JPH08139565A - Surface acoustic wave device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ラブ波を利用した表面
波装置に関し、特に、圧電基板材料を改良することによ
り、大きな電気機械結合係数及び小さな温度特性(T
c)が実現される表面波装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface acoustic wave device using Love waves, and more particularly, by improving the piezoelectric substrate material, a large electromechanical coupling coefficient and a small temperature characteristic (T).
c) is realized.
【0002】[0002]
【従来の技術】圧電基板を用いて構成される表面波装置
としては、表面波共振子、表面波フィルタあるいはエラ
スティックコンボルバなどの種々の装置が実用化されて
いる。表面波装置において良好な特性を得るには、用い
る圧電基板の電気機械結合係数Ksが大きく、かつ温度
特性Tcが小さいことが求められる。従って、これらの
双方を満たすために、従来より種々の圧電材料が検討さ
れている。2. Description of the Related Art As a surface acoustic wave device constructed by using a piezoelectric substrate, various devices such as a surface acoustic wave resonator, a surface acoustic wave filter and an elastic convolver have been put into practical use. In order to obtain good characteristics in the surface acoustic wave device, it is required that the piezoelectric substrate used has a large electromechanical coupling coefficient Ks and a small temperature characteristic Tc. Therefore, in order to satisfy both of these, various piezoelectric materials have been studied conventionally.
【0003】電気機械結合係数Ksの大きな圧電基板と
しては、YカットX方向伝搬LiNbO3 基板上に、該
基板よりも表面波伝搬速度の遅いZnO薄膜を形成して
なる圧電基板が知られている。この圧電基板を用いれ
ば、ラブ波を励振し得ることが知られている。例えば、
YカットX方向伝搬LiNbO3 基板上にZnO薄膜を
形成してなる圧電基板では、その電気機械結合係数Kが
0.47程度と大きいことがわかっている。As a piezoelectric substrate having a large electromechanical coupling coefficient Ks, a piezoelectric substrate is known in which a ZnO thin film having a surface wave propagation velocity slower than that of the substrate is formed on a Y-cut X-direction propagation LiNbO 3 substrate. . It is known that a Love wave can be excited by using this piezoelectric substrate. For example,
It is known that the electromechanical coupling coefficient K of the piezoelectric substrate formed by forming the ZnO thin film on the Y-cut X-direction propagation LiNbO 3 substrate is as large as about 0.47.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Yカッ
トX方向伝搬LiNbO3 基板上にZnO薄膜を形成し
てなる圧電基板では、温度特性Tcが80ppm/℃と
大きく、従って温度特性Tcのより小さな圧電基板が求
められている。However, in a piezoelectric substrate formed by forming a ZnO thin film on a Y-cut X-direction propagating LiNbO 3 substrate, the temperature characteristic Tc is as large as 80 ppm / ° C., and therefore the piezoelectric material having a smaller temperature characteristic Tc is used. Substrates are needed.
【0005】加えて、YカットX方向伝搬LiNbO3
基板上にZnO薄膜を形成してなる圧電基板では、ラブ
波を励振し得るものの、ラブ波を励振し得る帯域内に、
レイリー波成分が存在し、該レイリー波の影響による特
性の劣化が生じるという欠点もあった。In addition, Y-cut X-direction propagation LiNbO 3
A piezoelectric substrate formed by forming a ZnO thin film on a substrate can excite a Love wave, but within a band capable of exciting a Love wave,
There is also a drawback that there is a Rayleigh wave component and the characteristics are deteriorated due to the influence of the Rayleigh wave.
【0006】本発明の目的は、ラブ波を利用した表面波
装置であって、電気機械結合係数Kが大きく、しかも温
度特性Tcが小さい圧電基板を用いることにより、広帯
域であり、かつラブ波を良好に励振し得る表面波装置を
提供することにある。It is an object of the present invention to provide a surface wave device using Love waves, which has a wide electro-mechanical coupling coefficient K and a small temperature characteristic Tc, and thus has a wide band and Love waves. An object of the present invention is to provide a surface wave device that can excite well.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、41°回転Y
板X伝搬LiNbO3 基板と、このLiNbO3 基板上
に形成されており、かつ前記LiNbO3 基板に比べて
表面波伝搬速度が遅い材料よりなる圧電薄膜とを有する
圧電基板と、圧電基板に設けられたインターデジタルト
ランスデューサ(IDT)とを備え、ラブ波を利用する
ように構成されていることを特徴とする表面波装置であ
る。According to the present invention, a 41 ° rotation Y
A plate X propagation LiNbO 3 substrate, a piezoelectric substrate having a piezoelectric thin film is formed on the LiNbO 3 substrate, and the surface acoustic wave propagation velocity than that of the LiNbO 3 substrate is slower material, provided on the piezoelectric substrate And a digital interdigital transducer (IDT), and is configured to utilize a Love wave.
