
段差(露光面の意図しない位置ズレ)に対しては、両側
テレセントリックになるように、両レンズの焦点位置を
定め、絞位置を定めることにより、結像倍率が変化しな
い。
【0012】また本発明の対象とする紫外線結像光学シ
ステムは、縮小倍率を持っている。従って、紫外線光源
からの光束を平行光束化するコリメートレンズ11は、
比較的小さいNAで広いイメージサークルを持ち、一
方、結像レンズ12は、画角はコリメートレンズ11と
同じであるが、比較的大きいNAでコリメートレンズ1
1より狭いイメージサークルを持つこととなる。このよ
うにすると、コリメートレンズ11と結像レンズ12は
それぞれ、平行光束を入射させる干渉計を用いて、残存
波面収差を容易にかつ高精度に測定することができる。
一般的に、平行光束に対して収差補正されていないレン
ズの性能評価は、その装置専用の干渉計を新たに用意す
る必要があるが、平行光束に対して収差補正されている
レンズは、汎用の干渉計で性能測定ができる。本発明
は、ともに平行光束入射(出射)のコリメートレンズ1
1と結像レンズ12の間に光分岐系を持っているので、
この光分岐系に汎用の干渉計を配置して性能測定がで
き、その性能測定の結果に基づいて、収差補正、偏心調
整等のレンズの調整を行なうことができる。つまり、本
発明の紫外線結像光学システムは、汎用の干渉計を用い
てその性能を容易に確認しながら、調整、使用ができ
る。なお、コリメートレンズ11は、比較的小さいNA
で広いイメージサークルを持ち、一方、結像レンズ12
は、比較的大きいNAで狭いイメージサークルを持って
いる。一般に、高NAの結像レンズ12の方が収差が変
化する可能性が高く、その状態を確認しながら組立調整
を行なうことがこのましい。そこで、本発明は、結像レ
ンズ12の収差の測定を直接の目的としている。
ステムは、縮小倍率を持っている。従って、紫外線光源
からの光束を平行光束化するコリメートレンズ11は、
比較的小さいNAで広いイメージサークルを持ち、一
方、結像レンズ12は、画角はコリメートレンズ11と
同じであるが、比較的大きいNAでコリメートレンズ1
1より狭いイメージサークルを持つこととなる。このよ
うにすると、コリメートレンズ11と結像レンズ12は
それぞれ、平行光束を入射させる干渉計を用いて、残存
波面収差を容易にかつ高精度に測定することができる。
一般的に、平行光束に対して収差補正されていないレン
ズの性能評価は、その装置専用の干渉計を新たに用意す
る必要があるが、平行光束に対して収差補正されている
レンズは、汎用の干渉計で性能測定ができる。本発明
は、ともに平行光束入射(出射)のコリメートレンズ1
1と結像レンズ12の間に光分岐系を持っているので、
この光分岐系に汎用の干渉計を配置して性能測定がで
き、その性能測定の結果に基づいて、収差補正、偏心調
整等のレンズの調整を行なうことができる。つまり、本
発明の紫外線結像光学システムは、汎用の干渉計を用い
てその性能を容易に確認しながら、調整、使用ができ
る。なお、コリメートレンズ11は、比較的小さいNA
で広いイメージサークルを持ち、一方、結像レンズ12
は、比較的大きいNAで狭いイメージサークルを持って
いる。一般に、高NAの結像レンズ12の方が収差が変
化する可能性が高く、その状態を確認しながら組立調整
を行なうことがこのましい。そこで、本発明は、結像レ
ンズ12の収差の測定を直接の目的としている。
【0013】コリメートレンズ11と結像レンズ12の
間には、このような干渉計を構成するための略平行平面
板15が配設されている。この略平行平面板15は、光
軸Oに対して約45゜をなして配置されたもので、その
表裏の一方の面15a(図5)に半透過ミラーを付し、
他方の面15bに反射防止膜を付している。この略平行
平面板15は、コリメートレンズ11からの射出平行光
束と、結像レンズ12を透過してウエハ14で反射し再
び結像レンズ12を透過した反射光とを外部観察系に導
くものである。具体的には、コリメートレンズ11から
の出射平行光束は参照ミラー16に反射され、結像レン
ズ12からの戻り光は、参照ミラー16と反対の方向に
反射される。
間には、このような干渉計を構成するための略平行平面
板15が配設されている。この略平行平面板15は、光
軸Oに対して約45゜をなして配置されたもので、その
表裏の一方の面15a(図5)に半透過ミラーを付し、
他方の面15bに反射防止膜を付している。この略平行
平面板15は、コリメートレンズ11からの射出平行光
束と、結像レンズ12を透過してウエハ14で反射し再
び結像レンズ12を透過した反射光とを外部観察系に導
くものである。具体的には、コリメートレンズ11から
の出射平行光束は参照ミラー16に反射され、結像レン
ズ12からの戻り光は、参照ミラー16と反対の方向に
反射される。
【0014】この略平行平面板15は、表裏を完全に平
行にすると、表面と裏面の反射光により干渉縞が発生し
測定の際にノイズとなる。このノイズの除去のために
は、略平行平面板15の一方の面に付した反射防止膜1
5bも効果があるが、さらに、表裏面15aと15bを
僅かに(数分〜数10分)平行からずらして楔状をなす
ように形成することが好ましい。表裏面15aと15b
が楔状をなすと、後述する空間フィルタ18によってノ
イズを除去しやすくなる。表裏面15aと15bが厳密
に平行でないと、光束は略平行平面板15を透過する前
後で僅かに傾くが、平行光束中であるため、像面倒れな
どの収差は発生せず、像位置が僅かにシフトするだけで
ある。
行にすると、表面と裏面の反射光により干渉縞が発生し
測定の際にノイズとなる。このノイズの除去のために
は、略平行平面板15の一方の面に付した反射防止膜1
5bも効果があるが、さらに、表裏面15aと15bを
僅かに(数分〜数10分)平行からずらして楔状をなす
ように形成することが好ましい。表裏面15aと15b
が楔状をなすと、後述する空間フィルタ18によってノ
イズを除去しやすくなる。表裏面15aと15bが厳密
に平行でないと、光束は略平行平面板15を透過する前
後で僅かに傾くが、平行光束中であるため、像面倒れな
どの収差は発生せず、像位置が僅かにシフトするだけで
ある。
【0015】一方、略平行平面板15は、光軸Oに対し
て斜めに置かれているため、図3に示すように、略平行
平面板15を通過する前後で光軸の平行シフトが生じ
る。略平行平面板15は、その面精度を維持するには、
その厚さtを、その直径Dの7%以上に設定する必要が
あることが経験的に知られている。この平行シフトを補
償するため、コリメートレンズ11の光軸O11と、結像
レンズ12の光軸O12とを、略平行平面板15による光
軸の平行シフト量dと同じ量だけ、平行にずらせること
が好ましい。仮に、この略平行平面板15による平行ズ
レを無視して、コリメートレンズ11と結像レンズ12
の光軸を一致させる(同一直線上に位置させる)と、結
像レンズ12に対しコリメートレンズ11の入射瞳か射
出瞳が偏心したことに相当し、像面内に光量分布のムラ
が発生したり、実質的なNAの低下による解像力の低
下、テレセントリック性が崩れることによるアナモフィ
ックな倍率ムラが発生するおそれがある。
て斜めに置かれているため、図3に示すように、略平行
平面板15を通過する前後で光軸の平行シフトが生じ
る。略平行平面板15は、その面精度を維持するには、
その厚さtを、その直径Dの7%以上に設定する必要が
あることが経験的に知られている。この平行シフトを補
償するため、コリメートレンズ11の光軸O11と、結像
レンズ12の光軸O12とを、略平行平面板15による光
軸の平行シフト量dと同じ量だけ、平行にずらせること
が好ましい。仮に、この略平行平面板15による平行ズ
レを無視して、コリメートレンズ11と結像レンズ12
の光軸を一致させる(同一直線上に位置させる)と、結
像レンズ12に対しコリメートレンズ11の入射瞳か射
出瞳が偏心したことに相当し、像面内に光量分布のムラ
が発生したり、実質的なNAの低下による解像力の低
下、テレセントリック性が崩れることによるアナモフィ
ックな倍率ムラが発生するおそれがある。
【0016】略平行平面板15を挟んで参照ミラー16
の反対側には、集光レンズ17、空間フィルタ18、及
びビデオカメラ19が配設されている。ビデオカメラ1
9はモニターテレビ20に接続されている。これらは、
レチクル13に代えてピンホール板23を置き、ウエハ
14に代えて平面ミラー24A、球面凸ミラー24B、
または球面凹ミラー24Cを置いたとき、結像レンズ1
2の波面収差を測定する干渉計を構成するものである。
の反対側には、集光レンズ17、空間フィルタ18、及
びビデオカメラ19が配設されている。ビデオカメラ1
9はモニターテレビ20に接続されている。これらは、
レチクル13に代えてピンホール板23を置き、ウエハ
14に代えて平面ミラー24A、球面凸ミラー24B、
または球面凹ミラー24Cを置いたとき、結像レンズ1
2の波面収差を測定する干渉計を構成するものである。
【0017】集光レンズ17は、2つの可干渉光束を集
光してビデオカメラ19に与えるものである。2つの可
干渉光束の1つは、コリメートレンズ11から出射して
略平行平面板15で反射し参照ミラー16でさらに反射
されて略平行平面板15を透過した平行光束であり、他
の1つは、略平行平面板15及び結像レンズ12を透過
して平面ミラー24Aないし球面凹ミラー24Cで反射
した後再び結像レンズ12を透過して略平行平面板15
で反射した平行光束である。紫外線は見えないため、ビ
デオカメラ19に結像される干渉縞をモニターテレビ2
0によって可視化する。
光してビデオカメラ19に与えるものである。2つの可
干渉光束の1つは、コリメートレンズ11から出射して
略平行平面板15で反射し参照ミラー16でさらに反射
されて略平行平面板15を透過した平行光束であり、他
の1つは、略平行平面板15及び結像レンズ12を透過
して平面ミラー24Aないし球面凹ミラー24Cで反射
した後再び結像レンズ12を透過して略平行平面板15
で反射した平行光束である。紫外線は見えないため、ビ
デオカメラ19に結像される干渉縞をモニターテレビ2
0によって可視化する。
【0018】空間フィルタ18は、ほぼ集光レンズ17
の焦点位置に配置されている。2つの可干渉光束は、ほ
ぼ平行光束なので、集光レンズ17の焦点面上に微小点
像として結像する。そこに2光束を透過させるピンホー
ル状の透過部を有する空間フィルタ18を配置すること
により、不要光を除去することができる。干渉性がよい
光源を用いた場合、結像レンズ12は多数の要素レンズ
から構成されているため、該結像レンズ12を通る光は
ノイズを含みやすい。また略平行平面板15の不要な反
射光を避けるためにも、空間フィルタ18は設置するこ
とが好ましい。空間フィルタ18は、ピンホール状の透
光部の周囲を不透光部材で構成することも可能である
が、透光部の周囲には、弱い透過性の散乱部を形成する
のが好ましい。干渉計を構成するには、2つの光路を通
ってきた光束を1つのピンホールに入れる必要がある
が、ピンホールの位置調整の際、及び略平行平面板15
で反射した光束を集光レンズ17に向け反射する参照ミ
ラー16を調整する際に、紫外光線は不可視であるため
に、ビデオカメラ19により調整量を検出しなければ非
常に作業性が悪い。このため、ピンホールに光束の集光
点が厳密に一致していない場合にも、ピンホールと集光
点のズレを検出するために、ピンホールの周囲は、光束
の一部を透過する拡散面とするのが好ましいのである。
の焦点位置に配置されている。2つの可干渉光束は、ほ
ぼ平行光束なので、集光レンズ17の焦点面上に微小点
