[go: up one dir, main page]

JPH08167110A - Magnetic head and its production - Google Patents

Magnetic head and its production

Info

Publication number
JPH08167110A
JPH08167110A JP33032394A JP33032394A JPH08167110A JP H08167110 A JPH08167110 A JP H08167110A JP 33032394 A JP33032394 A JP 33032394A JP 33032394 A JP33032394 A JP 33032394A JP H08167110 A JPH08167110 A JP H08167110A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magnetic
sputtering
soft magnetic
flux density
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP33032394A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kanji Nakanishi
寛次 中西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP33032394A priority Critical patent/JPH08167110A/en
Publication of JPH08167110A publication Critical patent/JPH08167110A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

PURPOSE: To easily produce a magnetic head essentially having such superior characteristics as high magnetic resistance of the magnetic gap part and large leakage magnetic flux at the gap part. CONSTITUTION: In this magnetic head, the saturation magnetic flux density of 1st soft magnetic layers G1, G2 is lower than that of 2nd soft magnetic layers 2, 2' and each of the 1st and 2nd soft magnetic layers has a compsn. represented by the formula Fea-m . Mm .Zb .Nc [where M is one or more among Co, Ru, Cr, V, Ni, Mn, Pd, Ir and Pt, Z is one or more among Zr, Hf, Ti, Nb, Ta, Mo and W, (a) is 69-93at.%, (b) is 2-15at.%, (c) is 5.5-15at.% and 0<=m/a<0.3]. This magnetic head has a larger gap length at the time of recording than that at the time of reproduction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、VTR、DAT、HD
D、FDD、データレコーダー等に用いて好適な磁気記
録再生装置用の磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to VTR, DAT, HD.
The present invention relates to a magnetic head for a magnetic recording / reproducing apparatus suitable for use in a D, FDD, data recorder, or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録では再生効率の観点から、磁気
再生ヘッドのギャップ長は、最短記録波長の1/2以下
に設定され、一方記録ヘッドのギャップ長は、漏れ磁束
を大きくするために再生ヘッドより広めに設定するほう
がよい。しかし、一般の磁気記録再生装置では、構成の
簡便さ、低コスト化といった観点から記録ヘッドと再生
ヘッドを同一のヘッドで行うことが多く、その場合再生
効率を優先した狭ギャップヘッドが記録再生ヘッドに用
いられる。
2. Description of the Related Art In magnetic recording, from the viewpoint of reproducing efficiency, the gap length of a magnetic reproducing head is set to 1/2 or less of the shortest recording wavelength, while the gap length of the recording head is reproduced in order to increase the leakage flux. It is better to set it wider than the head. However, in a general magnetic recording / reproducing apparatus, the same head is often used as the recording head and the reproducing head from the viewpoint of simple structure and cost reduction. Used for.

【0003】また、磁気ヘッドのギャップ部近傍に磁気
コアより飽和磁束密度Bsの低い軟磁性材料をギャップ
状に形成し、この部分を再生時には磁気コアとして作用
させると共に、記録時には磁気飽和させることによって
磁気ギャップとして作用させ、実効的に再生時の磁気ギ
ャップより記録時の磁気ギャップを広くなるようにする
2重磁気ギャップを持つ磁気ヘッドが提案されている。
例えば、第9回日本応用磁気学会学術講演概要集(198
5.11)の第288頁及び第289頁に記載の磁気ヘッドや、第
11回日本応用磁気学会学術講演概要集(1987.11)の第3
17頁に記載の磁気ヘッドがある。
Further, a soft magnetic material having a saturation magnetic flux density Bs lower than that of the magnetic core is formed in the shape of a gap in the vicinity of the gap of the magnetic head, and this portion serves as a magnetic core during reproduction and is magnetically saturated during recording. There has been proposed a magnetic head having a double magnetic gap that acts as a magnetic gap and effectively widens the magnetic gap during recording to the magnetic gap during recording.
For example, the 9th Japan Society for Applied Magnetics Academic Lecture Summary (198
5.11), the magnetic heads described on pages 288 and 289,
The 3rd of the 11th Japan Society for Applied Magnetics Proceedings (1987.11)
There is a magnetic head described on page 17.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記再生効率
を優先した狭ギャップヘッドは、磁気ギャップ部の磁気
抵抗が低く、ギャップ部での漏れ磁束が低くなりがちと
なるため、コア構造を工夫したり、コア材料の飽和磁束
密度Bsを大きくする必要がある、という問題点を有す
る。
However, in the narrow gap head that prioritizes the reproducing efficiency, the magnetic resistance of the magnetic gap portion is low and the leakage magnetic flux in the gap portion tends to be low. Therefore, the core structure is devised. Alternatively, there is a problem that it is necessary to increase the saturation magnetic flux density Bs of the core material.

【0005】本発明の第1の目的は、かかる問題点を解
決する新規な磁気ヘッドを提供することである。
A first object of the present invention is to provide a new magnetic head which solves the above problems.

【0006】一方、前記従来の2重磁気ギャップを持つ
磁気ヘッドは、前記従来の記録再生兼用ヘッドである狭
ギャップヘッドの前記問題点を解決するために提案され
たものである。
On the other hand, the conventional magnetic head having a double magnetic gap has been proposed in order to solve the above problems of the conventional narrow gap head which is also a recording / reproducing head.

【0007】しかし、前記従来の2重磁気ギャップを持
つ磁気ヘッドは、磁気コア材料として最低2種類以上の
材料を用いる必要があり、スパッタリングでの製膜工程
で異なるターゲット材料を用いる必要があるので、製造
装置が大型になるとともに製造工程が複雑で時間も要す
るようになり、コストが高くなってしまう欠点があっ
た。
However, in the conventional magnetic head having the double magnetic gap, it is necessary to use at least two kinds of materials as the magnetic core material, and it is necessary to use different target materials in the film forming process by sputtering. However, there is a drawback in that the manufacturing apparatus becomes large, the manufacturing process becomes complicated and time is required, and the cost becomes high.

【0008】本発明の第2の目的は、上記欠点を解消す
る磁気ヘッドの製造方法を提供することである。
A second object of the present invention is to provide a method of manufacturing a magnetic head which eliminates the above drawbacks.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、次の2
重磁気ギャップを持つ磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造
方法により上記目的を達成することができる。
According to the present invention, the following two
The above object can be achieved by a magnetic head having a heavy magnetic gap and a method of manufacturing the magnetic head.

【0010】 非磁性ギャップ層の片側又は両側に低
飽和磁束密度の第1軟磁性層を形成して成る2重磁気ギ
ャップ層と、前記2重磁気ギャップ層の片側又は両側に
形成され飽和磁束密度が前記第1軟磁性層よりも高い第
2軟磁性層を1対の磁気ヘッドコアの対向面間に設けて
成り、前記第1軟磁性層及び第2軟磁性層は、組成式F
a-m・Mm・Zb・Nc(ここで、a、b、c及びmの単
位はそれぞれ原子%であり、MはCo、Ru、Cr、
V、Ni、Mn、Pd、Ir及びPtの少なくとも1種
以上を示し、ZはZr、Hf、Ti、Nb、Ta、Mo
及びWの少なくとも1種以上を示す。)で示され、その
組成範囲は 0≦m/a<0.3 69≦a≦93 2≦b≦15 5.5≦c≦15 の範囲である磁気ヘッド。
A double magnetic gap layer formed by forming a first soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density on one side or both sides of a non-magnetic gap layer, and a saturation magnetic flux density formed on one side or both sides of the double magnetic gap layer. Is provided between the facing surfaces of the pair of magnetic head cores, the second soft magnetic layer being higher than the first soft magnetic layer, and the first soft magnetic layer and the second soft magnetic layer have the composition formula F
e am · M m · Z b · N c (where the units of a, b, c and m are atomic%, and M is Co, Ru, Cr,
At least one of V, Ni, Mn, Pd, Ir, and Pt is shown, and Z is Zr, Hf, Ti, Nb, Ta, Mo.
And at least one of W are shown. ) And the composition range is 0 ≦ m / a <0.3 69 ≦ a ≦ 93 2 ≦ b ≦ 15 5.5 ≦ c ≦ 15.

【0011】 1対のコアブロックの突き合わせ面を
構成する少なくとも一方の面に、組成式Fea-m・Mm
b・Nc(ここで、a、b、c及びmの単位はそれぞれ
原子%であり、MはCo、Ru、Cr、V、Ni、M
n、Pd、Ir及びPtの少なくとも1種以上を示し、
ZはZr、Hf、Ti、Nb、Ta、Mo及びWの少な
くとも1種以上を示す。)で示され、その組成範囲は 0≦m/a<0.3 69≦a≦93 2≦b≦15 5.5≦c≦15 の範囲である高飽和磁束密度の軟磁性層を熱処理によっ
て得ることができる第1スパッタリング層を形成する第
1工程と、前記第1工程により形成された第1スパッタ
リング層若しくはこの層を熱処理して得られる軟磁性層
の表面又はコアブロックの突き合わせ面を構成する面の
少なくとも1面以上に、前記第1スパッタリング層を熱
処理して得ることができる軟磁性層の飽和磁束密度より
も小さい飽和磁束密度を有し前記組成式で示され前記組
成範囲内の軟磁性層を熱処理によって得ることができる
第2スパッタリング層を形成する第2工程と、前記スパ
ッタリング層を熱処理して軟磁性層を得る第3工程と、
前記1対のコアブロックの突き合わせ面を構成する面が
対向するように前記1対のコアブロックを非磁性層を介
して接合する第4工程を含む磁気ヘッドの製造方法。
The composition formula Fe am · M m · is provided on at least one surface constituting the abutting surface of the pair of core blocks.
Z b · N c (where a, b, c and m are each atomic%, and M is Co, Ru, Cr, V, Ni, M
at least one of n, Pd, Ir and Pt,
Z represents at least one of Zr, Hf, Ti, Nb, Ta, Mo and W. ), And the composition range is 0 ≦ m / a <0.3 69 ≦ a ≦ 93 2 ≦ b ≦ 15 5.5 ≦ c ≦ 15 The soft magnetic layer with high saturation magnetic flux density is subjected to heat treatment. A first step of forming a obtainable first sputtering layer, and a surface of the first sputtering layer formed in the first step or a soft magnetic layer obtained by heat-treating this layer or an abutting surface of a core block On at least one of the surfaces having a saturation magnetic flux density smaller than the saturation magnetic flux density of the soft magnetic layer that can be obtained by heat-treating the first sputtering layer. A second step of forming a second sputtering layer capable of obtaining a magnetic layer by heat treatment, and a third step of heat-treating the sputtering layer to obtain a soft magnetic layer,
A method of manufacturing a magnetic head, comprising a fourth step of joining the pair of core blocks via a nonmagnetic layer such that the surfaces forming the abutting surfaces of the pair of core blocks face each other.

【0012】本発明の磁気ヘッドにおいて、第1軟磁性
層と第2軟磁性層の飽和磁束密度の差を0.1T以上に
すること、第1軟磁性層の飽和磁束密度を0.8〜1.
2Tにすること、第2軟磁性層の飽和磁束密度を1.2
T以上にすることは、それぞれ好ましい。
In the magnetic head of the present invention, the difference between the saturation magnetic flux densities of the first soft magnetic layer and the second soft magnetic layer is 0.1 T or more, and the saturation magnetic flux density of the first soft magnetic layer is 0.8-. 1.
2T, the saturation magnetic flux density of the second soft magnetic layer is 1.2
It is preferable that each is T or more.

【0013】本発明の磁気ヘッドの製造方法において、
スパッタリング時の雰囲気ガスの窒素分圧を第1スパッ
タリング層形成時の値よりも少なくとも5モル%以上高
くして第2スパッタリング層を形成すること、スパッタ
リング時の雰囲気ガスの窒素分圧を10〜15モル%に
して前記第2スパッタリング層を形成すること、スパッ
タリング時の雰囲気ガスの窒素分圧を2.5〜7.5モ
ル%にして前記第1スパッタリング層を形成すること
は、それぞれ好ましい。
In the method of manufacturing a magnetic head of the present invention,
Forming the second sputtering layer by increasing the nitrogen partial pressure of the atmospheric gas at the time of sputtering by at least 5 mol% or more than the value at the time of forming the first sputtering layer. It is preferable to form the second sputtering layer in an amount of mol% and form the first sputtering layer in an atmosphere gas having a nitrogen partial pressure of 2.5 to 7.5 mol% during sputtering.

【0014】[0014]

【作用】[Action]

(磁気ヘッド)非磁性ギャップ層は、磁気ヘッドの再生
時及び記録時に磁気ギャップとして作用する。
(Magnetic Head) The non-magnetic gap layer acts as a magnetic gap during reproduction and recording of the magnetic head.

【0015】第1軟磁性層は、再生時に磁気ヘッドコア
として作用し、記録時に磁気ギャップとして作用する。
The first soft magnetic layer functions as a magnetic head core during reproduction and as a magnetic gap during recording.

【0016】第2軟磁性層は、再生時及び記録時に磁気
ヘッドコアとして作用する。
The second soft magnetic layer acts as a magnetic head core during reproduction and recording.

【0017】従って、非磁性ギャップ層の厚さは、磁気
ヘッドの再生時のギャップ長になる。また、非磁性ギャ
ップ層及び第1軟磁性層の各層の厚さの和は、記録時の
ギャップ長になる。
Therefore, the thickness of the non-magnetic gap layer becomes the gap length during reproduction of the magnetic head. The sum of the thicknesses of the nonmagnetic gap layer and the first soft magnetic layer is the gap length during recording.

【0018】(磁気ヘッドの製造方法)第1スパッタリ
ング層を熱処理することにより、高飽和磁束密度の軟磁
性層を得ることができる。
(Manufacturing Method of Magnetic Head) By heat-treating the first sputtering layer, a soft magnetic layer having a high saturation magnetic flux density can be obtained.

【0019】第2スパッタリング層を熱処理することに
より、低飽和磁束密度の軟磁性層を得ることができる。
By heat-treating the second sputtering layer, a soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density can be obtained.

【0020】[0020]

【好適な実施態様】Preferred Embodiment

(磁気ヘッド)非磁性ギャップ層は、磁気ヘッドの再生
時及び記録時に磁気ギャップとして作用するものであれ
ば良く、例えば、SiO2、Al23、Ta25等を用
いることができる。その厚さ(再生時のギャップ長)
は、再生効率の観点から最短記録波長の1/2以下が好
ましく、例えば、0.3μm以下にすることができる。
(Magnetic head) The non-magnetic gap layer may be one that acts as a magnetic gap during reproduction and recording by the magnetic head, and for example, SiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 or the like can be used. Its thickness (gap length during playback)
Is preferably 1/2 or less of the shortest recording wavelength from the viewpoint of reproduction efficiency, and can be 0.3 μm or less, for example.

【0021】第1軟磁性層は、非磁性ギャップ層の片側
又は両側に形成される。
The first soft magnetic layer is formed on one side or both sides of the nonmagnetic gap layer.

【0022】第1軟磁性層の飽和磁束密度は、第2軟磁
性層の飽和磁束密度よりも小さく、その差は目的用途に
応じて種々選択されるが、一例として、それは好ましく
は0.1T以上大きくする。第1軟磁性層の飽和磁束密
度も目的に応じて選択されるが、一例として、好ましく
は0.8〜1.2Tにする。
The saturation magnetic flux density of the first soft magnetic layer is smaller than the saturation magnetic flux density of the second soft magnetic layer, and the difference is variously selected depending on the intended use. As an example, it is preferably 0.1T. Greater than that. The saturation magnetic flux density of the first soft magnetic layer is also selected according to the purpose, but as an example, it is preferably 0.8 to 1.2T.

【0023】第1軟磁性層の厚さは、好ましくは非磁性
ギャップ層の厚さと同程度以下にし、例えば0.3μm
以下にすることができる。
The thickness of the first soft magnetic layer is preferably equal to or less than the thickness of the non-magnetic gap layer, for example, 0.3 μm.
It can be:

【0024】第1軟磁性層は、高透磁率のものが好まし
く、例えば周波数5MHzで比透磁率1000〜300
0程度にする。
The first soft magnetic layer preferably has a high magnetic permeability, for example, a relative magnetic permeability of 1000 to 300 at a frequency of 5 MHz.
Set to 0.

【0025】第2軟磁性層は、磁気ヘッドの記録時及び
再生時に磁気ヘッドコアとして作用するものであり、磁
気ヘッドの記録時に磁気ギャップとして作用する層、即
ち、非磁性ギャップ層及びこの層の片側又は両側に形成
された第1軟磁性層から成る層(2重磁気ギャップ層)
の片側又は両側に形成されている。
The second soft magnetic layer functions as a magnetic head core during recording and reproduction of the magnetic head, and functions as a magnetic gap during recording of the magnetic head, that is, a nonmagnetic gap layer and one side of this layer. Or a layer composed of the first soft magnetic layer formed on both sides (double magnetic gap layer)
Is formed on one side or both sides.

【0026】第2軟磁性層の飽和磁束密度は、第1軟磁
性層の飽和磁束密度より高く、好ましくは、1.2T以
上にする。
The saturation magnetic flux density of the second soft magnetic layer is higher than that of the first soft magnetic layer, preferably 1.2T or more.

【0027】第2軟磁性層の厚さは、好ましくは1〜1
0μm、より好ましくは5〜10μmにする。
The thickness of the second soft magnetic layer is preferably 1 to 1.
The thickness is 0 μm, more preferably 5 to 10 μm.

【0028】磁気ヘッドコアは対向面及び前記対向面か
ら後退して形成される凹所を有する。コアの材料は、磁
気ヘッドのコアとして一般に使用されているもので良
く、例えばMnZn単結晶フェライト等の種々のフェラ
イトを用いることができる。
The magnetic head core has a facing surface and a recess formed by receding from the facing surface. The core material may be one generally used as a core of a magnetic head, and various ferrites such as MnZn single crystal ferrite can be used.

【0029】第1軟磁性層及び第2軟磁性層は、前記特
定の組成式Fea-m・Mm・Zb・Ncで示され、その組成
範囲は前記特定の範囲である。m/aが0.3を超える
場合は、飽和磁束密度が低すぎてしまい、第1軟磁性層
としても用いることが好ましくないものが多いという傾
向がある。
The first soft magnetic layer and the second soft magnetic layer are represented by the above-mentioned specific composition formula Fe am.M m .Z b .N c , and the composition range thereof is within the above-specified range. When m / a exceeds 0.3, the saturation magnetic flux density tends to be too low, and there is a tendency that it is not preferable to use it as the first soft magnetic layer.

【0030】(磁気ヘッドの製造方法)第1工程は、磁
気ヘッドの記録時及び再生時に磁気ヘッドコアとして作
用する前記特定の組成式で示され前記特定の組成範囲の
高飽和磁束密度の軟磁性層を得るための第1スパッタリ
ング層を形成する。第1スパッタリング層を熱処理する
ことにより、前記特定の高飽和磁束密度の軟磁性層を得
ることができる。
(Manufacturing Method of Magnetic Head) The first step is a soft magnetic layer having a high saturation magnetic flux density represented by the above-mentioned specific composition formula and acting as a magnetic head core during recording and reproduction of the magnetic head. Forming a first sputtering layer for obtaining The soft magnetic layer having the specific high saturation magnetic flux density can be obtained by heat-treating the first sputtering layer.

【0031】かかる第1スパッタリング層は、1対のコ
アブロックの突き合わせ面を構成する面の少なくとも一
方の面に形成する。
The first sputtering layer is formed on at least one of the surfaces forming the abutting surfaces of the pair of core blocks.

【0032】ここで、コアブロックとは、磁気ヘッドコ
アの半体ないしその前駆体をいい、少なくとも1以上の
磁気ヘッドコア半体を形成しうるもの、例えば1以上の
磁気ヘッドコア半体を得ることができるように基板に形
成したものであって、切断等の加工により磁気ヘッドコ
ア半体の形状を得ることができるものも含まれる。
Here, the core block means a half body of the magnetic head core or a precursor thereof, and one capable of forming at least one or more magnetic head core halves, for example, one or more magnetic head core halves can be obtained. Those formed on the substrate as described above, and those which can obtain the shape of the magnetic head core half by processing such as cutting are also included.