【0008】すなわち、本願発明者は、上記課題を達成
すべく種々の圧電基板材料を用いてラブ波を励振させる
表面波装置について検討した結果、41°回転Y板X伝
搬LiNbO3 基板上に、上記のような圧電薄膜を積層
してなる圧電基板を用いれば、電気機械結合係数Kを大
きくすることができ、かつ温度特性Tcを小さくし得る
ことを見出し、該知見に基づき、本発明を成すに至っ
た。That is, the inventor of the present application examined surface acoustic wave devices for exciting Love waves by using various piezoelectric substrate materials in order to achieve the above-mentioned object, and as a result, on a 41 ° rotating Y plate X propagating LiNbO 3 substrate, It has been found that the electromechanical coupling coefficient K can be increased and the temperature characteristic Tc can be decreased by using the piezoelectric substrate formed by laminating the piezoelectric thin films as described above, and the present invention is achieved based on the finding. Came to.
【0009】上記圧電薄膜としては、LiNbO3 基板
に比べて表面波の伝搬速度が遅い材料であれば、適宜の
圧電材料からなるものを用い得るが、例えば、ZnO、
CdSまたはTa2 O5 などが挙げられる。As the piezoelectric thin film, one made of an appropriate piezoelectric material may be used as long as the material has a surface wave propagation velocity lower than that of the LiNbO 3 substrate. For example, ZnO,
CdS or Ta 2 O 5 may, for example, be mentioned.
【0010】また、好ましくは、上記圧電薄膜の膜厚を
H、励振されるラブ波の波長をλとしたときに、H/λ
は、0.045〜0.09の範囲とされる。このよう
に、波長で規格化された膜厚H/λを、上記特定の範囲
内とすることにより、電気機械結合係数Ksを0.43
以上とすることができ、従ってラブ波をより効率良く励
振させることができる。Further, it is preferable that H / λ where H is the thickness of the piezoelectric thin film and λ is the wavelength of the excited Love wave.
Is in the range of 0.045 to 0.09. Thus, the electromechanical coupling coefficient Ks is set to 0.43 by setting the film thickness H / λ normalized by the wavelength to be within the above specific range.
Thus, the Love wave can be excited more efficiently.
【0011】本発明は、上記のように、上記特定の圧電
基板材料からなる圧電基板を用い、それによって電気機
械結合係数の増大及び温度特性の安定化を図るものであ
り、それ以外の構成については、従来より公知の表面波
を利用した表面波装置の適宜の構造を採用することがで
きる。例えば、圧電基板に設けられるIDTについて
は、圧電基板上に形成してもよく、あるいは上記LiN
bO3 基板と圧電薄膜との間に形成してもよく、さら
に、IDTの数や形状についても特に限定されるもので
はない。As described above, the present invention is intended to increase the electromechanical coupling coefficient and stabilize the temperature characteristics by using the piezoelectric substrate made of the above-mentioned specific piezoelectric substrate material. Can adopt an appropriate structure of a surface acoustic wave device using a conventionally known surface acoustic wave. For example, the IDT provided on the piezoelectric substrate may be formed on the piezoelectric substrate, or the LiN
It may be formed between the bO 3 substrate and the piezoelectric thin film, and the number and shape of IDTs are not particularly limited.
【0012】本発明は、ラブ波を利用した表面波共振
子、表面波フィルタあるいはエラスティックコンボルバ
などの種々の表面波装置に適用することができる。The present invention can be applied to various surface wave devices such as a surface wave resonator utilizing a Love wave, a surface wave filter, an elastic convolver and the like.
