JPH08129247A - Supporting body for silver halide photographic sensitive material - Google Patents
Supporting body for silver halide photographic sensitive materialInfo
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- JPH08129247A JPH08129247A JP6269018A JP26901894A JPH08129247A JP H08129247 A JPH08129247 A JP H08129247A JP 6269018 A JP6269018 A JP 6269018A JP 26901894 A JP26901894 A JP 26901894A JP H08129247 A JPH08129247 A JP H08129247A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料用支持体に関し、詳しくは寸法安定性に優れたハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a support for silver halide photographic light-sensitive materials, and more particularly to a support for silver halide photographic light-sensitive materials having excellent dimensional stability.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般にハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる写真用支持体はその目的によりいろいろなものが
使いわけられている。2. Description of the Related Art Various photographic supports are generally used for silver halide photographic light-sensitive materials, depending on the purpose.
【0003】例えばロール状のカラー写真フィルムの写
真用支持体には、セルローストリアセテート(以下TA
Cと略す)フィルムが用いられている。ハロゲン化銀写
真感光材料(以下写真フィルムと略す場合がある)がロ
ール状に巻かれると時間と共に巻きぐせが付き易くな
る。TACフィルムには現像処理等の水中に浸漬される
と、巻きぐせが解消されるという性質があるため、カラ
ー写真フィルムのようなロール写真フィルムの写真用支
持体としてTACフィルムが一般に用いられている。For example, a photographic support for a roll-shaped color photographic film includes cellulose triacetate (hereinafter referred to as TA).
A film (abbreviated as C) is used. When a silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter sometimes abbreviated as photographic film) is wound in a roll, it tends to be curled with time. A TAC film is generally used as a photographic support for a roll photographic film such as a color photographic film because the TAC film has a property of eliminating the curl when it is immersed in water such as a developing process. .
【0004】一方印刷用写真フィルムは、湿度変化に対
して高度な寸法安定性が要求されるため、この写真用支
持体としては湿度膨張係数が少なくかつ、比較的弾性率
の大きなポリエチレンテレフタレート(以下PETと略
す)フィルムが用いられている。On the other hand, the photographic film for printing is required to have a high degree of dimensional stability against changes in humidity. Therefore, as a photographic support for the photographic film, polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as "polyethylene terephthalate" having a relatively large coefficient of elasticity and a relatively large elastic modulus) is used. A film (abbreviated as PET) is used.
【0005】また、医療用写真フィルムには、医師が診
断時写真フィルムをシャーカステンに挟み込むため、写
真フィルムに剛性が要求され、厚手のPETフィルムが
写真用支持体として使用されている。In medical photographic film, a doctor sandwiches the photographic film in a Schaukasten at the time of diagnosis, so that the photographic film is required to have rigidity, and a thick PET film is used as a photographic support.
【0006】これらの写真フィルムの中でも印刷用写真
フィルムは外界の条件変化(例えば温度、湿度、水中
等)に対して寸法変化がないことが厳しく要求され、そ
の設計に様々な工夫がなされている。また、昨今の技術
進歩により更なるシビアな寸法安定性が求められてい
る。Among these photographic films, the photographic film for printing is strictly required to have no dimensional change with respect to changes in external conditions (for example, temperature, humidity, water, etc.), and various contrivances have been made in its design. . Further, due to recent technological advances, more severe dimensional stability is required.
【0007】このような状況の中でPETフィルムが写
真用支持体として用いられている印刷用写真フィルムも
市場の要求に応えられない場合が生じ、更なる寸法変化
の少ない材料が求められるようになって来た。Under such circumstances, a photographic film for printing, in which a PET film is used as a photographic support, may not meet the demands of the market, and a material having a smaller dimensional change is required. It has become.
【0008】例えば、特開平1-180537号には吸水、吸湿
性の少ないPETフィルムを更に、吸水、吸湿性を少な
くするために、PETフィルムの両面に塩化ビニリデン
系のポリマー層を、極く薄く塗設して防水、防湿効果を
高め、寸法安定性を更に良くする方法が提案されてい
る。For example, in JP-A 1-180537, a PET film having low water absorption and hygroscopicity is further formed, and a vinylidene chloride polymer layer is extremely thin on both sides of the PET film in order to reduce water absorption and hygroscopicity. A method has been proposed in which coating is performed to enhance waterproofing and moistureproof effects and further improve dimensional stability.
【0009】また特開平3-131843号明細書には延伸され
たシンジオタクチック構造を有するスチレン系ポリマー
(以下SPSと略すこともある)フィルム及び感光層か
らなる写真フィルムが提案されている。この明細書には
SPSフィルムは軽量で、力学的に強く、しかも湿度膨
張係数も小さく、PETよりも優れた写真用支持体であ
ることが記載されている。Further, Japanese Patent Laid-Open No. 3-113843 proposes a photographic film comprising a stretched styrene polymer (hereinafter sometimes abbreviated as SPS) film having a syndiotactic structure and a photosensitive layer. It is described in this specification that the SPS film is lightweight, mechanically strong, has a small coefficient of humidity expansion, and is a photographic support superior to PET.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】前述の写真フィルムに
特開平1-180537号に記載の塩化ビニリデン系ポリマーの
薄膜をPETフィルムに塗設した写真用支持体を用いる
場合には、防水、防湿効果はかなりあるものの下記の如
き、 (1)写真フィルムの長期間の保存中に塩化ビニリデン
ポリマーが徐々に脱塩素化が進みそのため写真画像が変
色する。When a photographic support prepared by coating the above-mentioned photographic film with a thin film of vinylidene chloride polymer described in JP-A 1-180537 on a PET film is used, waterproof and moisture-proof effects are obtained. However, (1) the vinylidene chloride polymer gradually undergoes dechlorination during long-term storage of the photographic film, resulting in discoloration of the photographic image.
【0011】(2)PET写真用支持体を回収する際、
塩化ビニリデンポリマーをPETフィルムから落としに
くく、PETが汚染されて、回収品の品質が低下する。(2) When collecting the PET photographic support,
It is difficult to remove the vinylidene chloride polymer from the PET film, and the PET is contaminated, and the quality of the recovered product deteriorates.
【0012】(3)このPETフィルムがそのまま回収
出来ず、そのまま焼却する場合、塩素ガス等、有害物質
が発生するため、環境問題を惹き起こす。(3) When this PET film cannot be recovered as it is and is incinerated as it is, harmful substances such as chlorine gas are generated, which causes environmental problems.
【0013】等の問題点から、このような写真用支持体
は、使用しにくい。Due to the above-mentioned problems, such a photographic support is difficult to use.
【0014】一方、特開平3-131848号のSPSフィルム
は、湿度膨張係数が小さく、それを用いた写真フィルム
は寸法安定性が優れているものの、感光層あるいはバッ
ク層が支持体と強固に接着しにくいという欠点を有して
いる。SPSフィルムは寸法安定性を高めるために高度
な結晶化が必要であり、そのため適度な下引層を選択し
にくいという欠点がある。また下引層をまず強固に接着
させるためには、ポリスチレンに対する良溶媒を使用す
る場合もあり、このような場合には、フィルムの平面性
が損なわれてしまう。On the other hand, the SPS film of JP-A-3-31848 has a small humidity expansion coefficient, and the photographic film using the SPS film has excellent dimensional stability, but the photosensitive layer or the back layer strongly adheres to the support. It has the drawback of being difficult to do. The SPS film requires a high degree of crystallization in order to enhance the dimensional stability, which makes it difficult to select an appropriate undercoat layer. Moreover, in order to firmly adhere the undercoat layer, a good solvent for polystyrene may be used in some cases, and in such a case, the flatness of the film is impaired.
【0015】本発明の目的は上記の如き欠点を排除し、
しかも高度に寸法安定性に優れ、感光層等の接着性を有
しているハロゲン化銀写真感光材料のための写真用支持
体を提供することにある。The object of the present invention is to eliminate the above drawbacks,
Moreover, the object is to provide a photographic support for a silver halide photographic light-sensitive material which is highly excellent in dimensional stability and has adhesiveness for a light-sensitive layer and the like.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明者は、このシンジ
オタクチックポリスチレンを主成分とするフィルムの下
引方法を種々検討を行ったが、写真性能が劣化したり、
透明度が劣化したり、平面性が劣化したりして良いもの
が得られなかった。本発明者は寸法安定性を維持し、上
記性能を満足させるシンジオタクチックポリスチレンを
主成分とするフィルムを写真用支持体として使用するこ
とを鋭意検討した結果、下記の如き写真用支持体を得る
ことが出来た。Means for Solving the Problems The present inventor has conducted various studies on the undercoating method of the film containing syndiotactic polystyrene as a main component, but the photographic performance is deteriorated,
A good product could not be obtained because the transparency was deteriorated or the flatness was deteriorated. The present inventor has diligently studied to use a film containing syndiotactic polystyrene as a main component, which maintains the dimensional stability and satisfies the above-mentioned performance, as a photographic support, and as a result, obtains a photographic support as follows. I was able to do it.
【0017】すなわち (1) シンジオタクチックポリスチレンを主成分とす
るフィルムの両面にポリエステル樹脂層が積層されてい
る構造を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料用支持体。That is, (1) A support for a silver halide photographic light-sensitive material, which has a structure in which a polyester resin layer is laminated on both surfaces of a film containing syndiotactic polystyrene as a main component.
【0018】(2) 前記ポリエステル樹脂層がポリエ
チレンテレフタレート樹脂層であることを特徴とする
(1)記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。(2) The support for a silver halide photographic light-sensitive material according to (1), wherein the polyester resin layer is a polyethylene terephthalate resin layer.
【0019】(3) 前記ポリエステル樹脂層がポリエ
チレンナフタレート樹脂層であることを特徴とする
(1)記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。(3) The support for a silver halide photographic light-sensitive material according to (1), wherein the polyester resin layer is a polyethylene naphthalate resin layer.
【0020】(4) 前記ポリエステル樹脂層が変性ポ
リエステル樹脂層であることを特徴とする(1)記載の
ハロゲン化銀写真感光材料用支持体。(4) The support for a silver halide photographic light-sensitive material according to (1), wherein the polyester resin layer is a modified polyester resin layer.
【0021】(5) 前記変性ポリエステル樹脂層がテ
レフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、5-ナトリウムス
ルホイソフタル酸から選ばれる少なくとも一種と、エチ
レングリコール、ポリエチレングリコールから選ばれる
少なくとも一種との縮合よりなるものであることを特徴
とする(4)記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持
体。(5) The modified polyester resin layer is formed by condensation of at least one selected from terephthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid and 5-sodium sulfoisophthalic acid and at least one selected from ethylene glycol and polyethylene glycol. (4) The support for a silver halide photographic light-sensitive material as described in (4) above.
【0022】本発明の写真用支持体の特徴はシンジオタ
クチックポリスチレンを主成分とするフィルムの物性を
ほとんどそこなうことなく、感光層等との強固な接着性
を保持することの出来る構造を有していることである。The characteristic feature of the photographic support of the present invention is that it has a structure capable of maintaining a strong adhesiveness to a photosensitive layer and the like, while hardly compromising the physical properties of a film containing syndiotactic polystyrene as a main component. It is that.
【0023】以下、本発明を具体的に説明する。The present invention will be specifically described below.
【0024】本発明において、シンジオタクチックポリ
スチレンを主成分とするフィルムとは、主鎖の主たる連
鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体あるいは、そ
れを含む組成物であり、スチレンの単独重合体であれ
ば、特開昭62-117708号記載の方法で重合することが可
能であり、またその他の重合体については、特開平1-46
912号、同1-178505号等に記載された方法により重合す
ることにより得ることができる。In the present invention, the film containing syndiotactic polystyrene as a main component is a styrene polymer whose main chain is a racemo chain or a composition containing the same, and a styrene homopolymer. If so, it is possible to polymerize by the method described in JP-A-62-117708, and for other polymers, JP-A-1-46
It can be obtained by polymerizing by the method described in Nos. 912 and 1-178505.
【0025】また、主鎖の連鎖に対しては、13C-NM
Rを用いての、ベンゼン環の1位の炭素の測定によりペ
ンタッドタクチシティとして定量されることが一般的で
かつ精度に優れる。For the main chain chain, 13 C-NM
It is general and highly accurate to quantify as pentad tacticity by measuring the carbon at the 1-position of the benzene ring using R.
【0026】本発明において、ラセモ連鎖は、2連鎖で
85%以上、3連鎖で75%以上、5連鎖で50%以上である
ことが好ましい。In the present invention, the racemo chain is two chains.
It is preferably 85% or more, 75% or more in 3 chains and 50% or more in 5 chains.
【0027】シンジオタクチックポリスチレン系組成物
を構成する重合体は、具体的なモノマーとしてスチレ
ン、アルキルスチレン、ハロゲン化アルキルスチレン、
アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エステル等を主成
分とする重合体である。The polymer constituting the syndiotactic polystyrene-based composition includes styrene, alkylstyrene, halogenated alkylstyrene,
It is a polymer containing alkoxy styrene, vinyl benzoate, etc. as main components.
【0028】本発明のシンジオタクチック構造を有する
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを重
合用の触媒として、特開平5-320448号、4頁〜10頁に記
載の(イ)(a)遷移金属化合物及び(b)アルミノキ
サンを主成分とするもの、又は(ロ)(a)遷移金属化
合物及び(c)遷移金属化合物と反応してイオン性錯体
を形成しうる化合物を主成分とするものを用いて重合し
て製造することができる。The polystyrene resin having a syndiotactic structure of the present invention is described in (a) (a) on pages 4 to 10 of JP-A-5-320448, using the above raw material monomers as a catalyst for polymerization. ) A compound containing a transition metal compound and (b) an aluminoxane as a main component, or (b) containing a compound capable of reacting with a transition metal compound (a) and a transition metal compound (c) to form an ionic complex as a main component It can be produced by polymerizing the same.
【0029】上記(a)成分の遷移金属化合物としては
様々なものがあるが、好ましくは一般式(III) M1R
2・・・RK (III) 〔式中、M1はTi,Zr,Cr,V,Nb,Ta又はHfを示し、
R2〜Rkは、それぞれ水素原子,酸素原子,ハロゲン原
子,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数1〜20のアルコ
キシ基;炭素数6〜20のアリール基,アルキルアリール
基若しくはアリールアルキル基;炭素数1〜20のアシル
オキシ基、アリル基、置換アリル基,アセチルアセトナ
ート基,置換アセチルアセトナート基,ケイ素原子を含
む置換基、あるいはカルボニル,酸素分子,窒素分子,
ルイス塩基,鎖状不飽和炭化水素又は環状不飽和炭化水
素などの配位子、シクロペンタジエニル基,置換シクロ
ペンタジエニル基,インデニル基,置換インデニル基,
テトラヒドロインデニル基,置換テトラヒドロインデニ
ル基,フルオレニル基又は置換フルオレニル基を示す。
また、Kは金属の原子価を示し、通常2〜5の整数を示
す〕で表される化合物を挙げることができる。Although there are various transition metal compounds of the above-mentioned component (a), the compound of the general formula (III) M 1 R is preferred.
2 ... RK (III) [wherein, M 1 represents Ti, Zr, Cr, V, Nb, Ta or Hf,
R 2 to R k are each a hydrogen atom, an oxygen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms; an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkylaryl group or arylalkyl. Group; acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, allyl group, substituted allyl group, acetylacetonato group, substituted acetylacetonato group, substituent containing silicon atom, carbonyl, oxygen molecule, nitrogen molecule,
A ligand such as Lewis base, chain unsaturated hydrocarbon or cyclic unsaturated hydrocarbon, cyclopentadienyl group, substituted cyclopentadienyl group, indenyl group, substituted indenyl group,
A tetrahydroindenyl group, a substituted tetrahydroindenyl group, a fluorenyl group or a substituted fluorenyl group is shown.
Further, K represents a valence of a metal and usually represents an integer of 2 to 5].
【0030】ここで、置換シクロペンタジエニル基とし
ては、例えば、メチルシクロペンタジエニル基,エチル
シクロペンタジエニル基,イソプロピルシクロペンタジ
エニル基,1,2-ジメチルシクロペンタジエニル基,テト
ラメチルシクロペンタジエニル基,1,3-ジメチルシクロ
ペンダジエニル基,1,2,3-トリメチルシクロペンタジエ
ニル基,1,2,4-トリメチルシクロペンタジエニル基,ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル基,トリメチルシリル
シクロペンタジエニル基などが挙げられる。また、R2
〜Rkの配位子は、配位子間で共有結合によって架橋体
を形成してもよい。ハロゲン原子の具体例としては、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子;炭素数1
〜20のアルキル基としては、メチル基,エチル基,n-プ
ロピル基,iso-プロピル基,n-ブチル基,オクチル基,
2-エチルヘキシル基など、炭素数1〜20のアルコキシ基
としては、メトキシ基,エトキシ基,プロポキシ基,ブ
トキシ基,フェノキシ基など、炭素数6〜20のアリール
基,アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基と
しては、フェニル基,トリル基,キシリル基,ベンジル
基など、炭素数1〜20のアシルオキシ基としては、ヘプ
タデシルカルボニルオキシ基など、ケイ素原子を含む置
換基としては、トリメチルシリル基,(トリメチルシリ
ル)メチル基など、ルイス塩基としては、ジメチルエー
テル,ジエチルエーテル,テトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル
類,エチルベンゾエートなどのエステル類,ベンゾニト
リルなどのニトリル類,トリメチルアミン,トリエチル
アミン,トリブチルアミン;N,N-ジメチルアニリン,ピ
リジン;2,2′-ピピリジン,フェナントロリンなどのア
ミン類,トリエチルホスフィン,トリフェニルホスフィ
ンなどのホスフィン類など、鎖状不飽和炭化水素として
は、エチレン,ブタジエン,1-ペンテン,イソプレン,
ペンタジエン,1-ヘキセン及びこれらの誘導体など、環
状不飽和炭化水素としては、ベンゼン,トルエン,キシ
レン,シクロヘプタトリエン,シクロオクタジエン,シ
クロオクタトリエン,シクロオクタテトラエン及びこれ
らの誘導体などが挙げられる。共有結合による架橋とし
ては、例えば、メチル架橋,ジメチルメチレン架橋,エ
チレン架橋,ジメチルシリレン架橋,ジメチルスタニレ
ン架橋などが挙げられる。Examples of the substituted cyclopentadienyl group include methylcyclopentadienyl group, ethylcyclopentadienyl group, isopropylcyclopentadienyl group, 1,2-dimethylcyclopentadienyl group and tetra. Methylcyclopentadienyl group, 1,3-dimethylcyclopentadienyl group, 1,2,3-trimethylcyclopentadienyl group, 1,2,4-trimethylcyclopentadienyl group, pentamethylcyclopentadienyl group Group, a trimethylsilylcyclopentadienyl group, and the like. Also, R 2
The ligands of to R k may form a crosslinked body by a covalent bond between the ligands. Specific examples of the halogen atom include fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom; carbon number 1
As the alkyl group of ~ 20, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, octyl group,
Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as 2-ethylhexyl group are an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group having 6 to 20 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group and phenoxy group. Is a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a benzyl group, etc., an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, a heptadecylcarbonyloxy group, etc., a substituent containing a silicon atom, a trimethylsilyl group, a (trimethylsilyl) methyl group. Examples of Lewis bases include ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, and tetrahydrofuran, thioethers such as tetrahydrothiophene, esters such as ethylbenzoate, nitriles such as benzonitrile, trimethylamine, triethylamine, and tributylamine. N, N-dimethylaniline, pyridine; amines such as 2,2'-pipyridine and phenanthroline; phosphines such as triethylphosphine and triphenylphosphine; chain unsaturated hydrocarbons such as ethylene, butadiene, 1 -Pentene, isoprene,
Examples of cyclic unsaturated hydrocarbons such as pentadiene, 1-hexene and derivatives thereof include benzene, toluene, xylene, cycloheptatriene, cyclooctadiene, cyclooctatriene, cyclooctatetraene and derivatives thereof. Examples of the covalent cross-link include methyl cross-link, dimethylmethylene cross-link, ethylene cross-link, dimethylsilylene cross-link, dimethylstannylene cross-link, and the like.
【0031】チタニウム化合物の具体例としては、テト
ラメトキシチタン,テトラエトキシチタン,四塩化チタ
ン,三塩化チタン,シクロペンタジエニルトリメチルチ
タン,シクロペンタジエニルトリエチルチタン,シクロ
ペンタジエニルトリプロピルチタン,1,2-ジメチルシク
ロペンタジエニルトリメチルチタン,ペンタメチルシク
ロペンタジエニルトリエチルチタン,ペンタメチルシク
ロペンタジエニルトリブチルチタン,シクロペンタジエ
ニルメチルチタンジクロリド,ペンタメチルシクロペン
タジエニルメチルチタンジクロリド,シクロペンタジエ
ニルジメチルチタンモノクロリド;シクロペンタジエニ
ルチタントリプロポキシド,シクロペンタジエニルチタ
ントリフェノキシド,ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリエトキシド,ペンタメチルシクロペンタジ
エニルチタントリフェノキシド,シクロペンタジエニル
チタントリクロリド,ペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリクロリド,ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルメトキシチタンジクロリド,インデニルチタントリ
メトキシド,インデニルトリメチルチタンなどが挙げら
れる。Specific examples of titanium compounds include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, titanium tetrachloride, titanium trichloride, cyclopentadienyltrimethyl titanium, cyclopentadienyl triethyl titanium, cyclopentadienyl tripropyl titanium, 1 , 2-Dimethylcyclopentadienyl trimethyl titanium, pentamethyl cyclopentadienyl triethyl titanium, pentamethyl cyclopentadienyl tributyl titanium, cyclopentadienyl methyl titanium dichloride, pentamethyl cyclopentadienyl methyl titanium dichloride, cyclopentadi Phenyl dimethyl titanium monochloride; cyclopentadienyl titanium tripropoxide, cyclopentadienyl titanium triphenoxide, pentamethyl cyclopentadienyl titanium triethoxide Sid, pentamethylcyclopentadienyl titanium triphenoxide, cyclopentadienyl titanium trichloride, pentamethyl cyclopentadienyl titanium trichloride, pentamethyl cyclopentadienyl methoxy titanium dichloride, indenyl titanium trimethoxide, indenyl trimethyl Examples include titanium.