【0033】また、突き合わせ面を構成する面としたの
は、第1及び第2工程ではコアブロックが突き合わされ
ていることが必須ではなく、未だ突き合わされておらず
後で突き合わされる面も含むためである。
The surfaces forming the abutting surfaces do not necessarily require that the core blocks are abutted in the first and second steps, and include surfaces that are not abutted yet and are abutted later. This is because.

【0034】なお、コアブロックと第1スパッタリング
層の界面に、熱処理時の相互拡散層の形成を防止するた
めにSiO2から成る拡散防止層を設けることができ
る。前記拡散防止層は、磁気ギャップとして作用しない
程度の厚さ、例えば50〜200オングストローム程度
にする。
A diffusion prevention layer made of SiO 2 may be provided at the interface between the core block and the first sputtering layer to prevent the formation of an interdiffusion layer during heat treatment. The diffusion prevention layer has a thickness that does not act as a magnetic gap, for example, about 50 to 200 angstrom.

【0035】第2工程は、磁気ヘッドの再生時には磁気
ヘッドコアとして作用し、記録時には磁気ギャップとし
て作用し、前記特定の組成式で示され前記特定の組成範
囲の低飽和磁束密度の軟磁性層を得るための第2スパッ
タリング層を形成する。第2スパッタリング層を熱処理
することにより、前記特定の低飽和磁束密度の軟磁性層
を得ることができる。
The second step functions as a magnetic head core during reproduction of the magnetic head and as a magnetic gap during recording, and forms a soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density represented by the specific composition formula and having the specific composition range. A second sputtering layer for obtaining is formed. The soft magnetic layer having the specific low saturation magnetic flux density can be obtained by heat-treating the second sputtering layer.

【0036】かかる第2スパッタリング層は、前記第1
工程により形成された第1スパッタリング層の表面、前
記第1スパッタリング層を熱処理して得られる高飽和磁
束密度の軟磁性層の表面、又は前記コアブロックの突き
合わせ面を構成する面の少なくとも1面以上に形成す
る。
The second sputtering layer is the first sputtering layer.
At least one surface of the surface of the first sputtering layer formed by the step, the surface of the soft magnetic layer having a high saturation magnetic flux density obtained by heat-treating the first sputtering layer, or the surface forming the abutting surface of the core block. To form.

【0037】第1及び第2スパッタリング層は、それぞ
れスパッタリングにより形成でき、それぞれ前記特定の
組成式で示され前記特定の組成範囲内の軟磁性層を得る
ためのものであるから、同一のスパッタリング用ターゲ
ットを用いて形成することができる。かかるターゲット
としては、FeとZを含むもの、FeとMとZを含むも
の(ここでM及びZは、前記特定の組成式中に示される
M及びZと同様のものを示す。)を用いることができ
る。例えば、組成Fe85.5−Cr4.5−Zr10のターゲ
ット、組成Fe85.5−Ni4.5−Zr10のターゲット等
がある。
The first and second sputtering layers can be formed by sputtering, respectively, and are for obtaining a soft magnetic layer having the above-mentioned specific composition formula and within the specific composition range. It can be formed using a target. As such a target, a target containing Fe and Z or a target containing Fe, M and Z (where M and Z are the same as M and Z shown in the above specific composition formula) is used. be able to. For example, there are targets of the composition Fe 85.5 -Cr 4.5 -Zr 10 and targets of the composition Fe 85.5 -Ni 4.5 -Zr 10 .

【0038】既述のように、第1工程は、高飽和磁束密
度の軟磁性層を形成するための第1スパッタリング層を
形成する工程であり、これに対し第2工程は低飽和磁束
密度の軟磁性層を形成するための第2スパッタリング層
を形成する工程である点で両工程は異なる。かかる飽和
磁束密度が異なり組成範囲が重複する軟磁性層を形成す
るためのスパッタリング層は、スパッタリング時の雰囲
気ガスの窒素分圧を変更して形成することができる。
As described above, the first step is a step of forming a first sputtering layer for forming a soft magnetic layer having a high saturation magnetic flux density, whereas the second step is a step of forming a low saturation magnetic flux density. The two steps are different in that they are the steps of forming the second sputtering layer for forming the soft magnetic layer. The sputtering layer for forming such a soft magnetic layer having different saturation magnetic flux densities and overlapping composition ranges can be formed by changing the nitrogen partial pressure of the atmospheric gas at the time of sputtering.

【0039】かかる窒素分圧の変更は、上記スパッタリ
ング層を形成するためのターゲットの組成によっても異
なるが、一般的には、前記第1スパッタリング層形成の
ための窒素分圧は好ましくは2.5〜7.5モル%に
し、前記第2スパッタリング層形成のための窒素分圧は
好ましくは10〜15モル%にする。第1と第2のスパ
ッタリング層形成のための窒素分圧差は、好ましくは5
〜10モル%にする。スパッタリング時の雰囲気ガスの
他の成分としては、Ar等の不活性ガスを用いることが
できる。スパッタリング時の雰囲気ガスの圧力は、好ま
しくは0.5〜2Paにする。
The change of the nitrogen partial pressure depends on the composition of the target for forming the sputtering layer, but in general, the nitrogen partial pressure for forming the first sputtering layer is preferably 2.5. ˜7.5 mol%, and the nitrogen partial pressure for forming the second sputtering layer is preferably 10˜15 mol%. The nitrogen partial pressure difference for forming the first and second sputtering layers is preferably 5
-10 mol%. An inert gas such as Ar can be used as the other component of the atmospheric gas at the time of sputtering. The atmospheric gas pressure during sputtering is preferably 0.5 to 2 Pa.

【0040】第3工程は、スパッタリング層を熱処理し
て軟磁性層を得る工程である。目的とする軟磁性層を得
ることができる熱処理条件で熱処理すれば良いが、熱処
理温度は、好ましくは250℃以上、より好ましくは3
50〜550℃で行ない、熱処理時間は、好ましくは3
0分〜1時間程度で良いが、必要であれば1時間〜9時
間、あるいはそれ以上の時間で行なうことができる。
The third step is a step of heat-treating the sputtering layer to obtain a soft magnetic layer. The heat treatment may be carried out under the heat treatment conditions capable of obtaining the intended soft magnetic layer, but the heat treatment temperature is preferably 250 ° C. or higher, more preferably 3
It is carried out at 50 to 550 ° C., and the heat treatment time is preferably 3
It may be about 0 minutes to 1 hour, but if necessary, it may be carried out for 1 hour to 9 hours or more.

【0041】軟磁性層を得るためのかかる熱処理工程
は、コアブロックに第1及び第2スパッタリング層を形
成した後に一括して行なうこともできるが、第1及び第
2の各スパッタリング層形成後にそれぞれ別々に1回ず
つ(合計2回)行なうこともできる。また、第1及び第
2スパッタリング層を有する1対のコアブロックを非磁
性層を介して接合した後に熱処理してもよい。
The heat treatment process for obtaining the soft magnetic layer may be performed collectively after the first and second sputtering layers are formed on the core block, but after the first and second sputtering layers are formed, respectively. It is also possible to carry out once separately (twice in total). Alternatively, the pair of core blocks having the first and second sputtering layers may be bonded together via the nonmagnetic layer and then heat treated.

【0042】第4工程は、記録時及び再生時に磁気ギャ
ップとして作用する非磁性層を介して、前記スパッタリ
ング層又は軟磁性層をコアブロックの突き合わせ面に備
えた1対のコアブロックを接合する工程である。接合す
る際には、1対のコアブロックの突き合わせ面を構成す
る面を対向させる。接合する材料としては、例えばガラ
スを用い、これを溶融させて接合材として使用する。
The fourth step is a step of joining a pair of core blocks having the aforesaid sputtering layer or soft magnetic layer to the abutting surfaces of the core blocks via a non-magnetic layer which acts as a magnetic gap during recording and reproduction. Is. When joining, the surfaces forming the abutting surfaces of the pair of core blocks are opposed to each other. As a material for joining, for example, glass is used, which is melted and used as a joining material.

【0043】[0043]

【実施例】以下、図面により本発明の磁気ヘッドの実施
例を説明する。
Embodiments of the magnetic head of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0044】(実施例1)図1は、本発明の一実施例で
ある磁気ヘッドの先端拡大概略斜視図であり、図2は磁
気ヘッドの摺動面(記録媒体指向面)Sを示し、図3
は、図2のA−A′線断面図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is an enlarged schematic perspective view of the tip of a magnetic head according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a sliding surface (recording medium directing surface) S of the magnetic head. Figure 3
FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【0045】厚さ0.2μmのSiO2から成る非磁性
ギャップ層G0は、磁気ヘッドの再生時及び記録時に磁
気ギャップとして作用する。この非磁性ギャップ層の実
効ギャップ長(再生出力の波長応答性のディップ点波長
の0.89倍の長さ)は0.17μmである。
The nonmagnetic gap layer G0 made of SiO 2 and having a thickness of 0.2 μm acts as a magnetic gap during reproduction and recording of the magnetic head. The effective gap length of this non-magnetic gap layer (length that is 0.89 times the dip point wavelength of the wavelength response of the reproduction output) is 0.17 μm.

【0046】厚さ0.05μmで低飽和磁束密度(1.
08T)の第1軟磁性層G1、G2は、前記非磁性ギャ
ップ層G0の両側に形成されており、前記非磁性ギャッ
プ層と共に2重磁気ギャップ層となり、記録時に磁気ギ
ャップとして作用し再生時に磁気ヘッドコアとして作用
する。
With a thickness of 0.05 μm, a low saturation magnetic flux density (1.
08T) first soft magnetic layers G1 and G2 are formed on both sides of the non-magnetic gap layer G0, and together with the non-magnetic gap layer become a double magnetic gap layer, which acts as a magnetic gap during recording and acts as a magnetic gap during reproduction. Acts as a head core.

【0047】厚さ7μmで高飽和磁束密度(1.43
T)の第2軟磁性層2、2′は、それぞれ前記第1軟磁
性層G1、G2をはさむように前記2重磁気ギャップ層
の両側に形成されており、再生時及び記録時に磁気ヘッ
ドコアとして作用する。
With a thickness of 7 μm, a high saturation magnetic flux density (1.43
The second soft magnetic layers 2 and 2'of T) are formed on both sides of the double magnetic gap layer so as to sandwich the first soft magnetic layers G1 and G2, respectively, and serve as a magnetic head core during reproduction and recording. To work.

【0048】フェライトコア1、1′は、先端対向面1
a、1a′及び該対向面から後退して形成される凹所1
b、1b′を有し、所定の位置(図示せず)で結合して
いる。かかる1対のフェライトコア1、1′の先端対向
面間に、前記非磁性ギャップ層、第1及び第2軟磁性層
を設けている。
The ferrite cores 1 and 1'include the front end facing surface 1
a, 1a 'and a recess 1 formed by receding from the facing surface
b, 1b ', and they are connected at a predetermined position (not shown). The non-magnetic gap layer and the first and second soft magnetic layers are provided between the surfaces of the pair of ferrite cores 1 and 1 ′ facing the tips.

【0049】ここで、フェライトコア1、1′と前記第
2軟磁性層2、2′のそれぞれの界面には熱処理時の相
互拡散層形成を防止するために、SiO2から成る50
オングストロームの拡散防止層3、3′をもうけてい
る。
Here, in order to prevent formation of an interdiffusion layer at the time of heat treatment, SiO 2 is formed at the interface between each of the ferrite cores 1 and 1'and the second soft magnetic layers 2 and 2 '.
The angstrom diffusion preventing layers 3 and 3'are provided.

【0050】ガラス充填部5、5′は、1対のフェライ
トコア1、1′を強力に接着させており、Mはコイルを
巻装するための巻線溝である。
The glass-filled portions 5, 5'strongly adhere the pair of ferrite cores 1, 1 ', and M is a winding groove for winding the coil.

【0051】前記磁気ヘッドの製造方法の一例を次に説
明する。コアブロックであるフェライトコア1の半体の
先端対向面1a及び該対向面から後退して形成される凹
所1bに、スパッタリング法等の気相析着法により拡散
防止層であるSiO2層3を形成し、その表面に高飽和
磁束密度の軟磁性層を得るための第1スパッタリング層
を形成し、その表面に低飽和磁束密度の軟磁性層を得る
ための第2スパッタリング層を形成した。
An example of a method of manufacturing the magnetic head will be described below. The SiO 2 layer 3 which is a diffusion preventing layer is formed on the front end facing surface 1a of the half body of the ferrite core 1 which is the core block and the recess 1b formed by receding from the facing surface by a vapor deposition method such as a sputtering method. Was formed, a first sputtering layer for obtaining a soft magnetic layer having a high saturation magnetic flux density was formed on the surface, and a second sputtering layer for obtaining a soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density was formed on the surface.

【0052】前記第1スパッタリング層は、組成Fe
85.5−Cr4.5−Zr10のターゲットを用い、スパッタ
リング時の雰囲気ガス(圧力0.6Pa)中の窒素分圧
5モル%(残部アルゴンガス)の条件で形成した。
The first sputtering layer has a composition of Fe.
85.5 -Cr 4.5 using a target of -Zr 10, was formed under the conditions of the atmosphere gas during sputtering nitrogen partial pressure of 5 mol% of (pressure 0.6 Pa) in (balance argon).