【0013】[0013]
【作用】本発明では、上記のように、41°回転Y板X
伝搬LiNbO3 基板上に、上記圧電薄膜を形成してな
る圧電基板が用いられ、それよって電気機械結合係数の
増大が図られ、かつ温度特性Tcが小さくされる。この
ような圧電基板の作用は、本願発明者により実験的に確
かめられたものである。In the present invention, as described above, the 41 ° rotated Y plate X
A piezoelectric substrate formed by forming the above-mentioned piezoelectric thin film on a propagating LiNbO 3 substrate is used, thereby increasing the electromechanical coupling coefficient and reducing the temperature characteristic Tc. The action of such a piezoelectric substrate has been experimentally confirmed by the inventor of the present application.
【0014】[0014]
【実施例の説明】以下、図面を参照しつつ実施例を説明
することにより、本発明を明らかにする。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be clarified by describing embodiments with reference to the drawings.
【0015】41°回転Y板X伝搬LiNbO3 基板
(以下、単に41°Y−X LiNbO3 基板と略す)
は、その温度特性が60〜65ppm/℃程度であるこ
とが従来より知られている。また、LiNbO3 基板
は、減衰をともなうリーキー(leaky)波を発生す
る表面波基板として知られている。41 ° rotated Y plate X propagating LiNbO 3 substrate (hereinafter, simply referred to as 41 ° Y-X LiNbO 3 substrate)
Is conventionally known to have a temperature characteristic of about 60 to 65 ppm / ° C. The LiNbO 3 substrate is also known as a surface wave substrate that generates a leaky wave with attenuation.
【0016】上記41°Y−X LiNbO3 基板上
に、ZnO、CdS、及びTa2 O5などの種々の圧電
薄膜を形成したところ、ラブ波が効果的に励振されるこ
とが確かめられた。When various piezoelectric thin films such as ZnO, CdS and Ta 2 O 5 were formed on the above 41 ° Y-X LiNbO 3 substrate, it was confirmed that Love waves were effectively excited.
【0017】以下、上記41°Y−X LiNbO3 基
板上にZnO薄膜を形成した場合を例にとり説明する。
41°Y−X LiNbO3 基板及びZnO薄膜の両方
において、下記の圧電基本式、運動方程式及びマクセル
の方程式が成立する。Hereinafter, the case where a ZnO thin film is formed on the 41 ° Y-X LiNbO 3 substrate will be described as an example.
The following piezoelectric basic equation, equation of motion, and Maxell's equation hold for both the 41 ° Y—X LiNbO 3 substrate and the ZnO thin film.
【0018】[0018]
【数1】 [Equation 1]
【0019】ラブ波を励振させるには、これらの式がZ
nO薄膜表面及びZnO薄膜と41°Y−X LiNb
O3 基板との境界において、それぞれの境界条件を満た
すような音速を求めればよい。圧電基板上にインターデ
ジタルトランスデューサを形成した場合、次の式に基づ
いてインターデジタル電極が存在する境界において、電
気的に短絡した場合の音速Vm と、開放した場合の音速
Vf から電気機械結合係数Kが求められる。To excite a Love wave, these equations are Z
41 ° Y-X LiNb with nO thin film surface and ZnO thin film
At the boundary with the O 3 substrate, a sound velocity satisfying each boundary condition may be obtained. When the interdigital transducer is formed on the piezoelectric substrate, the electromechanical coupling is performed from the sound velocity V m when electrically short-circuited and the sound velocity V f when opened at the boundary where the interdigital electrode exists based on the following equation. The coefficient K is obtained.
【0020】[0020]
【数2】 [Equation 2]
【0021】図1は、上記LiNbO3 基板+面上に、
種々の膜厚でZnO薄膜を形成してなる圧電基板を用い
た場合の上記表面波の音速Vf ,Vm を測定した結果を
示す。なお、図1において、○及び●は、上記LiNb
O3 基板の+面上にZnO薄膜を形成した場合のラブ波
の音速を示し、○は境界がフリーの場合の音速Vf を、
●は境界がメタライズされた場合の音速Vm である。他
方、△及び▲は、LiNbO3 基板の+面上にZnO薄
膜を形成した場合のレイリー波の音速を示し、△は境界
がフリーの場合の音速Vf を、▲は境界がメタライズさ
れている場合の音速Vm である。FIG. 1 shows that the LiNbO 3 substrate + surface is
The results of measuring the acoustic velocities V f and V m of the surface wave when using piezoelectric substrates formed by forming ZnO thin films with various thicknesses are shown. In FIG. 1, ○ and ● are the above LiNb.