【0032】また、一般式(III)で表される遷移金属
化合物のうち、M1がジルコニウムであるジルコニウム
化合物の具体例としては、ジシクロペンタジエニルジル
コニウムジクロリド,テトラブトキシジルコニウム,四
塩化ジルコニウム,テトラフェニルジルコニウム,シク
ロペンタジエニルジルコニウムトリメトキシド,ペンタ
メチルシクロペンタジエニルトリベンジルジルコニウ
ム,ビスインデニルジルコニウムジクロリド,ジルコニ
ウムジベンジルジクロリド,トリブトキシジルコニウム
クロリド,トリイソプロポキシジルコニウムクロリド,
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリメチルジルコ
ニウム,(ペンタメチルシクロペンタジエニル)トリフェ
ニルジルコニウム,(シクロペンタジエニル)トリクロロ
ルジルコニウム,(メチルシクロペンタジエニル)トリク
ロロジルコニウム,(メチルシクロペンタジエニル)ジメ
チル(メトキシ)ジルコニウム,ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジフェニルジルコニウム,ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジメトキシジルコニウム,ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジヒドリドジルコニウム,ビス(メチルシクロペン
タジエニル)ジメチルジルコニウム,ビス(メチルシクロ
ペンタジエニル)ジクロロジルコニウム,ビス(ペンタメ
チルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウム,ビ
ス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ヒドリドメチル
ジルコニウム,エチレンビス(インデニル)ジメチルジル
コニウム,ジメチルシリレンビス(シクロペンタジエニ
ル)ジメチルジルコニウム,イソプロピル(シクロペンタ
ジエニル)(9-フルオレニル)ジメチルジルコニウム,エ
チリデン(9-フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメ
チルジルコニウム,シクロヘキシル(9-フルオレニル)
(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム,シクロ
ブチル(9-フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジメチ
ルジルコニウム,ジメチルシリレンビス(2,3,5-トリメ
チルシクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウムなど
か挙げられる。Of the transition metal compounds represented by the general formula (III), specific examples of zirconium compounds in which M 1 is zirconium include dicyclopentadienyl zirconium dichloride, tetrabutoxy zirconium, zirconium tetrachloride, Tetraphenylzirconium, cyclopentadienylzirconium trimethoxide, pentamethylcyclopentadienyltribenzylzirconium, bisindenylzirconium dichloride, zirconium dibenzyldichloride, tributoxyzirconium chloride, triisopropoxyzirconium chloride,
(Pentamethylcyclopentadienyl) trimethylzirconium, (Pentamethylcyclopentadienyl) triphenylzirconium, (Cyclopentadienyl) trichlorozirconium, (Methylcyclopentadienyl) trichlorozirconium, (Methylcyclopentadienyl) Dimethyl (methoxy) zirconium, bis (cyclopentadienyl) diphenylzirconium, bis (cyclopentadienyl) dimethoxyzirconium, bis (cyclopentadienyl) dihydridozirconium, bis (methylcyclopentadienyl) dimethylzirconium, bis ( Methylcyclopentadienyl) dichlorozirconium, bis (pentamethylcyclopentadienyl) dichlorozirconium, bis (pentamethylcyclopentadienyl) hydridomethylzirconium, ethylenebis ( Ndenyl) dimethyl zirconium, dimethyl silylene bis (cyclopentadienyl) dimethyl zirconium, isopropyl (cyclopentadienyl) (9-fluorenyl) dimethyl zirconium, ethylidene (9-fluorenyl) (cyclopentadienyl) dimethyl zirconium, cyclohexyl (9 -Fluorenyl)
Examples thereof include (cyclopentadienyl) dimethylzirconium, cyclobutyl (9-fluorenyl) (cyclopentadienyl) dimethylzirconium, and dimethylsilylenebis (2,3,5-trimethylcyclopentadienyl) dichlorozirconium.
【0033】ハフニウム化合物の具体例としては、シク
ロペンタジエニルハフニウムトリメトキシイミド,ペン
タメチルシクロペンタジエニルハフニウムトリメトキシ
イシド,ペンタメチルシクロペンタジエニルトリベンジ
ルハフニウム,ハフニウムジベンジルジクロリド,四酸
化ハフニウム,ジシクロペンタジエニルハフニウムジク
ロリドなどが挙げられる。バナジウムの具体例として
は、バナジウムトリクロリド,バナジルトリクロリド,
バナジウムトリアセチルアセトナート,バナジウムテト
ラクロリド,バナジウムトリブトキシド,バナジルジク
ロリド,バナジルビスアセチルアセトナート,バナジル
トリアセチルアセトナート,ジベンゼンバナジウム,ジ
シクロペンタジエニルバナジウム,ジシクロペンタジエ
ニルバナジウムジクロリド,シクロペンタジエニルバナ
ジウムジクロリド,ジシクロペンタジエニルメチルバナ
ジウムなどが挙げられる。ニオブ化合物の具体例として
は、五塩化ニオブ,テトラクロロメチルニオブ,ジクロ
ロトリメチルニオブ,ジシクロペンタジエニルニオブジ
クロリド,ジシクロペンタジエニルニオブトリヒドリ
ド,ペンタブトキシニオブなどが挙げられる。タンタル
化合物の具体例としては、五塩化タンタル,ジクロルト
リメチルタンタル,ジシクロペンタジエニルタンタルト
リヒドリド,ペンタブトキシニオブなどが、クロム化合
物の具体例としては、三塩化クロム,テトラブトキシク
ロム,テトラメチルクロム,ジシクロペンタジエニルク
ロム,ジベンゼンクロムなどが挙げられる。Specific examples of the hafnium compound include cyclopentadienyl hafnium trimethoxyimide, pentamethylcyclopentadienyl hafnium trimethoxyside, pentamethylcyclopentadienyl tribenzyl hafnium, hafnium dibenzyl dichloride, hafnium tetraoxide. , Dicyclopentadienyl hafnium dichloride and the like. Specific examples of vanadium include vanadium trichloride, vanadyl trichloride,
Vanadium triacetylacetonate, vanadium tetrachloride, vanadium tributoxide, vanadyl dichloride, vanadyl bisacetylacetonate, vanadyl triacetylacetonate, dibenzene vanadium, dicyclopentadienyl vanadium, dicyclopentadienyl vanadium dichloride, cyclopenta Dienyl vanadium dichloride, dicyclopentadienylmethyl vanadium and the like can be mentioned. Specific examples of the niobium compound include niobium pentachloride, tetrachloromethylniobium, dichlorotrimethylniobium, dicyclopentadienylniobium dichloride, dicyclopentadienylniobium trihydride, pentabtoxiniob, and the like. Specific examples of tantalum compounds include tantalum pentachloride, dichlorotrimethyltantalum, dicyclopentadienyltantalum trihydride, pentabtoxniobium, and the like, and specific examples of chromium compounds include chromium trichloride, tetrabutoxychromium, and tetramethyl. Examples include chromium, dicyclopentadienyl chromium, and dibenzene chromium.
【0034】さらに、その他の遷移金属化合物として、
上記遷移金属化合物をマグネシウム化合物やケイ素化合
物などの担体に担持したものを用いることができるし、
上記遷移化合物を電子供与性化合物で変性したものも用
いることができる。これらの遷移金属化合物の中でも特
に好ましいものは、チタニウム化合物及びジルコニウム
化合物である。該(イ)触媒には、上記(a)遷移金属
化合物とともに(b)アルミノキサンが用いられる。こ
のアルミノキサンは、有機アルミニウム化合物と縮合剤
を接触させることにより得られるものであって、一般式
(IV)Further, as other transition metal compounds,
It is possible to use the transition metal compound supported on a carrier such as a magnesium compound or a silicon compound,
It is also possible to use the above transition compound modified with an electron donating compound. Particularly preferable among these transition metal compounds are titanium compounds and zirconium compounds. For the catalyst (a), aluminoxane (b) is used together with the transition metal compound (a). This aluminoxane is obtained by contacting an organoaluminum compound with a condensing agent, and has the general formula (IV)
【0035】[0035]
【化1】 Embedded image
【0036】〔式中、R3は炭素数1〜20のアルキル
基,好ましくはメチル基を示し、pは0〜50、好ましく
は5〜30の数を示す。〕で表される鎖状アルミノキサン
や、一般式(V)[In the formula, R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably a methyl group, and p represents a number of 0 to 50, preferably 5 to 30. ] Chain aluminoxane represented by the general formula (V)
【0037】[0037]
【化2】 Embedded image
【0038】〔式中、R3は上記と同じであり、qは2
〜50、好ましくは5〜30の数を示す。〕で表される環状
アルミノキサンなどがある。該有機アルミニウム化合物
としては、例えばトリメチルアルミニウム,トリエチル
アルミニウム,トリイソブチルアルミニウムなどのトリ
アルキルアルミニウムなどが挙げられるが、これらの中
でトリメチルアルミニウムが好適である。また、縮合剤
としては、典型的なものとして水が挙げられるが、この
他にトリアルキルアルミニウムが縮合反応する任意のも
の、例えば硫酸銅5水塩,無機物や有機物への吸着水な
ど、各種のものが挙げられる。[Wherein R 3 is the same as above and q is 2
-50, preferably 5-30. ] Cyclic aluminoxane represented by Examples of the organoaluminum compound include trialkylaluminums such as trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, etc. Among them, trimethylaluminum is preferable. Further, as the condensing agent, water can be mentioned as a typical one, but in addition to this, various substances such as trialkylaluminum that undergoes a condensation reaction, such as copper sulfate pentahydrate, water adsorbed to inorganic or organic substances, etc. There are things.
【0039】一般に、トリアルキルアルミニウムなどの
有機アルミニウム化合物と水との接触生成物は、上述の
鎖状アルキルアミノキサンや環状アルキルアルミノキサ
ンとともに、未反応のトリアルキルアルミニウム,各種
の縮合生成物の混合物、さらには、これらが複雑に会合
した分子であり、これらのトリアルキルアルミニウムと
縮合剤である水との接触条件によって様々な生成物とな
る。この際のアルキルアルミニウム化合物と水との接触
方法には特に限定はなく、公知の手法に準じて反応させ
ればよい。例えば、有機アルミニウム化合物を有機溶
剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、重合
時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水
を添加する方法、さらには金属塩などに含有されてい
る結晶水,無機物や有機物への吸着水を有機アルミニウ
ム化合物と反応させる方法などがある。なお、上記の水
にはアンモニア,エチルアミンなどのアミン,硫化水素
などの硫黄化合物,亜燐酸エステルなどの燐化合物など
が20%程度まで含有されていてもよい。また、この反応
は無溶媒下でも進行するが、溶媒中で行うことが好まし
く、好適な溶媒としては、ヘキサン,ヘプタン,デカン
等の脂肪族炭化水素あるいはベンゼン,トルエン,キシ
レンなどの芳香族炭化水素を挙げることができる。Generally, the contact product of an organoaluminum compound such as trialkylaluminum with water is a mixture of unreacted trialkylaluminum and various condensation products together with the above-mentioned chain alkylaminoxane and cyclic alkylaluminoxane, Furthermore, these are molecules intricately associated with each other, and various products are formed depending on the contact conditions of these trialkylaluminums and water as a condensing agent. At this time, the method of contacting the alkylaluminum compound and water is not particularly limited, and the reaction may be performed according to a known method. For example, a method in which an organoaluminum compound is dissolved in an organic solvent and brought into contact with water, a method in which an organoaluminum compound is initially added at the time of polymerization and water is added later, and further, a metal salt is contained. There is a method of reacting water of crystallization, water adsorbed to an inorganic substance or an organic substance with an organoaluminum compound. The water may contain up to about 20% of ammonia, amine such as ethylamine, sulfur compound such as hydrogen sulfide, phosphorus compound such as phosphite. Although this reaction proceeds in the absence of a solvent, it is preferably carried out in a solvent, and suitable solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and decane, or aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene. Can be mentioned.
【0040】このアルミノキサン(例えばアルキルアル
ミノキサン)は、上記の接触反応後、含水化合物などを
使用した場合には、固体残渣を濾別し、濾液を常圧下あ
るいは減圧下で30〜200℃の温度、好ましくは40〜150℃
の温度で、20分〜8時間、好ましくは30分〜5時間の範
囲で溶媒を留去しつつ熱処理したものが好ましい。この
熱処理にあたっては、温度は各種の状況によって適宜定
めればよいが、通常は、上記範囲で行う。一般に、30℃
未満の温度では、効果が発現せず、また200℃を越える
とアルキルアルミノキサン自体の熱分解が起こり、いず
れも好ましくない。そして、熱処理の処理条件により反
応生成物は、無色の固体又は溶液状態で得られる。この
ようにして得られた生成物を、必要に応じて炭化水素溶
媒で溶媒あるいは希釈して触媒溶液として使用すること
できる。This aluminoxane (for example, alkylaluminoxane), after the above-mentioned catalytic reaction, when a hydrous compound or the like is used, the solid residue is filtered off, and the filtrate is heated under normal pressure or reduced pressure at a temperature of 30 to 200 ° C. Preferably 40-150 ℃
What was heat-treated while distilling off the solvent at the temperature of 20 minutes to 8 hours, preferably 30 minutes to 5 hours is preferable. In this heat treatment, the temperature may be appropriately determined according to various situations, but it is usually performed in the above range. Generally, 30 ° C
If the temperature is less than 200 ° C., the effect is not exhibited, and if it exceeds 200 ° C., thermal decomposition of the alkylaluminoxane itself occurs, which is not preferable. Then, the reaction product is obtained as a colorless solid or a solution state depending on the treatment conditions of the heat treatment. The product thus obtained can be used as a catalyst solution after being diluted with a hydrocarbon solvent, if necessary.
【0041】このような触媒成分として用いる有機アル
ミニウム化合物と縮合剤との接触生成物であるアルミノ
キサン、特にアルキルアルミノキサンの好適な例は、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトルで観測されるアルミニウム
-メチル基(Al-CH3)結合に基づくメチルプロトンシグ
ナル領域における高磁場成分が50%以下のものである。
つまり、上記の接触生成物を室温下、トルエン溶媒中で
そのプロトン核磁場共鳴(1H-NMR)スペクトルを観測す
ると、「Al-CH3」に基づくメチルプロトンシグナルはテ
トラメチルシラン(TMS)基準において1.0〜−0.5pp
mの範囲に見られる。TMSのプロトンシグナル(0pp
m)が「Al-CH3」に基づくメチルプロトン観測領域にあ
るため、この「Al-CH3」に基づくメチルプロトンシグナ
ルを、TMS基準におけるトルエンのメチルプロトンシ
グナル2.35ppmを基準に測定し高磁場成分(即ち、−0.1
〜−0.5ppm)と他の磁場成分(即ち、1.0〜−0.1ppm)
とに分けたときに、該高磁場成分が全体の50%以下、好
ましくは45〜5%のものが触媒成分として好適に使用で
きる。A suitable example of an aluminoxane, particularly an alkylaluminoxane, which is a contact product of an organoaluminum compound used as such a catalyst component and a condensing agent is aluminum observed in a proton nuclear magnetic resonance spectrum.
-The high magnetic field component in the methyl proton signal region based on the methyl group (Al-CH 3 ) bond is 50% or less.
That is, when the proton nuclear magnetic field resonance ( 1 H-NMR) spectrum of the above contact product is observed in a toluene solvent at room temperature, the methyl proton signal based on “Al—CH 3 ” is a tetramethylsilane (TMS) standard. At 1.0 to −0.5 pp
Found in the m range. TMS proton signal (0pp
Since m) is in the methyl protons observation area based on the "Al-CH 3", the methyl proton signal based on the "Al-CH 3", a high magnetic field is measured based on the methyl proton signal 2.35ppm toluene in TMS standard Component (i.e., -0.1
~ -0.5ppm) and other magnetic field components (ie 1.0-0.1ppm)
When the high magnetic field component is 50% or less, preferably 45 to 5%, the high magnetic field component can be suitably used as the catalyst component.
【0042】該(ロ)触媒には、上記(a)遷移金属化
合物とともに、(c)遷移金属化合物と反応してイオン
性錯体を形成しうる化合物が用いられる。この化合物に
ついては特に制限はないが、カチオンと複数の基が元素
に結合したアニオンとからなる化合物、すなわち化合物
(c)が周期律表のIIIB族,VB族,VIB族,VIIB族,VII
I族,IA族,IB族,IIA族,IIB族,IVA族及びVIIA族から
選ばれる元素を含むカチオンと複数の基が周期律表のVB
族,VIB族,VIIB族,VIII族,IB族,IIB族,IIIA族,IV
A族及びVA族から選ばれる元素に結合したアニオンとか
らなる化合物、特にカチオンと複数の基が元素に結合し
たアニオンとからなる配位錯化合物を好適に用いること
ができる。例えば一般式(VI)又は(VII) (〔L1−R4〕u+)V(〔M2Z1Z2・・・Ze〕(e-f)-)W (VI) 又は (〔L2〕u+)V(〔M3Z1Z2・・・Ze〕(e-f)-)W (VII) (但し、L2はM4,R5R6M5,R7 3M5又はR8M5である) 〔式中、L1はルイス塩基、M2及びM3はそれぞれ周期
律表のVB族,VIB族,VIIB族,VIII族,IB族,IIB族,II
IA族,IVA族及びV族から選ばれる元素、M4及びM5は
それぞれ周期律表のIIIB族,IV族,V族,VIB族,VIIB
族,VIII族,I族,IB族,IIA族,IIB族及びVIIA族から
選ばれる元素、Z1〜Zeはそれぞれ水素原子,ジアルキ
ルアミノ基,アルコキシ基,炭素数1〜20のアルコキシ
基,炭素数6〜20のアリールオキシ基,炭素数1〜20の
アルキル基,炭素数6〜20のアリール基,アルキルアリ
ール基,アリールアルキル基,炭素数1〜20のハロゲン
置換炭化水素基,炭素数1〜20のアシルオキシ基,有機
メタロイド基又はハロゲン原子を示し、Z1〜Zeはその
2以上が互いに結合して環を形成していてもよい。R4
は水素原子,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20
のアリール基,アルキルアリール基又はアリールアルキ
ル基を示し、R5及びR6はそれぞれシクロペンタジエニ
ル基,置換シクロペンタジエニル基,インデニル基又は
フルオレニル基,R7は炭素数1〜20のアルキル基,ア
リール基,アルキルアリール基又はアリールアルキル基
を示す。R8はテトラフェニルポルフィリン,フタロシ
アニンなどの大環状配位子を示す。fはM2,M3の原子
価で1〜7の整数、eは2〜8の整数、uは〔L1−
R4〕,〔L2〕のイオン価数で1〜7の整数、vは1以
上の整数、w=(v×u)/(e−f)である。〕で表
される化合物である。As the (b) catalyst, a compound capable of reacting with the (c) transition metal compound to form an ionic complex is used together with the (a) transition metal compound. The compound is not particularly limited, but the compound consisting of a cation and an anion in which a plurality of groups are bound to an element, that is, the compound (c) is IIIB group, VB group, VIB group, VIIB group, VII group of the periodic table.
A cation containing an element selected from Group I, Group IA, Group IB, Group IIA, Group IIB, Group IVA, and Group VIIA, and multiple groups of VB in the periodic table
Tribe, VIB, VIIB, VIII, IB, IIB, IIIA, IV
A compound composed of an anion bonded to an element selected from Group A and Group VA, particularly a coordination complex compound composed of a cation and an anion bonded to an element of a plurality of groups can be preferably used. For example, general formula (VI) or (VII) ([L 1 −R 4 ] u + ) V ([M 2 Z 1 Z 2・ ・ ・ Z e ) (ef)- ) W (VI) or ([L 2 ] u + ) V ([M 3 Z 1 Z 2・ ・ ・ Z e ) (ef)- ) W (VII) (However, L 2 is M 4 , R 5 R 6 M 5 , R 7 3 M 5 or R 8 M 5 is a) wherein, L 1 is a Lewis base, VB group M 2 and M 3 are each the periodic table, VIB group, VIIB group, VIII group, IB group, IIB group, II
Elements selected from IA group, IVA group and V group, M 4 and M 5 are IIIB group, IV group, V group, VIB group and VIIB of the periodic table, respectively.
An element selected from Group I, Group VIII, Group I, Group IB, Group IIA, Group IIB and Group VIIA, Z 1 to Z e are each a hydrogen atom, a dialkylamino group, an alkoxy group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, Aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, aryl group having 6 to 20 carbon atoms, alkylaryl group, arylalkyl group, halogen-substituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, carbon number 1-20 acyloxy group, organometalloid group or halogen atom, Z 1 to Z e may form a ring of two or more thereof with each other. R 4
Is hydrogen atom, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 6 to 20 carbon atoms
Represents an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group, wherein R 5 and R 6 are each a cyclopentadienyl group, a substituted cyclopentadienyl group, an indenyl group or a fluorenyl group, and R 7 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a group, an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group. R 8 represents a macrocyclic ligand such as tetraphenylporphyrin or phthalocyanine. f is the valence of M 2 and M 3 , an integer of 1 to 7, e is an integer of 2 to 8, and u is [L 1 −
The ionic valences of R 4 ] and [L 2 ] are integers of 1 to 7, v is an integer of 1 or more, and w = (v × u) / (ef). ] It is a compound represented by these.