【0053】前記第2スパッタリング層は、前記窒素分
圧を12.5モル%にする以外は、前記第1スパッタリ
ング層形成のための条件と同様にして形成した。
The second sputtering layer was formed under the same conditions for forming the first sputtering layer except that the nitrogen partial pressure was 12.5 mol%.

【0054】次に、前記第1及び第2スパッタリング層
を形成したフェライトコア半体を、トラック幅方向の磁
界中(1.1kOe)、550℃、60分間熱処理し、
1.43T及び1.08Tの飽和磁束密度の異なる軟磁
性層を形成した。
Next, the ferrite core halves having the first and second sputtering layers formed thereon are heat-treated in a magnetic field in the track width direction (1.1 kOe) at 550 ° C. for 60 minutes.
Soft magnetic layers having different saturation magnetic flux densities of 1.43T and 1.08T were formed.

【0055】前記熱処理によって得られた低飽和磁束密
度の軟磁性層の表面に、前記非磁性ギャップ層G0の厚
さの半分の厚さ(0.1μm)でSiO2層を形成し
た。
On the surface of the soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density obtained by the heat treatment, a SiO 2 layer having a thickness (0.1 μm) which is half the thickness of the nonmagnetic gap layer G0 was formed.

【0056】このようにして、フェライトコア半体に上
述の4種の層を形成して成る多層状の磁気ヘッドコア半
体を得た。この多層状の磁気ヘッドコア半体と共に磁気
ヘッドを構成するもう一方の多層状の磁気ヘッドコア半
体も上記と同様に形成した。
In this way, a multi-layered magnetic head core half was obtained by forming the above-mentioned four kinds of layers on the ferrite core half. The other multi-layered magnetic head core half constituting the magnetic head together with this multi-layered magnetic head core half was formed in the same manner as described above.

【0057】以上のようにして得られた一対の多層状磁
気ヘッドコア半体を所定方向に突き合わせ、その凹所部
分に溶融ガラスを充填し冷却して、前記一対のコア半体
を強力に接合して、2重磁気ギャップを持つ磁気ヘッド
を製造した。
The pair of multi-layered magnetic head core halves obtained as described above are butted against each other in a predetermined direction, the recessed portion is filled with molten glass and cooled to strongly bond the pair of core halves. Then, a magnetic head having a double magnetic gap was manufactured.

【0058】(比較例)低飽和磁束密度の第1軟磁性層
を具備しないこと以外は、前記実施例1と同様の磁気ヘ
ッドを、前記製造方法と同様にして製造した。
(Comparative Example) A magnetic head similar to that of Example 1 was manufactured in the same manner as in the manufacturing method except that the first soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density was not provided.

【0059】(再生出力の測定)前記実施例1及び前記
比較例の各磁気ヘッドにより、相対速度3.8m/s、
使用テープFUJISUPERDCの条件で、再生出力
を測定した。測定結果を図4に示す。この図によれば、
本発明の磁気ヘッドは、従来例(比較例)の磁気ヘッド
よりも再生出力が向上した、ということがわかる。
(Measurement of Reproduction Output) With each magnetic head of Example 1 and Comparative Example, relative speed was 3.8 m / s,
The reproduction output was measured under the conditions of the tape FUJISUPERDC used. The measurement results are shown in FIG. According to this figure
It can be seen that the magnetic head of the present invention has improved reproduction output as compared with the magnetic head of the conventional example (comparative example).

【0060】(実施例2)前記特定の組成式で示され前
記特定の組成範囲の軟磁性層であって、飽和磁束密度が
高いものと低いものを形成した。以下、説明する。
(Example 2) Soft magnetic layers having the above-mentioned specific composition formulas and having the above-mentioned specific composition ranges having high and low saturation magnetic flux densities were formed. This will be described below.

【0061】Fe100-yZry(y=5.0、10.0、
15.0(at%))の組成の合金ターゲットを作製
し、それぞれ2.5〜12.5モル%の窒素を含む、窒
素含有アルゴンガス雰囲気中で、ガス圧力0.6Pa、
投入電力200Wの条件で高周波スパッタリングを行な
い種々の組成の非晶質合金薄膜を得た。これらの各薄膜
を磁界中で熱処理し、軟磁性薄膜を得て、それらの飽和
磁束密度Bs、保磁力Hcを測定した。Bs及びHcの
測定は交流BHトレーサー(印加磁界50Hz、25O
e、ただしHc>25の場合は、90Oe)による(以
下同様)。基板には結晶化ガラス基板(PEG3130
C HOYA製)を用いた。また膜厚はいずれも0.6
μm程度とした。
Fe 100-y Zr y (y = 5.0, 10.0,
15.0 (at%)), an alloy target having a composition of 2.5 to 12.5 mol% and containing nitrogen in an argon gas atmosphere containing nitrogen at a gas pressure of 0.6 Pa,
High frequency sputtering was performed under conditions of an input power of 200 W to obtain amorphous alloy thin films having various compositions. Each of these thin films was heat-treated in a magnetic field to obtain a soft magnetic thin film, and their saturation magnetic flux density Bs and coercive force Hc were measured. AC BH tracer (applied magnetic field 50Hz, 25O
However, in the case of Hc> 25, 90 Oe) (the same applies hereinafter). The substrate is a crystallized glass substrate (PEG3130
C HOYA) was used. In addition, the film thickness is 0.6
It was about μm.

【0062】これらの結果を表1に示す。なお、Hcは
容易軸方向の値で示す。また、一部の軟磁性薄膜につい
ては、磁歪について測定した。磁歪は、膜に応力を加え
た時のBH特性の変化から磁歪の正負判定を行なった。
この結果も表1に示す。
The results are shown in Table 1. Hc is shown as a value in the easy axis direction. Further, magnetostriction was measured for some soft magnetic thin films. As for magnetostriction, the sign of magnetostriction was determined from the change in BH characteristics when stress was applied to the film.
The results are also shown in Table 1.

