JPH0812378A - 熱線遮断ガラス及びその製造方法 - Google Patents
熱線遮断ガラス及びその製造方法Info
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- JPH0812378A JPH0812378A JP14927494A JP14927494A JPH0812378A JP H0812378 A JPH0812378 A JP H0812378A JP 14927494 A JP14927494 A JP 14927494A JP 14927494 A JP14927494 A JP 14927494A JP H0812378 A JPH0812378 A JP H0812378A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 特に高い可視光線透過率及び良好な熱線遮断
性能が要求される部位に好適に使用することができる熱
線遮断ガラスを提供すること。 【構成】 透明なガラス基板上に、基板側より第１層と
して第１の誘電体膜を設け、該第１層上に第２層として
酸化タングステン膜を設け、該第２層上に第３層として
第２の誘電体膜を設けてなることを特徴とする熱線遮断
ガラス。膜。
性能が要求される部位に好適に使用することができる熱
線遮断ガラスを提供すること。 【構成】 透明なガラス基板上に、基板側より第１層と
して第１の誘電体膜を設け、該第１層上に第２層として
酸化タングステン膜を設け、該第２層上に第３層として
第２の誘電体膜を設けてなることを特徴とする熱線遮断
ガラス。膜。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車用や建築用窓ガ
ラスとして好適な熱線遮断ガラス及びその製造方法に関
し、特に高い可視光線透過率及び良好な熱線遮断性能が
要求される部位に好適に使用することができる熱線遮断
ガラス及びその製造方法に関する。
ラスとして好適な熱線遮断ガラス及びその製造方法に関
し、特に高い可視光線透過率及び良好な熱線遮断性能が
要求される部位に好適に使用することができる熱線遮断
ガラス及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】従来より、省エネルギーの観点から窓ガラ
スを通じて車室内に照射される太陽光の特定の波長部分
を遮断し、車室内の温度上昇を減少させると共に、冷房
機器の負荷をも低減させるため、熱線遮断性の高い窓ガ
ラスが要求されている。
スを通じて車室内に照射される太陽光の特定の波長部分
を遮断し、車室内の温度上昇を減少させると共に、冷房
機器の負荷をも低減させるため、熱線遮断性の高い窓ガ
ラスが要求されている。
【０００３】熱線を遮断する方法としては、いわゆるド
ルーデミラーと呼ばれる透明基板上に酸化インジウムと
酸化錫の混合膜（ＩＴＯ膜）やアルミニウムを添加した
酸化亜鉛膜に代表される透明導電性膜を成膜して熱線を
遮断する方法が知られている。このタイプのガラスは熱
線を遮断するものの遮断する波長が１．５μｍ以上であ
り、熱線遮断性能はあまり良くない。
ルーデミラーと呼ばれる透明基板上に酸化インジウムと
酸化錫の混合膜（ＩＴＯ膜）やアルミニウムを添加した
酸化亜鉛膜に代表される透明導電性膜を成膜して熱線を
遮断する方法が知られている。このタイプのガラスは熱
線を遮断するものの遮断する波長が１．５μｍ以上であ
り、熱線遮断性能はあまり良くない。
【０００４】また、各種金属膜を積層しドルーデミラー
効果に光干渉効果を組み合わせて特定波長の光を反射又
は透過させることが知られている。この熱線反射膜とし
ては、例えば銀膜を透明誘電体膜で挟んだ構成が提案さ
れ（特公昭４７−６３１５号公報）、また窒化物膜を透
明誘電体膜で挟んだ構成が提案されている（特開昭６３
−２０６３３３号公報）。
効果に光干渉効果を組み合わせて特定波長の光を反射又
は透過させることが知られている。この熱線反射膜とし
ては、例えば銀膜を透明誘電体膜で挟んだ構成が提案さ
れ（特公昭４７−６３１５号公報）、また窒化物膜を透
明誘電体膜で挟んだ構成が提案されている（特開昭６３
−２０６３３３号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に記載された熱線遮断膜は、未だ満足すべき性能を発
揮し得ないという欠点があった。また、例えば銀膜を利
用した場合には、この銀膜はシート抵抗値が数Ω〜１０
Ω／□程度の値を有しており電波遮断性の高いものとな
る。熱線遮断ガラスとしてこのような導電性膜を使用す
ると電波も遮断し、電波を透過する必要がある場所、例
えば自動車の車室内やラジオ、テレビを設置してある建
物内等では携帯電話、ラジオ、テレビ等が使用すること
ができないという欠点があった。
報に記載された熱線遮断膜は、未だ満足すべき性能を発
揮し得ないという欠点があった。また、例えば銀膜を利
用した場合には、この銀膜はシート抵抗値が数Ω〜１０
Ω／□程度の値を有しており電波遮断性の高いものとな
る。熱線遮断ガラスとしてこのような導電性膜を使用す
ると電波も遮断し、電波を透過する必要がある場所、例
えば自動車の車室内やラジオ、テレビを設置してある建
物内等では携帯電話、ラジオ、テレビ等が使用すること
ができないという欠点があった。
【０００６】また、建築用ガラスとして用いた場合に
は、高層ビルなどで窓ガラスが周囲の電波強度に影響す
ると言われている。更に、断熱膜として前述した導電性
のある膜を使用すると、特開平３−１２２０３２号公報
に開示されているようにアンテナ線上に導電性膜を形成
するとアンテナ線間に電流が流れアンテナ性能が劣化す
るという欠点があった。また、断熱膜の導電性にもよる
が、導電性がよいとアンテナ性能が劣化するという問題
以外にも電波透過性の問題も生じてくる。
は、高層ビルなどで窓ガラスが周囲の電波強度に影響す
ると言われている。更に、断熱膜として前述した導電性
のある膜を使用すると、特開平３−１２２０３２号公報
に開示されているようにアンテナ線上に導電性膜を形成
するとアンテナ線間に電流が流れアンテナ性能が劣化す
るという欠点があった。また、断熱膜の導電性にもよる
が、導電性がよいとアンテナ性能が劣化するという問題
以外にも電波透過性の問題も生じてくる。
【０００７】以上説明したように、ドルーデミラータイ
プや銀膜などの断熱膜は好ましいとは言えない。従って
本発明の目的は、簡素な層構成で熱線を遮断することが
できると共に、電波が問題なく透過することのできる熱
線遮断ガラス及びその製造方法を提供することにある。
プや銀膜などの断熱膜は好ましいとは言えない。従って
本発明の目的は、簡素な層構成で熱線を遮断することが
できると共に、電波が問題なく透過することのできる熱
線遮断ガラス及びその製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は、
透明なガラス基板上に、基板側より第１層として第１の
誘電体膜を設け、該第１層上に第２層として酸化タング
ステン膜又はＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族
及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた金属元素を少な
くとも１種含有する複合酸化タングステン膜を設け、該
第２層上に第３層として第２の誘電体膜を設けてなるこ
とを特徴とする熱線遮断ガラス及びその製造方法により
達成された。
透明なガラス基板上に、基板側より第１層として第１の
誘電体膜を設け、該第１層上に第２層として酸化タング
ステン膜又はＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族
及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた金属元素を少な
くとも１種含有する複合酸化タングステン膜を設け、該
第２層上に第３層として第２の誘電体膜を設けてなるこ
とを特徴とする熱線遮断ガラス及びその製造方法により
達成された。
【０００９】以下、本発明を更に詳細に説明する。図１
は本発明の熱線遮断ガラスの構成を示す。図１におい
て、１は透明なガラス基板を示す。この透明なガラス基
板は、ソーダライムガラスやアルミノシリケートガラス
などの各種ガラス、グレー、ブルー、ブロンズ及びグリ
ーン色などの着色ガラス板から適宜選択することができ
る。着色ガラスを用いる場合には、グリーン色を有する
ガラスが好ましく使用することができる。
は本発明の熱線遮断ガラスの構成を示す。図１におい
て、１は透明なガラス基板を示す。この透明なガラス基
板は、ソーダライムガラスやアルミノシリケートガラス
などの各種ガラス、グレー、ブルー、ブロンズ及びグリ
ーン色などの着色ガラス板から適宜選択することができ
る。着色ガラスを用いる場合には、グリーン色を有する
ガラスが好ましく使用することができる。
【００１０】グリーン色を有するガラスの色はＹｘｙ表
示の色度図で規定することができる。Ｙは１．００〜
１．４０の範囲、ｘは０．２４〜０．３２の範囲、ｙは
０．３０〜０．４１の範囲であることが好ましい。この
範囲にあるグリーン色のガラスは高い可視光透過率を有
し、近赤外線域に吸収を有するので、上記した熱線遮断
膜との併用により更に断熱効果が著しく改善される。ま
た、グリーン系の色合いをもつガラスには鉄イオンが含
まれ、本発明の酸化タングステン系断熱膜との相乗効果
によって優れた断熱性能が発揮される。
示の色度図で規定することができる。Ｙは１．００〜
１．４０の範囲、ｘは０．２４〜０．３２の範囲、ｙは
０．３０〜０．４１の範囲であることが好ましい。この
範囲にあるグリーン色のガラスは高い可視光透過率を有
し、近赤外線域に吸収を有するので、上記した熱線遮断
膜との併用により更に断熱効果が著しく改善される。ま
た、グリーン系の色合いをもつガラスには鉄イオンが含
まれ、本発明の酸化タングステン系断熱膜との相乗効果
によって優れた断熱性能が発揮される。
【００１１】図１において、３は酸化タングステン膜、
又はＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩ
Ｉｂ族から成る群から選ばれた金属イオンを少なくとも
１種含有する複合酸化タングステン膜である。
又はＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩ
Ｉｂ族から成る群から選ばれた金属イオンを少なくとも
１種含有する複合酸化タングステン膜である。
【００１２】２は第１の誘電体膜、４は第２の誘電体膜
を示す。前記２及び４は特に、シリコン、チタン、アル
ミニウム、錫、ジルコニウム、タンタル、クロム、ステ
ンレス、ニクロム及びニオブから成る群から選ばれた少
なくとも１種の酸化物膜、又はそれらの複合酸化物膜で
ある。またバナジウム及びタングステンから成る群から
選ばれた少なくとも１種の元素を含む、シリコン、アル
ミニウム及びチタンから選ばれた少なくとも１種の酸化
物膜も好適に使用することができる。２と４の屈折率
は、同一であっても異なっても本発明の目的の効果が得
られる。
を示す。前記２及び４は特に、シリコン、チタン、アル
ミニウム、錫、ジルコニウム、タンタル、クロム、ステ
ンレス、ニクロム及びニオブから成る群から選ばれた少
なくとも１種の酸化物膜、又はそれらの複合酸化物膜で
ある。またバナジウム及びタングステンから成る群から
選ばれた少なくとも１種の元素を含む、シリコン、アル
ミニウム及びチタンから選ばれた少なくとも１種の酸化
物膜も好適に使用することができる。２と４の屈折率
は、同一であっても異なっても本発明の目的の効果が得
られる。
【００１３】第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜４の
屈折率の組み合わせで最も好ましいのは、３の酸化タン
グステン膜又は複合酸化タングステン膜よりも低く、特
に膜２及び４の屈折率が１．４〜１．９の範囲で、か
つ、膜３の屈折率が１．９〜２．８の範囲の組み合わせ
である。
屈折率の組み合わせで最も好ましいのは、３の酸化タン
グステン膜又は複合酸化タングステン膜よりも低く、特
に膜２及び４の屈折率が１．４〜１．９の範囲で、か
つ、膜３の屈折率が１．９〜２．８の範囲の組み合わせ
である。
【００１４】膜２及び４の屈折率が１．４より低いと膜
強度が弱く実用的でなく、屈折率が１．９より大きくな
ると、酸化タングステン膜３との屈折率差が小さく、光
干渉効果を期待することができない。逆に、膜３の屈折
率が１．９未満になると上記誘電体膜２及び４との光干
渉効果を期待することができず、２．８を超えると可視
域に反射光が大きくなり実用上好ましくない。
強度が弱く実用的でなく、屈折率が１．９より大きくな
ると、酸化タングステン膜３との屈折率差が小さく、光
干渉効果を期待することができない。逆に、膜３の屈折
率が１．９未満になると上記誘電体膜２及び４との光干
渉効果を期待することができず、２．８を超えると可視
域に反射光が大きくなり実用上好ましくない。
【００１５】第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜４の
屈折率の組み合わせで次に好ましいのは、３の酸化タン
グステン膜又は複合酸化タングステン膜よりも高く、特
に膜２及び４の屈折率が２．３〜２．８の範囲で、か
つ、膜３の屈折率が１．９〜２．２の範囲の組み合わせ
である。
屈折率の組み合わせで次に好ましいのは、３の酸化タン
グステン膜又は複合酸化タングステン膜よりも高く、特
に膜２及び４の屈折率が２．３〜２．８の範囲で、か
つ、膜３の屈折率が１．９〜２．２の範囲の組み合わせ
である。
【００１６】膜２及び４の屈折率が２．３より低いと膜
２，３及び４を積層したことによる光干渉効果が小さく
なり熱線遮断効果が減少し、逆に屈折率が２．８を超え
ると可視域でも光の反射が大きくなり実用上好ましくな
い。また、膜３の屈折率が１．９未満になると上記誘電
体膜２及び４との光干渉効果を期待することができず、
２．２を超えると可視域に反射光が大きくなり実用上好
ましくない。
２，３及び４を積層したことによる光干渉効果が小さく
なり熱線遮断効果が減少し、逆に屈折率が２．８を超え
ると可視域でも光の反射が大きくなり実用上好ましくな
い。また、膜３の屈折率が１．９未満になると上記誘電
体膜２及び４との光干渉効果を期待することができず、
２．２を超えると可視域に反射光が大きくなり実用上好
ましくない。
【００１７】本発明において熱線を遮断する機能は、主
として酸化タングステン膜、又はＩＩＩａ族、ＩＶａ
族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から選
ばれた金属元素を少なくとも１種含有する複合酸化タン
グステン膜３、第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜４
の積層構成に起因する光干渉によるものである。
として酸化タングステン膜、又はＩＩＩａ族、ＩＶａ
族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から選
ばれた金属元素を少なくとも１種含有する複合酸化タン
グステン膜３、第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜４
の積層構成に起因する光干渉によるものである。
【００１８】酸化タングステン膜、又はＩＩＩａ族、Ｉ
Ｖａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群か
ら選ばれた金属元素を少なくとも１種含有する複合酸化
タングステン膜である膜３中のタングステン酸化物の酸
素（Ｏ）／タングステン（Ｗ）原子比は、２．６０〜
２．９８の範囲であることが最適である。
Ｖａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群か
ら選ばれた金属元素を少なくとも１種含有する複合酸化
タングステン膜である膜３中のタングステン酸化物の酸
素（Ｏ）／タングステン（Ｗ）原子比は、２．６０〜
２．９８の範囲であることが最適である。
【００１９】酸化タングステンは、最も酸化された６価
の状態（透明）よりも、５価の状態で存在する方が熱線
を遮断する能力は高く、特に近赤外線領域に吸収を生ず
る。この吸収をもつタングステン酸化物の酸素（Ｏ）／
タングステン（Ｗ）原子比は、２．６０〜２．９８の範
囲である。
の状態（透明）よりも、５価の状態で存在する方が熱線
を遮断する能力は高く、特に近赤外線領域に吸収を生ず
る。この吸収をもつタングステン酸化物の酸素（Ｏ）／
タングステン（Ｗ）原子比は、２．６０〜２．９８の範
囲である。
【００２０】図２に、透明ガラス基板上に本発明に係る
酸化タングステン膜（膜厚８０ｎｍ）を成膜させたもの
の分光特性を示す。波長と透過率の関係を見ると、可視
光線域である波長５００ｎｍの透過率は６０％、赤外線
域である波長１μｍでの透過率は３９％であり、可視光
域で光透過性をもち、かつ赤外線や熱線を遮断している
ことが判る。しかし、赤外線や熱線遮断性能を落とすこ
となく、より可視光線域での光透過性を向上させる必要
が実用上あり、また膜の酸化や傷つきを防止し、耐久性
を向上させる必要もあった。
酸化タングステン膜（膜厚８０ｎｍ）を成膜させたもの
の分光特性を示す。波長と透過率の関係を見ると、可視
光線域である波長５００ｎｍの透過率は６０％、赤外線
域である波長１μｍでの透過率は３９％であり、可視光
域で光透過性をもち、かつ赤外線や熱線を遮断している
ことが判る。しかし、赤外線や熱線遮断性能を落とすこ
となく、より可視光線域での光透過性を向上させる必要
が実用上あり、また膜の酸化や傷つきを防止し、耐久性
を向上させる必要もあった。
【００２１】そこで、酸化タングステン膜を、安定でか
つ赤外線や熱線遮断性能を落とすことなくより可視光線
域での光透過性を向上させる誘電体と組み合わせ、積層
させることにより、光干渉効果が現れて可視光線域の透
過率が向上し、熱線の性能が向上し、上記光透過性及び
耐久性の問題を解決することができた。
つ赤外線や熱線遮断性能を落とすことなくより可視光線
域での光透過性を向上させる誘電体と組み合わせ、積層
させることにより、光干渉効果が現れて可視光線域の透
過率が向上し、熱線の性能が向上し、上記光透過性及び
耐久性の問題を解決することができた。
【００２２】前記タングステン膜に、ＩＩＩａ族、ＩＶ
ａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から
選ばれた金属元素を少なくとも１種含有させることによ
り、膜の耐久性をより向上させることができる。更に、
５０００ＫΩ／□〜２００ＭΩ／□まで該膜を高抵抗化
できるため、電波透過性能にすぐれ、またアンテナ線上
に前記膜を成膜してもアンテナ性能が劣化することはな
い。
ａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から
選ばれた金属元素を少なくとも１種含有させることによ
り、膜の耐久性をより向上させることができる。更に、
５０００ＫΩ／□〜２００ＭΩ／□まで該膜を高抵抗化
できるため、電波透過性能にすぐれ、またアンテナ線上
に前記膜を成膜してもアンテナ性能が劣化することはな
い。
【００２３】本発明の複合酸化タングステン膜は、ＩＩ
Ｉａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族の
任意の元素をタングステン膜に少なくとも１種含有させ
ることにより得られるが、ＩＩＩａ族としてはＡｌ、Ｉ
Ｖａ族としてはＳｉ、Ｖｂ族としてはＶ又はＮｂ、ＶＩ
ｂ族としてはＣｒ、ＶＩＩｂ族としてはＭｎを好ましく
用いることができる。これらの元素を用いた場合にさら
に良好な断熱性及び耐久性が得られ、該膜を高抵抗化で
きるからである。
Ｉａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族の
任意の元素をタングステン膜に少なくとも１種含有させ
ることにより得られるが、ＩＩＩａ族としてはＡｌ、Ｉ
Ｖａ族としてはＳｉ、Ｖｂ族としてはＶ又はＮｂ、ＶＩ
ｂ族としてはＣｒ、ＶＩＩｂ族としてはＭｎを好ましく
用いることができる。これらの元素を用いた場合にさら
に良好な断熱性及び耐久性が得られ、該膜を高抵抗化で
きるからである。
【００２４】これらの熱線遮断膜はスパッタ法、蒸着
法、イオンプレーティング法及び化学気相法（ＣＶＤ
法）などの真空成膜法及びゾルゲル法等の湿式成膜法に
よって成膜することができる。これらの成膜法の中で
も、大面積化や生産性等の観点からスパッタ法が好まし
く用いられる。例えば、以下のスパッター法で成膜する
ことができる。
法、イオンプレーティング法及び化学気相法（ＣＶＤ
法）などの真空成膜法及びゾルゲル法等の湿式成膜法に
よって成膜することができる。これらの成膜法の中で
も、大面積化や生産性等の観点からスパッタ法が好まし
く用いられる。例えば、以下のスパッター法で成膜する
ことができる。
【００２５】スパッタターゲットとしてタングステンと
周期律表のＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及
びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた少なくとも１種の
元素を所定の濃度含む合金ターゲットを使用し、スパッ
タガスとして所定のガス比に調整されたアルゴン（Ａ
ｒ）及び酸素（Ｏ2 ）混合ガスを用い、いわゆる反応性
スパッタ法にてガラス基板上に複合酸化物膜を形成する
ことができる。
周期律表のＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ族及
びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた少なくとも１種の
元素を所定の濃度含む合金ターゲットを使用し、スパッ
タガスとして所定のガス比に調整されたアルゴン（Ａ
ｒ）及び酸素（Ｏ2 ）混合ガスを用い、いわゆる反応性
スパッタ法にてガラス基板上に複合酸化物膜を形成する
ことができる。
【００２６】最下層の第１の誘電体膜は光干渉効果や着
色効果の他、基板との密着性改善の効果も有している。
最上層の第２の透明誘電体膜４は光干渉効果や着色効果
の他、酸化タングステン膜の酸化や傷つきという問題に
対する保護膜としての効果も有している。各層の膜厚と
しては少なくとも酸化タングステン膜及び複合酸化タン
グステン膜３は熱線遮断機能を発現することができる厚
さであれば良いが、島状にならない膜厚である必要性か
ら２ｎｍ以上、特に経済的な観点から３００ｎｍ以下、
前記両者の点と更に全体の膜構成の中において安定かつ
確実な性能を得るためには５〜２００ｎｍの範囲である
ことが好ましい。
色効果の他、基板との密着性改善の効果も有している。
最上層の第２の透明誘電体膜４は光干渉効果や着色効果
の他、酸化タングステン膜の酸化や傷つきという問題に
対する保護膜としての効果も有している。各層の膜厚と
しては少なくとも酸化タングステン膜及び複合酸化タン
グステン膜３は熱線遮断機能を発現することができる厚
さであれば良いが、島状にならない膜厚である必要性か
ら２ｎｍ以上、特に経済的な観点から３００ｎｍ以下、
前記両者の点と更に全体の膜構成の中において安定かつ
確実な性能を得るためには５〜２００ｎｍの範囲である
ことが好ましい。
【００２７】上記第１の透明誘電体２及び第２の透明誘
電体４は酸化タングステン膜３と光干渉効果を発現する
ことができる厚さでよいが、島状にならない膜厚である
必要性から２ｎｍ以上、特に経済的な観点から３００ｎ
ｍ以下であることが好ましく、更に両者の点と全体の膜
構成の中において安全かつ確実な性能を得るためには５
〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。本発明の熱
線遮断ガラスを使用することにより、簡素な構成で熱線
を効率良く遮断することができると共に、充分な電波透
過性が得られる。また、本発明の熱線遮断ガラスは単板
として使用しても良く、合わせガラス又は複層ガラスと
して使用しても良い。
電体４は酸化タングステン膜３と光干渉効果を発現する
ことができる厚さでよいが、島状にならない膜厚である
必要性から２ｎｍ以上、特に経済的な観点から３００ｎ
ｍ以下であることが好ましく、更に両者の点と全体の膜
構成の中において安全かつ確実な性能を得るためには５
〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。本発明の熱
線遮断ガラスを使用することにより、簡素な構成で熱線
を効率良く遮断することができると共に、充分な電波透
過性が得られる。また、本発明の熱線遮断ガラスは単板
として使用しても良く、合わせガラス又は複層ガラスと
して使用しても良い。
【００２８】本発明の熱線遮断ガラスには、第２の透明
誘電体４上又は透明なガラス基板１と第１の透明誘電体
２との間に酸化亜鉛を含む紫外線遮断膜を設けることが
できる。紫外線遮断膜としては、酸化亜鉛又は酸化亜鉛
と酸化シリコンとの複合膜であることが好ましい。複合
膜における酸化亜鉛と酸化シリコンの比率は酸化亜鉛：
酸化シリコン＝１：１以下であることが好ましい。両者
の比率が１：１より酸化シリコンが多いと、紫外線遮断
性能が減少する。紫外線遮断膜の膜厚は２μｍ以下であ
ることが好ましい。膜厚が２μｍを超えると紫外線遮断
力よりも光干渉が大きく実用的でない。
誘電体４上又は透明なガラス基板１と第１の透明誘電体
２との間に酸化亜鉛を含む紫外線遮断膜を設けることが
できる。紫外線遮断膜としては、酸化亜鉛又は酸化亜鉛
と酸化シリコンとの複合膜であることが好ましい。複合
膜における酸化亜鉛と酸化シリコンの比率は酸化亜鉛：
酸化シリコン＝１：１以下であることが好ましい。両者
の比率が１：１より酸化シリコンが多いと、紫外線遮断
性能が減少する。紫外線遮断膜の膜厚は２μｍ以下であ
ることが好ましい。膜厚が２μｍを超えると紫外線遮断
力よりも光干渉が大きく実用的でない。
【００２９】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳述する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。な
お、各実施例の基板及び層構成を表１〜３に示した。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。な
お、各実施例の基板及び層構成を表１〜３に示した。
【００３０】実施例１ 透明ガラス基板をイソプロピルアルコールにて脱脂洗浄
及び純粋リンスをした後、窒素ブロー乾燥した。この透
明ガラス基板をスパッタ装置内に搬送し、５×１０-6 T
orr まで排気した。真空槽内には第１の誘電体膜として
用いる酸化シリコン膜用の酸化シリコンターゲット、酸
化タングステン膜として用いる酸化タングステンターゲ
ット、第２の誘電体膜として用いる酸化シリコン膜用の
酸化シリコンターゲットが設置されている。ただし第１
と第２の誘電体は本実施例の場合酸化シリコンで同一で
あるため、ターゲットは共用している。
及び純粋リンスをした後、窒素ブロー乾燥した。この透
明ガラス基板をスパッタ装置内に搬送し、５×１０-6 T
orr まで排気した。真空槽内には第１の誘電体膜として
用いる酸化シリコン膜用の酸化シリコンターゲット、酸
化タングステン膜として用いる酸化タングステンターゲ
ット、第２の誘電体膜として用いる酸化シリコン膜用の
酸化シリコンターゲットが設置されている。ただし第１
と第２の誘電体は本実施例の場合酸化シリコンで同一で
あるため、ターゲットは共用している。
【００３１】まず、スパッタガスとしてアルