JPH08141480A - 基板面端部の過剰塗布液除去方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ＬＣＤ用カラーフィルターのような大型ガラ
ス基板の面への感光性樹脂のような塗布液の塗布終了時
に残留する過剰塗膜液を、簡単かつ迅速に確実に除去す
ること。 【構成】 基板Ｓに塗布液膜Ｒａを塗布した後、基板端
縁Ｓ２に向かって吸収材シート３０を前進させて押し当
て、続いて、押し当てられた吸収材シート２０の部分
に、その背後からチャンネル状押圧部材２１の溝部分を
押圧し、押圧部材２１と基板端縁Ｓ２との間に吸収材シ
ート２０を挟みこむ。これによって、過剰塗布液Ｒｂに
対し吸収材シート２０が強制的に接触して塗布液を吸収
して除去し、同時に基板端縁Ｓ２に回り込んだ塗布液も
除去される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＬＣＤ用カラーフィル
ターに代表される大型ガラス基板等の枚葉基板への塗布
液の塗布終了後における、基板面端部の過剰塗布液除去
方法およびその方法に用いられる装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＬＣＤ用カラーフィルターに代表
される大型ガラス基板等の枚葉基板への塗布液のコーテ
ィング方式としては、スピンコーティング方法が知られ
ている。この方式は、塗布効率が１０％程度と低く、し
かも基板のコーナー部分で塗布膜厚が厚くなり過ぎると
いう欠点がある。この欠点を解決でき、かつ枚葉基板に
塗布液を効率よく塗布する方法としては、ナイフコート
方式、ロールコート方式、ダイコート方式があるが、こ
れらの方式を用いて均一な膜厚を得るために、基板表面
の平滑度が塗布精度以下でなければならないという問題
がある。この問題をも解決できる液塗布方式として、塗
布液ビードを基板面と塗布ヘッドの間に形成し、基板と
塗布ヘッドを相対移動させて、基板面に塗布液を塗布す
る方式を、出願人はさきに国際出願ＰＣＴ／ＪＰ ９４
／００８４５号（国際出願日：平成６年５月２７日）に
おいて提案した。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述のナイフコート方
式、ロールコート方式、ダイコート方式を用いて塗布を
行う場合においても、また上述の国際出願に記載の方式
においても、塗布終了時に基板の塗布終了端部に過剰の
塗布液が残留し、この残留液のために、塗布膜厚の均一
領域が縮小したり、部分的な乾燥不良が生じたりして、
塗布膜の品質が阻害される要因となっている。

【０００４】そこで上記国際出願に開示した方法では、
過剰塗布液を除去するために、過剰塗布液の真空吸引に
よる除去や、吸収性ロールによる除去が行われる。しか
しながら、真空吸引による塗布液除去は、塗布幅全体に
わたって行うのに時間を要し、かつ吸い取った余剰塗布
液の処理が必要になり、配管、真空源の設置によりスペ
ースを要するという欠点がある。また、吸収性ロールに
よる除去は、特に有機溶剤系塗布液を用いる場合に、ロ
ールの耐久性、洗浄性の点で問題があり、ロールの材質
に制限を受けるという問題があり、しかも吸収性ロール
は使用後に洗浄しなければならないため洗浄溶剤を多く
使用する必要があるという問題や、機構的に複雑で設置
スペースを多く要するという問題がある。

【０００５】本発明は上述の問題を解決するためになさ
れたもので、その目的は、過剰塗布液の吸収のための原
理が簡単であるため安価で、吸収に時間をとらず、しか
も吸収を確実に行うことができ、吸収液の後処理や洗浄
を必要としない、基板面端部の過剰塗布液除去方法およ
び装置を得ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
面への塗布液の塗布終了時に基板面端部寄りに残留する
過剰塗布液を除去する、基板面端部の過剰塗布液除去方
法であって、基板面への塗布液の塗布終了時に、基板の
過剰塗布液が残留する側の端縁に、塗布幅の全体にわた
って吸収材を押し当てるとともに、この吸収材を過剰塗
布液が残留している基板面部分に接触させ、過剰塗布液
を吸収材に吸収することを特徴とする。