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドは、非磁性ギャップ
層が再生時に磁気ギャップとして作用し、非磁性ギャッ
プ層及び低飽和磁束密度の第1軟磁性層が記録時に磁気
ギャップとして作用するので、記録時のギャップ長が再
生時のギャップ長よりも長い。従って、磁気ギャップ部
の磁気抵抗が高く、ギャップ部での漏れ磁束が大きい、
という優れた特性を本質的に有する。
In the magnetic head of the present invention, the nonmagnetic gap layer acts as a magnetic gap during reproduction, and the nonmagnetic gap layer and the first soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density act as a magnetic gap during recording. The gap length during recording is longer than the gap length during playback. Therefore, the magnetic resistance of the magnetic gap portion is high, and the leakage magnetic flux in the gap portion is large.
It essentially has the excellent characteristics of

【0065】その上本発明の磁気ヘッドは、記録時に磁
気ギャップとして作用する低飽和磁束密度の第1軟磁性
層の成分として高飽和磁束密度の第2軟磁性層の成分と
共通のものを選択できるので、容易に製造することがで
きる。即ち、本発明で特定する前記組成式の軟磁性層
は、スパッタリングして得られた層を熱処理して形成で
きるものであり、スパッタリング時の雰囲気ガスの窒素
分圧の変更のみにより飽和磁束密度の高い軟磁性層と低
い軟磁性層の双方を形成することができる。従って、低
飽和磁束密度の第1軟磁性層を形成するためにわざわざ
ターゲットを切り替える必要がなく、2重磁気ギャップ
を有さない通常の磁気ヘッドのように同一ターゲットを
用いて、飽和磁束密度が異なる軟磁性層を熱処理により
形成しうる2種のスパッタリング膜を連続的に製膜して
製造することができる。
Moreover, in the magnetic head of the present invention, the same component as that of the second soft magnetic layer having a high saturation magnetic flux density is selected as the component of the first soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density which acts as a magnetic gap during recording. Therefore, it can be easily manufactured. That is, the soft magnetic layer of the compositional formula specified in the present invention can be formed by heat-treating the layer obtained by sputtering, and the saturation magnetic flux density of the saturated magnetic flux density can be changed only by changing the nitrogen partial pressure of the atmospheric gas during sputtering. Both a high soft magnetic layer and a low soft magnetic layer can be formed. Therefore, it is not necessary to switch the target to form the first soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density, and the saturation magnetic flux density can be increased by using the same target as in a normal magnetic head having no double magnetic gap. Two kinds of sputtering films capable of forming different soft magnetic layers by heat treatment can be continuously formed.

【0066】本発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、
磁気ギャップ部の磁気抵抗が高くギャップ部での漏れ磁
束が大きいという優れた特性を本質的に有する2重磁気
ギャップを持つ磁気ヘッドを以下に説明するように容易
に製造できる。
According to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention,
A magnetic head having a double magnetic gap, which essentially has the excellent characteristic that the magnetic resistance of the magnetic gap portion is high and the leakage magnetic flux in the gap portion is large, can be easily manufactured as described below.

【0067】第1スパッタリング層は、磁気ヘッドの再
生時及び記録時の双方において磁気ヘッドコアとして作
用する高飽和磁束密度の軟磁性層を熱処理によって得る
ためのものである。第2スパッタリング層は、再生時に
磁気ヘッドコアとして作用し記録時に磁気ギャップとし
て作用する低飽和磁束密度の軟磁性層を熱処理によって
得るためのものである。本発明の製造方法では、第2ス
パッタリング層として、前記高飽和磁束密度の軟磁性層
と同様の組成式で示され同様の組成範囲内の軟磁性層で
あって飽和磁束密度が低い軟磁性層を熱処理により得る
ことができるものを選択した。そのため、かかる第2ス
パッタリング層は、ターゲットの交換なしに第1スパッ
タリング層形成のためのターゲットをそのまま用い、ス
パッタリング時の雰囲気ガスの窒素分圧を第1スパッタ
リング層形成用の窒素分圧から変更するだけで容易に製
造することができる。
The first sputtering layer is for obtaining a soft magnetic layer having a high saturation magnetic flux density, which acts as a magnetic head core both during reproduction of the magnetic head and during recording, by heat treatment. The second sputtering layer is for obtaining by heat treatment a soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density, which acts as a magnetic head core during reproduction and acts as a magnetic gap during recording. In the manufacturing method of the present invention, as the second sputtering layer, a soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density, which is represented by the same composition formula as the soft magnetic layer having the high saturation magnetic flux density and has a similar composition range, is used. Was selected by heat treatment. Therefore, for the second sputtering layer, the target for forming the first sputtering layer is used as it is without changing the target, and the nitrogen partial pressure of the atmospheric gas at the time of sputtering is changed from the nitrogen partial pressure for forming the first sputtering layer. It can be easily manufactured.

【0068】従って、本発明の製造方法によれば、2重
磁気ギャップ層形成の製膜のために異なるターゲット材
料を用いることにより生じていた製造装置の大型化、製
造工程の複雑化、製造時間の長時間化、高コスト化等の
問題点を解決できる。
Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, the manufacturing apparatus is increased in size, the manufacturing process is complicated, and the manufacturing time is increased by using different target materials for forming the double magnetic gap layer. It is possible to solve problems such as a long time and a high cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例である磁気ヘッドの先端拡大
概略斜視図である。
FIG. 1 is an enlarged schematic perspective view of a tip of a magnetic head according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例である磁気ヘッドの摺動面を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a sliding surface of a magnetic head according to an embodiment of the present invention.

【図3】図2のA−A′線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2;

【図4】本発明の磁気ヘッドと従来の磁気ヘッド(比較
例)の再生出力の周波数特性を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing frequency characteristics of reproduction output of a magnetic head of the present invention and a conventional magnetic head (comparative example).