The sound velocity of the Love wave when the ZnO thin film is formed on the + surface of the O 3 substrate is shown, and the sound velocity V f when the boundary is free is shown by ○.
● indicates the sound velocity V m when the boundary is metallized. On the other hand, Δ and ▲ indicate the sound velocity of the Rayleigh wave when the ZnO thin film is formed on the + surface of the LiNbO 3 substrate, Δ is the sound velocity V f when the boundary is free, and ▲ is the metallized boundary. In this case, the sound velocity is V m .
【0022】また、図3は、LiNbO3 基板の−面上
にZnO薄膜を形成した場合のラブ波及びレイリー波の
音速を示す図であり、○、●、△及び▲は、それぞれ、
図1と同じ意味を示す。FIG. 3 is a diagram showing the sound velocities of the Love wave and the Rayleigh wave when the ZnO thin film is formed on the negative surface of the LiNbO 3 substrate, and ○, ●, Δ and ▲ are respectively.
It has the same meaning as in FIG.
【0023】図1及び図3から明らかなように、上記L
iNbO3 基板の+面及び−面のいずれの側にZnO薄
膜を形成した場合でも、Vf とVm の差が存在すること
によりラブ波の励振されることがわかる。As is clear from FIG. 1 and FIG.
It can be seen that the Love wave is excited due to the existence of the difference between V f and V m when the ZnO thin film is formed on either side of the + surface and the − surface of the iNbO 3 substrate.
【0024】また、図1及び図3において、レイリー波
については、境界がフリーの場合の音速Vf と、メタラ
イズされている場合のVm との差がほとんどなく、従っ
てレイリー波はほとんど励振されないことがわかる。し
かも、レイリー波の成分は、ラブ波の音速Vf とVm と
の間には存在しないため、上記41°Y−X LiNb
O3 基板上にZnO薄膜を形成した構造では、レイリー
波の成分の影響を受け難いことがわかる。Further, in FIGS. 1 and 3, for the Rayleigh wave, there is almost no difference between the sound velocity V f when the boundary is free and V m when the boundary is metallized, and therefore the Rayleigh wave is hardly excited. I understand. Moreover, since the Rayleigh wave component does not exist between the sound velocities V f and V m of the Love wave, the above 41 ° Y-X LiNb.
It can be seen that the structure in which the ZnO thin film is formed on the O 3 substrate is not easily affected by the Rayleigh wave component.
【0025】図2は、上記41°Y−X LiNbO3
基板の+面上にZnO薄膜を種々の膜厚で形成した場合
の電気機械結合係数Kを示し、図4は、上記41°Y−
XLiNbO3 基板の−面上にZnO薄膜を種々の膜厚
で形成した場合の電気機械結合係数を示す図である。図
2と図4とを比較すれば明らかなように、図2におい
て、すなわちZnO薄膜をLiNbO3 基板の+面上に
形成した場合の方が電気機械結合係数Kが若干大きくな
ることがわかる。この電気機械結合係数Kの最大値は、
図2から明らかなように、ZnO圧電薄膜のラブ波の波
長λで規格した膜厚H/λ=0.06で0.491と非
常に大きいことがわかる。この電気機械結合係数K=
0.491なる値は、YカットX伝搬LiNbO3 基板
上にZnO薄膜を形成した場合の電気機械結合係数K=
0.47よりも大きく、しかも、ZnO/Y−XLiN
bO3 基板における電気機械結合係数が最大のときの膜
厚H/λ=0.11の約半分の膜厚でよいことがわか
る。FIG. 2 shows the above 41 ° Y-X LiNbO 3
FIG. 4 shows the electromechanical coupling coefficient K when ZnO thin films with various thicknesses are formed on the + surface of the substrate.