像として結像する。そこに2光束を透過させるピンホー
ル状の透過部を有する空間フィルタ18を配置すること
により、不要光を除去することができる。干渉性がよい
光源を用いた場合、結像レンズ12は多数の要素レンズ
から構成されているため、該結像レンズ12を通る光は
ノイズを含みやすい。また略平行平面板15の不要な反
射光を避けるためにも、空間フィルタ18は設置するこ
とが好ましい。空間フィルタ18は、ピンホール状の透
光部の周囲を不透光部材で構成することも可能である
が、透光部の周囲には、弱い透過性の散乱部を形成する
のが好ましい。干渉計を構成するには、2つの光路を通
ってきた光束を1つのピンホールに入れる必要がある
が、ピンホールの位置調整の際、及び略平行平面板15
で反射した光束を集光レンズ17に向け反射する参照ミ
ラー16を調整する際に、紫外光線は不可視であるため
に、ビデオカメラ19により調整量を検出しなければ非
常に作業性が悪い。このため、ピンホールに光束の集光
点が厳密に一致していない場合にも、ピンホールと集光
点のズレを検出するために、ピンホールの周囲は、光束
の一部を透過する拡散面とするのが好ましいのである。
【0019】ピンホール板23、平面ミラー24A〜球
面凹ミラー24C、及び空間フィルタ18は、コリメー
トレンズ11と結像レンズ12の軸外の収差を測定する
ため、それぞれ光軸と直交する方向に移動調整可能に支
持することが好ましい。ピンホール板23は、コリメー
トレンズ11の前側焦点面内で光軸と直交する方向に移
動させ、空間フィルタ18は集光レンズ17の焦点面内
で光軸と直交する方向に移動させ、球面凸ミラー24
B、球面凹ミラー24Cは、その曲率中心を結像レンズ
12の焦点面に位置させた状態で移動させる。また参照
ミラー16は、軸16aを中心に回動調整可能となって
いる。これは、干渉縞を作るためには、2つの可干渉光
束をほぼ平行にする必要があり、軸外光の干渉計として
も使用可能にするため、軸外光束の光軸に対する角度分
だけ、参照ミラー16は軸16aを中心に回動調整可能
である。
面凹ミラー24C、及び空間フィルタ18は、コリメー
トレンズ11と結像レンズ12の軸外の収差を測定する
ため、それぞれ光軸と直交する方向に移動調整可能に支
持することが好ましい。ピンホール板23は、コリメー
トレンズ11の前側焦点面内で光軸と直交する方向に移
動させ、空間フィルタ18は集光レンズ17の焦点面内
で光軸と直交する方向に移動させ、球面凸ミラー24
B、球面凹ミラー24Cは、その曲率中心を結像レンズ
12の焦点面に位置させた状態で移動させる。また参照
ミラー16は、軸16aを中心に回動調整可能となって
いる。これは、干渉縞を作るためには、2つの可干渉光
束をほぼ平行にする必要があり、軸外光の干渉計として
も使用可能にするため、軸外光束の光軸に対する角度分
だけ、参照ミラー16は軸16aを中心に回動調整可能
である。
【0020】集光レンズ17の焦点とビデオカメラ19
の撮像面とは、空間フィルター18の位置と各反射光の
集光点とを一致させて干渉縞を作るため、共役にする必
要がある。このために調整用観測レンズ21を備えるこ
とが好ましい。すなわち空間フィルタ18のピンホール
と集光レンズ17による結像点の一致のために、集光レ
ンズ17の焦点面をビデオカメラ19の撮像面に投影す
る。これにより干渉計の軸上、軸外の設定変更が容易に
なる。調整用観測レンズ21は、空間フィルタ18の後
側に光分岐系を挿入してここに配置し、干渉縞観測用の
ものとは別のビデオカメラを用いてもよいし、空間フィ
ルタ18の後に調整用観測レンズ21を選択的に挿入可
能な構成としてもよい。
の撮像面とは、空間フィルター18の位置と各反射光の
集光点とを一致させて干渉縞を作るため、共役にする必
要がある。このために調整用観測レンズ21を備えるこ
とが好ましい。すなわち空間フィルタ18のピンホール
と集光レンズ17による結像点の一致のために、集光レ
ンズ17の焦点面をビデオカメラ19の撮像面に投影す
る。これにより干渉計の軸上、軸外の設定変更が容易に
なる。調整用観測レンズ21は、空間フィルタ18の後
側に光分岐系を挿入してここに配置し、干渉縞観測用の
ものとは別のビデオカメラを用いてもよいし、空間フィ
ルタ18の後に調整用観測レンズ21を選択的に挿入可
能な構成としてもよい。
【0021】上記構成の本紫外線結像光学システムは、
コリメートレンズ11と結像レンズ12の組立調整時及
び使用時の調整時には、レチクル13の代わりにピンホ
ール板23を置き、ウエハ14の代わりに平面ミラー2
4A、球面凸ミラー24Bまたは球面凹ミラー24Cを
置いて、干渉計を構成する(図2ないし図4参照)。紫
外発散光束は、ピンホール板23のピンホールから出射
されることとなる。ピンホール板23を出た光束はコリ
メートレンズ11により平行光束とされ、一部は略平行
平面板15で反射されて参照ミラー16に至り参照ミラ
ー16で反射されて略平行平面板15を透過し集光レン
ズ17に入射する。コリメートレンズ11の出射光束の
うち略平行平面板15を透過した光は、結像レンズ12
を透過して平面ミラー24Aないし球面凹ミラー24C
で反射し、再び結像レンズ12を透過して略平行平面板
15に至り該略平行平面板15で反射して集光レンズ1
7に入射する。この2光束の干渉により干渉縞が発生す
るから、この干渉縞をモニターテレビ20を介して観測
することにより、結像レンズ12の波面収差を測定する
ことができ、さらにこの収差が最小となるように調整す
ることができる。平面ミラー24Aを用いた場合は、結
像レンズ12中の往きの光束の通過点と帰りの光束の通
過点が光軸に対して対称な点となるため、結像レンズ1
2の瞳に対し奇数次の収差であるコマ収差が検出されな
い。よって、球面収差、像面湾曲、ピントずれの測定を
行ないやすい。一方、球面凸ミラー24B、球面凹ミラ
ー24Cは、全収差を検出できるため、軸上軸外を含む
像面各点の収差を測定できる。
コリメートレンズ11と結像レンズ12の組立調整時及
び使用時の調整時には、レチクル13の代わりにピンホ
ール板23を置き、ウエハ14の代わりに平面ミラー2
4A、球面凸ミラー24Bまたは球面凹ミラー24Cを
置いて、干渉計を構成する(図2ないし図4参照)。紫
外発散光束は、ピンホール板23のピンホールから出射
されることとなる。ピンホール板23を出た光束はコリ
メートレンズ11により平行光束とされ、一部は略平行
平面板15で反射されて参照ミラー16に至り参照ミラ
ー16で反射されて略平行平面板15を透過し集光レン
ズ17に入射する。コリメートレンズ11の出射光束の
うち略平行平面板15を透過した光は、結像レンズ12
を透過して平面ミラー24Aないし球面凹ミラー24C
で反射し、再び結像レンズ12を透過して略平行平面板
15に至り該略平行平面板15で反射して集光レンズ1
7に入射する。この2光束の干渉により干渉縞が発生す
るから、この干渉縞をモニターテレビ20を介して観測
することにより、結像レンズ12の波面収差を測定する
ことができ、さらにこの収差が最小となるように調整す
ることができる。平面ミラー24Aを用いた場合は、結
像レンズ12中の往きの光束の通過点と帰りの光束の通
過点が光軸に対して対称な点となるため、結像レンズ1
2の瞳に対し奇数次の収差であるコマ収差が検出されな
い。よって、球面収差、像面湾曲、ピントずれの測定を
行ないやすい。一方、球面凸ミラー24B、球面凹ミラ
ー24Cは、全収差を検出できるため、軸上軸外を含む
像面各点の収差を測定できる。
【0022】結像レンズの調整の際には、まず平面ミラ
ー24Aを用いて光軸上の球面収差を測定し結像レンズ
12の調整を行なう。次に平面ミラー24Aを球面凸ミ
ラー24Bまたは球面凹ミラー24Cに交換して光軸上
の偏心コマ収差を測定し調整する。軸外収差の測定は、
ピンホール板23、球面凸ミラー24Bまたは球面凹ミ
ラー24C、及び空間フィルタ18を光軸と直交する方
向に移動させ、かつ参照ミラー16を軸16aを中心に
回動調整して行なう。すなわち、軸外の収差測定の際に
は、ピンホール板23を移動させるのに合わせて球面凸
ミラー24Bまたは球面凹ミラー24Cを移動させ、さ
らにその結果、集光レンズ17による光束の集光点が移
動するのに合わせて、空間フィルタ18もピンホール板
23のピンホールの位置に合わせて移動させる。そし
て、参照ミラー16により集光レンズ17に入射する2
つの可干渉光束が常時ほぼ平行となるように調整しなが
ら、軸外のコマ収差、像面湾曲の測定及び調整を行な
い、次にこの調整の結果変化する球面収差を再び調整す
るという手順で行なうことができる。
ー24Aを用いて光軸上の球面収差を測定し結像レンズ
12の調整を行なう。次に平面ミラー24Aを球面凸ミ
ラー24Bまたは球面凹ミラー24Cに交換して光軸上
の偏心コマ収差を測定し調整する。軸外収差の測定は、
ピンホール板23、球面凸ミラー24Bまたは球面凹ミ
ラー24C、及び空間フィルタ18を光軸と直交する方
向に移動させ、かつ参照ミラー16を軸16aを中心に
回動調整して行なう。すなわち、軸外の収差測定の際に
は、ピンホール板23を移動させるのに合わせて球面凸
ミラー24Bまたは球面凹ミラー24Cを移動させ、さ
らにその結果、集光レンズ17による光束の集光点が移
動するのに合わせて、空間フィルタ18もピンホール板
23のピンホールの位置に合わせて移動させる。そし
て、参照ミラー16により集光レンズ17に入射する2
つの可干渉光束が常時ほぼ平行となるように調整しなが
ら、軸外のコマ収差、像面湾曲の測定及び調整を行な
い、次にこの調整の結果変化する球面収差を再び調整す
るという手順で行なうことができる。
【0023】また、略平行平面板15で反射した光束を
反射する参照ミラー16の角度調整により、コリメート
レンズ11を透過した光と結像レンズ12からの戻り光
との射出方向を異ならせておき、空間フィルタ18によ
りその一方を選択的にビデオカメラ19に入射させるこ
とにより、光量分布をモニターすることができ、紫外線
レーザの発振の不具合をチェックすることができる。
反射する参照ミラー16の角度調整により、コリメート
レンズ11を透過した光と結像レンズ12からの戻り光
との射出方向を異ならせておき、空間フィルタ18によ
りその一方を選択的にビデオカメラ19に入射させるこ
とにより、光量分布をモニターすることができ、紫外線
レーザの発振の不具合をチェックすることができる。
【0024】前述のように、軸外の収差を測定するに
は、球面凸ミラー24Bまたは球面凹ミラー24Cの曲
率中心は、必ず結像レンズ12の焦点面上に位置してい
なければならない。このような球面凸ミラー24Bまた
は球面凹ミラー24Cの移動は、ステッパのウエハに繰
り返し露光を与えるための移動機構を用いて行なうこと
ができる。
は、球面凸ミラー24Bまたは球面凹ミラー24Cの曲
率中心は、必ず結像レンズ12の焦点面上に位置してい
なければならない。このような球面凸ミラー24Bまた
は球面凹ミラー24Cの移動は、ステッパのウエハに繰
り返し露光を与えるための移動機構を用いて行なうこと
ができる。
【0025】また結像レンズ12のバックフォーカスが
十分に長い場合、球を正確に2分割した半球状の凸面か
らなる半球面凸ミラー24Bを用いることが好ましい。
このような半球面凸ミラー24Bによると、ウエハの載
置面に半球面凸ミラー24Bの切断平面を正確に接触さ
せるだけで、半球面凸ミラー24Bの曲率中心がウエハ
の感光面に一致するから、デフォーカス(ピントズレ)
量の測定を容易に行なうことができる。
十分に長い場合、球を正確に2分割した半球状の凸面か