【0043】ここで、上記L1で示されるルイス塩基の
具体例としては、アンモニア,メチルアミン,アニリ
ン,ジメチルアミン,ジエチルアミン,ジフェニルアミ
ン,トリメチルアミン,トリエチルアミン,N,N-ジメチ
ルアニリン,フェナントロリンなどのアミン類、トリエ
チルフォスフィン,トリフェニルフォスフィン,ジフェ
ニルフォスフィンなどのフォスフィン類、ジメチルエー
テル,ジエチルエーテル,テトラヒドロフランジオキサ
ンなどのエーテル類、ジエチルチオエーテル,テトラヒ
ドロチオフェンなどのチオエーテル類、エチルベンゾエ
ートなどのエステル類、アセトニトリル,ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類などが挙げられる。Specific examples of the Lewis base represented by L 1 include amines such as ammonia, methylamine, aniline, dimethylamine, diethylamine, diphenylamine, trimethylamine, triethylamine, N, N-dimethylaniline and phenanthroline. , Phosphines such as triethylphosphine, triphenylphosphine and diphenylphosphine, ethers such as dimethyl ether, diethyl ether and tetrahydrofuran dioxane, thioethers such as diethylthioether and tetrahydrothiophene, esters such as ethylbenzoate, acetonitrile, benzo Examples thereof include nitriles such as nitrile.
【0044】また、M2及びM3の具体例としては、B,
Al,Si,P,As,Sbなど、M4の具体例としては、Li,N
a,Ag,Cu,Br,I,I3など、M5の具体例としては、M
n,Fe,Co,Ni,Znなどが挙げられる。Z1〜Zeの具体
例としては、例えば、ジアルキルアミノ基としてはジメ
チルアミノ基,ジエチルアミノ基;炭素数1〜20のアル
コキシ基としてメトキシ基,エトキシ基,n-ブトキシ
基,炭素数6〜20のアリールオキシ基としてフェノキシ
基,2,6-ジメチルフェノキシ基,ナフチルオキシ基,炭
素数1〜20のアルキル基としてはメチル基,エチル基,
n-プロピル基,iso-プロピル基,n-ブチル基,n-オクチ
ル基,2-エチルヘキシル基、炭素数6〜20のアリール
基,アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基と
してフェニル基,p-トリル基,ベンジル基,ペンタフル
オロフェニル基,3,5-ジ(トリフルオロメチル)フェニル
基,4-タ-シャリーブチルフェニル基,2,6-ジメチルフ
ェニル基,3,5-ジメチルフェニル基,2,4-ジメチルフェ
ニル基,2,3-ジメチルフェニル基,1,2-ジメチルフェニ
ル基、炭素数1〜20のハロゲン置換炭素水素基としてp-
フルオロフェニル基,3,5-ジフルオロフェニル基,ペン
タクロロフェニル基,3,4,5-トリフルオロフェニル基,
ペンタフルオロフェニル基,3,5-ジ(トリフルオロメチ
ル)フェニル基、ハロゲン原子としてF,C,I,Br,
I;有機メタロイド基として五メチルアンチモン基,ト
リメチルシリル基,トリメチルゲルミル基,ジフェニル
アルシン基,ジシクロヘキシルアンチモン基,ジフェニ
ル硼素基が挙げられる。R4,R7の具体例としては先に
挙げたものと同様なものが挙げられる。R5及びR6の置
換シクロペンタジエニル基の具体例としては、メチルシ
クロペンタジエニル基,ブチルシクロペンタジエニル
基,ペンタメチルシクロペンタジエニル基などのアルキ
ル基で置換されたものが挙げられる。ここで、アルキル
基は通常炭素数が1〜6であり、置換されたアルキル基
の数は1〜4の整数で選ぶことができる。Specific examples of M 2 and M 3 include B,
Specific examples of M 4 , such as Al, Si, P, As, and Sb, include Li and N.
Specific examples of M 5 , such as a, Ag, Cu, Br, I, and I 3 , include M
Examples include n, Fe, Co, Ni and Zn. Specific examples of Z 1 to Z e include, for example, a dimethylamino group and a diethylamino group as the dialkylamino group; a methoxy group, an ethoxy group, an n-butoxy group, and a carbon number of 6 to 20 as the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Phenoxy group, 2,6-dimethylphenoxy group, naphthyloxy group as the aryloxy group, and methyl group, ethyl group as the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, aryl group having 6 to 20 carbon atoms, phenyl group as alkylaryl group or arylalkyl group, p-tolyl group, Benzyl group, pentafluorophenyl group, 3,5-di (trifluoromethyl) phenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,4- Dimethylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 1,2-dimethylphenyl group, p-as a halogen-substituted hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
Fluorophenyl group, 3,5-difluorophenyl group, pentachlorophenyl group, 3,4,5-trifluorophenyl group,
Pentafluorophenyl group, 3,5-di (trifluoromethyl) phenyl group, halogen atoms such as F, C, I, Br,
I: Examples of the organic metalloid group include pentamethylantimony group, trimethylsilyl group, trimethylgermyl group, diphenylarsine group, dicyclohexylantimony group and diphenylboron group. Specific examples of R 4 and R 7 are the same as those mentioned above. Specific examples of the substituted cyclopentadienyl group for R 5 and R 6 include those substituted with an alkyl group such as a methylcyclopentadienyl group, a butylcyclopentadienyl group, and a pentamethylcyclopentadienyl group. To be Here, the alkyl group usually has 1 to 6 carbon atoms, and the number of substituted alkyl groups can be selected by an integer of 1 to 4.
【0045】上記一般式(VI),(VII)の化合物の中
では、M2,M3が硼素であるものが好ましい。一般式
(VI),(VII)の化合物の中で、具体的には、下記の
ものを特に好適に使用できる。例えば、一般式(VI)の
化合物としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモ
ニウム,テトラフェニル硼酸トリ(n-ブチル)アンモニウ
ム,テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム,テト
ラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラフェ
ニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム,テトラフェ
ニル硼酸メチルトリフェニルアンモニウム,テトラフェ
ニル硼酸トリメチルアニリニウム,テトラフェニル硼酸
メチルピリジニウム,テトラフェニル硼酸ベンジルピリ
ジニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルスルホニウ
ム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフェニル
アンモニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸テ
トラエチルアンモニウム,テトラ(ペンタフルオロフェ
ニル)硼酸メチルジフェニルアンモニウム,テトラ(ペ
ンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルジフェニルアンモ
ニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチル
アニリニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニルメチル)
硼酸ジメチル(p-ブロモアニリニウム),テトラ(ペンタ
フルオロフェニル)硼酸ピリジニウム,テトラ(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸(N-ベンジルピリジニウム),テト
ラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベンジルジメチルスル
ホニウム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸テトラ
フェルホスホニウム,テトラ(3,5-ジトリフルオロメチ
ルフェニル)硼酸ジメチルアニリニウム,ヘキサフルオ
ロ砒素酸トリエチルアンモニウムなどが挙げられる。Among the compounds represented by the above general formulas (VI) and (VII), those in which M 2 and M 3 are boron are preferable. Among the compounds of the general formulas (VI) and (VII), the following compounds can be used particularly preferably. For example, as the compound of the general formula (VI), triethylammonium tetraphenylborate, tri (n-butyl) ammonium tetraphenylborate, trimethylammonium tetraphenylborate, tetraethylammonium tetraphenylborate, dimethyldiphenylammonium tetraphenylborate, tetraphenylborate Methyltriphenylammonium borate, trimethylanilinium tetraphenylborate, methylpyridinium tetraphenylborate, benzylpyridinium tetraphenylborate, trimethylsulfonium tetraphenylborate, triphenylammonium tetra (pentafluorophenyl) borate, tetraethyl tetra (pentafluorophenyl) borate Ammonium, methyl diphenylammonium tetra (pentafluorophenyl) borate, tetra (pentane) Motor-fluorophenyl) borate dimethyl diphenyl ammonium, tetra (pentafluorophenyl) borate dimethylanilinium tetra (pentafluorophenyl methyl)
Dimethyl borate (p-bromoanilinium), tetra (pentafluorophenyl) pyridinium borate, tetra (pentafluorophenyl) borate (N-benzylpyridinium), tetra (pentafluorophenyl) borate benzyldimethylsulfonium, tetra (pentafluorophenyl) Examples thereof include tetrafelphosphonium borate, dimethylanilinium tetra (3,5-ditrifluoromethylphenyl) borate, and triethylammonium hexafluoroarsenate.
【0046】一方、一般式(VII)の化合物としては、
テトラフェニル硼酸フェロセニウム,テトラフェニル硼
酸銀,テトラフェニル硼酸トリチル,テトラ(ペンタフ
ルオロフェニル)硼酸デカメチルフェロセニウム,テト
ラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ホルミルフェロセニウ
ム,テトラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸リチウム,テ
トラ(ペンタフルオロフェニル)硼酸ナトリウム,テトラ
(ペンタフルオロフェニル)硼酸(テトラフェニルポルフ
ィリン鉄クロライド),テトラ(ペンタフルオロフェニ
ル)硼酸(テトラフェニルポルフィリン亜鉛),テトラフ
ルオロ硼酸銀,ヘキサフルオロアンチモン酸銀などが挙
げられる。そして、一般式(VI),(VII)以外の化合
物としては、例えば、トリ(ペンタフルオロフェニル)硼
酸,トリ〔3,5-ジ(トリフルオロメチル)フェニル〕硼
酸,トリフェニル硼酸なども使用することができる。On the other hand, as the compound of the general formula (VII),
Ferrocenium tetraphenylborate, silver tetraphenylborate, trityl tetraphenylborate, decamethylferrocenium tetra (pentafluorophenyl) borate, formylferrocenium tetra (pentafluorophenyl) borate, lithium tetra (pentafluorophenyl) borate, tetra (Pentafluorophenyl) sodium borate, tetra
Examples thereof include (pentafluorophenyl) boric acid (tetraphenylporphyrin iron chloride), tetra (pentafluorophenyl) boric acid (tetraphenylporphyrin zinc), silver tetrafluoroborate, and silver hexafluoroantimonate. And as compounds other than the general formulas (VI) and (VII), for example, tri (pentafluorophenyl) boric acid, tri [3,5-di (trifluoromethyl) phenyl] boric acid, triphenylboric acid, etc. are also used. be able to.
【0047】本発明においては、上記(イ)触媒又は
(ロ)触媒とともに、所望により(d)成分としては有
機金属化合物を併用することができる。この所望により
併用される(d)有機金属化合物としては、一般式(VI
II) M6(R9)r (VIII) で表される化合物が用いられる。この一般式(VIII)に
おいて、R9は、炭素数1〜20のアルキル基,炭素数2
〜20のアルケニル基,炭素数3〜20のシクロアルキル
基,炭素数6〜20のアリール基あるいは炭素数7〜20の
アラルキル基を示す。具体的には、例えば、メチル基,
エチル基,n-プロピル基,i-プロピル基,n-ブチル基,
i-ブチル基,ヘキシル基,2-エチルヘキシル基,フェニ
ル基などが挙げられる。そして、M6はリチウム,ナト
リウム,カリウム,マグネシウム,亜鉛,カドミニウ
ム,アルミニウム,ホウ素,ガリウム,ケイ素あるいは
スズを示す。また、rはM6の原子価を表す。一般式(V
III)で表される化合物としては、様々なものがある。
具体的には、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピ
ルリチウム,ブチルリチウムなどのアルキルリチウム化
合物、ジエチルマグネシウム,エチルブチルマグネシウ
ム,ジノルマルブチルマグネシウムなどのアルキルマグ
ネシウム化合物、ジメチル亜鉛,ジエチル亜鉛,ジプロ
ピル亜鉛,ジブチル亜鉛などのジアルキル亜鉛化合物、
トリメチルガリウム,トリエチルガリウム,トリプロピ
ルガリウムなどのアルキルガリウム化合物,トリエチル
ホウ素,トリプロピルホウ素,トリブチルホウ素などの
アルキルホウ素化合物、テトラエチルスズ,テトラプロ
ピルスズ,テトラフェニルスズなどのアルキルスズ化合
物などが挙げられる。また、M6が、アルミニウムであ
る場合の化合物としては、様々なものがある。具体的に
は、トリメチルアルミニウム,トリエチルアルミニウ
ム,トリイソプロピルアルミニウム,トリイソブチルア
ルミニウム,トリn-ヘキシルアルミニウム,トリオクチ
ルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム化合物
などが挙げられる。In the present invention, an organometallic compound may be used as the component (d) together with the catalyst (a) or the catalyst (b), if desired. Examples of the (d) organometallic compound which is optionally used in combination include compounds represented by the general formula (VI
II) The compound represented by M 6 (R 9 ) r (VIII) is used. In this general formula (VIII), R 9 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and 2 carbon atoms.
A alkenyl group having 20 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. Specifically, for example, a methyl group,
Ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group,
Examples thereof include i-butyl group, hexyl group, 2-ethylhexyl group and phenyl group. M 6 represents lithium, sodium, potassium, magnesium, zinc, cadmium, aluminum, boron, gallium, silicon or tin. Further, r represents the valence of M 6 . General formula (V
There are various compounds represented by III).
Specifically, alkyllithium compounds such as methyllithium, ethyllithium, propyllithium, and butyllithium, alkylmagnesium compounds such as diethylmagnesium, ethylbutylmagnesium, dinormalbutylmagnesium, dimethylzinc, diethylzinc, dipropylzinc, dibutylzinc. Dialkyl zinc compounds, such as
Examples thereof include alkylgallium compounds such as trimethylgallium, triethylgallium and tripropylgallium, alkylboron compounds such as triethylboron, tripropylboron and tributylboron, and alkyltin compounds such as tetraethyltin, tetrapropyltin and tetraphenyltin. Further, there are various compounds when M 6 is aluminum. Specific examples thereof include trialkylaluminum compounds such as trimethylaluminum, triethylaluminum, triisopropylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-hexylaluminum and trioctylaluminum.
【0048】前記触媒における各成分の使用割合につい
ては特に制限はないが、該(イ)触媒においては、
(a)成分と(b)成分とのモル比が1:20〜1:1000
0、好ましくは1:100〜1:2000になるように両成分を
用いるのがよい。一方、(ロ)触媒においては、(a)
成分と(c)成分とのモル比が1:0.01〜1:100、好
ましくは1:1〜1:10になるように両成分を用いるの
がよい。この割合、(a)成分と(c)成分は予め接触
させ、接触処理物を分離,洗浄して用いてもよいし、重
合系内で接触させてもよい。また、(イ)触媒又は
(ロ)触媒において、所望に応じて用いられる(d)成
分の使用量は、該(a)成分1モルに対して、通常0〜
100モルの範囲で選ばれる。この(d)成分を用いるこ
とにより、重合活性の向上を図ることができるが、あま
り多く用いても添加量に相当する効果は発現しない。な
お、この(d)成分は、(a)成分,(c)成分あるい
は(a)成分と(c)成分との接触処理物と接触させて
用いてもよい。この接触は、予め接触させてもよいし、
重合系内へ順次添加して接触させてもよい。また、スチ
レン系単量体と触媒との使用割合についてと特に制限は
ないが、通常スチレン系単量体/遷移金属化合物のモル
比が10〜109、好ましくは102〜107の範囲にあるように
選ばれる。The proportion of each component used in the catalyst is not particularly limited, but in the catalyst (a),
The molar ratio of component (a) to component (b) is 1:20 to 1: 1000.
Both components may be used in an amount of 0, preferably 1: 100 to 1: 2000. On the other hand, in (b) catalyst, (a)
It is preferable to use both components so that the molar ratio of the component to the component (c) is 1: 0.01 to 1: 100, preferably 1: 1 to 1:10. In this ratio, the component (a) and the component (c) may be contacted in advance and the contact-treated product may be separated and washed before use, or may be contacted in the polymerization system. In the catalyst (a) or the catalyst (b), the amount of the component (d) used as desired is usually 0 to 1 mol of the component (a).
It is selected in the range of 100 mol. By using this component (d), the polymerization activity can be improved, but even if it is used in too large an amount, the effect equivalent to the amount added is not exhibited. The component (d) may be used by contacting it with a contact-treated product of the component (a), the component (c) or the component (a) and the component (c). This contact may be made in advance,
It may be added to the polymerization system one after another and contacted. Further, the use ratio of the styrene-based monomer and the catalyst is not particularly limited, but usually the styrene-based monomer / transition metal compound molar ratio is in the range of 10 to 10 9 , preferably 10 2 to 10 7 . Chosen to be.
【0049】本発明のスチレン系重合体を製造するに
は、まず、前記スチレン系単量体を上記触媒のいずれか
の存在下に重合させる。この際、重合方法、重合条件
(重合温度,重合時間)、溶媒などは適宜選定すればよ
い。通常は−50〜200℃、好ましくは30〜100℃の温度に
おいて、1秒〜10時間、好ましくは1分〜6時間程度重
合が行われる。また、重合方法としては、スラリー重合
法,溶液重合法,塊状重合法,気相重合法など、いずれ
も用いることができるし、連続重合,非連続重合のいず
れであってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒
として、例えばベンゼン,トルエン,キシレン,エチル
ベンゼンなどの芳香族炭化水素,シクロペンタン,ヘキ
サン,ヘプタン,オクタンなどの脂肪族炭化水素などを
一種又は二種以上を組合わせて使用することができる。
この場合、単量体/溶媒(体積比)は任意に選択するこ
とができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、
通常用いられている方法によって行えばよい。分子量制
御は例えば水素,温度,モノマー濃度などで行うことが
できる。To produce the styrenic polymer of the present invention, the styrenic monomer is first polymerized in the presence of any of the above catalysts. At this time, the polymerization method, polymerization conditions (polymerization temperature, polymerization time), solvent, etc. may be appropriately selected. Usually, the polymerization is carried out at a temperature of −50 to 200 ° C., preferably 30 to 100 ° C. for 1 second to 10 hours, preferably 1 minute to 6 hours. As the polymerization method, any of a slurry polymerization method, a solution polymerization method, a bulk polymerization method, a gas phase polymerization method and the like can be used, and either continuous polymerization or discontinuous polymerization may be used. Here, in the solution polymerization, as a solvent, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene, and aliphatic hydrocarbons such as cyclopentane, hexane, heptane, and octane may be used alone or in combination. It can be used in combination.
In this case, the monomer / solvent (volume ratio) can be arbitrarily selected. In addition, the molecular weight control and composition control of the polymer are
It may be performed by a commonly used method. The molecular weight can be controlled by, for example, hydrogen, temperature, monomer concentration and the like.
【0050】本発明のSPSフィルムの分子量には製膜
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10000〜3000000であることが好ましく特には、3000
0〜1500000のものが好ましい。またこの時の分子量分布
(数平均分子量/重量平均分子量)は、1.5〜8が好ま
しい。この分子量分布については、異なる分子量のもの
を混合することにより調整することも可能である。The molecular weight of the SPS film of the present invention is not limited as long as it is formed, but the weight average molecular weight is preferably 10,000 to 3,000,000, and particularly preferably 3000.
Those of 0 to 150,000 are preferable. The molecular weight distribution (number average molecular weight / weight average molecular weight) at this time is preferably 1.5 to 8. This molecular weight distribution can be adjusted by mixing different molecular weights.
【0051】また、本発明の効果を損なわない程度に、
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。Further, to the extent that the effects of the present invention are not impaired,
It does not matter to copolymerize another monomer copolymerizable therewith.
【0052】《重合例》特開平3-131843号に準じてSP
Sペレットを作成した。触媒の調整から重合反応まで
は、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積500mlの
ガラス性容器に硫酸銅5水塩(CuSO4・5H2O)17.8g(71
mmol)精製ベンゼン200mlおよびトリメチルアルミニウ
ム24mlをいれ、40℃で8時間撹拌して触媒の調整を行っ
た。これをアルゴン気流下No.3ガラスフィルターで濾
過して、ロ液を凍結乾燥させた。これを取り出し、2l
のステンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブチル
アルミニウム、ペンタシクロペンタジエチルチタンメト
キシドを混合し90℃に加熱した。<< Example of Polymerization >> SP according to JP-A-3-31843
S pellets were made. The process from the adjustment of the catalyst to the polymerization reaction was carried out under a stream of dry argon. Copper sulphate pentahydrate (CuSO 4 / 5H 2 O) 17.8 g (71
(mmol) Purified benzene (200 ml) and trimethylaluminum (24 ml) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C for 8 hours to adjust the catalyst. This was filtered through a No. 3 glass filter under an argon stream, and the filtrate was freeze-dried. Take this out, 2l
The mixture was placed in a stainless steel container, and tributylaluminum and pentacyclopentadiethyl titanium methoxide were further mixed therein and heated to 90 ° C.
【0053】この中に、精製したスチレンを1l入れこ
の温度中で、8時間重合反応を続けた。この後、室温ま
で冷却し1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に滴
下して更にガラスフィルターで濾過して3回メタノール
で洗浄した後、乾燥させた。これを押出機でペレット化
した後に、130℃で乾燥させた。1 liter of purified styrene was put into this, and the polymerization reaction was continued at this temperature for 8 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, 1 l of methylene chloride was added, and a methanol solution of sodium methylate was added with further stirring to deactivate the catalyst. The contents were gradually dropped into 20 l of methanol, filtered through a glass filter, washed with methanol three times, and then dried. This was pelletized with an extruder and then dried at 130 ° C.
【0054】本発明のSPSフィルムとしては、スチレ
ンから作られるSPS単独であることが好ましいが、さ
らにSPSを含むフィルムとして、SPSに、主鎖がメ
ソ連鎖であるアイソタクチック構造を有するスチレン系
重合体(IPS)を混合すること(いわゆるステレオコ
ンプレックスを形成させること)により結晶化速度のコ
ントロールが可能であり、より強固なフィルムとするこ
とが可能である。The SPS film of the present invention is preferably SPS made of styrene alone, but as a film further containing SPS, a styrene-based polymer having an isotactic structure in which the main chain is a meso chain is added to SPS. The crystallization rate can be controlled by mixing the combined (IPS) (forming a so-called stereo complex), and a stronger film can be obtained.
【0055】SPSとIPSとを混合する際には、その
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、30:70〜
99:1好ましくは、50:50〜98:2である。When SPS and IPS are mixed, the ratio depends on the high stereoregularity of each other, but from 30:70 to
99: 1, preferably 50:50 to 98: 2.
【0056】フィルム中には、本発明の目的を妨げない
範囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防
止剤、UV吸収剤、帯電防止剤、色素等を含有させるこ
とが可能である。The film may contain inorganic fine particles, an antioxidant, a UV absorber, an antistatic agent, a dye and the like for the purpose of imparting functionality within a range not impeding the object of the present invention.