【０００７】請求項２の発明では、請求項１の方法にお
いて、前記吸収材として吸収性シートを用い、この吸収
性シートを、その異なる部分が順次過剰塗布液を吸収す
るように、基板に関して送るようにする。

【０００８】請求項３の発明では、請求項１または２の
方法において、基板の端縁に吸収材を押し当てかつ吸収
材を過剰塗布液が残留している基板面部分に接触させる
ときに、少くとも、過剰塗布液が残留している基板面部
分に、吸収材を背後から押圧部材により押圧する。

【０００９】請求項４による基板面端部の過剰塗布液除
去装置は、基板面への液塗布装置に支持される基板の過
剰塗布液が残留する側の端縁に向かって進退自在に設け
られた往復動部材と、この往復動部材の先端部に支持さ
れた吸収材と、基板面への液塗布終了時に前記吸収材を
基板端縁に押し当てるように前記往復動部材を前進させ
る駆動手段と、往復動部材の先端部に支持されていて、
往復動部材が前進した時に前記吸収材を、少くとも過剰
塗布液が残留している基板面部分に、背後から押圧する
押圧部材とを備えることを特徴とする。

【００１０】請求項５および６の発明では、請求項４の
過剰塗布液除去装置において、前記押圧部材が、それぞ
れ、基板端縁へ向かう方向に開放されたチャンネル材お
よび回動自在な部材により構成される。

【００１１】

【作用】請求項１による過剰塗布液除去方法では、基板
面への液塗の終了時に、基板の端縁にまず吸収材が押し
当てられ、次いで吸収材が端縁近くの過剰塗布液のある
基板面部分に接触させられて、過剰塗布液は吸収材に吸
収される。

【００１２】請求項２による過剰塗布液除去方法では、
吸収性シートが基板に押し当てられる度ごとに、その異
なる部分に順次過剰塗布液が吸収される。

【００１３】請求項３による過剰塗布液除去方法では、
吸収材が押圧部材により背後から押されて、基板の所定
位置に押し当てられ、接触する。

【００１４】請求項４による過剰塗布液除去装置では、
基板面への液塗布終了時に、往復動部材が駆動手段によ
り基板端縁へ向かって前進させられて、吸収材が基板に
押し当てられ、次いで押圧部材が吸収材を前後から押し
て吸収材を過剰塗布液が残留している基板面に接触させ
る。これによって、過剰塗布液は吸収材によく吸収され
る。

【００１５】請求項５および６による過剰塗布液除去装
置では、それぞれ、チャンネル材および回動部材からな
る押圧部材がその特殊な構成により、吸収材の一部を、
過剰塗布液が残留する基板面部分へ確実に接触させる。

【００１６】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
するが、その前に基板への塗布液の塗布方法の一例を図
１から図４を参照して説明する。

【００１７】本発明で塗布処理される枚葉基体Ｓは、典
型的にはＬＣＤカラーフィルター用大型ガラス基板であ
り、また、基板に塗布される液は、ガラス基板上に微細
パターンを形成するための感光性樹脂である。ガラス基
板は非可撓性であるが、本発明で処理される基板はこの
ようなガラス基板に限らずプラスチック、金属、紙等で
もよく、また基板自体が可撓性をもっていてもよい。ま
た、塗布される液は、水系、溶剤系等各種の液を用いる
ことができ、顔料、染料、フィラー、増感剤、樹脂、添
加剤等を単独または組合せて混合することができる、図
１において、Ｓは基板である。図１は基板Ｓへの液塗布
の開示時の状態を示している。図１のように、ホルダ８
の下面吸着面に、水平に対し角度θをなして基板Ｓが吸
着保持されている。そして、基板Ｓの最も高い端縁Ｓ１
の近傍下面の直下に、塗布ヘッドＨの直線状スリット１
３が一定のクリアランスをおいて位置するように、ホル
ダ８の位置を定めておく。

【００１８】感光性樹脂のような塗布液Ｒは、塗布液タ
ンク１５内に貯えられていて、ポンプ１６などの送液手
段によって塗布ヘッドＨ内へ送られて、スリット１３か
ら上方へ送り出され、塗布液ビードＢが形成される。塗
布液ビードＢは、基板Ｓの下面（主面）と塗布ヘッドＨ
とのクリアランスに塗布液Ｒの液溜まりとして形成さ
れ、この液ビードＢは基板Ｓの下面に付着する。基板下
面と塗布ヘッドＨの間の最小クリアランスは、塗布液Ｒ
の粘度、表面張力等の物性により、塗布液Ｒがクリアラ
ンスからこぼれ出さずに塗布液ビードＢが形成されるよ
うに設定される。塗布液ビードＢが図１のように形成さ
れた時に、基板Ｓの低い側に面するメニスカスＬ１と、
基板の高い側に面するメニスカスＬ２が形成されるが、
前記傾斜角度θのために、メニスカスＬ１，Ｌ２の高さ
寸法ｈ１，ｈ２は、ｈ１＞ｈ２となる。

【００１９】次に、図２の塗布開始状態から基板Ｓの下
面である主面に塗布を行うには次のようにする。

【００２０】前記クリアランスを一定に維持したまま、
図示しないガイドレールに沿って図２の位置からホルダ
８を右斜め上方へ移動させると、図３の状態から、図４
に示すように基板Ｓが一定の傾斜角度θで塗布ヘッドＨ
に対し斜め右上方へ移動する。これと併行して、塗布液
ポンプ１６で塗布液Ｒを塗布ヘッドＨに送り続けてビー
ドＢを形成し続けると、塗布液Ｒは基板Ｓの下面の主面
に順次付着して塗布層Ｒａが形成される。この塗布工程
中、塗布液Ｒは、順次塗布された量だけ補うように、ポ
ンプ１６によって塗布液ビードＢに供給され、ビードの
形状を一定に保つようにする。そして、図４に示すよう
に、塗布ヘッドＨが基板Ｓの最も低い端縁Ｓ２に近い塗
布範囲最終端に到達した時点で、基板Ｓの移動を停止
し、次いで、クリアランス内に残留している塗布液ビー
ドＢを除去したのち、必要により塗布ヘッドＨを基板Ｓ
に支障のない場所まで離脱させる。

【００２１】その後、基板Ｓを水平に、上向あるいは下
向にして乾燥ユニット内でホットプレートあるいは熱
風、遠赤外線ヒーター等の乾燥手段を用いて塗布膜Ｒａ
を乾燥させて均一な塗布膜を形成する。

【００２２】以上のようにして行う基板への液塗布の方
法は、基本的に、出願人の国際出願ＰＣＴ／ＪＰ ９１
／００８４５号に記載されている。

【００２３】前述のようにして基板Ｓの面に塗布液の膜
Ｒａを形成した場合、図４に示すように、基板Ｓの低い
側の端縁Ｓ２の近傍に過剰塗布液Ｒｂが残留する。この
ような過剰塗布液Ｒｂの溜りは、図１から図４に示す方
向以外の方法を用いて塗布液膜Ｒａを形成した場合にも
発生する。本発明は、このような残留過剰塗布液を除去
しようとするものである。

【００２４】図５は残留過剰塗布液を除去する装置の一
実施例を示す。同図において、１は、図１から図４に示
したと同じ作動原理をもつ塗布液塗布装置であり、図１
に示した傾斜過度θは零または零に近い場合を示してい
る。ホルダ８は軸２により枢支されていて傾斜角θを調
節可能に、かつ上下反転可能に設けられている。ホルダ
８の下面には基板Ｓが保持されており、基板Ｓの下面に
は既に塗布液の膜Ｒａが形成されている。

【００２５】ホルダ８の下方には塗布ヘッドＨが設けら
れている。塗布ヘッドＨは図１に示した場合とまったく
同じ原理で塗布液を上方へ送り出す、直線状スリット１
３（図１）と同様なスリットをもっている。図１の場合
には、塗布ヘッドＨに対して基板Ｓが移動するように構
成されているが、図５の例では、ホルダ８に支持された
基板Ｓは移動せず、塗布ヘッドＨが実線および仮想線矢
印で示す方向に往復動するようになっている。塗布ヘッ
ドＨは上下駆動機構を内蔵する走行台３上に固定されて
おり、走行台３は、基台４上に支持されている送りねじ
５に螺合して送りねじ５の回転により図において左右方
向に送られる。送りねじ５はサーボモータＭにより回転
駆動されるようになっている。なお、基台４は、ホルダ
８の傾斜角に合せて傾斜させうるように構成することが
できる。

【００２６】塗布液膜Ｒａを形成するには、塗布へツド
Ｈを図５において右方から左方へ基板Ｓの下面に沿って
鋭線矢印方向に移動させる。この結果、前述のように、
図において基板Ｓの下面の左端縁近傍に過剰塗布液が残
留する。過剰塗布液は図６にＲｂで示されている。

【００２７】本発明の方法の一実施例によれば、過剰塗
布Ｒｂは、図６から図９に示す工程により除去される。
図６に示すように、過剰塗布液Ｒｂのある基板Ｓの端縁
Ｓ２に対向して吸収材２０が設けられる。吸収材２０は
塗布液Ｒを吸収することのできる繊維材シート、例えば
不織布、その他多孔質製のシートにより構成することが
できる。吸収材の一例は、ベンコットワイパー（旭化成
工業株式会社の商品名）である。吸収材２０は上下方向
に張るように図示しない部材により支持されている。ま
た、吸収材２０の背後には押圧部材２１が設けられてい
る。押圧部材２１は端縁Ｓ２に向かって開いたチャンネ
ル材により構成されている。

【００２８】基板端縁Ｓ２近傍の過剰塗布液Ｒｂを除去
するには、吸収材２０を、図７に示すように端縁Ｓ２に
向かって移動させて端縁Ｓ２に接触させ、押し当てる。
次に、図８に示すように押圧部材２１を、端縁Ｓ２に押
し当てられた吸収材２０の背後から押しつけて、端縁Ｓ
２およびそれに隣接する基板上下面部分に吸収材２０を
添わせるようにする。これにより、吸収材２０の一部
は、端縁Ｓ２と押圧部材２１との間に挟まれるようにな
る。このような状態が生じるようにするためには、当然
のことながら、チャンネル材である押圧部材２１の内溝
の幅は基板Ｓの厚さに吸収材２０の厚さの２倍を加えた
値に等しいか、それより僅かに小さい値としておくのが
よい。

【００２９】図８のように、端縁Ｓ２を吸収材２０が囲
むことによって、過剰塗布液Ｒｂは、基板下面側の吸収
材２０の部分に吸収され、しかも基板端縁に回り込もう
とする塗布液もきれいに吸収されてしまう。よって、図
９に示すように、押圧部材２１を図において左方へ後退
させ、かつ吸収材２０をも後退させると、基板端縁Ｓ２
の近傍の過剰塗膜液Ｒｂは完全に消失してその部分は多
少薄くなり、他の部分には均一な厚さの塗布液膜Ｒａが
残されることになる。吸収された塗布液は、図９でＲｂ
により示す。

【００３０】以上に述べたように、本発明の方法では、
基板端縁に単に吸収材２０を押し付けるだけでなく、そ
の一部を、基板の過剰塗布液のある側の面の一部に添わ
せるようにするので、過剰塗布液を迅速かつ確実に吸収
して除去することができる。

【００３１】図５には、図６から図９に示す工程を実施
するための過剰塗布液除去装置を示す。前記基台４に隣
接してスタンド２３が固設され、このスタンド２３上に
駆動手段の一例としてのエアシリンダ２４が設置されて
いる。エアシリンダ２４は往復動部材としてのピストン
ロッド２を有し、このピストンロッド２５は図５におい
て左右に往復道自在となっている。ピストンロッド２５
の先端（右端）には前記チャンネル材の押圧部材２１が
水平方向固定されている。

【００３２】図１０に示すように、ピストンロッド２５
の先端は押圧部材２１の中程に固定されており、押圧部
材２１の両端には上下方向の腕２７，２７の中間部が図
１１に示すように固定されている。そして、腕２７，２
７の上下端の内側には軸２８，２８が突設され、これら
の軸によって、前記吸収材シート２０のロール２０ａ、
２０ａが回転自在に支持されている。そして、２本のロ
ール２０ａ，２０ａの上方のものは駆動側となってお
り、その軸はステッピングモータＭｏのような回転駆動
源に連結されている。ロール２０ａ，２０ａの間には、
押圧部材２１の溝側に隣接するように吸収材シート２０
が上下方向に張り渡されており、したがって、駆動側の
上方のロール２０ａを回転駆動することにより、他方の
ロール２０ａから駆動側ロール２０ａへ吸収材シート２
０を漸次巻き取ることができる。なお、下方のロール２
０ａの軸はパウダーブレーキのような制動装置２９に連
結されている。

【００３３】以上に述べたように過剰塗布液除去装置の
作用を説明する。図５に示すように、基板Ｓの下面に塗
布ヘッドＨにより塗布液膜Ｒａが形成された後、エアシ
リンダ２４を作動させてピストンロッド２５を図におい
て右方へ前進させる。これによって、ピストンロッド２
５は図５の位置へ達し、その先端の押圧部材２１の前側
にある吸収材シート２０が図７に示すように押し当てら
れ、次いで押圧部材２１が図８に示すような状態を生起
させる。したがって、さきに説明したよに、過剰塗布液
Ｒｂが吸収材２０に確実に吸収されて除去される。押圧
部材２１は、図８の状態で吸収材２０を基板面への接触
状態に保ち、過剰塗布液の吸収を確実にする。上述のよ
うな塗布液の吸収が行われている間に、塗布ヘッドＨは
次の塗布工程のために実線位置および仮想線位置を経て
塗布開始位置へ戻される。そして、過剰塗布液の除去完
了後にエアシリンダ２４を作動させて、ピストンロッド
２５、押圧部材２１および吸収材２０を図５において左
方へ後退させる。また、それと併行して駆動側ロール２
０ａを少量回動させて、吸収材２０を上下方向に送り、
新しい吸収材部分２０が基板端縁Ｓ２に対向するように
して次の過剰塗布液吸収工程に備える。

【００３４】図１２から図１５は本発明による過剰塗布
液除去装置の他の実施例を示す。この実施例が、図５の
実施例と異なる点は、押圧部材がチャンネル材の代り
に、基板Ｓの塗布幅の全体にわたる幅の板材からなる回
動部材３０により構成されている点にある。回動部材３
０は軸３１により枢支されており、図１２で示す位置と
図１４で示す位置との間で往復回動自在となっており、
図１２に示す駆動装置３２によって回動させられる。こ
の駆動装置３２と回動部材３０は、例えば図５に示すピ
ストンロッド２５のような往復動部材の先端に支持され
ている。また、この実施例でも吸収材シート２０は図５
に示したと同様にして支持されている。

【００３５】この実施例では、ピストンロッド２５を前
進させて吸収材シート２０を図１３に示すように基板Ｓ
の端縁Ｓ２に押し当てた後、駆動装置３２により図１４
に示す矢印方向に回動させると、回動部材３０は、基板
端縁Ｓ２の下側に隣接する吸収材シート２０の部分を、
図４に示すように端縁Ｓ２に隣接する基板下面に対して
押しつける。これによって、過剰塗布液Ｒｂは積極的に
吸収材シート２０に吸収されて消失する。次に、ピスト
ンロッド２５を後退させると図１５の状態が得られる。
この実施例でも、吸収材シート２０の一部過剰塗布液を
確実に除去することができる。

【００３６】なお、以上に述べた実施例では、基板の下
面に液を塗布するようになっているが、基板の上向き面
に液を塗布する場合にも本発明の前述の原理を利用でき
るものである。また、基板と塗布ヘッドの塗布液膜方向
の移動は、相対移動であればよく、どちらが動いてもよ
い。

【００３７】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、基板の残留過
剰塗布液のある側の端縁に吸収材を押し当てるのに加
え、吸収材の一部を残留過剰塗布液のある基板面にも接
触させるので、過剰塗布液を確実に除去することができ
る。また、この発明によれば、従来のロール洗浄や真空
吸引に比し、短時間でしかも簡単な手段で過剰塗布液を
除去できる利点がある。また、基端端縁についても吸収
材によりきれいに端部処理ができるので、残留塗布液に
よる基板汚れを防止できる。

【００３８】請求項２の発明によれば、吸収材をシート
とし、それを基板に関して送りながら使用するので、常
に吸収材の新しい部分が基板ごとに塗布液の吸収のため
に使用され、そのため吸収がよく行われ、しかも吸収材
を後で溶剤で洗浄するなどの手間が不要となる。

【００３９】請求項３の発明によれば、残留過剰塗布液
のある基板面部への吸収材の接触を、その背後から押圧
部材を押圧することにより行うので、吸収材の基板面部
への接触が確実に行われる。

【００４０】請求項４の発明によれば、過剰塗布液が残
留している基板面部分に、押圧部材の背後からの押圧に
より吸収材を確実に接触させることができ、過剰塗布液
を短時間で簡単に除去することが可能になる。また、基
板端縁についても吸収材によりきれいに端部処理ができ
るので、残留塗布液による基板汚れを防止できる。

【００４１】また、請求項６の発明では、往復動部材の
前進時に回動部材を回動させて、吸収材を基板面へ積極
的に接触させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】基板への液塗布装置の一例を示す原理図。

【図２】液塗布の開始時の状態を示す図。

【図３】液塗布の途中の状態を示す図。

【図４】液塗布の終了時の状態を示す図。

【図５】本発明による基板面端部の過剰塗布液除去装置
を示す正面図。

【図６】本発明による基板面端部の過剰塗布液除去方法
の一実施例の工程開始時の状態を示す図。

【図７】同じく、次の工程を示す図。

【図８】同じく、さらに次の工程を示す図。

【図９】同じく、工程完了時の状態を示す図。

【図１０】図５の一部の斜視図。

【図１１】図１０の左側からみた一部断面側面図。

【図１２】本発明の他の実施例における工程開始時の状
態を示す図。

【図１３】同じく、次の工程を示す図。

【図１４】同じく、さらに次の工程を示す図。

【図１５】同じく、工程完了時の状態を示す図。

【符号の説明】 Ｓ 基板 Ｓ２ 基板端縁 ８ 基板ホルダ Ｒ 塗布液 Ｂ ビード Ｒａ 塗布液膜 Ｒｂ 過剰塗布液 Ｎ 塗布ヘッド ２０ 吸収材（シート） ２０ａ 吸収材ロール ２１ 押圧部材（チャンネル材） ２４ 駆動手段（エアシリンダ） ２５ 往復動部材（ピストンロッド） ２７ 腕 ３０ 押圧部材（回動部材）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮 川 俊 二 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板面への塗布液の塗布終了時に基板面端
   部寄りに残留する過剰塗布液を除去する、基板面端部の
   過剰塗布液除去方法であって、基板面への塗布液の塗布
   終了時に、基板の過剰塗布液が残留する側の端縁に、塗
   布幅の全体にわたって吸収材を押し当てるとともに、こ
   の吸収材を過剰塗布液が残留している基板面部分に接触
   させ、過剰塗布液を吸収材に吸収することを特徴とする
   方法。
2. 【請求項２】前記吸収材として吸収性シートを用い、こ
   の吸収性シートを、その異なる部分が順次過剰塗布液を
   吸収するように、基板に関して送ることを特徴とする請
   求項１記載の基板面端部の過剰塗布液除去方法。
3. 【請求項３】基板の端縁に吸収材を押し当てかつ吸収材
   を過剰塗布液が残留している基板面部分に接触させると
   きに、少くとも、過剰塗布液が残留している基板面部分
   に、吸収材を背後から押圧部材により押圧することを特
   徴とする請求項１または２記載の基板面端部の過剰塗布
   液除去方法。
4. 【請求項４】基板面への液塗布装置に支持される基板の
   過剰塗布液が残留する側の端縁に向かって進退自在に設
   けられた往復動部材と、この往復動部材の先端部に支持
   された吸収材と、基板面への液塗布終了時に前記吸収材
   を基板端縁に押し当てるように前記往復動部材を前進さ
   せる駆動手段と、往復動部材の先端部に支持されてい
   て、往復動部材が前進した時に前記吸収材を、少くとも
   過剰塗布液が残留している基板面部分に、背後から押圧
   する押圧部材とを備えることを特徴とする、基板面端部
   の過剰塗布液除去装置。
5. 【請求項５】前記押圧部材が、基板端縁へ向かう方向に
   開放されたチャンネル材であることを特徴とする請求項
   ４記載の基板面端部の過剰塗布液除去装置。
6. 【請求項６】前記押圧部材が、往復道部材に基端を回動
   自在に軸支された回動部材であることを特徴とする請求
   項４記載の基板面端部の過剰塗布液除去装置。