JPH08142597A - Transfer foil and decorative glass using the same - Google Patents
Transfer foil and decorative glass using the sameInfo
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- JPH08142597A JPH08142597A JP30945094A JP30945094A JPH08142597A JP H08142597 A JPH08142597 A JP H08142597A JP 30945094 A JP30945094 A JP 30945094A JP 30945094 A JP30945094 A JP 30945094A JP H08142597 A JPH08142597 A JP H08142597A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、立体感があり、意匠効果の優れた
転写箔を提供し、それを用いた装飾ガラスを得ることを
目的とする。
【構成】 基材シート11に電離放射線硬化性樹脂で凹
凸模様12を形成し、その上に光透過性が10〜90%
になるように、半透明な薄膜層13を形成した後、光輝
性樹脂で凹部に樹脂を充填して凹凸形状のある光輝性樹
脂層14を設け、その上から絵柄16を印刷し、更に接
着剤をコートして接着剤層17を形成して転写箔2を作
製する。この転写箔2を用いて、プライマー層18を形
成したガラス板19に転写し、凹凸模様12を形成した
基材シート11を剥離し、転写層の表面となった半透明
な薄膜層13の上に隠蔽層(図示せず)を設けて装飾ガ
ラス板とする。
(57) [Summary] [Object] An object of the present invention is to provide a transfer foil having a three-dimensional effect and an excellent design effect, and to obtain a decorative glass using the transfer foil. [Structure] An uneven pattern 12 is formed on a substrate sheet 11 with an ionizing radiation curable resin, and the light transmittance is 10 to 90% on the uneven pattern 12.
So that the semi-transparent thin film layer 13 is formed, the concave portion is filled with the resin by the glittering resin to form the glittering resin layer 14 having the uneven shape, and the pattern 16 is printed on the glittering resin layer 14 and further adhered. A transfer foil 2 is manufactured by coating the agent to form an adhesive layer 17. This transfer foil 2 is used to transfer onto a glass plate 19 on which a primer layer 18 is formed, and the base sheet 11 on which the concavo-convex pattern 12 is formed is peeled off. A concealing layer (not shown) is provided to form a decorative glass plate.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、種々の製品の表面に微
細な凹凸模様を賦与して意匠効果の優れた製品を製造す
るための転写箔に関し、更にそれを用いた装飾ガラスに
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer foil for producing a product having an excellent design effect by imparting a fine uneven pattern on the surface of various products, and further to a decorative glass using the transfer foil. is there.
【0002】[0002]
【従来の技術】基材シートの表面に転写層を積層した転
写箔は種々知られているが、これらの転写箔は、基材シ
ート側から加熱して転写層を被転写体に接着し、しかる
後基材シートを剥離して転写層を被転写体に転写するよ
うに構成されている。その中で、転写層表面に凹凸模様
を形成して、転写後斜光により被転写体表面が虹採色を
発するようにした転写箔も提案されている。(特開平2
ー63900号公報) また、凹凸模様を形成した基材シートに半透明の金属蒸
着膜等を形成した後、このシートをガラス基板に貼り付
けて装飾ガラスを製造する方法も提案されている。ま
た、基材フィルムに剥離層を形成した後、凹凸模様を設
けた透明ラッカー被覆層を形成し、その凹凸模様の上に
金属蒸着膜を設け、更に接着層を設けた転写箔も提案さ
れている。2. Description of the Related Art Various transfer foils having a transfer layer laminated on the surface of a base material sheet are known, and these transfer foils are heated from the base material sheet side to bond the transfer layer to a transfer target. After that, the base material sheet is peeled off to transfer the transfer layer to the transfer target. Among them, there is also proposed a transfer foil in which an uneven pattern is formed on the surface of the transfer layer so that the surface of the transferred object emits rainbow color due to oblique light after transfer. (JP-A-2
There is also proposed a method of manufacturing a decorative glass by forming a semi-transparent metal vapor deposition film or the like on a base material sheet having an uneven pattern and then attaching the sheet to a glass substrate. In addition, after forming a release layer on the substrate film, a transparent lacquer coating layer having an uneven pattern is formed, a metal deposition film is provided on the uneven pattern, and a transfer foil having an adhesive layer is also proposed. There is.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、転写層表面に
凹凸模様を形成して、転写後斜光により被転写体表面が
虹採色を発するようにした転写箔は、立体感に乏しく、
意匠的に優れたものにならない。又、加熱により熱可塑
性樹脂にエンボス加工を行うため、深い凹凸形状の再現
が難しく、そのエンボス形状も経時変化により変形する
欠点がある。凹凸模様を形成した基材シートに半透明の
金属蒸着膜等を形成した後、このシートをガラス基板に
貼り付けて装飾ガラスを製造する方法は、現場施工時
に、ガラスに貼り付けたシートが上手に切れず、作業性
に問題がある。基材フィルムに凹凸模様を設けた透明ラ
ッカー被覆層を形成し、その凹凸模様の上にアルミニウ
ム(以下Alとする)蒸着膜を設け、更に接着層を設け
た転写箔は、Al蒸着膜が500Åと厚いため、転写層
が不透明となり立体感のある意匠性に優れた被転写体は
得られない。However, a transfer foil in which an uneven pattern is formed on the surface of the transfer layer so that the surface of the transferred material emits rainbow color due to oblique light after transfer, has a poor three-dimensional effect.
It does not become excellent in design. Further, since the thermoplastic resin is embossed by heating, it is difficult to reproduce a deep uneven shape, and the embossed shape is also deformed due to aging. The method of manufacturing a decorative glass by forming a semi-transparent metal deposition film on a base material sheet with an uneven pattern and then attaching this sheet to a glass substrate is a good way to attach the sheet to the glass during on-site construction. There is a problem in workability. A transparent lacquer coating layer with a concavo-convex pattern is formed on a base film, an aluminum (hereinafter referred to as Al) vapor deposition film is provided on the concavo-convex pattern, and a transfer foil with an adhesive layer further has an Al vapor deposition film of 500Å Since it is thick, the transfer layer becomes opaque, and a transferred material having a three-dimensional effect and excellent in design cannot be obtained.
【0004】本発明は、これらの問題を解決し、従来の
転写箔では見られない、立体感のある意匠性に優れた転
写箔を提供し、その転写箔を用いることにより、意匠効
果の優れた装飾ガラス等の被転写体を得ようとすもので
ある。The present invention solves these problems and provides a transfer foil having a three-dimensional effect and excellent in designability, which is not seen in conventional transfer foils. By using the transfer foil, the design effect is excellent. It is intended to obtain a transferred material such as decorative glass.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】基材シートに、微細な凹
凸面を有する樹脂層、光透過率が10〜90%の薄膜
層、光輝性物質を含有する樹脂層を順次形成したことを
特徴とする転写箔とし、また、前記転写箔の光輝性物質
を含有する樹脂層の上に絵柄層及び接着剤層を形成した
転写箔とした。更に、前記微細な凹凸面を有する樹脂層
が電離放射線硬化性樹脂であることを特徴とする転写箔
とした。そして、前記転写箔を用いて、プライマー層を
形成したガラス基板のプライマー層の表面に、光輝性物
質を含有する樹脂層の表面を接するように転写した後
に、転写された微細な樹脂層の表面に隠蔽層を形成して
装飾ガラスを作製した。[Means for Solving the Problem] A resin sheet having a fine uneven surface, a thin film layer having a light transmittance of 10 to 90%, and a resin layer containing a glittering substance are sequentially formed on a substrate sheet. And a pattern layer and an adhesive layer formed on the resin layer containing the glittering substance of the transfer foil. Further, the transfer foil is characterized in that the resin layer having the fine uneven surface is an ionizing radiation curable resin. Then, by using the transfer foil, the surface of the resin layer containing the glittering substance is transferred to the surface of the primer layer of the glass substrate on which the primer layer is formed, and then the surface of the transferred fine resin layer A concealing layer was formed on the to prepare a decorative glass.
【0006】[0006]
【作用】本発明によれば、基材シートに形成される微細
な凹凸模様は、ロール凹版を使用して電離放射線硬化性
樹脂で形成されるので、所望の凹凸模様を精度よく再現
されたものとなる。そのため、その上に形成した半透明
の金属薄膜層、光輝性物質を含有する樹脂層からなる転
写層は、電離放射線硬化性樹脂の凹凸模様を忠実に再現
して、被転写体に転写されるので、凹凸模様の上に形成
した薄くて光が透過する金属薄膜層の存在により、従来
の転写箔では見られない立体感のある意匠性に優れた被
転写体を得ることができる。また、この転写箔を用いて
ガラス板に転写することにより、意匠効果の高い装飾ガ
ラスを得ることができる。According to the present invention, since the fine uneven pattern formed on the base sheet is formed of the ionizing radiation curable resin by using the roll intaglio, the desired uneven pattern can be accurately reproduced. Becomes Therefore, the transfer layer composed of the semitransparent metal thin film layer and the resin layer containing the glittering substance formed thereon faithfully reproduces the concavo-convex pattern of the ionizing radiation curable resin and is transferred to the transfer target. Therefore, by virtue of the presence of the thin, light-transmitting metal thin film layer formed on the concavo-convex pattern, it is possible to obtain a transferred material having a three-dimensional appearance and excellent design which cannot be seen in the conventional transfer foil. Moreover, by using this transfer foil and transferring to a glass plate, a decorative glass having a high design effect can be obtained.
【0007】[0007]
【実施例】以下、実施例に基づいて、図面を参照にして
本発明を詳しく説明する。図1は本発明の転写箔の一例
を示す拡大断面図である。図2(a)は接着剤層を有す
る転写箔の拡大断面図であり、図2(b)は(a)図に
更に離型層を設けた場合の転写箔の拡大断面図である。
図3は本発明の転写箔を用いてガラス板に転写したとき
の拡大断面図であり、図4はガラス板に転写後、その表
面に隠蔽層を形成した装飾ガラスの断面図である。図5
は基材シートに微細な凹凸模様の電離放射線硬化性樹脂
層を形成するときの形成方法を示す模式断面図である。The present invention will be described in detail below with reference to the drawings based on the embodiments. FIG. 1 is an enlarged sectional view showing an example of the transfer foil of the present invention. 2A is an enlarged cross-sectional view of a transfer foil having an adhesive layer, and FIG. 2B is an enlarged cross-sectional view of the transfer foil when a release layer is further provided in FIG.
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view when transferred onto a glass plate using the transfer foil of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view of decorative glass having a concealing layer formed on the surface after transfer onto the glass plate. Figure 5
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a forming method when forming an ionizing radiation curable resin layer having a fine uneven pattern on a base material sheet.
【0008】図6は実施例1により転写箔を作製すると
きの説明図であり、図7は実施例1により作製した転写
箔を用いて装飾ガラスを作るときの説明図である。図8
は実施例2により転写箔を作製し、それを用いて化粧板
を作るときの説明図である。図9は比較例1により転写
箔を作製し、それを用いて化粧板を作るときの説明図で
あり、図10は比較例2により転写箔を作製し、それを
用いて化粧板を作るときの説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram for producing a transfer foil according to Example 1, and FIG. 7 is an explanatory diagram for producing a decorative glass using the transfer foil produced according to Example 1. FIG.
FIG. 6 is an explanatory diagram when a transfer foil is manufactured according to Example 2 and a decorative board is manufactured using the transfer foil. FIG. 9 is an explanatory diagram when a transfer foil is manufactured according to Comparative Example 1 and a decorative board is manufactured using the transfer foil, and FIG. 10 is a case where a transfer foil is manufactured according to Comparative Example 2 and a decorative board is manufactured using the transfer foil. FIG.
【0009】本発明の転写箔1は、図1に示すように、
基本的には、透明な熱可塑性樹脂からなる基材シート1
1、電離放射線硬化性樹脂からなる凹凸模様12、半透
明な薄膜層13、光輝性物質15を含有する光輝性樹脂
層14から構成される。また、図2(a)に示すよう
に、前記転写箔1に絵柄16と接着剤層17を設けて、
転写箔2を構成する。更に、必要に応じて、図2(b)
に示すように、転写箔の剥離性をよくするために、基材
シートに凹凸模様を形成した後に、凹凸模様12の表面
に離型層31を設ける場合がある。以上のような構成に
より、光輝性樹脂層には凹凸模様が賦型され、更にその
賦型凹凸模様12aには半透明な薄膜層が接着し、転写
の際は賦型凹凸模様と一緒に転写層として被転写体に移
ることになる。The transfer foil 1 of the present invention, as shown in FIG.
Basically, a base sheet 1 made of a transparent thermoplastic resin
1, a concavo-convex pattern 12 made of an ionizing radiation curable resin, a semitransparent thin film layer 13, and a glittering resin layer 14 containing a glittering substance 15. Further, as shown in FIG. 2A, a pattern 16 and an adhesive layer 17 are provided on the transfer foil 1,
The transfer foil 2 is configured. Furthermore, if necessary, FIG.
In order to improve the releasability of the transfer foil, the release layer 31 may be provided on the surface of the uneven pattern 12 after forming the uneven pattern on the base sheet as shown in FIG. With the above-described structure, an uneven pattern is imprinted on the glittering resin layer, and a semitransparent thin film layer is further adhered to the imprinted uneven pattern 12a. At the time of transfer, it is transferred together with the imprinted uneven pattern. It will be transferred to the transferred material as a layer.
【0010】そして、前記転写箔1は、半透明な薄膜層
13と光輝性物質15を含有する光輝性樹脂層14が転
写層として、被転写体に転写される。又、転写箔2は、
半透明な薄膜層13、光輝性樹脂層14、絵柄16が接
着剤層17を介して被転写体に転写される。そのため、
剥離層の剥離性をよくするために、電離放射線硬化性樹
脂からなる凹凸模様12の上に離型層又は剥離層を設け
てから、半透明な薄膜層13を形成して、転写箔を作製
する場合がある。In the transfer foil 1, the translucent thin film layer 13 and the glittering resin layer 14 containing the glittering substance 15 are transferred as a transfer layer to a transfer target. Also, the transfer foil 2 is
The semitransparent thin film layer 13, the glitter resin layer 14, and the pattern 16 are transferred to the transfer target through the adhesive layer 17. for that reason,
In order to improve the releasability of the release layer, a release layer or a release layer is provided on the uneven pattern 12 made of an ionizing radiation curable resin, and then a semitransparent thin film layer 13 is formed to produce a transfer foil. There is a case.