【0057】本発明のSPSフィルムの両面に積層され
ているポリエステル樹脂としては、ジカルボン酸とグリ
コールとが縮合されたものであれば使用し得る。As the polyester resin laminated on both sides of the SPS film of the present invention, any polyester resin in which dicarboxylic acid and glycol are condensed can be used.
【0058】本発明に係わるポリエステル樹脂のジカル
ボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ナ
フタレンジカルボン酸(例えばナフタレン-2,6-ジカル
ボン酸、ナフタレン-1,5-ジカルボン酸、ナフタレン-2,
7-ジカルボン酸等)、スルホイソフタル酸(例えば5-ス
ルホイソフタル酸、4-スルホイソフタル酸等)、1,1′-
ジフェニルエタン-4,4′-ジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテル-4,4-ジカルボン酸、1,1′-ジフェニルスルホン-
4,4′-ジカルボン酸、1,1′-ジフェニルケトン-4,4′-
ジカルボン酸、アジピン酸、セバチン酸、マレイン酸、
フマル酸、1,4-シクロヘキシルジカルボン酸等を挙げる
ことが出来るが、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸、スルホイソフタル酸が好ましい。The dicarboxylic acid component of the polyester resin according to the present invention includes terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid (for example, naphthalene-2,6-dicarboxylic acid, naphthalene-1,5-dicarboxylic acid, naphthalene-2,
7-dicarboxylic acid, etc.), sulfoisophthalic acid (eg 5-sulfoisophthalic acid, 4-sulfoisophthalic acid, etc.), 1,1′-
Diphenylethane-4,4'-dicarboxylic acid, diphenyl ether-4,4-dicarboxylic acid, 1,1'-diphenyl sulfone-
4,4'-dicarboxylic acid, 1,1'-diphenyl ketone-4,4'-
Dicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, maleic acid,
Although fumaric acid, 1,4-cyclohexyldicarboxylic acid and the like can be mentioned, terephthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid and sulfoisophthalic acid are preferable.
【0059】本発明に係わるポリエステル樹脂のグリコ
ール成分としては、エチレングリコール、プロピレング
リコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール
(例えば重合度4〜6,000)、ポリプロピレンゴリコー
ル(例えば重合度2〜5,000)、シクロヘキサンジメタ
ノール、ハイドロキノン、レゾルシン、2,2-ビス(4-ヒ
ドロキシフェニル)プロパン、1,4-ジヒドロキシメチル
ベンゼン等を挙げることが出来るが、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジエ
チレングリコール、ポリエチレングリコールが好まし
い。Examples of the glycol component of the polyester resin according to the present invention include ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol (for example, a polymerization degree of 4 to 6,000), polypropylene glycol (for example, a polymerization degree of 2 to 2). 5,000), cyclohexanedimethanol, hydroquinone, resorcin, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,4-dihydroxymethylbenzene and the like, ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, diethylene glycol, Polyethylene glycol is preferred.
【0060】これらのジカルボン酸とグリコールとから
得られるポリエステル樹脂は、ガラス転移点が低いもの
(例えば−20〜40℃)もあれば、高いもの(例えば40〜
120℃)もあり、高いものの方が好ましい。ガラス転移
点が低いポリエステル樹脂をSPSと積層する場合に
は、ポリエステル樹脂層の膜厚は薄い方が良く、0.5〜1
0μmが適当であり、好ましくは1〜5μmである。ガラ
ス転移点が高い場合には、ポリエステル樹脂層の膜厚は
1〜50μmが適当であり、好ましくは5〜20μmである。Polyester resins obtained from these dicarboxylic acids and glycols have a low glass transition point (for example, -20 to 40 ° C) and a high glass transition point (for example, 40 to 40 ° C).
120 ° C), and higher one is preferable. When laminating a polyester resin having a low glass transition point with SPS, it is better that the thickness of the polyester resin layer is thin, 0.5-1
0 μm is suitable, and preferably 1 to 5 μm. When the glass transition point is high, the film thickness of the polyester resin layer is appropriately 1 to 50 μm, preferably 5 to 20 μm.
【0061】これらのポリエステル樹脂の水に対する性
質、例えば親水性の度合いもいろいろと異なる。より親
水性のポリエステル樹脂は、膜厚を薄くし、0.5〜10μm
が適当であり、好ましくは1〜5μmである。より疎水
性のポリエステル樹脂の場合には1〜50μmが適当であ
り、好ましくは5〜20μmである。The properties of these polyester resins with respect to water, for example, the degree of hydrophilicity also differ. The more hydrophilic polyester resin reduces the film thickness to 0.5-10 μm.
Is suitable, and preferably 1 to 5 μm. In the case of a more hydrophobic polyester resin, 1 to 50 μm is suitable, and 5 to 20 μm is preferable.
【0062】本発明のSPSとの積層構造を構成するポ
リエステル樹脂は、ガラス転移点がより高く(好ましく
は50℃以上)疎水性で吸水性が低く(水蒸気透過率が好
ましくは30g/m-2(24h/0.1mm)以下)、引張弾性率が
大きい(好ましくはフィルムとして400kg/mm2以上)も
のが特に好ましい。この理由は積層することによって、
SPSフィルムの持っている性質をそこなわないためで
ある。このような観点から積層を構成するポリエステル
樹脂としては、PETあるいはポリエチレンナフタレー
ト、中でもポリエチレン-2,6-ナフタレート(以下PE
Nと略す)がより好ましい。PET樹脂及びPEN樹脂
は市販のものが使用できるが、写真グレードの樹脂が好
ましく使用できる。The polyester resin constituting the laminated structure with SPS of the present invention has a higher glass transition point (preferably 50 ° C. or higher), is hydrophobic and has low water absorption (water vapor permeability is preferably 30 g / m −2 (24 h / 0.1 mm) or less) and a high tensile elastic modulus (preferably 400 kg / mm 2 or more as a film). The reason for this is by stacking
This is because it does not affect the properties of the SPS film. From this point of view, as the polyester resin constituting the laminate, PET or polyethylene naphthalate, especially polyethylene-2,6-naphthalate (hereinafter PE
(Abbreviated as N) is more preferable. Commercially available PET resins and PEN resins can be used, but photographic grade resins are preferably used.
【0063】本発明に係わるポリエチレンナフタレート
樹脂(PEN)としては、ジカルボン酸成分としてのナ
フタレンポリカルボン酸とグリコール成分とが縮合され
たものである。ナフタレン成分としてはカルボキシル基
を2固有するナフタレンが好ましく、なかでも、例えば
ナフタレン-2,6-ジカルボン酸、ナフタレン-1,5-ジカル
ボン酸、ナフタレン-2,7-ジカルボン酸等が好ましい。
又、グリコール成分としては、上記のものが好ましい。The polyethylene naphthalate resin (PEN) according to the present invention is obtained by condensing a naphthalene polycarboxylic acid as a dicarboxylic acid component and a glycol component. As the naphthalene component, naphthalene having two carboxyl groups is preferable, and among them, naphthalene-2,6-dicarboxylic acid, naphthalene-1,5-dicarboxylic acid, naphthalene-2,7-dicarboxylic acid and the like are preferable.
Further, the glycol component is preferably the above-mentioned one.
【0064】本発明のSPS樹脂との積層構造を構成す
るポリエステル樹脂のうちで、親水性のものとしてガラ
ス転移点が50℃以上で、引張弾性率がフィルムとして30
0kg/mm2以上ものが好ましく、テレフタル酸、ナフタレ
ン-2,6-ジカルボン酸、5-ナトリウムスルホイソフタル
酸、アジピン酸とエチレングリコール、ポリエチレング
リコール(重合度5〜3,000)から選ばれるジカルボン
酸とグリコールからなる変性ポリエステルが適してい
る。特にテレフタル酸、5-ナトリウムスルホイソフタル
酸、エチレングリコール、ポリエチレングリコールから
なる変性ポリエステルが好ましい。Among the polyester resins constituting the laminated structure with the SPS resin of the present invention, hydrophilic ones having a glass transition point of 50 ° C. or more and a tensile elastic modulus of 30 as a film.
It is preferably 0 kg / mm 2 or more, and a dicarboxylic acid and glycol selected from terephthalic acid, naphthalene-2,6-dicarboxylic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, adipic acid and ethylene glycol, and polyethylene glycol (polymerization degree 5 to 3,000). A modified polyester consisting of is suitable. A modified polyester composed of terephthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, ethylene glycol and polyethylene glycol is particularly preferable.
【0065】本発明のSPSとポリエステル積層方法に
ついて説明する。好ましい例としてSPS樹脂とPET
樹脂との積層法について述べる。The SPS and polyester laminating method of the present invention will be described. Preferred examples are SPS resin and PET
A method of laminating with a resin will be described.
【0066】本発明に係わる積層法は、PET樹脂と、
SPS樹脂を二つの別々の真空乾燥機で乾燥し、三つの
別々の押出機に二つにはPET樹脂を、一つにはSPS
樹脂を投入し、溶融、押出した後、一つの導管にそれぞ
れの溶融樹脂を上、中、下、三層になるように導き、導
管内で三層の溶融樹脂が層流をなして一つのスリットを
持つダイの押出口金から冷却ドラム上に押出されて一つ
の未延伸シートを形成させるか、または、他の方法とし
て一つのダイに3つの溶融ポリマーを導入し、三つの別
々のスリットを持つ押出口金から、あるいはダイ内で三
つのスリットが一つのスリットに結合されるようになっ
ている押出口金から、層流状になった3層を冷却ドラム
上に押出して一つのシートを形成させ、そして冷却ドラ
ム上で冷却固化して、末延伸フィルムを得た後に縦延伸
機で縦方向に延伸し、続いて横方向に横延伸機で延伸
し、更に続いて同機内で熱固定ゾーンで熱固定し二軸延
伸されたフィルムを得る溶融状態で積層する方法であ
り、本発明に有用な方法である。また別の方法として
は、3種の溶融ポリマーを別々に冷却ドラム上に押出し
冷却固化させる別位置製膜法も本発明に有用である。こ
れらを共押出法とも呼ぶ。The lamination method according to the present invention comprises a PET resin and
SPS resin is dried in two separate vacuum dryers, three separate extruders with two PET resins, one with SPS
After the resin is charged, melted and extruded, each molten resin is introduced into one conduit so that the upper, middle, lower, and three layers are formed, and three layers of molten resin form a laminar flow in the conduit to form one layer. Extruded from the extrusion die of a die with slits onto a cooling drum to form one unstretched sheet or, alternatively, three melted polymers are introduced into one die to create three separate slits. From the extrusion die that it has, or from the extrusion die that allows three slits to be combined into one slit in the die, extrude the three laminar layers onto the cooling drum to form one sheet. After being formed and cooled and solidified on a cooling drum to obtain an unstretched film, it is longitudinally stretched by a longitudinal stretching machine, then laterally stretched by a horizontal stretching machine, and then heat-set in the same machine. Biaxially stretched film heat set in the zone A method of laminating a molten state that is a useful method for the present invention. As another method, another position film forming method in which three kinds of molten polymers are separately extruded onto a cooling drum and cooled and solidified is also useful in the present invention. These are also called coextrusion methods.
【0067】この他に別々に製膜したSPSフィルムと
2枚のPETフィルムとをラミネーションして積層する
方法がある。すなわち、SPSとPETを別々に未延伸
フィルムを、あるいは一軸延伸フィルムを作り、それら
にアンカー剤、接着剤等をコーティングした後、これら
のフィルムをラミネートして積層し、次いで二軸延伸
し、熱固定する方法である。しかし、この方法は工程が
複雑で設備費がかかり過ぎるのと品質の面から実用的で
はなく、簡易性から共押出法が好ましい。In addition to this, there is a method of laminating and laminating an SPS film and two PET films which are separately formed. That is, SPS and PET are separately formed into an unstretched film or a uniaxially stretched film, and after coating them with an anchor agent, an adhesive, etc., these films are laminated and laminated, and then biaxially stretched and heat-treated. It is a method of fixing. However, this method is not practical in terms of quality because the process is complicated, the equipment cost is too high, and the coextrusion method is preferable because of its simplicity.
【0068】共押出法におけるSPS樹脂と、ポリエス
テル樹脂(例えばPET)を押出機で溶融する温度は26
0〜340℃の範囲が用いられる。好ましくは280〜330℃で
芯のSPS樹脂と外層のPET樹脂とは同じ温度で溶融
するのが好ましい。The temperature at which the SPS resin and the polyester resin (eg PET) in the coextrusion method are melted in the extruder is 26.
A range of 0 to 340 ° C is used. Preferably, the core SPS resin and the outer layer PET resin melt at 280 to 330 ° C. at the same temperature.
【0069】本発明に係わる積層フィルムの延伸条件は
特に限定されないが、一般的にはガラス転移温度(Tg)
の高い樹脂のTgからTg+100℃の温度範囲で二軸方向に
延伸する。このときポリエチレンテレフタレート層の延
伸方法と同様に下記A、B、Cの方法を採ることができ
る。延伸倍率は面積比で4〜16倍の範囲で行われること
が好ましい。また熱固定は150〜250℃の温度範囲で行う
ことができる。The stretching conditions of the laminated film according to the present invention are not particularly limited, but generally the glass transition temperature (Tg)
The high temperature resin is biaxially stretched in the temperature range of Tg to Tg + 100 ° C. At this time, the following methods A, B, and C can be adopted in the same manner as the stretching method of the polyethylene terephthalate layer. The stretching ratio is preferably in the range of 4 to 16 times in area ratio. The heat setting can be performed in the temperature range of 150 to 250 ° C.
【0070】(A)未延伸シートをまず縦方向に延伸
し、次いで横方向に延伸する方法 (B)未延伸シートをまず横方向に延伸し、次いで縦方
向に延伸する方法 (C)未延伸シートを1段または多段で縦方向に延伸し
た後、再度縦方向に延伸し、次いで横方向に延伸する方
法。(A) A method in which an unstretched sheet is first stretched in the longitudinal direction and then stretched in the transverse direction (B) A method in which an unstretched sheet is stretched in the transverse direction first and then in the longitudinal direction (C) Unstretched A method in which a sheet is stretched in the longitudinal direction in one or multiple stages, then stretched in the longitudinal direction again, and then stretched in the transverse direction.
【0071】なお、ここでポリエステル層なる層とは、
支持体となる樹脂の、ある厚さを持っているフィルムを
いい、下引層、帯電防止層、乳剤層、バック層等の層と
は区別される。The term "polyester layer" as used herein means
A film having a certain thickness of a resin as a support, which is distinguished from layers such as an undercoat layer, an antistatic layer, an emulsion layer and a back layer.
【0072】本発明に係わる積層構造フィルムの厚みの
総和は特に限定されず、用途に応じて任意に定めること
ができるが、通常40〜250μm、特に65〜180μmが好まし
い。The total thickness of the laminated structure film according to the present invention is not particularly limited and can be arbitrarily determined according to the application, but is usually 40 to 250 μm, and particularly preferably 65 to 180 μm.
【0073】本発明のポリエステル層には得られるフィ
ルムの滑り性を改良する意味で透明性を損なわない程度
に、炭酸カルシウム、酸化チタン、二酸化珪素、カオリ
ン等を配合させてもよい。In the polyester layer of the present invention, calcium carbonate, titanium oxide, silicon dioxide, kaolin and the like may be blended to such an extent that the transparency is not impaired in order to improve the slipperiness of the obtained film.
【0074】本発明の特徴である積層構造はSPSフィ
ルムと同程度の高度の寸法安定性を有し、かつ写真感光
層を接着させる下引層を容易に設けることが出来るポリ
エステル層を写真用支持体の表面層に有することであ
る。従って、本発明の写真用支持体にはポリエステル特
にPETフィルム用の下引技術を全て適用することが出
来る。The laminated structure, which is a feature of the present invention, has a high degree of dimensional stability comparable to that of an SPS film, and a polyester layer on which a subbing layer for adhering a photographic photosensitive layer can be easily provided for photographic support. To have on the surface layer of the body. Therefore, all the undercoating techniques for polyester, especially PET film, can be applied to the photographic support of the present invention.
【0075】PETへの下引は製膜中延伸前、一軸延伸
後、二軸延伸後熱固定前、あるいは二軸延伸熱固定後の
いずれかのプロセスにおいて行うことができる。PET
は二軸延伸後熱固定された後には配向結晶化が完了し、
乳剤層等の上物が比較的に接着しにくくなる。従って、
配向結晶完了前に下引剤を施すのが一般的である。熱固
定を行う前に下引剤を塗設するには下記の如き公知の下
引剤及び下引方法が使用できる。例えば、米国特許第2,
852,378号、同第358,608号、同第3,630,741号、同2,62
7,088号、同2,698,235号、特開昭51-135991号、特公昭5
2-48312号、ベルギー特許第721,469号、同742,769号等
に記載のビニルハロゲノエステル含有コポリマーまたは
ビニルハロゲノエステル含有コポリマーと塩化ビニルお
よび/または塩化ビニリデン含有コポリマー、特公昭58
-58661、特公昭58-55497、特開昭52-108114等に記載の
ジオレフィン類を単量体として含むコポリマー、特開昭
61-204242、特開昭61-204241等に記載のアクリル系ポリ
マー、特公昭57-971、特開昭61-204240、特開昭60-2482
31、特開平3-265624等に記載のポリエステル系ポリマー
等が挙げられる。The subbing on PET can be carried out in any of the processes before stretching during film formation, after uniaxial stretching, after biaxial stretching and before heat setting, or after biaxial stretching and heat setting. PET
Oriented crystallization is completed after heat setting after biaxial stretching,
It becomes relatively difficult for an upper object such as an emulsion layer to adhere. Therefore,
An undercoating agent is generally applied before the completion of oriented crystals. In order to apply the undercoating agent before heat setting, the following known undercoating agents and undercoating methods can be used. For example, US Pat.
852,378, 358,608, 3,630,741, 2,62
7,088, 2,698,235, JP-A-51-135991, JP-B-5
2-48312, Belgian Patent Nos. 721,469, 742,769 and the like, vinyl halogenoester-containing copolymers or vinylhalogenoester-containing copolymers and vinyl chloride and / or vinylidene chloride-containing copolymers, JP-B-58
-58661, JP-B-58-55497, JP-A-52-108114, copolymers containing diolefins as monomers,
61-204242, Acrylic polymers described in JP-A-61-204241, JP-B-57-971, JP-A-61-204240, JP-A-60-2482
31, polyester-based polymers described in JP-A-3-265624 and the like can be mentioned.
【0076】二軸延伸熱固定後の下引には、有機溶媒系
下引塗布や、PETをエッチングして下引材料を投錨効
果によって接着させるいわゆるエッチング溶剤(例えば
フェノール、クレゾール、レゾルシン、抱水クロラー
ル、クロロフェノール等)を含む有機溶媒系あるいは水
系の下引液を塗布する方法もある。これはPETが接着
しにくい規則正しい構造を有しているからであって、こ
の表面構造をルーズなもの、あるいは化学的に変化させ
るものである。このためには、機械的処理、コロナ放電
処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電
処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オ
ゾン処理等の表面活性化処理を施すのがよい。上記処理
後に、直接写真乳剤を塗布しても良好な接着力が得られ
るが、更に接着力を強めるために、更に別の下引層を設
け、この上に写真乳剤層を設層してもよい膜付きが得ら
れる。水系の下引剤でも、上記種々の処理を前処理とし
て活用すれば、容易に接着性を向上させることができ
る。例えば、特開昭55-67745号、特開昭59-19941号等に
記載の方法のn-ブチルメタクリレート:t-ブチルメタク
リレート、スチレン及び2-ヒドロキシエチルメタクリレ
ートからなる4元共重合体ラテックス、界面活性剤、硬
化剤からなる水系下引液を塗布し乾燥し、続いて再びコ
ロナ放電処理をし、次に写真乳剤層側にはハレーション
防止層や乳剤層のようなゼラチン水溶液を施すことによ
って接着性のよい感光材料を得ることができる。また反
対面の帯電防止層側には上記同様な処理あるいは下引層
を施した後、直接帯電防止組成物を、またセルロースジ
アセテートのような帯電防止層のバインダーを予め塗布
した後に帯電防止組成物を有機溶媒系液として塗布する
ことによって、所望の写真感光材料を仕上げることがで
きる。After the biaxially stretched heat setting, the undercoating is applied by an organic solvent-based undercoating method or a so-called etching solvent (eg, phenol, cresol, resorcin, hydrate) for etching PET to bond the undercoating material by the anchoring effect. There is also a method of applying an organic solvent-based or water-based undercoat liquid containing chloral, chlorophenol, etc.). This is because PET has a regular structure that is difficult to adhere, and this surface structure is loose or chemically changed. For this purpose, surface activation treatment such as mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, ozone treatment and the like is preferable. Good adhesive strength can be obtained by directly coating the photographic emulsion after the above treatment, but in order to further strengthen the adhesive strength, a further subbing layer may be provided and a photographic emulsion layer may be formed on the undercoating layer. A good film is obtained. Even with a water-based undercoating agent, the adhesiveness can be easily improved by utilizing the above various treatments as a pretreatment. For example, a quaternary copolymer latex composed of n-butyl methacrylate: t-butyl methacrylate, styrene and 2-hydroxyethyl methacrylate according to the method described in JP-A-55-67745, JP-A-59-19941 and the like, an interface Adhesion is achieved by coating with an aqueous subbing solution consisting of an activator and a curing agent, drying, then corona discharge treatment again, and then applying an aqueous gelatin solution such as an antihalation layer or emulsion layer to the photographic emulsion layer side. A photosensitive material having good properties can be obtained. Further, on the opposite side of the antistatic layer, after the same treatment or undercoat layer is applied, the antistatic composition is directly applied, and the antistatic layer binder such as cellulose diacetate is applied in advance and then the antistatic composition is applied. A desired photographic light-sensitive material can be finished by applying the product as an organic solvent system liquid.
【0077】下引層の上に第2層下引層と呼ばれる親水
性バインダー層を設けることにより、感光層等の接着を
より強固にするために好ましい。It is preferable to provide a hydrophilic binder layer called the second undercoat layer on the undercoat layer in order to strengthen the adhesion of the photosensitive layer and the like.