らなる半球面凸ミラー24Bを用いることが好ましい。
このような半球面凸ミラー24Bによると、ウエハの載
置面に半球面凸ミラー24Bの切断平面を正確に接触さ
せるだけで、半球面凸ミラー24Bの曲率中心がウエハ
の感光面に一致するから、デフォーカス(ピントズレ)
量の測定を容易に行なうことができる。
【0026】以上のようにして結像レンズ12の調整が
終了したら、ピンホール板23をレチクル13に代え、
平面ミラー24A、球面凸ミラー24Bまたは球面凹ミ
ラー24Cをウエハ14に代えて、レチクル13の像を
ウエハ14上に縮小投影することができる。この縮小投
影の際には、ウエハ14からの反射光が結像レンズ12
を通って略平行平面板15に至り、略平行平面板15で
さらに反射して参照ミラー16からビデオカメラ19に
入射する。この反射光は、結像レンズ12の像点位置情
報、つまりウエハ14の感光面が正確に結像レンズ12
の焦点位置に位置しているか否かの情報を含んでいるか
ら、この情報に基づいて、結像レンズ12を移動させて
焦点調節を行なうことができる。本発明装置は、前述の
ように、結像レンズ12の移動だけで焦点調節ができ、
焦点調節を行なっても倍率が変化しないという特徴があ
る。
終了したら、ピンホール板23をレチクル13に代え、
平面ミラー24A、球面凸ミラー24Bまたは球面凹ミ
ラー24Cをウエハ14に代えて、レチクル13の像を
ウエハ14上に縮小投影することができる。この縮小投
影の際には、ウエハ14からの反射光が結像レンズ12
を通って略平行平面板15に至り、略平行平面板15で
さらに反射して参照ミラー16からビデオカメラ19に
入射する。この反射光は、結像レンズ12の像点位置情
報、つまりウエハ14の感光面が正確に結像レンズ12
の焦点位置に位置しているか否かの情報を含んでいるか
ら、この情報に基づいて、結像レンズ12を移動させて
焦点調節を行なうことができる。本発明装置は、前述の
ように、結像レンズ12の移動だけで焦点調節ができ、
焦点調節を行なっても倍率が変化しないという特徴があ
る。
【0027】次に、コリメートレンズ11、結像レンズ
12及び略平行平面板15の具体的なレンズ構成例を説
明する。図6は、そのレンズ構成図で、コリメートレン
ズ11は5群5枚、結像レンズ12は8群8枚からなっ
ている。このレンズ系の具体的数値データを表1に示
す。表および図面中、f は焦点距離、NAは開口数、M は
横倍率、fBはバックフォーカス、φはイメージサークル
の直径、Rはレンズ各面の曲率半径、Dはレンズ厚もし
くはレンズ間隔、N(266nm) は266nmの光に対する
屈折率を示す。
12及び略平行平面板15の具体的なレンズ構成例を説
明する。図6は、そのレンズ構成図で、コリメートレン
ズ11は5群5枚、結像レンズ12は8群8枚からなっ
ている。このレンズ系の具体的数値データを表1に示
す。表および図面中、f は焦点距離、NAは開口数、M は
横倍率、fBはバックフォーカス、φはイメージサークル
の直径、Rはレンズ各面の曲率半径、Dはレンズ厚もし
くはレンズ間隔、N(266nm) は266nmの光に対する
屈折率を示す。
【0028】
【表1】 f=13.017 NA=0.40 M =-0.200 fB =22.469 φ=2.00 面 NO R D N(266nm) 1 196.343 5.000 1.4997 2 31.282 38.980 - 3 1148.125 8.000 1.4997 4 -44.200 45.940 - 5 117.274 7.000 1.4997 6 -126.500 0.530 - 7 48.884 6.900 1.4997 8 330.000 8.300 - 9 -275.000 6.000 1.4997 10 35.849 33.000 - 11 ∞ 10.000 1.4997 (45°チルト 略平行平面板) 12 ∞ 36.000 - 13 -33.912 6.000 1.4997 14 52.000 99.820 - 15 3000.000 12.880 1.4997 16 -88.800 0.000 - 絞 ∞ 31.810 - 17 275.000 9.000 1.4997 18 -193.485 0.100 - 19 92.741 9.000 1.4997 20 485.000 0.100 - 21 50.501 9.000 1.4997 22 96.650 2.200 - 23 1520.979 7.400 1.4997 24 130.320 0.100 - 25 26.525 12.500 1.4997 26 46.311 5.000 - 27 ∞ 2.530 1.4997 28 ∞ - - コリメートレンズ11と結像レンズ12の光軸のシフト
量t;3.290
量t;3.290
【0029】
【発明の効果】以上のように本発明は、紫外線結像光学
システムをコリメートレンズと結像レンズに分け、両レ
ンズの間の平行光束の部分に光分岐系を設けたので、結
像光学システム内に干渉計を構成することができる。よ
って組立時あるいは使用中の測定調整、性能チェックを
容易に行なうことができるという効果が得られる。
システムをコリメートレンズと結像レンズに分け、両レ
ンズの間の平行光束の部分に光分岐系を設けたので、結
像光学システム内に干渉計を構成することができる。よ
って組立時あるいは使用中の測定調整、性能チェックを
容易に行なうことができるという効果が得られる。
【図1】本発明による紫外線結像光学システムの全体構
成を示す模式光学図である。
成を示す模式光学図である。
【図2】図1の装置において、干渉計を構成する場合の
第1の例を示す図である。
第1の例を示す図である。
【図3】同干渉計を構成する場合の第2の例を示す図で
ある。
ある。
【図4】同干渉計を構成する場合の第3の例を示す図で