XLiNbO 3 of the substrate - a diagram showing the electromechanical coupling coefficient in the case of forming a ZnO film in various thickness on the surface. As is clear from comparison between FIG. 2 and FIG. 4, the electromechanical coupling coefficient K becomes slightly larger in FIG. 2, that is, when the ZnO thin film is formed on the + surface of the LiNbO 3 substrate. The maximum value of this electromechanical coupling coefficient K is
As is clear from FIG. 2, the film thickness H / λ = 0.06 of the ZnO piezoelectric thin film standardized by the wavelength λ of the Love wave is 0.491, which is very large. This electromechanical coupling coefficient K =
The value 0.491 is the electromechanical coupling coefficient K = when a ZnO thin film is formed on a Y-cut X-propagation LiNbO 3 substrate.
Greater than 0.47, and ZnO / Y-XLiN
It can be seen that the film thickness H / λ = 0.11 at the maximum electromechanical coupling coefficient of the bO 3 substrate is about half the film thickness.
【0026】すなわち、上記LiNbO3 基板上にZn
O薄膜を形成した構造では、ZnO薄膜の厚みを薄くし
た場合であっても、電気機械結合係数を効果的に高め得
ることがわかる。That is, Zn was formed on the LiNbO 3 substrate.
It can be seen that in the structure in which the O thin film is formed, the electromechanical coupling coefficient can be effectively increased even when the ZnO thin film is thin.
【0027】さらに、前述したように、ZnO/Yカッ
トX伝搬LiNbO3 基板では、ラブ波が励振される帯
域においてレイリー波が存在していたのに対し、上記L
iNbO3 基板上にZnO薄膜を形成した構造では、レ
イリー薄膜がラブ波の励振される帯域外に存在する。従
って、特性の優れたラブ波を利用した表面波装置を提供
し得ることがわかる。Further, as described above, in the ZnO / Y-cut X-propagation LiNbO 3 substrate, the Rayleigh wave was present in the band in which the Love wave was excited.
In the structure in which the ZnO thin film is formed on the iNbO 3 substrate, the Rayleigh thin film exists outside the band in which the Love wave is excited. Therefore, it can be seen that a surface wave device using Love waves with excellent characteristics can be provided.
【0028】また、前述したようにY−XLiNbO3
基板のTc80ppm/℃に比べて、上記41°Y−X
LiNbO3 基板は、温度特性Tcについても、60
〜65ppmと小さいことが知られており、従って、上
記LiNbO3 基板上にZnO薄膜を積層してなる圧電
基板を用いることにより、ZnOの膜厚が薄く、電気機
械結合係数Kが大きく、さらに温度特性Tcの小さな基
板を用いて表面波装置を構成し得るため、周囲の温度変
化に係わらず良好にラブ波を励振し得る表面波装置を提
供し得ることがわかる。Further, as described above, Y-XLiNbO 3
Compared to the Tc of the substrate of 80 ppm / ° C, the above 41 ° Y-X
The LiNbO 3 substrate has a temperature characteristic Tc of 60
~65ppm and is known to be small, therefore, by using a piezoelectric substrate formed by laminating a ZnO thin film on the LiNbO 3 substrate, the thickness of ZnO is thin, the electromechanical coupling factor K is large, the temperature further It can be seen that since the surface acoustic wave device can be configured using the substrate having the small characteristic Tc, the surface acoustic wave device that can excite the Love wave satisfactorily regardless of the ambient temperature change can be provided.
【0029】なお、本発明は、上記LiNbO3 基板上
に、該LiNbO3 基板に比べてラブ波の音速が遅い圧
電薄膜を形成してなる圧電基板を用いたことに特徴を有
するものであるが、該圧電薄膜としては、上記ZnO薄
膜だけでなく、CdS薄膜やTa2 O5 薄膜などの他の
圧電薄膜を用いてもよい。また、CdSやTa2 O5よ
りなる圧電薄膜を用いた場合にも、上記ZnO圧電薄膜
を用いた場合と同様に、その膜厚Hを表面波の波長λで
規格した値で、0.045〜0.09とすればよく、そ
れによってラブ波を安定に励振することができる。[0029] The present invention is in the LiNbO 3 substrate, but it has the characteristics that a piezoelectric substrate Love wave sound velocity compared to the LiNbO 3 substrate by forming a slow piezoelectric thin film As the piezoelectric thin film, not only the above ZnO thin film but also other piezoelectric thin films such as CdS thin film and Ta 2 O 5 thin film may be used. Also, when a piezoelectric thin film made of CdS or Ta 2 O 5 is used, the film thickness H is 0.045 at a value standardized by the wavelength λ of the surface wave, as in the case of using the ZnO piezoelectric thin film. It suffices if it is set to about 0.09, whereby the Love wave can be stably excited.