【0078】下引第2層は、写真乳剤層と良くくっつく
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を構
成するバインダーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導
体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポ
リビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
等の水溶性ポリマー類、ポリスリレンスルホン酸ソーダ
共重合体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げら
れるが、ゼラチンが好ましい。The second subbing layer is preferably a hydrophilic resin layer which sticks well to the photographic emulsion layer. As the binder constituting the hydrophilic resin layer, gelatin, gelatin derivative, casein, agar, sodium alginate, starch, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid copolymer, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose,
Examples thereof include water-soluble polymers such as the following, a combination of a poly (thrylene sulfonic acid sodium copolymer) and a hydrophobic latex, and gelatin is preferable.
【0079】この層の中には、硬膜剤を用いて膜強度を
高めることが好ましく、このような硬膜剤としては、ア
ルデヒド系、アジリジン系、イソオキサゾール系、エポ
キシ系、ビニルスルホン系、アクリロイル系、カルボジ
イミド系、トリアジン系、高分子型、その他マレイミド
系、アセチレン系、メタンスルホン酸エステル系の各硬
膜剤を単独もしくは組み合わせて使用することができ
る。It is preferable to increase the film strength by using a hardening agent in this layer. Examples of such hardening agents include aldehyde type, aziridine type, isoxazole type, epoxy type, vinyl sulfone type, Acryloyl-based, carbodiimide-based, triazine-based, polymer-based, other maleimide-based, acetylene-based, and methanesulfonic acid ester-based hardening agents can be used alone or in combination.
【0080】この下引第2層には、2酸化珪素、2酸化
チタン、等の無機微粒子やポリメタクリル酸メチル等の
有機系マット材(1〜10μm)を含有することが好まし
い。これ以外にも必要に応じて、各種の添加剤例えば、
帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色用染料、顔料、
塗布助剤を含有することができる。The second subbing layer preferably contains inorganic fine particles such as silicon dioxide and titanium dioxide, and an organic matting material (1 to 10 μm) such as polymethylmethacrylate. In addition to this, if necessary, various additives, for example,
Antistatic agents, antihalation agents, coloring dyes, pigments,
A coating aid can be included.
【0081】この中でも帯電防止剤を含有させることが
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子を挙げられる。Among these, it is preferable to include an antistatic agent. Preferred antistatic agents include non-photosensitive conductors and / or semiconductor fine particles.
【0082】本発明に用いられる非感光性の導電体およ
び/もしくは半導体微粒子とは、粒子中に存在する電荷
担体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔等によっ
て導電性を示すもので、有機材料、無機材料あるいは両
者の複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性を示す化
合物であり、有機材料であればポリアニリン、ポリピロ
ール、ポリアセチレン等の高分子微粒子等が挙げること
ができ、無機材料であれば酸素不足酸化物、金属過剰酸
化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の不定比化合
物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げられる。また
電荷移動錯体もしくは有機-無機複合材料であればホス
ファゼン金属錯体等を挙げることができる。この中で本
発明に最も好ましい化合物は製造方法などが多様な方式
をとることが可能な金属酸化物微粒子である。また、本
発明中における導電体は体積固有抵抗が103Ω・cm以下
のものを、半導体については1012Ω・cm以下のものをそ
れぞれ導電体、半導体として定義する。The non-photosensitive conductor and / or semiconductor fine particles used in the present invention are those exhibiting conductivity due to charge carriers existing in the particles, such as cations, anions, electrons and holes. It may be an organic material, an inorganic material, or a composite material of both. Preferably, it is a compound exhibiting electronic conductivity, and organic materials include polymer fine particles such as polyaniline, polypyrrole, and polyacetylene, and inorganic materials include oxygen-deficient oxides, metal-excess oxides, and metal-deficiency. Examples thereof include metal oxide fine particles that easily form nonstoichiometric compounds such as oxides and oxygen-excess oxides. If it is a charge transfer complex or an organic-inorganic composite material, a phosphazene metal complex or the like can be mentioned. Among these, the most preferable compound for the present invention is metal oxide fine particles which can be manufactured by various methods. Further, in the present invention, a conductor having a volume resistivity of 10 3 Ω · cm or less is defined as a conductor and a semiconductor having a volume resistivity of 10 12 Ω · cm or less is defined as a conductor and a semiconductor, respectively.
【0083】以下に好ましい導電性微粒子の作成方法を
例示する。A preferred method for producing conductive fine particles will be exemplified below.
【0084】(半導体微粒子溶液の調製)塩化第二スズ
水和物65gを水/エタノール混合溶液2000ccに溶解し均
一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物を得た。生
成した沈澱物をデカンテーションにより取り出し、蒸留
水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中
に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認
後、蒸留水1000ccwo添加し全量を2000ccとする。さらに
30%アンモニア水を40cc加え、水浴中で加温し、コロイ
ド状ゲル分散液を得た。このコロイド状ゲル分散液を分
散液A−1とする。(Preparation of Semiconductor Fine Particle Solution) 65 g of stannic chloride hydrate was dissolved in 2000 cc of water / ethanol mixed solution to obtain a uniform solution. Then, this was boiled to obtain a coprecipitate. The formed precipitate is taken out by decantation, and the precipitate is washed with distilled water many times. Silver nitrate is dropped into distilled water from which the precipitate has been washed, and after confirming that there is no reaction with chloride ions, 1000 ccwo of distilled water is added to bring the total volume to 2000 cc. further
40 cc of 30% aqueous ammonia was added and heated in a water bath to obtain a colloidal gel dispersion. This colloidal gel dispersion is designated as dispersion A-1.
【0085】下引層組成物の塗布液濃度は、通常20重量
%以下であり、好ましくは15重量%以下である。塗布量
は、フィルム1m2あたり塗布液重量で1〜30g、さらに
は5〜20gであることが好ましい。The coating liquid concentration of the undercoat layer composition is usually 20% by weight or less, preferably 15% by weight or less. The coating amount is preferably 1 to 30 g, and more preferably 5 to 20 g in terms of coating liquid weight per 1 m 2 of the film.
【0086】塗布方法としては、公知の種々の方法が適
用できる。例えば、ロールコート法グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バー
コート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独もしく
は組み合わせて適用することができる。As a coating method, various known methods can be applied. For example, a roll coating method, a gravure roll coating method, a spray coating method, an air knife coating method, a bar coating method, an impregnation method, a curtain coating method or the like can be applied alone or in combination.
【0087】本発明の積層フィルムにおいて、前記下引
層の上方に少なくとも1層の感光性親水性コロイド層を
設け、各種感光材料を製造することができ、例えば少な
くとも一層のハロゲン化銀乳剤層を設けた写真感光材料
が挙げられる。In the laminated film of the present invention, various photosensitive materials can be produced by providing at least one photosensitive hydrophilic colloid layer above the subbing layer, for example, at least one silver halide emulsion layer. The photographic light-sensitive material provided may be mentioned.
【0088】本発明の感光材料は、レントゲン撮影用、
印刷製版用、一般撮影用、直接鑑賞用等の各種の用途に
用いることができる。The light-sensitive material of the present invention is for radiography,
It can be used for various purposes such as printing plate making, general photography, and direct viewing.
【0089】本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀の
晶形としては、14面体,8面体,不定形板状,立方晶い
ずれでも良いが、高感度平板粒子または高硬調立方晶粒
子が好ましい。ハロゲン化銀組成としては、AgBr,AgC
l,AgClBr,AgClBrI,AgBrI,AgClBrI等任意に用いるこ
とができるが、高感度乳剤に対してはAgBrに富むAgBrI
が好ましい。迅速処理に対してはAgClに富み沃度の少な
い塩沃臭化銀乳剤が好ましい。医用感材として用いる場
合のハロゲン化銀粒子径は、0.01μ〜1μが好ましく、
0.05μ〜0.5μが常用される。印刷感材用には、0.05μ
〜0.2μが多く使用される。The crystal form of silver halide used in the light-sensitive material of the present invention may be any of a tetradecahedron, an octahedron, an irregular plate and a cubic crystal, and a high-sensitivity tabular grain or a high-hardness cubic crystal grain is preferable. The silver halide composition is AgBr, AgC
l, AgClBr, AgClBrI, AgBrI, AgClBrI, etc. can be arbitrarily used, but for high speed emulsions, AgBr rich AgBrI
Is preferred. For rapid processing, a silver chloroiodobromide emulsion rich in AgCl and low in iodine is preferable. When used as a medical sensitive material, the silver halide grain size is preferably 0.01 μm to 1 μm,
0.05μ to 0.5μ is commonly used. 0.05μ for printing materials
~ 0.2μ is often used.
【0090】平板状粒子は、米国特許第4,439,520号、
同第4,425,425号、同第4,414,304号等に記載されてお
り、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。平板
状粒子は、特定表面部位に組成の異なるハロゲン化銀を
エピタキシャル成長させたり、シェリングさせたりする
ことができる。また感光核を制御するために、平板状粒
子の表面あるいは内部に転移線を持たせることが好まし
い。転移線を持たせるには沃化銀の微粒子を化学増感時
に存在させたり沃素イオンを添加して形成することがで
きる。Tabular grains are described in US Pat. No. 4,439,520,
No. 4,425,425, No. 4,414,304 and the like, the intended tabular grains can be easily obtained. The tabular grains can be formed by epitaxially growing silver halide having a different composition on a specific surface site or by shelling. Further, in order to control the photosensitive nuclei, it is preferable to provide a transition line on the surface or inside of the tabular grains. In order to have a transition line, fine grains of silver iodide can be present during chemical sensitization or can be formed by adding iodide ions.
【0091】本発明に平板状粒子を用いる場合は、平板
状粒子が使用されている乳剤層の全粒子の投影面積の総
和の50%以上かアスペクト比2以上の平板状粒子である
ことが好ましい。特に平板状粒子の割合が60%〜70%、
さらに80%へと増大するほど好ましい。アスペクト比は
平板状粒子の投影面積と同一の面積を有する円の直径と
2つの平行平面間距離の比を表す。医用感材の場合には
アスペクト比が3以上20未満であることが好ましく、印
刷感材の場合にはアスペクト比が1.5〜8が好ましい。
塩化銀成分の多い平板粒子は米国特許第5,320,938号明
細書に記載されている方法を参考にすることができる。When tabular grains are used in the present invention, the tabular grains are preferably 50% or more of the total projected area of all grains of the emulsion layer in which the tabular grains are used or have an aspect ratio of 2 or more. . In particular, the proportion of tabular grains is 60% to 70%,
It is more preferable to increase to 80%. The aspect ratio represents the ratio of the diameter of a circle having the same area as the projected area of tabular grains and the distance between two parallel planes. In the case of medical sensitive material, the aspect ratio is preferably 3 or more and less than 20, and in the case of printing sensitive material, the aspect ratio is preferably 1.5 to 8.
For the tabular grains rich in silver chloride component, the method described in US Pat. No. 5,320,938 can be referred to.
【0092】ハロゲン化銀粒子の内部に0.001モル%以
上10%未満の高沃化銀部位が存在したり、銀核があるこ
とは、粒子の耐圧性を向上させるに好ましい。アスペク
ト比は大きい程平板になる。平板粒子の好ましい厚さは
0.01〜0.5μになるがアスペクト比と平均体積粒子径の
設定により任意に選択することができる。また、平板粒
子径の分布は、しばしば使用される変動係数(投影面積
を円近似した場合の標準偏差Sを直径Dで割った値S/
Dの100倍)が30%以下、特に20%以下である単分散乳
剤であることが好ましい。また平板粒子と正常晶粒子を
2種以上混合することができる。粒子の調製は、酸性
法、中間法、アンモニア法等適宜選択する事ができる。
金属をドープする際には、特にpH2〜4の酸性下で粒
子形成をする事が好ましい。The presence of 0.001 mol% or more and less than 10% high silver iodide sites or the presence of silver nuclei in the silver halide grains is preferable for improving the pressure resistance of the grains. The larger the aspect ratio, the flatter the plate. The preferred thickness of tabular grains is
Although it becomes 0.01 to 0.5 μ, it can be arbitrarily selected by setting the aspect ratio and the average volume particle diameter. The distribution of tabular grain diameters is a coefficient of variation that is often used (a value S / the standard deviation S when the projected area is approximated by a circle divided by the diameter D /
It is preferably a monodisperse emulsion having 100% of D) of 30% or less, particularly 20% or less. Further, two or more kinds of tabular grains and normal crystal grains can be mixed. For the preparation of particles, an acidic method, an intermediate method, an ammonia method, or the like can be appropriately selected.
When the metal is doped, it is particularly preferable to form particles under acidic conditions of pH 2-4.
【0093】平板粒子の形成時に粒子の成長を制御する
ためにハロゲン化銀溶剤として例えばアンモニア、チオ
エーテル、チオ尿素化合物、チオン化合物などを使用す
ることができる。チオエーテル化合物として、ドイツ特
許第1,147,845号明細書に記載の3,6,9,15,18,21-ヘキソ
キサ-12-チアトリコサン,3,9,15-トリオキサ-6,12-シ゛チアヘ
フ゜タテ゛カン;1,17-ジオキシ-3,9-15-トリオキサ-6,12-ジチア
ヘプタデカン-4,14-ジオン;1,20-ジオキシ-3,9,12,18-
テトロキサ-6,15,-ジチアエイコサン-4,17-ジオン;7,1
0-ジオキサ4,13-ジチアヘキサデカン-2,15-ジカルボキ
サミド。特開昭56-94347号、特開平1-121847号明細書に
記載のオキサチオエーテル化合物、特開昭63-259653
号、同63-301939号に記載の環状オキサチオエーテル化
合物が挙げられる。特にチオ尿素としては特開昭53-824
08号明細書に記載されているものが有用である。具体的
には、テトラメチルチオ尿素,テトラエチルチオ尿素,
ジメチルピペリジノチオ尿素,ジモルホリノチオ尿素;
1,3-ジメチルイミダゾール-2-チオン;1,3-ジメチルイ
ミダゾール-4-フェニル-2-チオン;テトラプロピルチオ
尿素などが挙げられる。In order to control grain growth during formation of tabular grains, it is possible to use, for example, ammonia, thioethers, thiourea compounds and thione compounds as silver halide solvents. As a thioether compound, 3,6,9,15,18,21-hexoxa-12-thiatricosane, 3,9,15-trioxa-6,12-dithiaheptadecane described in German Patent No. 1,147,845; 1 , 17-Dioxy-3,9-15-trioxa-6,12-dithiaheptadecane-4,14-dione; 1,20-dioxy-3,9,12,18-
Tetroxa-6,15, -dithiaeicosan-4,17-dione; 7,1
0-dioxa 4,13-dithiahexadecane-2,15-dicarboxamide. Oxathioether compounds described in JP-A-56-94347 and JP-A-1-121847, JP-A-63-259653
No. 63-301939, and cyclic oxathioether compounds. Especially as thiourea, JP-A-53-824
Those described in No. 08 specification are useful. Specifically, tetramethylthiourea, tetraethylthiourea,
Dimethylpiperidinothiourea, dimorpholinothiourea;
1,3-dimethylimidazole-2-thione; 1,3-dimethylimidazole-4-phenyl-2-thione; tetrapropylthiourea and the like.
【0094】また、物理熟成時や化学熟成時に亜鉛、
鉛、タリウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、オ
スミウム、パラジウム、プラチナ等の金属塩等を共存さ
せることができる。高照度特性を得るためにイリジウム
をハロゲン化銀1モル当たり10-9〜10-3モルドープする
こと、また、γ=10以上の硬調乳剤を得るときにはロジ
ウムを同様にドープすることは、ハロゲン化銀乳剤にお
いて常用される。ルテニウム、オスミウム、レニウムド
ープは、ロジウムドープに代わって使用することができ
る。ルテニウム、オスミウム、レニウム化合物はハロゲ
ン化銀粒子形成中に添加することが好ましい。添加位置
としては粒子中に均一に分布させる方法、コア・シェル
構造にしてコア部にあるいはシェル部に多く局在させる
方法がある。シェル部に多く存在させるほうがしばしば
良い結果が得られる。また、不連続な層構成に局在させ
る以外に連続的に粒子の外側になるに従い、存在量を増
やす方法でもよい。添加量は、ハロゲン化銀1モル当た
り10-9〜10-3モルの範囲を適宜選択できる。Further, during physical aging or chemical aging, zinc,
Metal salts such as lead, thallium, iridium, rhodium, ruthenium, osmium, palladium and platinum can be made to coexist. Doping iridium in an amount of 10 -9 to 10 -3 mol per mol of silver halide in order to obtain a high illuminance property, and similarly doping rhodium to obtain a high-contrast emulsion with γ = 10 or more, is to use silver halide. Commonly used in emulsions. Ruthenium, osmium and rhenium doping can be used instead of rhodium doping. The ruthenium, osmium and rhenium compounds are preferably added during the formation of silver halide grains. As the addition position, there are a method of uniformly distributing in the particles, and a method of forming a core-shell structure and localizing a lot in the core portion or the shell portion. It is often better to have more in the shell. In addition, a method of increasing the existing amount may be used as it is continuously outside the particles, in addition to localizing in a discontinuous layer structure. The addition amount can be appropriately selected within the range of 10 −9 to 10 −3 mol per mol of silver halide.
【0095】用いる化合物の具体例を下記に示すが、こ
れらに限定されるものではない。Specific examples of the compound used are shown below, but the invention is not limited thereto.
【0096】 〔Ru(NO)Cl5〕-2, 〔Ru(NO)Br5〕-2 〔Ru(NO)I5〕-2, 〔Ru(NO)F5〕-2 〔Ru(CN)Cl5〕-2, 〔Ru(CN)Br5〕-2 〔Ru(CN)I5〕-2, 〔Ru(CN)F5〕-2 〔Ru(SCN)Cl5〕-2, 〔Ru(SCN)Br5〕-2 〔Ru(SCN)I5〕-2, 〔Ru(SCN)F5〕-2 〔Ru(SeCN)Cl5〕-2, 〔Ru(SeCN)Br5〕-2 〔Ru(SeCN)I5〕-2, 〔Ru(SeCN)F5〕-2 〔Ru(TeCN)Cl5〕-2, 〔Ru(TeCN)Br5〕-2 〔Ru(TeCN)I5〕-2, 〔Ru(TeCN)F5〕-2 〔Ru(CO)Cl5〕-2, 〔Ru(CO)Br5〕-2 〔Ru(CO)I5〕-2, 〔Ru(CO)F5〕-2 〔Ru(NH3)Cl5〕-2, 〔Ru(NH3)Br5〕-2 〔Ru(NH3)I5〕-2, 〔Ru(NH3)F5〕-2 〔RuCl6〕-2, 〔RuBr6〕-2 〔RuI6〕-2, 〔RuF6〕-2 〔Ru(NO)Cl2(H2O)2〕-1, 〔Ru(NO)Br2(H2O)2〕-1 〔Ru(NO)F2(H2O)2〕-1, 〔Ru(NO)I2(H2O)2〕-1 〔Ru(NO)Cl4(CN)〕-2, 〔Ru(NO)Br4(SCN)〕-2 〔Ru(NO)Cl4(SeCN)〕-2, 〔Ru(NO)Br4(SeCN) 〕-2 〔Ru(NO)Cl3(CN)2〕-2, 〔Ru(NO)Br3(CN)2〕-2 〔Ru(NO)Cl5〕-4, 〔Ru(NO)Br5〕-4 〔Ru(NO)I5〕-4, 〔Ru(NO)F5〕-4 〔Ru(CN)Cl5〕-4, 〔Ru(CN)Br5〕-4 〔Ru(CN)I5〕-4, 〔Ru(CN)F5〕-4 〔Ru(SCN)Cl5〕-4, 〔Ru(SCN)Br5〕-4 〔Ru(SCN)I5〕-4, 〔Ru(SCN)F5〕-4 〔Ru(SeCN)Cl5〕-4, 〔Ru(SeCN)Br5〕-4 〔Ru(SeCN)I5〕-4, 〔Ru(SeCN)F5〕-4 〔Ru(TeCN)Cl5〕-4, 〔Ru(TeCN)Br5〕-4 〔Ru(TeCN)I5〕-4, 〔Ru(TeCN)F5〕-4 〔Ru(CO)Cl5〕-4, 〔Ru(CO)Br5〕-4 〔Ru(CO)I5〕-4, 〔Ru(CO)F5〕-4 〔Ru(NH3)Cl5〕-4, 〔Ru(NH3)Br5〕-4 〔Ru(NH3)I5〕-4, 〔Ru(NH3)F5〕-4 〔RuCl6〕-4, 〔RuBr6〕-4 〔RuI6〕-4, 〔RuF6〕-4 〔Ru(NO)Cl4(CN)〕-4, 〔Ru(NO)Cl4(SCN)〕-4 〔Ru(NO)Cl4(SeCN)〕-4, 〔Ru(NO)Br4(SeCN)〕-4 〔Ru(NO)Cl3(CN)2〕-4, 〔Ru(NO)Br3(CN)2〕-4 〔Ru(NH3)6〕Cl3, 〔Ru(NH3)6〕Br3 オスミウムやレニウム、更にロジウム、イリジウム、パ
ラジウム、白金など他の金属については、Ruの部分をOs
やRe,Rh,Ir,Pa,Ptに置き換えることによって表す事
が出来るので割愛するが、6座配位子遷移金属化合物は
特開平2-2082号、同2-20853号、同2-20854号、同2-2085
5号明細書を参考にすることができる。また、アルカリ
錯塩としては一般的なナトリウム塩とカリウム塩を選択
できるが、この他に第1,第2,第3級のアミン塩にし
てもよい。例えば、K2[RuCl6],(NH4)2[RuCl6],K4[Ru2
Cl10O]XH2O,K2[RuCl5(H2O)]等のように表すことができ
る。[Ru (NO) Cl 5 ] -2 , [Ru (NO) Br 5 ] -2 [Ru (NO) I 5 ] -2 , [Ru (NO) F 5 ] -2 [Ru (CN) Cl 5 ] -2 , [Ru (CN) Br 5 ] -2 [Ru (CN) I 5 ] -2 , [Ru (CN) F 5 ] -2 [Ru (SCN) Cl 5 ] -2 , [Ru (SCN) Br 5 ] -2 [Ru (SCN) I 5 ] -2 , [Ru (SCN) F 5 ] -2 [Ru (SeCN) Cl 5 ] -2 , [Ru (SeCN) Br 5 ] -2 [Ru (SeCN) I 5 ] -2 , [Ru (SeCN) F 5 ] -2 [Ru (TeCN) Cl 5 ] -2 , [Ru (TeCN) Br 5 ] -2 [Ru (TeCN) I 5 ] -2 , [Ru (TeCN) F 5 ] -2 [Ru (CO) Cl 5 ] -2 , [Ru (CO) Br 5 ] -2 [Ru (CO) I 5 ] -2 , [Ru (CO) F 5 ] -2 [Ru (NH 3 ) Cl 5 ] -2 , [Ru (NH 3 ) Br 5 ] -2 [Ru (NH 3 ) I 5 ] -2 , [Ru (NH 3 ) F 5 ] - 2 [RuCl 6] -2, [RuBr 6] -2 [RuI 6] -2, [RuF 6] -2 [Ru (NO) Cl 2 (H 2 O) 2 ] -1, [Ru (NO) Br 2 (H 2 O) 2 ] -1 [Ru (NO) F 2 (H 2 O) 2 ] -1 , [Ru (NO) I 2 (H 2 O) 2 ] -1 [Ru (NO) Cl 4 (CN)] -2, [Ru (NO) Br 4 (SCN ) ] -2 [Ru (NO) Cl 4 (SeCN ) ] -2, [Ru (NO) Br 4 (SeCN ) ] -2 Ru (NO) Cl 3 (CN ) 2 ] -2, [Ru (NO) Br 3 (CN ) 2 ] -2 [Ru (NO) Cl 5] -4, [Ru (NO) Br 5] -4 [ Ru (NO) I 5 ] -4 , [Ru (NO) F 5 ] -4 [Ru (CN) Cl 5 ] -4 , [Ru (CN) Br 5 ] -4 [Ru (CN) I 5 ] - 4 , [Ru (CN) F 5 ] -4 [Ru (SCN) Cl 5 ] -4 , [Ru (SCN) Br 5 ] -4 [Ru (SCN) I 5 ] -4 , [Ru (SCN) F 5] -4 [Ru (SeCN) Cl 5] -4, [Ru (SeCN) Br 5] -4 [Ru (SeCN) I 5] -4, [Ru (SeCN) F 5] -4 [Ru (TeCN ) Cl 5 ] -4 , [Ru (TeCN) Br 5 ] -4 [Ru (TeCN) I 5 ] -4 , [Ru (TeCN) F 5 ] -4 [Ru (CO) Cl 5 ] -4 , [ Ru (CO) Br 5 ] -4 [Ru (CO) I 5 ] -4 , [Ru (CO) F 5 ] -4 [Ru (NH 3 ) Cl 5 ] -4 , [Ru (NH 3 ) Br 5 ] -4 [Ru (NH 3) I 5] -4, [Ru (NH 3) F 5] -4 [RuCl 6] -4, [RuBr 6] -4 [RuI 6] -4, [RuF 6] -4 [Ru (NO) Cl 4 (CN)] -4 , [Ru (NO) Cl 4 (SCN)] -4 [Ru (NO) Cl 4 (SeCN)] -4 , [Ru (NO) Br 4 (SeCN)] -4 [Ru (NO) Cl 3 (CN ) 2 ] -4 [Ru (NO) Br 3 (CN ) 2 ] -4 [Ru (NH 3) 6] Cl 3, [Ru (NH 3 ) 6 ] Br 3 For other metals such as osmium and rhenium, as well as rhodium, iridium, palladium and platinum, the Ru part is replaced by Os.