ある。
ある。
【図5】図1のシステム中の略平行平面板の拡大図であ
る。
る。
【図6】図1のシステムに用いるコリメートレンズ、結
像レンズ及び略平行平面板の具体例を示すレンズ構成図
である。
像レンズ及び略平行平面板の具体例を示すレンズ構成図
である。
11 コリメートレンズ 12 結像レンズ 13 レチクル(縮小露光用チャート) 14 ウエハ(感光材料) 15 略平行平面板 16 参照ミラー 17 集光レンズ 18 空間フィルタ 19 ビデオカメラ 20 モニターテレビ 21 調整用観測レンズ 23 ピンホール板 24A 平面ミラー 24B 球面凸ミラー 24C 球面凹ミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若宮 俊一郎 東京都板橋区前野町2丁目36番9号 旭光 学工業株式会社内 (72)発明者 久保田 重夫 東京都品川区北品川6−7−35 ソニー株 式会社内 (72)発明者 菅沼 洋 東京都品川区北品川6−7−35 ソニー株 式会社内 (72)発明者 武田 実 東京都品川区北品川6−7−35 ソニー株 式会社内
Claims (13)
- 【請求項1】 紫外線光源からの光束を平行光束化する
コリメートレンズと;このコリメートレンズからの平行
光束を結像する結像レンズと;コリメートレンズからの
射出平行光束と、結像レンズを透過して反射体で反射し
て再び結像レンズを透過した反射光との少なくとも一方
を外部観察系へ導く、上記コリメートレンズから結像レ
ンズに至る平行光束中に配設された光分岐系と;を備え
たことを特徴とする紫外線結像光学システム。 - 【請求項2】 請求項1において、フォーカシングの
際、結像レンズのみが光軸方向に移動され、コリメート
レンズは移動しない紫外線結像光学システム。 - 【請求項3】 請求項1または2において、上記光分岐
系には、上記コリメートレンズからの射出平行光束と、
上記結像レンズを透過して反射体で反射した光を干渉さ
せて干渉縞を作る干渉計が配設されている紫外線結像光
学システム。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項におい
て、上記光分岐系は、一方の面に半透過膜を付し、他方
の面に反射防止膜を付した略平行平面板からなってい
て、この略平行平面板がコリメートレンズから結像レン
ズに至る平行光束中に光軸に対して斜めに配設されてい
る紫外線結像光学システム。 - 【請求項5】 請求項4において、上記コリメートレン
ズの光軸と結像レンズの光軸は、この略平行平面板によ
る光軸のシフト量に対応させた量だけ平行にシフトして
いる紫外線結像光学システム。 - 【請求項6】 請求項4または5において、略平行平面
板は、その表裏面が完全に平行ではなく微小角度の楔状
をなしている紫外線結像光学システム。 - 【請求項7】 請求項1ないし6のいずれか1項におい
て、上記結像レンズを透過して反射体で反射した反射光
を上記光分岐系により分岐させ、この反射光の情報によ
って得られる該結像レンズの像点位置情報から、該結像
レンズを反射体に対して光軸方向に相対的に動かして焦
点調節を行なう紫外線結像光学システム。 - 【請求項8】 請求項3ないし7のいずれか1項におい
て、上記光分岐系は、上記コリメートレンズからの射出
平行光束と上記反射体からの反射光とを集光する集光レ
ンズと、この集光レンズの後側焦点近傍に配置した空間
フィルタとを有する紫外線結像光学システム。 - 【請求項9】 請求項8において、上記光分岐系は、上
記コリメートレンズからの射出平行光束と、上記反射体
からの反射光とのいずれか一方の進行方向を変化させる
ための回転可能に保持された反射部材を有する紫外線結
像光学システム。 - 【請求項10】 請求項3ないし9のいずれか1項にお
いて、上記結像レンズの焦点面には、感光材料と、該焦
点面内に位置する反射面または該焦点面内に曲率中心を
位置させる球面状反射面とを交換して配置可能である紫
外線結像光学システム。 - 【請求項11】 請求項3ないし9のいずれか1項にお
いて、上記コリメートレンズの前側焦点位置には、縮小
露光用パターンと、ピンホール板とを交換して配置可能
である紫外線結像光学システム。 - 【請求項12】 請求項10において、球面状反射面
は、その曲率中心を上記焦点面内に保持したまま移動可
能である紫外線結像光学システム。 - 【請求項13】 請求項10において、さらに集光レン
ズの焦点を、ビデオカメラの撮像面と共役にする調整用
観測レンズを有する紫外線結像光学システム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6321033A JPH08179202A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 紫外線結像光学システム |
US08/577,160 US6115175A (en) | 1994-12-22 | 1995-12-22 | UV image forming optical system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6321033A JPH08179202A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 紫外線結像光学システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08179202A true JPH08179202A (ja) | 1996-07-12 |
Family