【0030】なお、本発明は、上記圧電基板を用いた表
面波装置に関するものであり、表面波装置の具体的な構
造、すなわちインターデジタルトランスデューサの数及
び形状等については、特に限定されるものではなく、従
来より公知の構造を適宜採用することができる。一例を
挙げると、例えば、図5に示す表面波共振子1におい
て、上記実施例の圧電基板を圧電基板2として用いるこ
とにより、温度特性が良好であり、かつ共振特性に優れ
たラブ波を利用した表面波共振子を提供することができ
る。なお、図5において、表面波共振子1は、本発明が
適用された圧電基板2の表面に互いに間挿し合う複数本
の電極指を有する一対のくし歯電極3a,3bを形成
し、それによってインターデジタルトランスデューサ3
を構成したものである。また、インターデジタルトラン
スデューサ3の両側にはグレーティング反射器4a,4
bが配置されている。The present invention relates to a surface acoustic wave device using the above-mentioned piezoelectric substrate, and the specific structure of the surface acoustic wave device, that is, the number and shape of interdigital transducers, is not particularly limited. Instead, a conventionally known structure can be appropriately adopted. As an example, for example, in the surface acoustic wave resonator 1 shown in FIG. 5, by using the piezoelectric substrate of the above embodiment as the piezoelectric substrate 2, a Love wave having good temperature characteristics and excellent resonance characteristics is used. A surface acoustic wave resonator can be provided. In FIG. 5, the surface acoustic wave resonator 1 has a pair of comb-teeth electrodes 3a and 3b having a plurality of electrode fingers to be inserted into each other on the surface of the piezoelectric substrate 2 to which the present invention is applied. Interdigital transducer 3
Is configured. In addition, grating reflectors 4a, 4 are provided on both sides of the interdigital transducer 3.
b is arranged.
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明では、温度特性Tcに優れた41
°回転Y板X伝搬LiNbO3 基板上に、該LiNbO
3 基板よりも表面波の音速の遅い材料からなる圧電薄膜
が形成されてなる圧電基板を用いているので、圧電基板
の電気機械結合係数は充分大きな値を有する。従って、
上記圧電基板を用いた本発明の表面波装置では、温度特
性Tcが優れており、かつラブ波が効果的に励振され
る。よって、広帯域であり、周囲温度の変化に係わらず
良好にラブ波を励振し得る表面波装置を提供することが
可能となる。INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, the temperature characteristics Tc of 41 are excellent.
Rotating Y-plate X-propagating LiNbO 3 on the LiNbO 3 substrate
Since the piezoelectric substrate formed by forming the piezoelectric thin film made of a material having a surface acoustic wave slower than the three substrates is used, the electromechanical coupling coefficient of the piezoelectric substrate has a sufficiently large value. Therefore,
In the surface acoustic wave device of the present invention using the above-mentioned piezoelectric substrate, the temperature characteristic Tc is excellent, and the Love wave is effectively excited. Therefore, it is possible to provide a surface acoustic wave device that has a wide band and can excite a Love wave satisfactorily regardless of changes in ambient temperature.
【0032】また、請求項3に記載のように、上記圧電
薄膜の膜厚Hの励振されるラブ波の波長λに対する比H
/λを0.045〜0.09の範囲とすることにより、
電気機械結合係数を0.43以上とすることができるた
め、より一層温度特性及び電気的特性に優れた表面波装
置を提供することができる。Further, as described in claim 3, the ratio H of the film thickness H of the piezoelectric thin film to the wavelength λ of the excited Love wave is set.
By setting / λ in the range of 0.045 to 0.09,
Since the electromechanical coupling coefficient can be set to 0.43 or more, it is possible to provide a surface acoustic wave device having more excellent temperature characteristics and electrical characteristics.
【図1】41°回転Y板X伝搬LiNbO3 基板の+面
上にZnO薄膜を形成してなる圧電基板におけるZnO
薄膜の相対的膜厚H/λと、励振される各種表面波の音
速との関係を示す図。FIG. 1 ZnO in a piezoelectric substrate formed by forming a ZnO thin film on the + surface of a 41 ° rotated Y plate X-propagation LiNbO 3 substrate.