【0011】次に、本発明の転写箔を使用して装飾ガラ
スを作製する場合について説明する。先ず、図3に示す
ように、ガラス板19の片面にプライマー層18を設
け、そのプライマー層の上に図2に示した転写箔2の接
着剤層の面を重ね合わせる。次に、加熱ロール等で転写
箔とガラス板を接着させた後、凹凸模様を形成した基材
シート11を剥離し、転写層をガラス基板に転写する。
凹凸模様を形成した基材シート11を剥離することによ
り、光輝性樹脂層に賦型された凹凸模様12aと一緒に
半透明な薄膜層13も転写されるので、転写層表面には
半透明な薄膜層を有する凹凸模様が形成される。更に、
図4に示すように、この転写層の上に隠蔽層20を形成
して、装飾ガラス3を作製する。Next, the case of producing decorative glass using the transfer foil of the present invention will be described. First, as shown in FIG. 3, the primer layer 18 is provided on one surface of the glass plate 19, and the surface of the adhesive layer of the transfer foil 2 shown in FIG. 2 is overlaid on the primer layer. Next, after the transfer foil and the glass plate are adhered to each other with a heating roll or the like, the base material sheet 11 having the concavo-convex pattern formed thereon is peeled off, and the transfer layer is transferred to the glass substrate.
By peeling off the base material sheet 11 on which the concavo-convex pattern is formed, the translucent thin film layer 13 is transferred together with the concavo-convex pattern 12a formed on the glittering resin layer. An uneven pattern having a thin film layer is formed. Furthermore,
As shown in FIG. 4, the concealing layer 20 is formed on the transfer layer to produce the decorative glass 3.
【0012】本発明の転写箔の製造方法及び転写箔各層
の材質等について、更に詳しく説明する。基材シートの
材質としては、耐熱性があり、寸法安定性のよいシート
或いはフィルムが使用できる。例えば、ポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステル、ナイロン等のポリアミ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリプロピレン、三酢酸セルロース、セロハ
ン等のプラスチックフィルム或いはシート、又は、銅、
鉄、アルミニウム等の金属箔、紙等が挙げられる。The method of manufacturing the transfer foil of the present invention and the material of each layer of the transfer foil will be described in more detail. As a material for the base sheet, a sheet or film having heat resistance and good dimensional stability can be used. For example, polyester such as polyethylene terephthalate, polyamide such as nylon, polyvinyl chloride, acrylic resin such as polymethyl methacrylate, polypropylene, cellulose triacetate, plastic film or sheet such as cellophane, or copper,
Metal foils such as iron and aluminum, paper, etc. may be mentioned.
【0013】基材シートに凹凸模様を形成したシートと
しては、通常のエンボス加工したエンボスシートも使用
可能であるが、以下に示すように、ロール凹版を使用し
て、基材シートに電離放射線硬化性樹脂で凹凸模様を形
成することにより、精度の高い凹凸模様が形成でき、意
匠性に優れた転写箔を作製することができる。As the sheet having the concavo-convex pattern formed on the base sheet, an ordinary embossed sheet can be used. However, as shown below, a roll intaglio plate is used to cure the base sheet with ionizing radiation. By forming the concavo-convex pattern with the functional resin, the concavo-convex pattern with high accuracy can be formed, and the transfer foil excellent in designability can be manufactured.
【0014】以下にロール凹版を用いた電離放射線硬化
性樹脂で基材シートに凹凸模様を形成する方法(以下ド
ラムプリンティング法という)について説明する。ドラ
ムプリンティング法は、図5に示すように、電離放射線
硬化性樹脂液23をノズル式塗工装置24で、所望の凹
凸模様を彫刻したロール凹版21にコートして、ニップ
ロール25にて電離放射線硬化性樹脂液23をロール凹
版の凹部22に完全に充填する。それと同時に基材フィ
ルム11をロール凹版表面に該電離放射線硬化性樹脂液
23を介して密着させ、フィルムの上から電離放射線照
射装置27を利用して電離放射線を照射し、ロール凹版
の凹部22に充填された樹脂液を硬化させると共に、基
材フィルム11に硬化した電離放射線硬化性樹脂23a
を接着させた後、ロール凹版21から剥離ロール26に
よって基材フィルム11を剥離し、基材フィルム11に
硬化した電離放射線硬化性樹脂からなる凹凸模様12を
形成させるものである。A method of forming an uneven pattern on a substrate sheet with an ionizing radiation curable resin using a roll intaglio (hereinafter referred to as a drum printing method) will be described below. In the drum printing method, as shown in FIG. 5, an ionizing radiation curable resin liquid 23 is coated on a roll intaglio 21 engraved with a desired uneven pattern by a nozzle type coating device 24 and cured by a nip roll 25. Resin liquid 23 is completely filled in the concave portion 22 of the roll intaglio. At the same time, the base film 11 is brought into close contact with the surface of the roll intaglio plate via the ionizing radiation-curable resin liquid 23, and ionizing radiation is irradiated from above the film by using the ionizing radiation irradiation device 27 to the concave portion 22 of the roll intaglio plate. Ionizing radiation curable resin 23a that is cured on the base film 11 while curing the filled resin liquid
After adhering, the base film 11 is peeled off from the roll intaglio 21 by the peeling roll 26, and the concavo-convex pattern 12 made of the cured ionizing radiation curable resin is formed on the base film 11.
【0015】ロール凹版に形成される凹凸模様として
は、万線状の溝状直線群からなる凹凸形状が主に使用さ
れる。万線状の凹凸形状は、同一方向に走る一定周期万
線の他に、平曲線領域の中に平行な直線群又は曲線群を
形成する凹凸乃至溝を含んだ凹凸形状の集合体であっ
て、任意の2領域の境界を介して隣接する直線群又は曲
線群の方向のなす角度がすべて異なる形状のものもあ
る。As the concavo-convex pattern formed on the roll intaglio, a concavo-convex shape composed of a line-shaped groove-shaped straight line group is mainly used. The line-shaped uneven shape is an assembly of uneven shapes including parallel lines running in the same direction and unevenness or grooves forming parallel straight lines or curved lines in a flat curve region. There is also a shape in which the angles formed by the directions of the straight line groups or the curved line groups that are adjacent to each other across the boundary between any two regions are different.
【0016】また、凹凸模様を形成する線群には、連続
するウェーブ状の曲線群からなり、全円周の1/4の弧
を隣接する弧の凸方向が交互に逆向きになるように連結
して曲線を平行移動して配列した平行曲線群もある。上
記の平行曲線群としては、正弦波曲線、サイクロイド曲
線、楕円関数曲線、ベッセル関数曲線、円弧等の曲線単
位を連結したものを複数本互いに平行移動して配列した
ものがある。The line group forming the concavo-convex pattern is composed of a continuous wave-shaped curve group so that the convex directions of the adjacent arcs alternate in the arc of 1/4 of the entire circumference. There is also a parallel curve group in which curves are connected and the curves are moved in parallel. As the parallel curve group, there is one in which a plurality of connected curve units such as a sine wave curve, a cycloid curve, an elliptic function curve, a Bessel function curve, and an arc are arranged in parallel with each other.
【0017】基材フィルムに凹凸形状を形成するには、
上記ドラムプリンティング法以外にも種々の方法が使用
できる。例えば、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂等を用い
たインキを使用して、グラビア印刷やスクリーン印刷方
式で盛り上げ印刷して凹凸形状を形成することもでき
る。インキ組成としては、これらの樹脂の他に凹凸形状
の目的に応じて、染料、顔料等の着色剤、充填剤、可塑
剤、安定剤等を適宜添加したものが使用される。また、
インキの樹脂として紫外線硬化性樹脂や電子線硬化型樹
脂を使用することもできる。或いは、基材シート自体に
直接、プレス加工、サンドブラスト加工等の手法により
凹凸形状を形成することもできる。更に、前記凹凸形状
の耐溶剤性、耐薬品性、耐磨耗性等の物性を向上させる
ために、目的に適合した樹脂でトップコート層を設ける
場合もある。To form an uneven shape on the substrate film,
Various methods other than the drum printing method can be used. For example, it is also possible to form an uneven shape by ink-jet printing using a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like, using gravure printing or screen-printing method. As the ink composition, in addition to these resins, a colorant such as a dye or a pigment, a filler, a plasticizer, a stabilizer, or the like is appropriately added depending on the purpose of the uneven shape. Also,
An ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin can also be used as the ink resin. Alternatively, the concavo-convex shape can be formed directly on the substrate sheet itself by a method such as press working or sandblasting. Furthermore, in order to improve physical properties such as solvent resistance, chemical resistance, and abrasion resistance of the uneven shape, the topcoat layer may be provided with a resin suitable for the purpose.