ID=18128054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6321033A Withdrawn JPH08179202A (ja) | 1994-12-22 | 1994-12-22 | 紫外線結像光学システム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6115175A (ja) |
JP (1) | JPH08179202A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7023561B2 (en) | 1999-03-24 | 2006-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus with interferometer |
WO2012023372A1 (ja) * | 2010-08-18 | 2012-02-23 | ソニー株式会社 | 光学機能素子および撮像装置 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100325144B1 (ko) * | 1999-12-03 | 2002-02-21 | 이계안 | 차량 전용 씨씨디 카메라 장치 |
US6661580B1 (en) * | 2000-03-10 | 2003-12-09 | Kla-Tencor Technologies Corporation | High transmission optical inspection tools |
US6680213B2 (en) | 2001-04-02 | 2004-01-20 | Micron Technology, Inc. | Method and system for fabricating contacts on semiconductor components |
US6472239B2 (en) | 2001-04-02 | 2002-10-29 | Micron Technology, Inc. | Method for fabricating semiconductor components |
US20040161709A1 (en) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Schroeder Joseph F. | Laser-written optical structures within calcium fluoride and other crystal materials |
US6958817B1 (en) * | 2004-08-13 | 2005-10-25 | Nanyang Technological University | Method of interferometry with modulated optical path-length difference and interferometer |
ITRE20080038A1 (it) * | 2008-04-24 | 2009-10-25 | Claudio Sedazzari | " metodo e dispositivo per la visione ottica di oggetti " |
US9697596B2 (en) | 2011-05-17 | 2017-07-04 | Gii Acquisition, Llc | Method and system for optically inspecting parts |
US10094785B2 (en) | 2011-05-17 | 2018-10-09 | Gii Acquisition, Llc | Method and system for optically inspecting headed manufactured parts |
US10088431B2 (en) | 2011-05-17 | 2018-10-02 | Gii Acquisition, Llc | Method and system for optically inspecting headed manufactured parts |
US10656397B2 (en) | 2015-06-25 | 2020-05-19 | Young Optics Inc. | Optical lens system |
JP6883939B2 (ja) * | 2015-09-14 | 2021-06-09 | 株式会社ミツトヨ | 光電式エンコーダ |
CN111077415B (zh) * | 2019-12-04 | 2024-12-13 | 浙江红相科技股份有限公司 | 一种基于全日盲技术的紫外成像仪 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4844617A (en) * | 1988-01-20 | 1989-07-04 | Tencor Instruments | Confocal measuring microscope with automatic focusing |
IL93116A (en) * | 1990-01-22 | 1994-06-24 | Avital Noni | Portable mattress and accessory kit |
JPH0519162A (ja) * | 1991-05-02 | 1993-01-29 | Asahi Optical Co Ltd | 対物レンズ及び対物レンズの測定方法 |
US5657164A (en) * | 1991-05-28 | 1997-08-12 | Discovision Associates | Optical beamsplitter |
JP2750062B2 (ja) * | 1992-12-14 | 1998-05-13 | キヤノン株式会社 | 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置 |