The figure which shows the relationship between the relative film thickness H / (lambda) of a thin film, and the speed of sound of various surface waves excited.
【図2】41°回転Y板X伝搬LiNbO3 基板の+面
上にZnO薄膜を形成してなる圧電基板のZnO薄膜の
相対的膜厚H/λと、電気機械結合係数との関係を示す
図。FIG. 2 shows a relationship between a relative film thickness H / λ of a ZnO thin film of a piezoelectric substrate formed by forming a ZnO thin film on the + surface of a 41 ° rotated Y plate X-propagation LiNbO 3 substrate and an electromechanical coupling coefficient. Fig.
【図3】41°回転Y板X伝搬LiNbO3 基板の−面
上にZnO薄膜を形成してなる圧電基板を用いた場合の
ZnO薄膜の相対的膜厚H/λと、表面波の音速との関
係を示す図。FIG. 3 shows a relative film thickness H / λ of a ZnO thin film and a sound velocity of a surface wave when a piezoelectric substrate in which a ZnO thin film is formed on a − surface of a 41 ° rotated Y plate X propagation LiNbO 3 substrate is used. FIG.
【図4】41°回転Y板X伝搬LiNbO3 基板の−面
上にZnO薄膜を形成した場合のZnO薄膜の相対的膜
厚H/λと、電気機械結合係数との関係を示す図。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the relative film thickness H / λ of a ZnO thin film and the electromechanical coupling coefficient when the ZnO thin film is formed on the negative surface of a 41 ° rotated Y plate X-propagation LiNbO 3 substrate.
【図5】本発明が適用される表面波装置の一例としての
表面波共振子を示す斜視図。FIG. 5 is a perspective view showing a surface acoustic wave resonator as an example of a surface acoustic wave device to which the present invention is applied.
1…表面波装置としての表面波共振子 2…圧電基板 3a,3b…くし歯電極 4a,4b…反射器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Surface wave resonator as a surface wave device 2 ... Piezoelectric substrate 3a, 3b ... Comb tooth electrode 4a, 4b ... Reflector
Claims (3)
と、前記LiNbO 3 基板上に形成されており、かつ前
記LiNbO3 基板に比べて表面波伝搬速度が遅い材料
よりなる圧電薄膜とを有する圧電基板と、 前記圧電基板に設けられたインターデジタルトランスデ
ューサとを備え、ラブ波を利用するように構成されてい
ることを特徴とする、表面波装置。1. A 41 ° rotated Y plate X propagating LiNbO3substrate
And the LiNbO 3Formed on the board, and before
LiNbO3A material whose surface wave propagation velocity is slower than that of the substrate
A piezoelectric substrate having a piezoelectric thin film made of, and an interdigital transformer provided on the piezoelectric substrate.
And configured to utilize Love waves.
A surface acoustic wave device, characterized in that
Ta2 O5 よりなる、請求項1に記載の表面波装置。2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the piezoelectric thin film is made of ZnO, CdS or Ta 2 O 5 .
ブ波の波長をλとしたときに、H/λが、0.045〜
0.09の範囲とされている、請求項1または2に記載
の表面波装置。3. When the thickness of the piezoelectric thin film is H and the wavelength of the excited Love wave is λ, H / λ is 0.045 to
The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the surface acoustic wave device has a range of 0.09.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28097694A JPH08139565A (en) | 1994-11-15 | 1994-11-15 | Surface acoustic wave device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28097694A JPH08139565A (en) | 1994-11-15 | 1994-11-15 | Surface acoustic wave device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08139565A true JPH08139565A (en) | 1996-05-31 |
Family
ID=17632529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28097694A Pending JPH08139565A (en) | 1994-11-15 | 1994-11-15 | Surface acoustic wave device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08139565A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998056109A1 (en) * | 1997-06-02 | 1998-12-10 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Elastic surface-wave device |
-
1994
- 1994-11-15 JP JP28097694A patent/JPH08139565A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998056109A1 (en) * | 1997-06-02 | 1998-12-10 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Elastic surface-wave device |
US6259186B1 (en) | 1997-06-02 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Surface acoustic wave functional wave |
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