I omit it because it can be expressed by substituting with Re, Rh, Ir, Pa, Pt, but the hexadentate transition metal compound is disclosed in JP-A Nos. 2-2082, 2-20853, and 2-20854. , Ibid 2-2085
No. 5 specification can be referred to. As the alkali complex salt, general sodium salt and potassium salt can be selected, but in addition to this, primary, secondary, and tertiary amine salts may be used. For example, K 2 [RuCl 6 ], (NH 4 ) 2 [RuCl 6 ], K 4 [Ru 2
Cl 10 O] XH 2 O, K 2 [RuCl 5 (H 2 O)], etc.
【0097】ハロゲン化銀はイオウ化合物や金塩のごと
き貴金属塩で増感することができる。またセレン増感や
還元増感を施すこともできるし、またこれらの方法を組
み合わせて増感することができる。貴金属塩で増感する
ときに、後述の増感色素を存在させると増感効果を高め
ることができる。またこれらを乳剤に添加するときに
は、微粒子状にして分散して添加すると増感効果をより
高めることができる。またAgI微粒子を分散して化学増
感時に添加すると粒子表面にAgIが形成されて色素増感
の効果を高めることができる。平板粒子のAgI形成時に
は、0〜1000本に及ぶ転移線部分の寄与がしばしば利用
される。The silver halide can be sensitized with a noble metal salt such as a sulfur compound or a gold salt. Further, selenium sensitization or reduction sensitization can be performed, and these methods can be combined for sensitization. When sensitizing with a noble metal salt, the presence of a sensitizing dye described below can enhance the sensitizing effect. When these are added to the emulsion, the sensitizing effect can be further enhanced by adding them in the form of fine particles and dispersing them. When AgI fine particles are dispersed and added at the time of chemical sensitization, AgI is formed on the particle surface, and the effect of dye sensitization can be enhanced. When forming tabular grains AgI, the contribution of the transition line portion ranging from 0 to 1000 is often utilized.
【0098】増感色素としては、シアニン、カルボシア
ニン、メロシアニン、ヘミシアニンなど使用されるが、
メロシアニンとして特公平4-73860号のオキサゾール環
とチオヒダントイン環を有するものが好ましい。As the sensitizing dye, cyanine, carbocyanine, merocyanine, hemicyanine, etc. are used.
As the merocyanine, those having an oxazole ring and a thiohydantoin ring of JP-B-4-73860 are preferable.
【0099】上記ハロゲン化銀は親水性コロイド媒体
中、例えば、ゼラチンに分散させて塗設される。The above silver halide is applied by being dispersed in a hydrophilic colloid medium, for example, gelatin.
【0100】ゼラチンあるいはカルボン酸、ヒドロキシ
基やアミノ基を持つポリマー等親水性コロイド媒体の架
橋は、グリオキザルやムコクロル酸などのアルデヒド
類、2,4,-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン酸ナト
リウム塩などのシアヌル酸クロライド類、ビス(アジリ
ジンアセトアミド)ヘキサンやビス(アジリジンアセト
アミド)ブタンなどのアジリジンあるいは1,2-ビス(ス
ルホニルアセトアミド)エタン、1,3-ビス(ビニルスル
ホニル)-2-プロパノールエタンおよびビス(ビニルス
ルホニル)メチルエーテルなどのビニルスルホン系硬膜
在等を用いて行うことができる。Crosslinking of hydrophilic colloidal medium such as gelatin or carboxylic acid, polymers having hydroxy group or amino group is carried out by aldehydes such as glyoxal or mucochloric acid, sodium 2,4, -dichloro-6-hydroxy-s-triazinate. Cyanuric acid chlorides such as salts, aziridine such as bis (aziridineacetamido) hexane and bis (aziridineacetamido) butane, or 1,2-bis (sulfonylacetamido) ethane, 1,3-bis (vinylsulfonyl) -2-propanolethane And a vinyl sulfone-based hardener such as bis (vinylsulfonyl) methyl ether.
【0101】特に好ましい硬膜剤は 一般式 R1−N(R2)−CO−ピリジニウム で示され、ピリジニウム環はR3および/またはL−X−S
O3Hで置換されている。Particularly preferred hardeners are represented by the general formula R 1 —N (R 2 ) —CO-pyridinium, where the pyridinium ring is R 3 and / or L—X—S.
It is replaced by O 3 H.
【0102】式中、R1およびR2はアルキル基、アリー
ル基を表し、R1およびR2で環を形成してもよい。R3
は水素原子または置換基を表す。Lは単結晶または2基
を表す。Xは単結合または2価の基を表す。Xは単結合
または−O−,−N(R4)-を表しR4は水素原子またはアル
キル基、アリール基を表す。In the formula, R 1 and R 2 represent an alkyl group or an aryl group, and R 1 and R 2 may form a ring. R 3
Represents a hydrogen atom or a substituent. L represents a single crystal or two groups. X represents a single bond or a divalent group. X represents a single bond or -O -, - N (R 4 ) - is R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group, an aryl group.
【0103】本発明の感光材料を印刷製版用に適用する
ときは、硬調化剤としてヒドラジン化合物、硬調化助剤
としてアミン化合物、あるいは酸化により現像抑制剤を
放出するレドックス化合物を使用することができる。When the light-sensitive material of the present invention is applied for printing plate making, a hydrazine compound as a contrast-increasing agent, an amine compound as a contrast-increasing aid, or a redox compound which releases a development inhibitor by oxidation can be used. .
【0104】本発明の感光材料を印刷用感材に適用する
場合には、感度とセーフライト性をコントロールするた
めに減感色素を使用することができる。When the light-sensitive material of the present invention is applied to a light-sensitive material for printing, a desensitizing dye can be used for controlling sensitivity and safelight property.
【0105】本発明の感光材料は、支持体上に少なくと
も1層の感光性乳剤層を有する。感光性乳剤層の上に保
護層を設けることができる。乳剤層や保護層は更に2層
以上にわけることができる。また保護層や乳剤層の間に
中間層を配置し、添加剤の拡散や光の透過を制御した
り、隣接層の化学的あるいは物理的影響を抑えたりする
ことができる。保護層には、安全光を遮断するためにフ
ィルター染料を固定することができる。固定のためには
微粒子にしたり、アニオン-カチオンのイオン結合を利
用したり、酸化や還元により分解するレドックス反応を
利用することができる。ハレーション防止のために乳剤
層の下層や支持体の反対側に染料を固定することは画質
向上に良い。ハレーション防止層は乳剤層の下層に設け
ることが好ましい。乳剤を両面に配置するXレイ用ハロ
ゲン化銀写真要素の場合は、横断光遮断層としてフィル
ター染料が固定される。2層以上の乳剤層を設ける場合
には、光感度や現像の高い乳剤を支持体側に近くする方
法と遠いところに設ける場合がある。支持体に近い側は
到達する光が少なくなることや現像液の浸透が遅れるこ
とから、感度が高く現像性の速い乳剤層を設けると画質
が向上するので医用や印刷感材に好ましく適用すること
ができる。現像後期は現像性の差が大きくなるので速度
調節するために現像抑制剤を放出するレドックス化合物
を使用することができる。レドックス化合物から放出さ
れる現像抑制剤の効果を高めるためにはレドックス化合
物が存在する層を中間層を介して乳剤層に隣接させるの
が好ましい。具体的層構成は支持体から/接着層/横断
光遮断層またはハレーション防止層/乳剤層/中間層/
レドックス含有層/保護層の順である。また、支持体か
ら/接着層/横断光遮断層またはハレーション防止層/
レドックス含有層/中間層/乳剤層/保護層の順にても
使用できる。これらの層に使用するゼラチンは、公知の
架橋剤で膨潤させることができるが層別に架橋させるに
は分子量を調節したり架橋促進剤を使用するのがよい。
通常使用される各層のゼラチン量は0.1g〜2.0g/m2で
ある。架橋剤はグラムゼラチン当たり0.01ミリモルから
1ミリモル使用するのが好ましい。各層にはゼラチンの
他にデキストリン類、澱粉、ブドウ等など親水性ポリマ
ーや疎水性のラテックス導入して膨潤度を調節すること
ができる。膨潤度としては120〜200位までが一般的であ
る。各層の乾燥は、水分の蒸発速度に応じて温度、時間
を調節する。温度として25℃〜200℃、時間として0.1秒
〜200秒位までが一般的に適用される。膨潤度は、水中
に浸して顕微鏡で測定したり、膨潤度計で求めることが
できる。膨潤度として、乾燥膜厚=Ld(23℃50%の相
対湿度で24時間調湿後の膜厚)に対して23℃の水中での
膨潤した厚さLwの比(Lw/Ld)に100を掛けた値
を指標とすることができる。The light-sensitive material of the present invention has at least one light-sensitive emulsion layer on a support. A protective layer can be provided on the photosensitive emulsion layer. The emulsion layer and the protective layer can be further divided into two or more layers. Further, by disposing an intermediate layer between the protective layer and the emulsion layer, it is possible to control the diffusion of additives and the transmission of light, and to suppress the chemical or physical influence of the adjacent layers. A filter dye may be fixed to the protective layer to block out safety light. For immobilization, fine particles can be used, an anion-cation ionic bond can be used, or a redox reaction that decomposes by oxidation or reduction can be used. Fixing the dye in the lower layer of the emulsion layer or on the side opposite to the support for preventing halation is good for improving image quality. The antihalation layer is preferably provided below the emulsion layer. In the case of X-ray silver halide photographic elements with emulsions on both sides, the filter dye is fixed as a transverse light blocking layer. When two or more emulsion layers are provided, the emulsion having high photosensitivity and development may be provided closer to the support side or may be provided farther. Since light reaching the side closer to the support is less and the penetration of the developing solution is delayed, providing an emulsion layer with high sensitivity and high developability improves the image quality, so it is preferably applied to medical and printing sensitive materials. You can Since the difference in developability becomes large in the latter stage of development, a redox compound releasing a development inhibitor can be used for speed control. In order to enhance the effect of the development inhibitor released from the redox compound, it is preferable that the layer in which the redox compound is present is adjacent to the emulsion layer via the intermediate layer. The specific layer structure is from the support / adhesive layer / transverse light blocking layer or antihalation layer / emulsion layer / intermediate layer /
The order is redox-containing layer / protective layer. Also, from the support / adhesive layer / transverse light blocking layer or antihalation layer /
It can also be used in the order of redox-containing layer / intermediate layer / emulsion layer / protective layer. The gelatin used in these layers can be swollen with a known cross-linking agent, but in order to cross-link each layer, it is preferable to adjust the molecular weight or use a cross-linking accelerator.
The amount of gelatin used in each layer is usually 0.1 g to 2.0 g / m 2 . The cross-linking agent is preferably used at 0.01 mmol to 1 mmol per gram gelatin. In addition to gelatin, a hydrophilic polymer such as dextrin, starch, grape or the like or a hydrophobic latex can be introduced into each layer to control the degree of swelling. The degree of swelling is generally 120 to 200. For drying each layer, the temperature and time are adjusted according to the evaporation rate of water. A temperature of 25 ° C to 200 ° C and a time of 0.1 second to 200 seconds are generally applied. The degree of swelling can be measured by immersing in water and measuring with a microscope, or by a swelling degree meter. As the degree of swelling, the ratio (Lw / Ld) of the dry film thickness = Ld (film thickness after humidity conditioning at 23 ° C. and 50% relative humidity for 24 hours) to the swollen thickness Lw in water at 23 ° C. is 100. The value multiplied by can be used as an index.
【0106】現像促進のために、親水性コロイド層の少
なくとも一層に現像液に使用される下記の現像主薬を含
有せしめることができる。また、防黴剤としてN-メチル
-イソチアゾール-3-オン、N-メチル-イソチアゾール-5-
クロロ-3-オン、N-メチル-イソチアゾール-4,5-ジクロ
ロ-3-オン、2-ニトロ-2-ブロム-3-ヒドロキシプロパノ
ール、2-メチル-4-クロロフェノールなどを使用するこ
とができる。In order to accelerate development, at least one layer of the hydrophilic colloid layer may contain the following developing agent used in the developing solution. Also, as a mildew-proofing agent
-Isothiazol-3-one, N-methyl-isothiazol-5-
It is possible to use chloro-3-one, N-methyl-isothiazol-4,5-dichloro-3-one, 2-nitro-2-bromo-3-hydroxypropanol, 2-methyl-4-chlorophenol, etc. it can.
【0107】3層〜10層の複数の構成層を1分当たり30
〜1000メートルの高速で同時塗布するには米国特許第3,
636,374号、同3,508,947号明細書記載の公知のスライド
ホッパー式、あるいはカーテン塗布を使用することがで
きる。塗布時のムラを少なくするには、塗布液の表面張
力を下げることや、剪断力により粘度が低下するチキソ
トロピック性を付与できる親水性ポリマーを使用するこ
とが好ましい。A plurality of constituent layers of 3 to 10 layers are provided at a rate of 30 per minute.
U.S. Pat.No. 3, for simultaneous application at high speeds of ~ 1000 meters
The known slide hopper method described in Nos. 636,374 and 3,508,947, or curtain coating can be used. In order to reduce unevenness during coating, it is preferable to use a hydrophilic polymer capable of lowering the surface tension of the coating liquid and imparting thixotropic properties in which the viscosity is reduced by shearing force.
【0108】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、バ
ッキング層をつけることができる。バッキング層をつけ
るに際しては、支持体上に接着層/帯電防止層/染料含
有層/保護層を設けるのが一般的である。The silver halide photographic light-sensitive material of the present invention may have a backing layer. When a backing layer is provided, it is common to provide an adhesive layer / antistatic layer / dye-containing layer / protective layer on a support.
【0109】バッキング層中には、コロイダルシリカな
どの寸法安定のための無機充填物や接着防止のシリカや
メタクリル酸メチルマット剤、搬送性の制御のためのシ
リコン系滑り剤あるいは剥離剤などを含有させることが
できる。バッキング染料としては、ベンジリデン染料や
オキソノール染料が使用される。これらアルカリ可溶性
あるいは分解性染料を微粒子にして固定しておくことも
できる。ハレーション防止のための濃度としては、各感
光性波長で0.1〜2.0までの濃度であることが好ましい。The backing layer contains an inorganic filler such as colloidal silica for dimensional stability, silica for preventing adhesion, a methyl methacrylate matting agent, a silicone-based slipping agent or a release agent for controlling transportability, and the like. Can be made. As the backing dye, a benzylidene dye or an oxonol dye is used. These alkali-soluble or decomposable dyes can be fixed in the form of fine particles. The concentration for preventing halation is preferably 0.1 to 2.0 at each photosensitive wavelength.
【0110】本発明の感光材料はバインダー乾量に基づ
いて300%以下の水分量を25℃において50%以下の相対
湿度条件で乾燥させるのがよく、保存に際して25℃相対
湿度50%以下の水分量である雰囲気下であることが望ま
しい。The light-sensitive material of the present invention is preferably dried at a moisture content of 300% or less based on the dry weight of the binder at 25 ° C. under a relative humidity condition of 50% or less, and stored at 25 ° C. and a relative humidity of 50% or less. It is desirable to be in an atmosphere that is a quantity.
【0111】感光材料を現像する処理液は、現像主薬と
してハイドロキノン、ハイドロキノンスルホン酸ナトリ
ウム、クロルハイドロキノンなどのハイドロキノン類の
他に、1-フェニル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4,4-ジ
メチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-4-ヒド
ロキシメチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-3
-ピラゾリドンなどのピラゾリドン類およびN-メチルパ
ラアミノフェノール硫酸塩などの超加成性現像主薬と併
用することができる。また、ハイドロキノンを使用しな
いでアスコルビン酸やイソアスコルビン酸を上記超加成
性現像主薬と併用することもできる。保恒剤として亜硫
酸ナトリウム塩や亜硫酸カリウム塩、緩衝剤として炭酸
ナトリウム塩や炭酸カリウム塩、キレート剤としてはED
TA,EDTA・2Na,EDTA・4Naなど、カブリ抑制剤あるいは
銀スラッジ防止剤として5-メチルベンゾトリアゾール、
2-メルカプトベンゾチアゾール、1-フェニル-5-メルカ
プトテトラゾール、6-ニトロベンズイミダゾール、1-(4
-カルボン酸フェニル)-5-メルカプトテトラゾール、1-
(4-スルホン酸フェニル)-5-メルカプトテトロラゾー
ル、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプト-5
-スルホン酸-ベンズイミダゾール、現像促進剤としてジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルア
ミノプロパンジオール等を含むことができる。尚、カブ
リ抑制剤は、乳剤層や乳剤保護層などの写真要素層に添
加してカブリ抑制ばかりでなく鮮鋭性や明ゴ再現性を向
上させることができる。現像液は水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ剤で現像液をpH9〜12し
の範囲に調節することができる。pHの調整は、一般的
には、保存性が良い10±0.5の範囲で使用されるが、迅
速処理用としてpH11±0.5で使用することもできる。現
像処理は、20℃〜40℃、1秒〜90秒の処理条件内で実施
することがてきる。また現像促進剤や増感剤を使用して
現像液や定着液の補充量をそれぞれ1m2当たり5cc〜21
6ccの範囲あるいはこれ以下にすることができる。補充
量低減は、乳剤その増感技術によりハロゲン化銀粒子の
使用量を低減することが特に効果的であり、上記現像促
進技術と併用して達成することができる。The processing solution for developing the light-sensitive material includes hydroquinones such as hydroquinone, sodium hydroquinone sulfonate and chlorohydroquinone as developing agents, as well as 1-phenyl-3-pyrazolidone and 1-phenyl-4,4-dimethyl-. 3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-3
-Can be used in combination with pyrazolidones such as pyrazolidone and super-additive developing agents such as N-methylparaaminophenol sulfate. Further, ascorbic acid or isoascorbic acid may be used in combination with the above-mentioned super-additive developing agent without using hydroquinone. Sodium sulfite or potassium sulfite as a preservative, sodium carbonate or potassium carbonate as a buffer, and ED as a chelating agent.