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】非磁性ギャップ層の片側又は両側に低飽和
磁束密度の第1軟磁性層を形成して成る2重磁気ギャッ
プ層と、 前記2重磁気ギャップ層の片側又は両側に形成され飽和
磁束密度が前記第1軟磁性層よりも高い第2軟磁性層を
1対の磁気ヘッドコアの対向面間に設けて成り、 前記第1軟磁性層及び第2軟磁性層は、組成式Fea-m
・Mm・Zb・Nc(ここで、a、b、c及びmの単位は
それぞれ原子%であり、MはCo、Ru、Cr、V、N
i、Mn、Pd、Ir及びPtの少なくとも1種以上を
示し、ZはZr、Hf、Ti、Nb、Ta、Mo及びW
の少なくとも1種以上を示す。)で示され、その組成範
囲は 0≦m/a<0.3 69≦a≦93 2≦b≦15 5.5≦c≦15 の範囲であることを特徴とする磁気ヘッド。
1. A double magnetic gap layer formed by forming a first soft magnetic layer having a low saturation magnetic flux density on one side or both sides of a non-magnetic gap layer, and a saturation formed on one side or both sides of the double magnetic gap layer. A second soft magnetic layer having a magnetic flux density higher than that of the first soft magnetic layer is provided between opposed surfaces of a pair of magnetic head cores, and the first soft magnetic layer and the second soft magnetic layer have a composition formula Fe am
· M m · Z b · N c ( where, a, b, units of c and m are each atomic%, M is Co, Ru, Cr, V, N
At least one of i, Mn, Pd, Ir and Pt is shown, and Z is Zr, Hf, Ti, Nb, Ta, Mo and W.
Of at least one of ), And the composition range is 0 ≦ m / a <0.3 69 ≦ a ≦ 93 2 ≦ b ≦ 15 5.5 ≦ c ≦ 15.
【請求項2】前記第1軟磁性層と第2軟磁性層の飽和磁
束密度の差は0.1T以上であることを特徴とする請求
項1記載の磁気ヘッド。
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the difference in saturation magnetic flux density between the first soft magnetic layer and the second soft magnetic layer is 0.1 T or more.
【請求項3】前記第1軟磁性層の飽和磁束密度は0.8
〜1.2Tであることを特徴とする請求項1又は2記載
の磁気ヘッド。
3. The saturation magnetic flux density of the first soft magnetic layer is 0.8.
3. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head has a thickness of 1.2T.
【請求項4】前記第2軟磁性層の飽和磁束密度は1.2
T以上であることを特徴とする請求項1〜3の一に記載
の磁気ヘッド。
4. The saturation magnetic flux density of the second soft magnetic layer is 1.2.
The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is T or more.
【請求項5】1対のコアブロックの突き合わせ面を構成
する少なくとも一方の面に、組成式Fea-m・Mm・Zb
・Nc(ここで、a、b、c及びmの単位はそれぞれ原
子%であり、MはCo、Ru、Cr、V、Ni、Mn、
Pd、Ir及びPtの少なくとも1種以上を示し、Zは
Zr、Hf、Ti、Nb、Ta、Mo及びWの少なくと
も1種以上を示す。)で示され、その組成範囲は 0≦m/a<0.3 69≦a≦93 2≦b≦15 5.5≦c≦15 の範囲である高飽和磁束密度の軟磁性層を熱処理によっ
て得ることができる第1スパッタリング層を形成する第
1工程と、 前記第1工程により形成された第1スパッタリング層若
しくはこの層を熱処理して得られる軟磁性層の表面又は
コアブロックの突き合わせ面を構成する面の少なくとも
1面以上に、前記第1スパッタリング層を熱処理して得
ることができる軟磁性層の飽和磁束密度よりも小さい飽
和磁束密度を有し前記組成式で示され前記組成範囲内の
軟磁性層を熱処理によって得ることができる第2スパッ
タリング層を形成する第2工程と、 前記スパッタリング層を熱処理して軟磁性層を得る第3
工程と、 前記1対のコアブロックの突き合わせ面を構成する面が
対向するように前記1対のコアブロックを非磁性層を介
して接合する第4工程を含むことを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法。
5. A composition formula Fe am · M m · Z b is formed on at least one of the surfaces constituting the abutting surfaces of a pair of core blocks.
Nc (where a, b, c, and m are units of atomic%, M is Co, Ru, Cr, V, Ni, Mn,
At least one of Pd, Ir and Pt is shown, and Z is at least one of Zr, Hf, Ti, Nb, Ta, Mo and W. ), And the composition range is 0 ≦ m / a <0.3 69 ≦ a ≦ 93 2 ≦ b ≦ 15 5.5 ≦ c ≦ 15 The soft magnetic layer with high saturation magnetic flux density is subjected to heat treatment. A first step of forming a obtainable first sputtering layer, and a surface of the first sputtering layer formed in the first step or a soft magnetic layer obtained by heat-treating this layer or an abutting surface of a core block On at least one of the surfaces having a saturation magnetic flux density smaller than the saturation magnetic flux density of the soft magnetic layer that can be obtained by heat-treating the first sputtering layer. A second step of forming a second sputtering layer that can obtain a magnetic layer by heat treatment, and a third step of heat-treating the sputtering layer to obtain a soft magnetic layer
And a fourth step of joining the pair of core blocks through a non-magnetic layer so that the surfaces forming the abutting surfaces of the pair of core blocks face each other. Method.
【請求項6】スパッタリング時の雰囲気ガスの窒素分圧
を第1スパッタリング層形成時の値よりも少なくとも5
モル%以上高くして第2スパッタリング層を形成するこ
とを特徴とする請求項5記載の磁気ヘッドの製造方法。
6. The nitrogen partial pressure of the atmospheric gas at the time of sputtering is at least 5 more than the value at the time of forming the first sputtering layer.
6. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 5, wherein the second sputtering layer is formed with a mole ratio of at least 100%.
【請求項7】スパッタリング時の雰囲気ガスの窒素分圧
を10〜15モル%にして前記第2スパッタリング層を
形成することを特徴とする請求項5又は6記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。
7. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 5, wherein the second sputtering layer is formed by adjusting the nitrogen partial pressure of the atmospheric gas during sputtering to 10 to 15 mol%.
【請求項8】スパッタリング時の雰囲気ガスの窒素分圧
を2.5〜7.5モル%にして前記第1スパッタリング
層を形成することを特徴とする請求項5〜7の一に記載
の磁気ヘッドの製造方法。
8. The magnetic material according to claim 5, wherein the nitrogen partial pressure of the atmospheric gas at the time of sputtering is set to 2.5 to 7.5 mol% to form the first sputtering layer. Head manufacturing method.
JP33032394A 1994-12-07 1994-12-07 Magnetic head and its production Withdrawn JPH08167110A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33032394A JPH08167110A (en) 1994-12-07 1994-12-07 Magnetic head and its production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33032394A JPH08167110A (en) 1994-12-07 1994-12-07 Magnetic head and its production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08167110A true JPH08167110A (en) 1996-06-25

Family

ID=18231348

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33032394A Withdrawn JPH08167110A (en) 1994-12-07 1994-12-07 Magnetic head and its production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08167110A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5227940A (en) Composite magnetic head
JP2780588B2 (en) Stacked magnetic head core
JPH08167110A (en) Magnetic head and its production
JP2775770B2 (en) Method for manufacturing soft magnetic thin film
JP3127075B2 (en) Soft magnetic alloy film, magnetic head, and method of adjusting thermal expansion coefficient of soft magnetic alloy film
JP2933638B2 (en) Manufacturing method of magnetic head
JP3452594B2 (en) Manufacturing method of magnetic head
JP2798315B2 (en) Composite magnetic head
JPH03132005A (en) Magnetic thin film and magnetic head using this film
JPH03203008A (en) Production of laminated film of fe-si-al ferromagnetic alloy for magnetic head
JPH0765316A (en) Magnetic head
JPH0555036A (en) Soft magnetic thin film and its manufacture, soft magnetic multilayer film and its manufacture as well as magnetic head
JP2000011314A (en) Magnetic head and its production
JPH04289507A (en) Magnetic head
JPH05226151A (en) Soft magnetic alloy film to be used for magnetic head and having high saturation flux density and high heat resistance and magnetic head
JPH04359501A (en) Multilayer ferromagnetic substance
JPH053121A (en) Magnetic member
JPH05234020A (en) Magnetic head
JPS63173215A (en) Magnetic head
JPH03132006A (en) Multilayer magnetic film and magnetic head using this film
JPH04147410A (en) Magnetic disk
JPH06203323A (en) Magnetic head and its production
JPH0887713A (en) Manufacture method for magnetic head
JPH0354705A (en) Soft magnetic thin film and magnetic head using this film
JPH08235515A (en) Magnetic head

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20020305