【0018】基材シートに凹凸模様を形成する電離放射
線硬化性樹脂としては、通常、紫外線硬化性樹脂や電子
線硬化性樹脂が使用されるが、具体的には以下に示すと
おりである。電離放射線硬化性樹脂としては、分子中に
(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ
基((メタ)アクリロイルとは、アクリロイル又はメタ
アクリロイルの意味で用い、以下(メタ)は同様の意味
とする)等の重合性不飽和結合、又はエポキシ基を有す
るプレポリマー、オリゴマー、及び/又は単量体を適宜
混合した組成物が用いられる。これらのプレポリマー、
オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、
ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)
アクリレート等のアクリレート、シロキサン等の珪素樹
脂、不飽和ポリエステル、エポキシ等が挙げられる。As the ionizing radiation curable resin for forming the concavo-convex pattern on the substrate sheet, an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin is usually used, but it is specifically shown below. As the ionizing radiation-curable resin, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group ((meth) acryloyl is used in the meaning of acryloyl or methacryloyl) in the molecule, and the following (meth) has the same meaning. The composition is prepared by appropriately mixing a prepolymer, an oligomer, and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond such as) or an epoxy group. These prepolymers,
As the oligomer, urethane (meth) acrylate,
Polyester (meth) acrylate, epoxy (meth)
Examples thereof include acrylates such as acrylates, silicon resins such as siloxanes, unsaturated polyesters, epoxies and the like.
【0019】単量体の例としては、スチレン、αーメチ
ルスチレン等のスチレン系単量体、(メタ)アクリル酸
メチル、(メタ)アクリル酸ー2ーエチルヘキシル、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及び
/又は、分子中に2個以上のチオール基を有するポリオ
ール化合物、例えば、トリメチロールプロパントリチオ
グリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピ
レート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコール等
がある。以上の化合物を必要に応じ、1種もしくは2種
以上混合して用いるが、樹脂組成物に通常の塗工適性を
付与するために、前記プレポリマー又はオリゴマーを5
重量%以上、前記単量体及び/又はポリチオールを95
重量%以下とすることが好ましい。Examples of the monomers include styrene, styrene-based monomers such as α-methylstyrene, methyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dimethacrylate. Pentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and / or a polyol compound having two or more thiol groups in the molecule, for example, trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithio Examples include propylate and pentaerythritol tetrathioglycol. The above compounds may be used alone or in admixture of two or more, if necessary, but in order to impart ordinary coating suitability to the resin composition, the above prepolymer or oligomer may be used in an amount of 5
95% by weight or more of the monomer and / or polythiol
It is preferable to set the content to be not more than weight%.
【0020】単量体の選定に際して、硬化物の可撓性が
要求される場合は、塗工適性上支障のない範囲で、単量
体の量を少なめにしたり、1官能又は2官能アクリレー
ト単量体を用い比較的低架橋密度の構造とする。また、
硬化物の耐熱性、硬度、耐溶剤性等を要求される場合に
は、塗工適性上支障のない範囲で単量体の量を多めにし
たり、3官能以上のアクリレート系単量体を用い高架橋
密度の構造とするのが好ましい。1、2官能単量体と3
官能以上の単量体を混合し、塗工適性と硬化物の物性と
を調整することもできる。When flexibility of the cured product is required when selecting the monomer, the amount of the monomer may be decreased or the monofunctional or bifunctional acrylate monofunctional may be used within a range that does not hinder the coating suitability. A structure with a relatively low cross-linking density is used using a polymer. Also,
When heat resistance, hardness, solvent resistance, etc. of the cured product are required, increase the amount of the monomer or use a trifunctional or higher functional acrylate-based monomer within a range that does not hinder the coating suitability. A structure having a high crosslink density is preferable. Monofunctional and bifunctional monomers and 3
It is also possible to mix monomers having a functionality or higher to adjust coating suitability and physical properties of the cured product.
【0021】以上のような1官能アクリレート系単量体
としては、2ーヒドロキシアクリレート、2ーヘキシル
アクリレート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げ
られる。2官能アクリレート系単量体としては、エチレ
ングリコールジアクリレート、1,6ーヘキサンジオー
ルジアクリレート等、3官能以上のアクリレート系単量
体としては、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。Examples of the monofunctional acrylate type monomer as described above include 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate and phenoxyethyl acrylate. Examples of the bifunctional acrylate-based monomer include ethylene glycol diacrylate and 1,6-hexanediol diacrylate, and examples of the trifunctional or higher-functional acrylate-based monomer include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol hexaacrylate, and dipentadiene. Examples thereof include erythritol hexaacrylate.
【0022】また、硬化物の可撓性、表面硬度等の物性
を調整するために、前記プレポリマー、オリゴマー、単
量体の少なくとも1種に対して、以下のような電離放射
線非硬化性樹脂を1〜70重量%、好ましくは5〜50
重量%混合して用いることができる。電離放射線非硬化
性樹脂としては、ウレタン系、繊維素系、ポリエステル
系、アクリル系、ブチラール系、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂を用いることができ、特に
可撓性の点から繊維素系、ウレタン系、ブチラール系が
好ましい。Further, in order to adjust the physical properties such as flexibility and surface hardness of the cured product, the following ionizing radiation non-curable resin is used for at least one of the prepolymer, oligomer and monomer. 1 to 70% by weight, preferably 5 to 50
It can be used by mixing by weight. As the ionizing radiation non-curable resin, it is possible to use a thermoplastic resin such as urethane-based, fibrin-based, polyester-based, acrylic-based, butyral-based, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, etc., especially from the viewpoint of flexibility. A fibrin type, a urethane type, and a butyral type are preferable.
【0023】電離放射線硬化性樹脂を紫外線で硬化させ
る場合は、透明な樹脂を使用する必要がある。また、前
記電離放射線硬化性樹脂組成物に光重合開始剤として、
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾ
イルベンゾエート、αーアミロキシムエステル、テトラ
メチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類、
及び/又は光増感剤として、nーブチルアミン、トリエ
チルアミン、トリーnーブチルホスフィン等を混合して
用いることもできる。また、離型性を考慮して、シリコ
ーン樹脂、ワックス、フッ素樹脂、メラニン樹脂、界面
活性剤等を混合することが望ましい。When the ionizing radiation curable resin is cured with ultraviolet rays, it is necessary to use a transparent resin. Further, as a photopolymerization initiator in the ionizing radiation curable resin composition,
Acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amyloxime ester, tetramethylmeuram monosulfide, thioxanthones,
And / or as a photosensitizer, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, etc. can be mixed and used. In consideration of releasability, it is desirable to mix silicone resin, wax, fluororesin, melanin resin, surfactant and the like.
【0024】本発明においては、電離放射線硬化性樹脂
を含む樹脂組成物により、透明基材シートに形成された
凹凸模様を完全に硬化させる方法として、電離放射線を
使用する。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のう
ち分子を重合、架橋し得るエネルギー量子を有するもの
を意味し、通常、紫外線、電子線が用いられるが、可視
光線、γ線、X線も使用可能である。In the present invention, ionizing radiation is used as a method for completely curing the uneven pattern formed on the transparent substrate sheet with the resin composition containing the ionizing radiation-curable resin. Ionizing radiation means an electromagnetic wave or charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing and cross-linking molecules. Usually, ultraviolet rays and electron beams are used, but visible rays, γ rays and X rays can also be used. Is.
【0025】電離放射線照射装置としては、通常、紫外
線照射装置や電子線照射装置が使用される。例えば、
紫外線照射装置としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、
低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラックライト、メタル
ハライドランプ等の光源が使用される。電子線源として
は、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧
器型、絶縁コア変圧器型或いは直線型、ダイナミトロン
型、高周波型等の各種電子線加速器を用い、100〜1
000KeV、好ましくは100〜300KeVのエネ
ルギーを持つ電子を照射する。照射線量としては、通
常、5〜300KGy(キログレイ)程度である。An ultraviolet irradiation device or an electron beam irradiation device is usually used as the ionizing radiation irradiation device. For example,
Ultraviolet irradiation device, ultra high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp,
Light sources such as a low pressure mercury lamp, carbon arc, black light, and metal halide lamp are used. As the electron beam source, various electron beam accelerators such as Cockloft Wald type, Van de Graaff type, resonance transformer type, insulating core transformer type or linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. are used, and 100 to 1
Irradiation with electrons having an energy of 000 KeV, preferably 100 to 300 KeV. The irradiation dose is usually about 5 to 300 KGy (kilo gray).
【0026】本発明において、基材シートの凹凸模様の
上に半透明な薄膜層を形成するが、該薄膜層としては、
金属又は金属化合物の真空蒸着やスパッタリング等によ
る薄膜層が主に形成される。半透明な金属薄膜層として
は、Al、Zn、Ga、Cr、In、Si、Sn、N
i、Ag、Au、Cu、Ti、Pt等の金属単体或いは
これらの合金が用いられる。Al薄膜層の厚さは10〜
2000Åの範囲で使用され、好ましくは70〜300
Åである。そして、金属薄膜層の光透過率は10〜90
%の範囲にする必要があり、好ましくは30〜80%の
範囲である。In the present invention, a semitransparent thin film layer is formed on the concavo-convex pattern of the base sheet.
A thin film layer is mainly formed by vacuum deposition or sputtering of a metal or a metal compound. As the semitransparent metal thin film layer, Al, Zn, Ga, Cr, In, Si, Sn, N
A simple metal such as i, Ag, Au, Cu, Ti, Pt or an alloy thereof is used. The thickness of the Al thin film layer is 10 to 10.
Used in the range of 2000Å, preferably 70-300
It is Å. The light transmittance of the metal thin film layer is 10 to 90.
%, But preferably in the range of 30-80%.
【0027】光輝性樹脂に使用される樹脂としては、ア
クリルもしくはメタアクリルモノマーの単独重合体或い
はこれらのモノマーを含む共重合体が挙げられる。これ
らの樹脂としては、スチレン系樹脂及びスチレン系共重
合体、セルロース誘導体、ロジンエステル樹脂、ポリ酢
酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルー酢酸
ビニル共重合体、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、
ブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、セラック、アラビアゴム、アカロイド、マスチック
等の1種もしくは2種以上を使用することができる。上
記樹脂に光輝性顔料として、二酸化チタン被覆雲母、天
然真珠箔、無機鉛系トエパル、金属粉末等を添加して光
輝性樹脂として使用する。Examples of the resin used as the glittering resin include homopolymers of acrylic or methacrylic monomers or copolymers containing these monomers. These resins include styrene resins and styrene copolymers, cellulose derivatives, rosin ester resins, polyvinyl acetate resins, polyvinyl chloride resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, coumarone resins, vinyltoluene resins,
One or more of butyral resin, polyurethane resin, polyester resin, shellac, gum arabic, acaloid, mastic and the like can be used. Titanium dioxide-coated mica, natural pearl foil, inorganic lead-based toepal, metal powder, etc. are added to the above resin as a glittering pigment and used as a glittering resin.
【0028】接着剤層は転写層を被転写体に転写する際
に必要なものであり、その材質は通常の転写箔に使用さ
れている接着剤が用いられる。例えば、アクリル樹脂、
スチレン樹脂、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、ブチ
ラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エ
ポキシ樹脂等が挙げられる。The adhesive layer is necessary for transferring the transfer layer to the transfer-receiving member, and the material thereof is the adhesive used for ordinary transfer foils. For example, acrylic resin,
Examples thereof include styrene resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, butyral resin, polyurethane resin, polyester resin and epoxy resin.
【0029】転写箔の絵柄は印刷インキを用いて種々の
印刷法により形成することができる。印刷インキバイン
ダーとしては、一般に熱可塑性樹脂が用いられ、塩化ビ
ニルー酢酸ビニル共重合体、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、ポリウ
レタン、ポリビニルアセテート、ポリエステルウレタ
ン、塩化ゴム、塩化ポリエチレン、塩化ポリプロピレ
ン、スチレン系樹脂及びスチレン系共重合体セルロース
誘導体、ロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポ
リ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、
クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、ブチラール樹脂、
セラック、アラビアゴム、アカロイド、マスチック、等
の1種もしくは2種以上の混合物を使用することができ
る。絵柄層を強化するためには、一部熱硬化性樹脂を用
いて、二液硬化型の電離放射線硬化性樹脂を併用しても
よい。The pattern of the transfer foil can be formed by various printing methods using printing ink. As the printing ink binder, a thermoplastic resin is generally used, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyamide, polyester, polyacrylate, polymethacrylate, polyurethane, polyvinyl acetate, polyester urethane, chlorinated rubber, chlorinated polyethylene, polypropylene chloride, Styrene resin and styrene copolymer cellulose derivative, rosin ester resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl chloride resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer,
Coumarone resin, vinyltoluene resin, butyral resin,
One kind or a mixture of two or more kinds of shellac, gum arabic, acaloid, mastic, etc. can be used. In order to strengthen the pattern layer, a thermosetting resin may be partially used and a two-part curing type ionizing radiation curable resin may be used in combination.
【0030】以下に、具体的な実施例を挙げて更に詳し
く説明する。 (実施例1) 厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート(以下
PETとする)フィルム(帝人(株)製「HP−7」)
を基材として、ドラムプリンティング法にて、下記の条
件で凹凸模様を有するフィルムを作製した。 ・ロール凹版;ダイレクトエッチング法により、深さ2
0μm、間隔100μmの万線状の凹凸模様を形成し
た。 ・紫外線硬化型樹脂;大日精化工業(株)製ウレタン系
樹脂「セイカビームEX−880926B」にシリコー
ン樹脂3%添加したもの。 ・紫外線照射装置;オゾン有りの高圧水銀灯(出力12
0W/cm)を使用。Hereinafter, more detailed description will be given with reference to specific examples. Example 1 A polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film having a thickness of 25 μm (“HP-7” manufactured by Teijin Ltd.)
Using the above as a base material, a film having an uneven pattern was produced by the drum printing method under the following conditions.・ Roll intaglio; 2 depth by direct etching
A line-shaped concavo-convex pattern with 0 μm and an interval of 100 μm was formed. -Ultraviolet curable resin: 3% of silicone resin added to urethane resin "SEICA BEAM EX-880926B" manufactured by Dainichiseika Co., Ltd.・ Ultraviolet irradiation device; high pressure mercury lamp with ozone (output 12
0 W / cm) is used.
【0031】図5に示すように、紫外線硬化性樹脂液2
3をノズル式塗工装置24で、凹凸模様を形成したロー
ル凹版21にコートして、ニップロール25にて紫外線
硬化性樹脂液23をロール凹版の凹部22に充填する。
それと同時に基材フィルム11をロール凹版21の表面
に密着させ、フィルムの上から紫外線照射装置27から
紫外線を2秒照射して、ロール凹版の凹部22に充填さ
れた樹脂液を硬化させると共に、基材フィルム11に硬
化した紫外線硬化性樹脂23aを接着させた後、ロール
凹版21から剥離ロール26によって基材フィルム11
を剥離し、基材フィルム11に硬化した紫外線硬化性樹
脂からなる凹凸模様12を形成した。As shown in FIG. 5, the ultraviolet curable resin liquid 2
3 is coated on the roll intaglio 21 having a concavo-convex pattern by the nozzle type coating device 24, and the UV curable resin liquid 23 is filled in the recess 22 of the roll intaglio by the nip roll 25.
At the same time, the base film 11 is brought into close contact with the surface of the roll intaglio plate 21, and ultraviolet rays are radiated from the ultraviolet ray irradiating device 27 for 2 seconds to cure the resin liquid filled in the recesses 22 of the roll intaglio plate. After the cured ultraviolet curable resin 23a is adhered to the material film 11, the base film 11 is removed from the roll intaglio 21 by the peeling roll 26.
Was peeled off, and a concavo-convex pattern 12 made of a cured ultraviolet curable resin was formed on the base film 11.
【0032】 次に、図6(a)に示すように、凹凸
模様を形成したPETフィルムに抵抗加熱真空蒸着法に
よって、厚さ約200ÅのAl蒸着膜13aを形成し
た。このときの蒸着PETフィルムの光透過率は50%
である。しかし、PETフィルムの表面は凹凸形状を有
しているため、蒸着膜は表面全体には均一に形成され
ず、凹凸形状の凸部と側面は異なる厚さの蒸着膜が形成
される。即ち、凸形状の高さや側面の傾斜角度によっ
て、凸部と側面に形成される蒸着膜の厚さは異なったも
のとなる。以上のように、凹凸形状面に形成された蒸着
膜の厚さが相違していることが、被転写体に蒸着膜が転
写されたとき、それがかえって蒸着膜からの反射光を複
雑にして意匠効果を高めることになる。Next, as shown in FIG. 6A, an Al vapor deposition film 13 a having a thickness of about 200 Å was formed on the PET film having the concavo-convex pattern by a resistance heating vacuum vapor deposition method. The light transmittance of the vapor-deposited PET film at this time is 50%.
Is. However, since the surface of the PET film has a concavo-convex shape, the vapor-deposited film is not uniformly formed on the entire surface, and a vapor-deposited film having different thicknesses is formed on the convex and concave side surfaces. That is, the thickness of the vapor deposition film formed on the convex portion and the side surface varies depending on the height of the convex shape and the inclination angle of the side surface. As described above, the fact that the thickness of the vapor deposition film formed on the uneven surface is different is that when the vapor deposition film is transferred to the transfer target, it rather complicates the reflected light from the vapor deposition film. This will enhance the design effect.
【0033】 前記で得た凹凸形状を有するアルミ
ニウム蒸着フィルムに、光輝性インキ(昭和インキ工業
(株)製「GE−HS」)を用いて、グラビア印刷方式
で塗布し、凹凸模様の凹部に光輝性樹脂を充填し、、図
6(b)に示すように、乾燥状態で厚さ30μmの光輝
性樹脂層14を形成して転写箔1を作製した。光輝性イ
ンキはアクリル樹脂と塩化ビニルー酢酸ビニル系樹脂か
らなる樹脂をバインダーとして、パール顔料を10重量
%添加して、固形物含有量30重量%としたものであ
る。A gravure printing method was used to apply a glitter ink (“GE-HS” manufactured by Showa Ink Kogyo Co., Ltd.) to the aluminum vapor-deposited film having an uneven shape obtained above, and the concave portion with an uneven pattern was brilliantly coated. 6B, the transfer foil 1 was produced by filling the film with a luminescent resin and forming a glittering resin layer 14 having a thickness of 30 μm in a dry state as shown in FIG. 6B. The glitter ink is obtained by adding 10% by weight of a pearl pigment to a binder made of a resin composed of an acrylic resin and a vinyl chloride-vinyl acetate resin so that the solid content is 30% by weight.
【0034】図7(a)に示すように、厚さ5mmの透
明ガラス板19の表面にアクリルースチレン系樹脂9
4.5重量%、シアンカップリング剤0.5重量%、ポ
リイソシアネート5重量%からなるガラスプライマーを
塗布し、その後110℃、8分間、熱硬化させて、厚さ
8μmのプライマー層18を形成した。次に、図7
(b)に示すように、プライマー層18を形成したガラ
ス板19を60℃に加熱し、プライマー面に上記転写箔
1の光輝性樹脂層14を重ね合わせ、ロール温度200
℃、スピード2m/sの条件でロール転写し、その後、
図7(c)に示すように、基材フィルムを剥離して転写
層をガラス板に転写した。As shown in FIG. 7A, the acrylic-styrene resin 9 is formed on the surface of the transparent glass plate 19 having a thickness of 5 mm.
A glass primer composed of 4.5% by weight, 0.5% by weight of a cyan coupling agent, and 5% by weight of polyisocyanate is applied and then heat-cured at 110 ° C. for 8 minutes to form a primer layer 18 having a thickness of 8 μm. did. Next, FIG.
As shown in (b), the glass plate 19 on which the primer layer 18 is formed is heated to 60 ° C., the glitter resin layer 14 of the transfer foil 1 is superposed on the primer surface, and the roll temperature 200
Roll transfer under conditions of ℃ and speed 2m / s, then
As shown in FIG. 7C, the substrate film was peeled off and the transfer layer was transferred to the glass plate.
【0035】更に、上記転写層の上に、前記ガラスプラ
イマーに酸化チタンを10重量%添加したものを塗布
し、160℃2分間焼き付け処理して隠蔽層20を形成
して図7(d)のような装飾ガラス3を作製した。以上
のようにして得た装飾ガラスは立体感があり、半透明で
あるため、パーテーションとして使用できる。また、ガ
ラスカッターで簡単に切ることができるので、フィルム
合わせガラスより、施工性がよく、作業能率の向上が図
れる。Further, on the transfer layer, a glass primer containing 10% by weight of titanium oxide added was applied and baked at 160 ° C. for 2 minutes to form a concealing layer 20. Such decorative glass 3 was produced. Since the decorative glass obtained as described above has a three-dimensional effect and is semitransparent, it can be used as a partition. In addition, since it can be easily cut with a glass cutter, it has better workability and improved work efficiency than film laminated glass.
【0036】(実施例2) 実施例1と同様にしてPETフィルムに凹凸模様を
形成した。 前記で得た凹凸模様形成フィルムに、図8(a)
に示すように、電子ビーム加熱真空蒸着法によって、厚
さ約500ÅのSiO2 蒸着膜13bを形成し、その上
に、真空蒸着法で厚さ約200Åのアルミニウム蒸着膜
13aを形成した。このフィルムの光透過率は50%で
あった。Example 2 An uneven pattern was formed on a PET film in the same manner as in Example 1. 8 (a) on the uneven pattern forming film obtained above.
As shown in FIG. 3, a SiO 2 vapor deposition film 13b having a thickness of about 500 Å was formed by the electron beam heating vacuum vapor deposition method, and an aluminum vapor deposition film 13a having a thickness of about 200 Å was formed thereon by a vacuum vapor deposition method. The light transmittance of this film was 50%.
【0037】 前記で得た蒸着膜を設けた凹凸模様
を有するPETフィルムに、実施例1と同様にして光輝
性インキにて、光輝性樹脂層14を形成した。更に、図
8(a)に示すように、光輝性樹脂層14の上に、アク
リル樹脂と塩化ビニルー酢酸ビニル系樹脂でガラス転移
温度(Tg)60℃の樹脂からなるインキ(昭和インキ
工業(株)製「GE−IN」)用いて、版深100μm
のグラビア版にてグラビア印刷し、絵柄16及び接着剤
層17を形成して、接着剤層を有する転写箔2を作製し
た。On the PET film having an uneven pattern provided with the vapor deposition film obtained above, the glitter resin layer 14 was formed with the glitter ink in the same manner as in Example 1. Further, as shown in FIG. 8 (a), an ink composed of an acrylic resin and a vinyl chloride-vinyl acetate resin having a glass transition temperature (Tg) of 60 ° C. is formed on the glitter resin layer 14 (Showa Ink Industry Co., Ltd. ) "GE-IN"), the plate depth is 100 μm
Gravure printing was performed using the gravure plate to form a pattern 16 and an adhesive layer 17, and thus a transfer foil 2 having an adhesive layer was produced.
【0038】 以上のようにして得た転写箔を用い
て、PS板に200℃、転写スピード3m/sの条件
で、実施例1と同様にして転写し、図8(b)に示すよ
うな化粧板4を作製した。更にこのようにして得た化粧
板は成形加工性に優れていて、実施例1と同様、立体感
のある、意匠性に優れた成形品を得ることができた。Using the transfer foil obtained as described above, it was transferred to a PS plate under the conditions of 200 ° C. and a transfer speed of 3 m / s in the same manner as in Example 1, and as shown in FIG. Decorative board 4 was produced. Further, the decorative board thus obtained was excellent in moldability, and it was possible to obtain a molded article having a three-dimensional effect and excellent in design as in Example 1.
【0039】(比較例1) 実施例1と同様にしてPETフィルムに凹凸模様を
形成した。 前記で得た凹凸模様を形成したPETフィルムの
凹凸模様面に、図9(a)に示すように、真空蒸着法で
厚さ約500Åのアルミニウム蒸着膜13aを形成し
た。このフィルムの光透過率は6〜7%であった。 前記で得た凹凸模様を有する蒸着PETフィルム
に、光輝性インキ(昭和インキ工業(株)製「GE−H
S」)を用いて、実施例2と同様に、光輝性樹脂層14
を形成し、更に、その上に、図9(a)に示すように、
絵柄16及び接着剤層17を形成して、接着剤層を有す
る転写箔2を作製した。 前記で得た転写箔を用いて、PS板に200℃、
転写スピード3m/sの条件で、実施例1と同様にして
転写し、図9(b)に示すような化粧板4を作製した。
以上のようにして得た化粧板は凹凸模様面に形成したア
ルミニウム蒸着膜が500Åと厚いため、蒸着膜を通し
て絵柄を見ることができず、化粧板としては欠陥のある
ものとなった。Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1, an uneven pattern was formed on the PET film. As shown in FIG. 9 (a), an aluminum vapor deposition film 13 a having a thickness of about 500 Å was formed on the irregular surface of the PET film having the irregular pattern obtained above by a vacuum vapor deposition method. The light transmittance of this film was 6 to 7%. On the vapor-deposited PET film having the uneven pattern obtained above, a glitter ink (“GE-H” manufactured by Showa Ink Industry Co., Ltd.)
S ”) in the same manner as in Example 2, using the glitter resin layer 14
Is formed, and further, as shown in FIG.
The pattern 16 and the adhesive layer 17 were formed to produce the transfer foil 2 having the adhesive layer. Using the transfer foil obtained above, a PS plate at 200 ° C.,
Under the condition of a transfer speed of 3 m / s, transfer was performed in the same manner as in Example 1 to fabricate a decorative plate 4 as shown in FIG. 9 (b).
In the decorative board obtained as described above, the aluminum vapor-deposited film formed on the concavo-convex pattern surface was as thick as 500Å, so the pattern could not be seen through the vapor-deposited film, and the decorative board had a defect.
【0040】(比較例2) 実施例1と同様にしてPETフィルムに凹凸模様を
形成した。 前記で得た凹凸模様形成フィルムの凹凸模様面
に、チタンキレート剤をキシレンで希釈して10重量%
溶液としたものを塗布して、図10(a)に示すよう
に、離型層31を形成した。 次に、上記フィルムに、図10(a)に示すよう
に、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)を主体と
するインキを用いて、剥離層32と絵柄16を形成した
後、アクリルースチレン共重合体からなる樹脂を用いて
接着剤層17を形成して転写箔2を作製した。 前記で得た転写箔2を用いて、比較例1と同様に
PS板に転写し、図9(b)に示すような化粧板4を作
製した。以上のようにして得た化粧板は凹凸模様面に半
透明なアルミニウム蒸着膜存在しないため、立体感に乏
しい化粧板となった。Comparative Example 2 An uneven pattern was formed on a PET film in the same manner as in Example 1. The titanium chelating agent was diluted with xylene on the uneven surface of the uneven pattern forming film obtained above to obtain 10% by weight.
A solution was applied to form a release layer 31 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 10 (a), a peeling layer 32 and a pattern 16 are formed on the film using an ink mainly composed of polymethylmethacrylate (PMMA), and then an acrylic-styrene copolymer is formed. The transfer foil 2 was manufactured by forming the adhesive layer 17 using a resin made of. The transfer foil 2 obtained above was transferred to a PS plate in the same manner as in Comparative Example 1 to produce a decorative plate 4 as shown in FIG. 9 (b). The decorative plate obtained as described above did not have a semi-transparent aluminum vapor-deposited film on the concavo-convex pattern surface, so that the decorative plate had a poor three-dimensional effect.
【0041】[0041]
【発明の効果】本発明によれば、基材シートに凹凸模様
を形成し、その凹凸模様面にアルミニウム蒸着膜等の半
透明な薄膜層を形成し、その薄膜層の透過率を10〜9
0%とし、その上に光輝性樹脂層を形成することによ
り、立体感があり、意匠効果に優れた転写箔となり、従
来の転写箔とは明確に差別化できる転写箔を得ることが
できる。また、本発明の転写箔を用いることにより、装
飾ガラス、化粧板、絵付け成形品等立体感があり、意匠
効果に優れた被転写体を得ることができる。従来の転写
箔では見られない、意匠性に優れ、立体感のある転写箔
が得られ、且つ転写層は半透明なため、パーテーション
等優れた装飾ガラスを作製することができる。更に、転
写層は薄くて柔軟性があり、加工適性に優れているた
め、被転写体は加工適性に優れたものとなり、作業能率
の向上が図れる。According to the present invention, a concavo-convex pattern is formed on a base sheet, and a semi-transparent thin film layer such as an aluminum vapor deposition film is formed on the concavo-convex pattern surface, and the transmittance of the thin film layer is 10-9.
By setting it to 0% and forming a glittering resin layer on it, a transfer foil having a three-dimensional effect and an excellent design effect can be obtained, and a transfer foil that can be clearly differentiated from the conventional transfer foil can be obtained. Further, by using the transfer foil of the present invention, it is possible to obtain a transferred material having a three-dimensional effect such as decorative glass, a decorative plate, and a molded article for decoration and having an excellent design effect. Since it is possible to obtain a transfer foil having an excellent design and a three-dimensional effect, which is not seen in the conventional transfer foil, and the transfer layer is translucent, it is possible to produce a decorative glass excellent in partitioning and the like. Furthermore, since the transfer layer is thin and flexible and has excellent processability, the transferred body has excellent processability, and the work efficiency can be improved.
【図1】本発明による転写箔の一例を示す拡大断面図。FIG. 1 is an enlarged sectional view showing an example of a transfer foil according to the present invention.
【図2】(a) 図1の転写箔に接着剤層と絵柄を設け
た転写箔の拡大断面図。 (b) (a)図に更に離型層を設けた転写箔の拡大断
面図。FIG. 2A is an enlarged cross-sectional view of a transfer foil in which an adhesive layer and a pattern are provided on the transfer foil of FIG. (B) An enlarged cross-sectional view of the transfer foil in which a release layer is further provided in the figure.
【図3】本発明の転写箔を用いてガラス板に転写したと
きの拡大断面図。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the transfer foil of the present invention transferred to a glass plate.
【図4】ガラス板に転写後、その表面に隠蔽層を形成し
た装飾ガラスの断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view of a decorative glass having a hiding layer formed on the surface thereof after being transferred to a glass plate.
【図5】基材シートに電離放射線硬化性樹脂を用いて凹
凸模様を形成するときの模式断面図。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view when an uneven pattern is formed on a base material sheet by using an ionizing radiation curable resin.
【図6】実施例1により転写箔を作製するときの説明図
で、 (a) 基材シートに凹凸模様とAl蒸着膜を形成した
図。 (b) (a)図に更に光輝性樹脂層を形成した図。FIG. 6 is an explanatory diagram when a transfer foil is manufactured according to Example 1, and (a) is a diagram in which an uneven pattern and an Al vapor deposition film are formed on a base material sheet. (B) The figure which formed the glittering resin layer in the figure of (a).
【図7】実施例1により装飾ガラスを作製するときの説
明図で、 (a) ガラス板にプライマー層を形成した図。 (b) プライマー層を形成したガラス板に転写箔を重
ね合わせた図。 (c) ガラス板に転写層を転写後、基材シートを剥離
するときの図。 (d) ガラス板に転写層を転写後その上に隠蔽層を形
成した図。FIG. 7 is an explanatory diagram when producing a decorative glass according to Example 1, and (a) is a diagram in which a primer layer is formed on a glass plate. (B) The figure which laminated the transfer foil on the glass plate in which the primer layer was formed. (C) The figure at the time of peeling a base material sheet after transferring a transfer layer to a glass plate. (D) The figure which formed the concealment layer on it after transferring the transfer layer to the glass plate.
【図8】実施例2による転写箔とそれを用いて化粧板を
作製するときの説明図で、 (a) SiO2 とAlの蒸着膜を形成した転写箔の断
面図。 (b) PS板に転写後更に隠蔽層を形成した化粧板の
断面図。8A and 8B are explanatory views when a transfer foil according to Example 2 and a decorative board are manufactured using the transfer foil, and FIG. 8A is a cross-sectional view of the transfer foil on which a vapor deposition film of SiO 2 and Al is formed. (B) Sectional drawing of the decorative board which further formed the concealment layer after transfer to the PS board.
【図9】比較例1による転写箔とそれを用いて化粧板を
作製するときの説明図で、 (a) Alの蒸着膜を形成した転写箔の断面図。 (b) PS板に転写後更に隠蔽層を形成した化粧板の
断面図。9A and 9B are explanatory views when a transfer foil according to Comparative Example 1 and a decorative board are manufactured using the transfer foil, and FIG. 9A is a cross-sectional view of the transfer foil on which an Al vapor deposition film is formed. (B) Sectional drawing of the decorative board which further formed the concealment layer after transfer to the PS board.
【図10】比較例2による転写箔とそれを用いて化粧板
を作製するときの説明図で、 (a) Alの蒸着膜のない転写箔の断面図。 (b) PS板に転写して作製した化粧板の断面図。FIG. 10 is an explanatory view of a transfer foil according to Comparative Example 2 and a case where a decorative sheet is manufactured using the transfer foil, and (a) is a cross-sectional view of the transfer foil having no Al vapor deposition film. (B) Sectional drawing of the decorative board produced by transferring to a PS board.
1 転写箔 2 接着剤層を有する転写箔 3 装飾ガラス板 4 化粧板 11 基材シート 12 凹凸模様 12a 賦型凹凸模様 13 半透明な薄膜層 13a Al蒸着膜 13b SiO2 蒸着膜 14 光輝性樹脂層 15 光輝性物質 16 絵柄 17 接着剤層 18 プライマー層 19 ガラス板 19a PS板 20 隠蔽層 21 ロール凹版 22 ロール凹版の凹部 23 電離放射線硬化性樹脂液(硬化前) 23a 硬化した電離放射線硬化性樹脂 24 ノズル塗工装置 25 ニップロール 26 剥離ロール 27 電離放射線照射装置 31 離型層 32 剥離層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transfer foil 2 Transfer foil having an adhesive layer 3 Decorative glass plate 4 Decorative plate 11 Base sheet 12 Concavo-convex pattern 12a Imprinted concavo-convex pattern 13 Semitransparent thin film layer 13a Al vapor deposition film 13b SiO 2 vapor deposition film 14 Glittering resin layer 15 Glittering substance 16 Design 17 Adhesive layer 18 Primer layer 19 Glass plate 19a PS plate 20 Concealment layer 21 Roll intaglio 22 Roll intaglio recess 23 Ionizing radiation curable resin liquid (before curing) 23a Cured ionizing radiation curable resin 24 Nozzle coating device 25 Nip roll 26 Peeling roll 27 Ionizing radiation irradiation device 31 Release layer 32 Release layer
Claims (5)
脂層、光透過率が10〜90%の薄膜層、光輝性物質を
含有する樹脂層を順次形成したことを特徴とする転写
箔。1. A transfer foil comprising a base material sheet, on which a resin layer having a fine uneven surface, a thin film layer having a light transmittance of 10 to 90%, and a resin layer containing a glittering substance are sequentially formed. .
に更に絵柄層及び接着剤層を形成したことを特徴とする
請求項1に記載の転写箔。2. The transfer foil according to claim 1, further comprising a pattern layer and an adhesive layer formed on the resin layer containing the glittering substance.
放射線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項1及び
請求項2に記載の転写箔。3. The transfer foil according to claim 1, wherein the resin layer having the fine uneven surface is an ionizing radiation curable resin.
用いて、プライマー層を形成したガラス基板のプライマ
ー層の表面に、光輝性物質を含有する樹脂層の表面を接
するように転写した後に、転写された微細な樹脂層の表
面に隠蔽層を形成したことを特徴とする装飾ガラス。4. Transfer using the transfer foil according to claim 1 or 3, so that the surface of the resin layer containing a glittering substance is in contact with the surface of the primer layer of the glass substrate on which the primer layer is formed. After that, a hiding layer is formed on the surface of the transferred fine resin layer, which is a decorative glass.
イマー層を形成したガラス基板のプライマー層の表面
に、接着剤層の表面を接するように転写した後に、転写
された微細な樹脂層の表面に隠蔽層を形成したことを特
徴とする装飾ガラス。5. A fine resin transferred using the transfer foil according to claim 2 after transferring so that the surface of the adhesive layer is in contact with the surface of the primer layer of the glass substrate on which the primer layer is formed. A decorative glass characterized in that a concealing layer is formed on the surface of the layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30945094A JPH08142597A (en) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | Transfer foil and decorative glass using the same |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP30945094A JPH08142597A (en) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | Transfer foil and decorative glass using the same |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08142597A true JPH08142597A (en) | 1996-06-04 |
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| JP30945094A Withdrawn JPH08142597A (en) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | Transfer foil and decorative glass using the same |
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