5-methylbenzotriazole, such as TA, EDTA / 2Na, EDTA / 4Na, as a fog inhibitor or silver sludge inhibitor,
2-mercaptobenzothiazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 6-nitrobenzimidazole, 1- (4
-Phenylcarboxylate) -5-mercaptotetrazole, 1-
(Phenyl 4-sulfonate) -5-mercaptotetrolazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-5
-Sulfonic acid-benzimidazole, and development accelerators such as diethanolamine, triethanolamine, and diethylaminopropanediol may be contained. The antifoggant can be added to photographic element layers such as an emulsion layer and an emulsion protective layer to improve not only fog suppression but also sharpness and bright reproducibility. The developing solution can be adjusted to a pH range of 9 to 12 with an alkaline agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. Adjustment of pH is generally used in the range of 10 ± 0.5, which has good storage stability, but pH of 11 ± 0.5 can also be used for rapid processing. The development processing can be carried out under processing conditions of 20 ° C. to 40 ° C. and 1 second to 90 seconds. In addition, a development accelerator or a sensitizer is used to replenish the developer or fixer with a replenishment rate of 5 cc to 21 m 2 per m 2 .
It can be in the 6cc range or less. Replenishment amount reduction is particularly effective by reducing the amount of silver halide grains used by the emulsion sensitization technique, and can be achieved in combination with the development acceleration technique.
【0112】[0112]
実施例1 《比較用下引済支持体D−2の作成》 〈SPSフィルムの作成〉押出機で320℃で重合例によ
り得られたSPSペレットを溶融押出した。この溶融ポ
リマーをパイプを通じて押出しダイに押し出した。そし
てダイスリットより冷却したキャスチングドラムに静電
印可させながら押し出して冷却することにより膜厚1000
μmのSPS未延伸シートを得た。Example 1 << Preparation of Subbed Substrates D-2 for Comparison >><Preparation of SPS Film> The SPS pellets obtained by the polymerization example were melt extruded at 320 ° C. in an extruder. The molten polymer was extruded through a pipe into an extrusion die. Then, the film thickness is reduced to 1000 by extruding and cooling while applying electrostatically to the casting drum cooled from the die slit.
A μm SPS unstretched sheet was obtained.
【0113】得られたシートを110℃で予熱した後に縦
方向に3.3倍に延伸し、さらにステンター内で130℃に予
熱して横方向に3.3倍延伸した。更にやや横方向に緩和
させながら230℃で熱固定した後に、170℃で約5分間ヒ
ートリラックスさせて100℃まで冷却して、80℃で約10
分間熱処理して支持体D−1を作成した。The obtained sheet was preheated at 110 ° C. and then stretched 3.3 times in the machine direction, further preheated to 130 ° C. in a stenter and stretched 3.3 times in the transverse direction. After heat-setting at 230 ℃ while relaxing a little further in the lateral direction, heat-relax at 170 ℃ for about 5 minutes, cool to 100 ℃, and cool at 80 ℃ for about 10 minutes.
It heat-processed for a minute and produced the support body D-1.
【0114】この上に、下記下引加工液を乾燥膜厚が0.
7μmとなるように塗布して100℃で5分間乾燥させるこ
とにより比較用下引済支持体D−2を作成した。On top of this, the following undercoat processing liquid was added to give a dry film thickness of 0.
A subbing support D-2 for comparison was prepared by applying it to a thickness of 7 μm and drying at 100 ° C. for 5 minutes.
【0115】 〈下引加工液の調製〉 特開平3-131843号にしたがった ゼラチン水溶液(5wt%) 7重量部 ホルマリン水溶液(4wt%) 1重量部 純水で100重量部に仕上げる。<Preparation of subbing processing liquid> According to JP-A-3-31843, aqueous gelatin solution (5 wt%) 7 parts by weight Formalin aqueous solution (4 wt%) 1 part by weight Finished with pure water to 100 parts by weight.
【0116】《本発明の下引済支持体A,B,Cの作
成》 〈積層未延シートの作成〉一つの押出機で330℃で、重
合例により得られたSPSペレットを溶融押出した。ま
た、もう一方の押出機により固有粘度0.62のポリエチレ
ンテレフタレートを310℃で溶融押出してこれを2方向
に分割した。これらの溶融ポリマーをパイプを通じて3
層より成る押出しダイより押し出した。つまりPET/
SPS/PET=1/8/1の3層構造となるように押
し出し、ダイの中で合流積層させ、ダイスリットより冷
却したキャスチングドラムに静電印可させながら押し出
して冷却することにより膜厚1000μmの積層未延シート
を得た。<< Preparation of Undercoated Substrates A, B and C of the Present Invention >><Preparation of Laminated Unstretched Sheet> The SPS pellets obtained in the polymerization examples were melt extruded at 330 ° C. in one extruder. Further, polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity of 0.62 was melt-extruded at 310 ° C. by the other extruder and divided into two directions. Pipe these molten polymers through pipes
It was extruded through an extrusion die consisting of layers. That is PET /
SPS / PET = 1/8/1 is extruded to form a three-layer structure, combined and laminated in a die, and extruded while being electrostatically applied to a casting drum cooled from a die slit to cool the film to a thickness of 1000 μm. A laminated unrolled sheet was obtained.
【0117】 〈第1下引加工液1の調製〉 スチレン-ブタジエンラテックス (ニッポールLx432 日本ゼオン社製) 25重量部 メチルセルロース(10wt水溶液) 10重量部 シリカ系マット剤(平均粒径3.0μm) 0.5重量部 硬膜剤(2.4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-S-トリアジンナトリウム) 0.5重量部 純水で100重量部に仕上げる。<Preparation of First Subbing Liquid 1> Styrene-Butadiene Latex (Nippole Lx432 manufactured by Zeon Corporation) 25 parts by weight Methylcellulose (10 wt aqueous solution) 10 parts by weight Silica-based matting agent (average particle size 3.0 μm) 0.5 parts by weight Part Hardener (2.4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium) 0.5 parts by weight Make up to 100 parts by weight with pure water.
【0118】 〈第1下引加工液2の調製〉 アクリル系ラテックス(固形分30%)(ブチルアクリレート/ スチレン/ヒドロキシエチルメタクリレート=2/1/1重量比) 12.3重量部 アニオン系界面活性剤(C9H19−C6H6−O(CH2CH2O)12SO3Na) 1.8重量部 硬膜剤(ヘキサメチレン-1、6-ビス(エチレンウレア)) 1.2重量部 純水で100重量部に仕上げる。<Preparation of First Undercoating Processing Liquid 2> Acrylic latex (solid content 30%) (butyl acrylate / styrene / hydroxyethyl methacrylate = 2/1/1 weight ratio) 12.3 parts by weight Anionic surfactant ( C 9 H 19 -C 6 H 6 -O (CH 2 CH 2 O) 12 SO 3 Na) 1.8 parts by weight Hardener (hexamethylene-1,6-bis (ethyleneurea)) 1.2 parts by weight 100 with pure water Finish to the weight part.
【0119】 〈第1下引加工液3の調製〉 水分散性ポリエステル (WDサイズ:イーストマンコダック社製) 12.3重量部 アニオン系界面活性剤(C9H19−C6H4−O(CH2CH2O)12SO3Na) 1.8重量部 硬膜剤(ヘキサメチレン-1、6-ビス(エチレンウレア)) 1.2重量部 純水で100重量部に仕上げる。<Preparation of First Undercoat Processing Liquid 3> Water-dispersible polyester (WD size: manufactured by Eastman Kodak Co.) 12.3 parts by weight Anionic surfactant (C 9 H 19 —C 6 H 4 —O (CH 2 CH 2 O) 12 SO 3 Na) 1.8 parts by weight Hardener (hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea)) 1.2 parts by weight Finish with pure water to 100 parts by weight.
【0120】 〈第2下引加工液1の調製〉 ゼラチン水溶液(10wt%) 20重量部 硫酸アンモニウム 0.5重量部 半導体微粒子A−1 40重量部 純水で100重量部にしあげサンドグラインダーでジルコニアビーズを用いて約 8時間分散した。更に塗布直前に 硬化剤(ムコクロム酸) 1.2重量部 をくわえた。<Preparation of Second Undercoating Liquid 1> Aqueous gelatin solution (10 wt%) 20 parts by weight Ammonium sulfate 0.5 parts by weight Semiconductor fine particles A-1 40 parts by weight Made up to 100 parts by weight with pure water and using zirconia beads with a sand grinder Dispersed for about 8 hours. Immediately before coating, 1.2 parts by weight of a curing agent (mucochromic acid) was added.
【0121】 〈第2下引加工液2の調製〉 ゼラチン水溶液(10wt%) 20重量部 硬化剤(ムコクロム酸) 1.2重量部 アニオン系界面活性剤(C9H19−C6H4−O(CH2CH2O)12SO3Na) 1.8重量部 純水で100重量部に仕上げる。<Preparation of Second Undercoating Liquid 2> Gelatin aqueous solution (10 wt%) 20 parts by weight Hardener (mucochromic acid) 1.2 parts by weight Anionic surfactant (C 9 H 19 —C 6 H 4 —O ( CH 2 CH 2 O) 12 SO 3 Na) 1.8 parts by weight Make up to 100 parts by weight with pure water.
【0122】《下引済支持体A−2の作成》積層未延シ
ートを115℃で予熱した後に縦方向に3.3倍延伸しさらに
ステンター内で130℃に予熱して横方向に3.3倍延伸し
た。更にやや横方向に緩和させながら225℃で熱固定し
た後に、170℃で約5分間ヒートリラックスさせて100℃
まで冷却して、80℃で約10分間熱処理して支持体A−1
を作成した。<< Preparation of Substrate Substrate A-2 >> The laminated unstretched sheet was preheated at 115 ° C., then stretched 3.3 times in the machine direction and further preheated to 130 ° C. in a stenter and stretched 3.3 times in the transverse direction. After further relaxing the heat in the lateral direction at 225 ° C, heat relax at 170 ° C for about 5 minutes to 100 ° C.
Cooled to 80 ° C and heat treated for about 10 minutes to obtain support A-1
It was created.
【0123】このフィルム片面ずつ、コロナ放電を施し
た後に第1下引加工液1を140℃で乾燥させ両面とも0.5
μmとなるように塗設した。After subjecting this film to corona discharge on each side, the first undercoating liquid 1 was dried at 140 ° C.
It was coated so as to have a thickness of μm.
【0124】この支持体に、バッキング層面側に第2下
引加工液1を、写真乳剤層面側に、第2下引加工液2を
それぞれ乾燥膜厚が0.1μmとなるように、コロナ放電を
施した後に140℃で乾燥させて順次積層して下引済支持
体A−2を作成した。Corona discharge was applied to the support so that the backing layer surface side was provided with the second undercoating processing liquid 1 and the photographic emulsion layer surface side was provided with the second undercoating processing solution 2 so that the dry film thickness was 0.1 μm. After being applied, it was dried at 140 ° C. and sequentially laminated to prepare an undercoated support A-2.
【0125】《下引済支持体B−2の作成》第1下引加
工液1を第1下引加工液2に変えた以外は下引済支持体
A−2と同様にして下引済支持体B−2を作成した。<< Preparation of Subbed Substrate B-2 >> The subbed support B is prepared in the same manner as the subbed support A-2 except that the first subbing solution 1 is changed to the first subbing solution 2. -2 was created.
【0126】《下引済支持体C−2の作成》積層未延シ
ートを115℃で予熱した後に縦方向に3.3倍延伸した。こ
の両面にコロナ放電と施した後に、両面に第1下引加工
液3を押し出しコーターで塗布してステンター内で100
℃で予熱する間に乾燥させさらに130℃で横方向に3.3倍
延伸した。更にやや横方向に緩和させながら225℃で熱
固定した後に、170℃で約5分間ヒートリラックスさせ
て100℃まで冷却して、80℃で約10分間熱処理して支持
体C−1を作成した。<< Preparation of Substrate Substrate C-2 >> The laminated unstretched sheet was preheated at 115 ° C. and then stretched 3.3 times in the machine direction. After applying corona discharge on both sides, the first undercoating liquid 3 is extruded and applied on both sides with a coater and 100 in the stenter.
It was dried during preheating at ℃ and further stretched 3.3 times in the transverse direction at 130 ℃. After heat fixing at 225 ° C. while slightly relaxing in the lateral direction, heat relaxing at 170 ° C. for about 5 minutes, cooling to 100 ° C., and heat treatment at 80 ° C. for about 10 minutes to prepare a support C-1. ..
【0127】この支持体に、バッキング層面側に第2下
引加工液1を、写真乳剤層面側に第2下引加工液2をそ
れぞれ乾燥膜厚が0.1μmとなるようにコロナ放電を施し
た後に、140℃で乾燥させて順次積層して下引支持体C
−2を作成した。On this support, the second undercoating liquid 1 was applied to the backing layer surface side, and the second undercoating liquid 2 was applied to the photographic emulsion layer surface side so that the dry film thickness was 0.1 μm. After that, it is dried at 140 ° C. and sequentially laminated to form an undercoat support C.
-2 was created.
【0128】《感光材料の作成》得られた各支持体に帯
電防止層及びハレーション防止層を施した後、以下の構
成の写真構成層とバッキング層をカーテンコーターにて
形成し感光材料を作成した。ここに、乳剤としては、塩
化銀含有率が60モル%の塩臭化銀からなり、粒子内部に
イリジウム及びロジウムを銀1モル当たり10-6モルドー
ピングした平板粒子からなるものを用い、銀1モル当た
りチオ硫酸ナトリウム5水塩8.2mg、チオシアン酸カリ
ウム163mg、塩化金酸5.4mg、ジフェニルペンタフロロフ
ェニルセレナイド2.0mgを用いて増感した。高感度乳剤
層の乳剤は平均粒径0.13μmでアスペクト比=1.5、低感
度乳剤層の乳剤は平均粒径0.14μmでアスペクト比=
2、高感度乳剤と低感度乳剤の感度差は32%であった。<< Preparation of Photosensitive Material >> An antistatic layer and an antihalation layer were applied to each of the obtained supports, and then a photographic constituent layer and a backing layer having the following constitution were formed by a curtain coater to prepare a photosensitive material. . The emulsion used here was composed of silver chlorobromide having a silver chloride content of 60 mol%, and tabular grains in which iridium and rhodium were doped at 10 −6 mol per mol of silver. Sensitization was performed using 8.2 mg of sodium thiosulfate pentahydrate, 163 mg of potassium thiocyanate, 5.4 mg of chloroauric acid, and 2.0 mg of diphenylpentafluorophenyl selenide per mole. The emulsion in the high-sensitivity emulsion layer has an average grain size of 0.13 μm and the aspect ratio = 1.5, and the emulsion in the low-sensitivity emulsion layer has an average grain size of 0.14 μm and the aspect ratio =
2. The difference in sensitivity between the high-speed emulsion and the low-speed emulsion was 32%.
【0129】《写真構成層》 第1層 反射光吸収層(500nmにおける吸光度=0.36) ゼラチン 0.3g/m2 マット剤(平均粒径2μm) 0.02g/m2 固体分散染料B(平均粒径0.06μm) 0.03g/m2 << Photographic layer >> First layer Reflected light absorption layer (absorbance at 500 nm = 0.36) Gelatin 0.3 g / m 2 matting agent (average particle size 2 μm) 0.02 g / m 2 solid disperse dye B (average particle size 0.06 μm) 0.03 g / m 2
【0130】[0130]
【化3】 Embedded image
【0131】 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸(M.W.=500,000) 0.1g/m2 スチレン-マレイン酸共重合体 0.1g/m2 ポリビニルピロリドン 0.1g/m2 第2層 高感度乳剤層 ハロゲン化銀(銀換算) 1.5g/m2 ゼラチン 1.0g/m2 ポリ(エチルメタクリレート-ブチルアクリレート) 共重合体ラテックス 0.5g/m2 固体分散硬調化剤(平均粒径0.12μm)〜1-ホルミル-2- {4-〔2-(2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ)ブチルアミド〕 フェニル}ヒドラジン 0.02g/銀1モル 増感色素〜5-〔3-(4-スルホブチル)-5-クロロ-2- オキサゾリジデン〕-1-ヒドロキシエチル-3-(2-ピリジル) -2-チオヒダントインカリウム塩 1×10-3モル/銀1モル 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸(M.W.=500,000) 0.1g/m2 スチレン-マレイン酸共重合体 0.1g/m2 ポリビニルピロリドン 0.1g/m2 第3層 中間層 ゼラチン 0.3g/m2 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸(M.W.=500,000) 0.1g/m2 第4層 低感度乳剤層 ハロゲン化銀(銀換算) 1.5g/m2 ゼラチン 1.0g/m2 ポリ(エチルメタクリレート-ブチルアクリレート) 共重合体ラテックス 0.5g/m2 固体分散硬調化剤(平均粒径0.12μm)〜1-ホルミル-2-{4- 〔2-(2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ)ブチルアミド〕 フェニル}ヒドラジン 0.02g/銀1モル 固体分散レドックス化合物(平均粒径0.12μm)〜1-(5-ニトロ インダゾール-1-イル)-2-{4-〔2,4-ジ-tert-ペンチルフェノキシ) ブチルアミド〕フェニル}ヒドラジン 0.02g/銀1モル 硬調化助剤〜ビス(1-ピペリジノトリエチレンオキササイド) チオエーテル 0.2g/銀1モル ノニルフェノキシドコサエチレンオキサイドスルホネート ・ナトリウム塩 0.2g/銀1モル カブリ防止剤 ハイドロキノンモノスルホネート 12mg/銀1モル ハイドロキノンアルドキシム 12mg/銀1モル 1-(p-カルボキシフェニル)-5-メルカプトテトラゾール 12mg/銀1モル ベンゾトリアゾール 12mg/銀1モル 1-ブタンスルホン酸-2,3-ジチアシクロヘキサン 12mg/銀1モル アデニン 12mg/銀1モル 没食子酸ブチル 12mg/銀1モル 増感色素〜5-〔3-(4-スルホブチル)-5-クロロ-2- オキサゾリジデン〕-1-ヒドロキシエチル-3-(2-ピリジル) -2-チオヒダントインカリウム塩 1×10-3モル/銀1モル 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸(M.W.=500,000) 0.1g/m2 スチレン-マレイン酸共重合体 0.1g/m2 ポリビニルピロリドン 0.1g/m2 第5層 保護層下層 ゼラチン 0.5g/m2 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸(M.W.=500,000) 0.1g/m2 スチレン-マレイン酸共重合体 0.1g/m2 ポリビニルピロリドン 0.1g/m2 エチルメタクリレート-ブチルアクリレート共重合体ラテックス 0.2g/m2 マット剤〜二酸化ケイ素(平均粒径4μm) 0.03g/m2 固体分散セーフライト染料(平均粒径0.06μm) 4,4′-ビス〔1-(4-カルボキシフェニル)-3-カルボキシエチル ピラゾール-5-オン〕ヘプタメチン 60mg/m2 アルカリ可溶性固体分散現像抑制剤(平均粒径0.07μm) 4-ニトロインダゾール 60mg/m2 第6層 保護層上層 ゼラチン 0.5g/m2 増粘剤〜ポリスチレンスルホン酸(M.W.=500,000) 0.1g/m2 スチレン-マレイン酸共重合体 0.1g/m2 ポリビニルピロリドン 0.1g/m2 エチルメタクリレート-ブチルアクリレート共重合体ラテックス 0.2g/m2 マット剤〜二酸化ケイ素(平均粒径4μm) 0.03g/m2 固体分散セーフライト染料(平均粒径0.06μm) 4,4′-ビス〔1-(4-カルボキシフェニル)-3-カルボキシエチル ピラゾール-5-オン〕ヘプタメチン 60mg/m2 アルカリ可溶性固体分散現像抑制剤(平均粒径0.07μm) 4-ニトロインダゾール 60mg/m2 尚、反射光吸収層に硬膜剤のピロリジノカルバモイルピ
リジンエタンスルホン酸を全層のゼラチンに対して0.3
ミリモル/gゼラチンとなるように添加して塗布した。Thickener to polystyrene sulfonic acid (MW = 500,000) 0.1 g / m 2 Styrene-maleic acid copolymer 0.1 g / m 2 Polyvinylpyrrolidone 0.1 g / m 2 Second layer High-sensitivity emulsion layer Silver halide ( 1.5 g / m 2 gelatin 1.0 g / m 2 poly (ethyl methacrylate-butyl acrylate) copolymer latex 0.5 g / m 2 solid dispersion contrast agent (average particle size 0.12 μm) ~ 1-formyl-2- {4- [2- (2,4-Di-tert-pentylphenoxy) butyramide] phenyl} hydrazine 0.02 g / silver 1 mol Sensitizing dye-5- [3- (4-sulfobutyl) -5-chloro-2- Oxazolidene] -1-hydroxyethyl-3- (2-pyridyl) -2-thiohydantoin potassium salt 1 × 10 −3 mol / silver 1 mol Thickener to polystyrene sulfonic acid (MW = 500,000) 0.1 g / m 2 Styrene - maleic acid copolymer 0.1 g / m 2 polyvinyl pyrrolidone 0.1 g / m 2 the third layer intermediate layer Zera Down 0.3 g / m 2 thickener - polystyrene sulfonic acid (MW = 500,000) 0.1g / m 2 4th layer low-sensitivity emulsion layer the silver halide (in terms of silver) 1.5 g / m 2 Gelatin 1.0 g / m 2 poly ( Ethyl methacrylate-butyl acrylate) Copolymer latex 0.5 g / m 2 Solid dispersion Hardening agent (average particle size 0.12 μm) ~ 1-formyl-2- {4- [2- (2,4-di-tert-pentyl] Phenoxy) butyramide] phenyl} hydrazine 0.02 g / silver 1 mol Solid dispersion redox compound (average particle size 0.12 μm) ~ 1- (5-nitroindazol-1-yl) -2- {4- [2,4-di- tert-Pentylphenoxy) butylamido] phenyl} hydrazine 0.02 g / silver 1 mol Hardening agent-bis (1-piperidinotriethyleneoxaside) thioether 0.2 g / silver 1 mol Nonylphenoxydocosaethylene oxide sulfonate-sodium salt 0.2 g / Silver 1 mole antifoggant Hide Quinone monosulfonate 12 mg / silver 1 mol Hydroquinone aldoxime 12 mg / silver 1 mol 1- (p-carboxyphenyl) -5-mercaptotetrazole 12 mg / silver 1 mol Benzotriazole 12 mg / silver 1 mol 1-butanesulfonic acid-2,3 -Dithiacyclohexane 12 mg / silver 1 mol Adenine 12 mg / silver 1 mol Butyl gallate 12 mg / silver 1 mol Sensitizing dye-5- [3- (4-sulfobutyl) -5-chloro-2-oxazolidene] -1-hydroxy Ethyl-3- (2-pyridyl) -2-thiohydantoin potassium salt 1 × 10 -3 mol / silver 1 mol Thickener to polystyrene sulfonic acid (MW = 500,000) 0.1 g / m 2 Styrene-maleic acid copolymer 0.1 g / m 2 Polyvinylpyrrolidone 0.1 g / m 2 Fifth layer Protective layer lower layer Gelatin 0.5 g / m 2 Thickener to polystyrene sulfonic acid (MW = 500,000) 0.1 g / m 2 Styrene-maleic acid copolymer 0.1 g / m 2 polyvinylpyrrolidone 0.1 g / m 2 ethyl methacrylate - butyl acrylate copolymer latex 0.2 g / m 2 Matting agent - silicon dioxide (average particle size 4μm) 0.03g / m 2 Solid dispersion safelight dye (average particle size 0.06 .mu.m) 4, 4 ′ -Bis [1- (4-carboxyphenyl) -3-carboxyethylpyrazol-5-one] heptamethine 60 mg / m 2 Alkali-soluble solid dispersion development inhibitor (average particle size 0.07 μm) 4-nitroindazole 60 mg / m 2 Sixth layer Protective layer Upper layer Gelatin 0.5 g / m 2 Thickener to polystyrene sulfonic acid (MW = 500,000) 0.1 g / m 2 Styrene-maleic acid copolymer 0.1 g / m 2 Polyvinylpyrrolidone 0.1 g / m 2 Ethyl methacrylate -Butyl acrylate copolymer latex 0.2 g / m 2 matting agent to silicon dioxide (average particle size 4 μm) 0.03 g / m 2 solid dispersion safelite dye (average particle size 0.06 μm) 4,4′-bis [1- ( 4-carboxyphenyl) -3- Rubokishiechiru pyrazol-5-one] heptamethine 60 mg / m 2 alkali-soluble solid dispersion development inhibitor (average particle size 0.07 .mu.m) 4-nitroindazole 60 mg / m 2 In addition, pyrrolidinopyridine carbamoyl pyridine ethane hardener in reflected light absorbing layer Sulfonic acid 0.3% for all layers of gelatin
The coating was performed by adding so that the amount would be mmol / g gelatin.