-
1994
- 1994-12-22 JP JP6321033A patent/JPH08179202A/ja not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-12-22 US US08/577,160 patent/US6115175A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7023561B2 (en) | 1999-03-24 | 2006-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus with interferometer |
US7236254B2 (en) | 1999-03-24 | 2007-06-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus with interferometer |
WO2012023372A1 (ja) * | 2010-08-18 | 2012-02-23 | ソニー株式会社 | 光学機能素子および撮像装置 |
JP2012042665A (ja) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Sony Corp | 光学機能素子および撮像装置 |
US8953092B2 (en) | 2010-08-18 | 2015-02-10 | Sony Corporation | Optical function device and image-capturing device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6115175A (en) | 2000-09-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7236254B2 (en) | Exposure apparatus with interferometer | |
EP0736789B1 (en) | Catadioptric optical system and exposure apparatus having the same | |
US6661499B2 (en) | Projection exposure apparatus with a catadioptric projection optical system | |
USRE39024E1 (en) | Exposure apparatus having catadioptric projection optical system | |
JP5366970B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | |
JP4065923B2 (ja) | 照明装置及び該照明装置を備えた投影露光装置、該照明装置による投影露光方法、及び該投影露光装置の調整方法 | |
KR20020089204A (ko) | 반사굴절 축소 렌즈 | |
JP2004040067A (ja) | 焦点検出方法および焦点検出系を備えた結像系 | |
US6424471B1 (en) | Catadioptric objective with physical beam splitter | |
JPH08179202A (ja) | 紫外線結像光学システム | |
US6661522B2 (en) | Interference system and semiconductor exposure apparatus having the same | |
US20040075894A1 (en) | Catadioptric reduction objective | |
JP4655332B2 (ja) | 露光装置、露光装置の調整方法、およびマイクロデバイスの製造方法 | |
KR20080036927A (ko) | 투영노광장치, 광학부품 및 디바이스의 제조방법 | |
JPWO2002042728A1 (ja) | 投影光学系の収差計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置 | |
JP2005512151A (ja) | カタジオプトリック縮小対物レンズ | |
KR101118498B1 (ko) | 투영 광학계 및 그 투영 광학계를 구비한 노광 장치 | |
CN111176075B (zh) | 偏振像差检测装置、物镜测试台及光刻设备 | |
JP4304550B2 (ja) | 走査型露光装置およびその製造方法、並びに走査型露光方法 | |
TWI873204B (zh) | 光纖尖端繞射干涉儀以及校準光纖尖端繞射波前之方法 | |
JP4337149B2 (ja) | 位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP4078361B2 (ja) | 投影光学系の光学性能測定方法及び投影露光装置 | |
JP4264770B2 (ja) | 光路偏向部材を有する光学系の位置合わせ方法および該光学系の製造方法 | |
JP2010152096A (ja) | ミラー基板、ミラー、露光装置、デバイス製造方法、およびミラーの製造方法 | |
JP2002278077A (ja) | 投影光学系、投影光学系の製造方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040330 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040520 |