【0132】《バッキング層》下記により調製したバッ
キング層用塗布液(バッキング層塗布液BC−1)、バ
ッキング保護膜層用塗布液をそれぞれゼラチンの付き量
として1.8g/m2、0.5g/m2になるように積層塗布し
た。<< Backing Layer >> The backing layer coating liquid (backing layer coating liquid BC-1) and the backing protective film layer coating liquid prepared by the following methods were used as gelatin coating amounts of 1.8 g / m 2 and 0.5 g / m, respectively. Layer-coating was applied so as to be 2 .
【0133】[バッキング層用塗布液の調製]下記添加
剤を添加混合後、総量が895mlになるよう純水で調整して
バッキング層塗布液BC−1を調製した。[Preparation of Backing Layer Coating Liquid] The following additives were added and mixed, and then adjusted with pure water so that the total amount was 895 ml, to prepare a backing layer coating liquid BC-1.
【0134】 ゼラチン 32.4g 純水 696ml 染料Cの6%(W/V)水溶液 64ml 染料Dのサポニン33%(W/V)水溶液 6.6ml ポリマーラテックス20%(W/V)エマルジョン液 33.6ml (平均粒径0.10μmのシクロヘキシル-メタクリレート、 イソノニルアクリレート、グリシジル-アクリレートとスチレン -イソプレンスルホン酸のコポリマー) 酸化亜鉛の10%(W/V)固体微粒子分散液(平均粒径0.15μm) 10ml 化合物Nの固体微粒子16%(W/V)分散液(平均粒径0.1μm) 10ml クエン酸7%(W/V)水溶液 3.8ml スチレンスルフォン酸ナトリウム4%(W/V)水溶液 23ml [バッキング保護膜層用塗布液の調整]下記添加剤を添
加混合後、総量が711mlになるよう純水で調整してバッキ
ング保護層用塗布液を調製した。Gelatin 32.4 g Pure water 696 ml Dye C 6% (W / V) aqueous solution 64 ml Dye D saponin 33% (W / V) aqueous solution 6.6 ml Polymer latex 20% (W / V) emulsion 33.6 ml (average) Cyclohexyl-methacrylate, isononyl acrylate, glycidyl-acrylate and styrene-isoprene sulfonic acid copolymer with a particle size of 0.10 μm) 10% of zinc oxide (W / V) solid fine particle dispersion (average particle size 0.15 μm) 10 ml of compound N Solid fine particles 16% (W / V) dispersion (average particle size 0.1 μm) 10 ml Citric acid 7% (W / V) aqueous solution 3.8 ml Sodium styrene sulfonate 4% (W / V) aqueous solution 23 ml [For backing protective film layer Preparation of Coating Liquid] The following additives were added and mixed, and then adjusted with pure water so that the total amount was 711 ml to prepare a coating liquid for a backing protective layer.
【0135】 ゼラチン 24.9g 純水 605ml メタクリル酸メチル(平均粒径7μ)の2%(W/V)分散液 72ml 1-デシル-2-(3-イソペンチル)サクシネート-2-スルホン酸ナトリウム 4%(W/V)水溶液 11ml グリオキザール4%(W/V)水溶液 4ml [バッキング層インライン添加用硬膜剤液の調製] 純水 27.22ml メタノール 1.5ml 硬膜剤 H1 1.28ml NaCl 0.005g (尚、上記添加剤を混合して調製したバッキング層イン
ライン添加用硬膜剤液は、保護層塗布液に塗布直前にイ
ンラインで添加混合した。)Gelatin 24.9 g Pure water 605 ml Methyl methacrylate (average particle size 7 μ) 2% (W / V) dispersion 72 ml 1-decyl-2- (3-isopentyl) succinate-2-sulfonate 4% ( W / V) Aqueous solution 11 ml Glyoxal 4% (W / V) aqueous solution 4 ml [Preparation of hardener liquid for in-line addition of backing layer] Pure water 27.22 ml Methanol 1.5 ml Hardener H1 1.28 ml NaCl 0.005 g (In addition, above addition The backing layer in-line addition hardener solution prepared by mixing the agents was added and mixed in line with the protective layer coating solution immediately before coating.)
【0136】[0136]
【化4】 [Chemical 4]
【0137】《性能評価》作製した感光材料試料を線画
原稿をカメラ撮影し、自動現像機、下記の現像液、定着
液を用いて現像、定着、水洗乾燥を行った。現像は温度
28℃6秒、定着温度28℃6秒、水洗25℃6秒、乾燥温度
60℃6秒に設定した。<< Performance Evaluation >> A line drawing original of the prepared photosensitive material sample was photographed with a camera and developed, fixed, washed with water and dried using an automatic processor, the following developing solution and fixing solution. Development is temperature
28 ° C 6 seconds, fixing temperature 28 ° C 6 seconds, water washing 25 ° C 6 seconds, drying temperature
The temperature was set to 60 ° C for 6 seconds.
【0138】接着性は、現像後のA−3サイズフィルム
当たりの乳剤層のピックオフ数を数えた。For the adhesion, the pick-off number of the emulsion layer per A-3 size film after development was counted.
【0139】抜き文字品質の評価は、張り込ベースの上
に1インチ当たり175線で撮網した原稿の上に7ポイン
トの明朝文字を線画撮影した原稿をのせ、更に本発明の
ハロゲン化銀感光材料の乳剤面側を密着させて返しを行
い、50%網点上の線画文字の再現性を10倍ルーペで目視
観察5段階評価した。文字の黒化画像部と非画像部の境
がシャープで且つ銀濃度が充分に出ている場合を5ラン
クとし、文字画像がぼけて濃度が1.0以下の低いレベル
を1ランクとした。The evaluation of the extracted character quality was carried out by placing a 7-point Mincho character line-drawing original on the original imaged at 175 lines per inch on the staking base, and further placing the silver halide of the present invention. The emulsion surface side of the light-sensitive material was brought into close contact and returned, and the reproducibility of line drawing characters on 50% halftone dots was visually observed and evaluated in 5 grades with a 10 times magnifier. The case where the boundary between the blackened image area and the non-image area of the character is sharp and the silver density is sufficiently high is ranked as 5, and the character image is blurred and the density is 1.0 or lower.
【0140】保存性は、23℃相対湿度50%で24時間調湿
した後、55℃で72時間経時放置した後の抜き文字品質を
評価した。結果を表1に示す。As for the storability, the extracted character quality was evaluated after conditioning the humidity at 23 ° C. and 50% relative humidity for 24 hours and then allowing it to stand at 55 ° C. for 72 hours. The results are shown in Table 1.
【0141】 〈現像液の組成〉 1-フェニル-3-ピラゾリドン 1.5g ハイドロキノン 30g 5-ニトロインダゾール 0.250g 5-メチルベンゾトリアゾール 0.06g 臭化カリウム 3.0g 亜硫酸ナトリウム 50g 水酸化カリウム 30g 硼酸 10g 水を加えて1リットルとし、pHは10.20に調節した。<Developer composition> 1-phenyl-3-pyrazolidone 1.5 g hydroquinone 30 g 5-nitroindazole 0.250 g 5-methylbenzotriazole 0.06 g potassium bromide 3.0 g sodium sulfite 50 g potassium hydroxide 30 g boric acid 10 g Water was added. The pH was adjusted to 10.20.
【0142】 〈定着液の組成〉 チオ硫酸アンモニウム(72.5%W/V)水溶液 240ml 亜流酸ナトリウム 17g 酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g 硼酸 6.0g クエン酸ナトリウム・2水塩 2.0g 酢酸(90%W/V水溶液) 13.6ml 硫酸(50%W/V水溶液) 4.7g 硫酸アルミニウム(Al203換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 26.5g 水を加えて1リットルとし、pHを5.0に調節した。<Composition of fixer> Ammonium thiosulfate (72.5% W / V) aqueous solution 240 ml Sodium phosphite 17 g Sodium acetate trihydrate 6.5 g Boric acid 6.0 g Sodium citrate dihydrate 2.0 g Acetic acid (90% W / V V aqueous solution) 13.6 ml sulfuric acid (50% W / V aqueous solution) 4.7 g aluminum sulfate (Al 2 0 3 in terms of content by adding 8.1% aqueous solution of W / V) 26.5 g water to 1 liter pH was adjusted to 5.0 .
【0143】[0143]
【表1】 [Table 1]
【0144】表1から明らかなように、本発明の支持体
を用いることにより、SPS単体では得られなかった写
真性能、接着性能に優れた写真感光材料が得られること
がわかる。As is clear from Table 1, the use of the support of the present invention makes it possible to obtain a photographic light-sensitive material excellent in photographic performance and adhesive performance which cannot be obtained by SPS alone.
【0145】尚、これらの感光材料を、全面露光した後
に、上記現像液に30秒間つけゴム手袋で擦ったところ試
料No.1〜3(支持体A〜C)は問題なかったが、試料N
o.4(支持体D)のサンプルは触ったところが全て塗布
膜が剥がれてしまった。After exposing the entire surface of these light-sensitive materials to the above developing solution and rubbing them with a rubber glove for 30 seconds, sample Nos. 1 to 3 (supports A to C) showed no problem, but sample N
In the sample of o.4 (Support D), the coating film was peeled off entirely when touched.
【0146】実施例2 感光材料1−1の作成 実施例1の感光材料1−1(支持体はPET/SPS/
PET=1/8/1の積層)と同じものである。Example 2 Preparation of Photosensitive Material 1-1 Photosensitive Material 1-1 of Example 1 (support: PET / SPS /
(PET = 1/8/1 stack).
【0147】感光材料2−2の作成 PET(固有粘度0.62)の代わりにPEN(固有粘度0.
68、下記の如くして作成)を用いた他は感光材料1−1
と同様にして、感光材料2−2(支持体はPEN/SP
S/PEN=1/8/1の積層)を作成した。Preparation of Light-Sensitive Material 2-2 Instead of PET (intrinsic viscosity 0.62), PEN (intrinsic viscosity 0.
68, prepared in the following manner) except that the photosensitive material 1-1 was used.
In the same manner as in Photosensitive material 2-2 (support is PEN / SP
S / PEN = 1/8/1 stack) was prepared.
【0148】〈PENの作成〉2,6-ナフタレンジカルボ
ン酸ジメチル100重量部、エチレングリコール56重量部
にエステル交換触媒として酢酸カルシウム1水和物0.1
重量部を添加し、定法によりエステル交換反応を行っ
た。その後、得られた生成物に、三酸化アンチモン0.04
重量部、リン酸トリメチルエステル0.1重量部を添加
し、次いで徐々に昇温と減圧を行い、285℃、0.5mmHgの
条件下で重合を行い、固有粘度0.68のPENチップを得
た。<Preparation of PEN> 100 parts by weight of dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate and 56 parts by weight of ethylene glycol were used as a transesterification catalyst and calcium acetate monohydrate 0.1.
By weight part, transesterification reaction was carried out by a conventional method. Thereafter, the obtained product was added with antimony trioxide 0.04
Parts by weight and 0.1 parts by weight of phosphoric acid trimethyl ester were added, then the temperature was gradually raised and the pressure was reduced, and polymerization was carried out under conditions of 285 ° C. and 0.5 mmHg to obtain a PEN chip having an intrinsic viscosity of 0.68.
【0149】感光材料2−3の作成 PET(固有粘度0.62)の代わりに、M−PET(変性
ポリエステル、固有粘度0.57、下記の如くして作成)を
使用(若干減量、下記又は表2に記載)した他は感光材
料1−1と同様にして、感光材料2−3(支持体はM−
PET/SPS/M−PET=0.5/9/0.5の積層)を
作成した。Preparation of Photosensitive Material 2-3 Instead of PET (intrinsic viscosity 0.62), M-PET (modified polyester, intrinsic viscosity 0.57, prepared as described below) was used (slightly reduced, described below or in Table 2). Other than the above, in the same manner as the light-sensitive material 1-1, the light-sensitive material 2-3 (support is M-
PET / SPS / M-PET = 0.5 / 9 / 0.5) was prepared.
【0150】〈M−PET(変性ポリエステル)の作
成〉テレフタル酸100重量部、エチレングリコール64重
量部に酢酸カルシウム水和物0.1重量部を添加し、常法
によりエステル化反応を行った。得られた生成物に5-ナ
トリウムスルホジ(β-ヒドロキシエチル)イソフタル
酸のエチレングリコール溶液(濃度35重量%)28重量部
(5モル%/全酸性分)、ポリエチレングリコール(数
平均分子量3000)8.1重量部(7重量%/ポリマー)、
三酸化アンチモン0.05重量部、リン酸トリメチルエステ
ル0.13重量部を添加した。次いで徐々に昇温、減圧し、
280℃、0.5mmHgで重合を行い固有粘度0.57を有するM−
PET(変性ポリエステル)を得た。<Preparation of M-PET (modified polyester)> To 100 parts by weight of terephthalic acid and 64 parts by weight of ethylene glycol, 0.1 part by weight of calcium acetate hydrate was added, and an esterification reaction was carried out by a conventional method. The obtained product was 28 parts by weight of ethylene glycol solution of 5-sodium sulfodi (β-hydroxyethyl) isophthalic acid (concentration 35% by weight) (5 mol% / total acid content), polyethylene glycol (number average molecular weight 3000). 8.1 parts by weight (7% by weight / polymer),
0.05 parts by weight of antimony trioxide and 0.13 parts by weight of trimethyl phosphate were added. Then gradually raise the temperature and reduce the pressure,
Polymerized at 280 ℃, 0.5mmHg and having an intrinsic viscosity of 0.57 M-
PET (modified polyester) was obtained.
【0151】感光材料2−4の作成 SPS単層支持体(支持体D−1と同様、膜厚100μm)
を用いた他は感光材料1−1と同様にして、感光材料2
−4(支持体はSPS単層)を作成した。Preparation of Photosensitive Material 2-4 SPS Single Layer Support (Same as Support D-1, film thickness 100 μm)
In the same manner as in the photosensitive material 1-1 except that the photosensitive material 2 is used,
-4 (support is SPS single layer) was prepared.
【0152】感光材料2−5の作成 PET単層支持体(固有粘度0.62、膜厚100μm)を用い
た他は感光材料1−1と同様にして感光材料2−5(支
持体はPET単層)を作成した。Preparation of Light-Sensitive Material 2-5 A light-sensitive material 2-5 was prepared in the same manner as Light-sensitive Material 1-1 except that a PET single-layer support (intrinsic viscosity 0.62, film thickness 100 μm) was used. )created.
【0153】これら試料について、支持体の湿度膨張係
数(JIS K 705により測定)、又湿度が55%RH、65%RH
に変化したときの感光材料の寸法変化(寸法安定性)を
測定・評価した。Regarding these samples, the coefficient of humidity expansion of the support (measured by JIS K 705) and the humidity were 55% RH and 65% RH.
The dimensional change (dimensional stability) of the light-sensitive material was measured and evaluated.
【0154】〈寸法安定性の測定・評価方法〉ガラス乾
板上に、560mmの間隔でトンボを入れる。写真感光材料
を、55%RHに調湿した後に、上記ガラス乾板を原稿とし
てプリンターで密着露光焼き付けした後に、現像処理を
行った。この試料を55%RHの部屋で1日調湿したところ
でこれと上記ガラス乾板との寸法のズレ(μm)を測定
した。つぎに、65%RHの部屋で1日調湿してさらに上記
ガラス乾板との寸法のズレ(μm)を測定した。ガラス
乾板の560mmの間隔に対するこれらのズレ(μm)を寸法
安定性として表示した。以上の結果を表2に示す。<Measurement / Evaluation Method of Dimensional Stability> Registration marks are placed on a glass dry plate at intervals of 560 mm. After the humidity of the photographic light-sensitive material was adjusted to 55% RH, the above-mentioned glass dry plate was used as an original and was contact-exposed and baked with a printer, and then developed. When the humidity of this sample was adjusted in a room at 55% RH for one day, the dimensional deviation (μm) between the sample and the glass plate was measured. Next, the humidity was controlled for one day in a room of 65% RH, and the dimensional deviation (μm) from the glass plate was measured. These deviations (μm) for the 560 mm distance of the glass plate were expressed as dimensional stability. Table 2 shows the above results.
【0155】[0155]
【表2】 [Table 2]
【0156】表2から明らかなように、本発明の支持体
(フィルム)は、従来のPET支持体(F−1)よりも
湿度膨張係数がはるかに小さく改良されており、さら
に、感光材料としても、寸法安定性が非常に優れている
ことがわかる。As is clear from Table 2, the support (film) of the present invention has a humidity expansion coefficient much smaller than that of the conventional PET support (F-1), and is further improved as a light-sensitive material. However, it can be seen that the dimensional stability is very excellent.
【0157】[0157]
【発明の効果】本発明により、高度に寸法安定性に優
れ、感光層等への接着性を有しているハロゲン化銀写真
感光材料のための写真用支持体を提供することができ
た。According to the present invention, it is possible to provide a photographic support for a silver halide photographic light-sensitive material which is highly excellent in dimensional stability and has adhesiveness to a light-sensitive layer and the like.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 67/03 LPD ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display area C08L 67/03 LPD
Claims (5)
分とするフィルムの両面にポリエステル樹脂層が積層さ
れている構造を有することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料用支持体。1. A support for a silver halide photographic light-sensitive material, which has a structure in which a polyester resin layer is laminated on both sides of a film containing syndiotactic polystyrene as a main component.
テレフタレート樹脂層であることを特徴とする請求項1
記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。2. The polyester resin layer is a polyethylene terephthalate resin layer.
A support for a silver halide photographic light-sensitive material as described above.
ナフタレート樹脂層であることを特徴とする請求項1記
載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。3. A support for a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the polyester resin layer is a polyethylene naphthalate resin layer.
テル樹脂層であることを特徴とする請求項1記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料用支持体。4. The support for a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the polyester resin layer is a modified polyester resin layer.
ル酸、ナフタレンジカルボン酸、5-ナトリウムスルホイ
ソフタル酸から選ばれる少なくとも一種と、エチレング
リコール、ポリエチレングリコールから選ばれる少なく
とも一種との縮合よりなるものであることを特徴とする
請求項4記載のハロゲン化銀写真感光材料用支持体。5. The modified polyester resin layer is formed by condensation of at least one selected from terephthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid and 5-sodium sulfoisophthalic acid and at least one selected from ethylene glycol and polyethylene glycol. A support for a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 4.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6269018A JPH08129247A (en) | 1994-11-01 | 1994-11-01 | Supporting body for silver halide photographic sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6269018A JPH08129247A (en) | 1994-11-01 | 1994-11-01 | Supporting body for silver halide photographic sensitive material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08129247A true JPH08129247A (en) | 1996-05-21 |
Family
ID=17466537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6269018A Pending JPH08129247A (en) | 1994-11-01 | 1994-11-01 | Supporting body for silver halide photographic sensitive material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08129247A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006001275A (en) * | 2004-05-17 | 2006-01-05 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | Biaxially oriented laminated film and magnetic recording medium |
US8067105B2 (en) | 2004-01-29 | 2011-11-29 | Teijin Dupont Films Japan Limited | Biaxially oriented film |
-
1994
- 1994-11-01 JP JP6269018A patent/JPH08129247A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8067105B2 (en) | 2004-01-29 | 2011-11-29 | Teijin Dupont Films Japan Limited | Biaxially oriented film |
US8367199B2 (en) | 2004-01-29 | 2013-02-05 | Teijin Dupont Films Japan Limited | Biaxially oriented film |
JP2006001275A (en) * | 2004-05-17 | 2006-01-05 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | Biaxially oriented laminated film and magnetic recording medium |
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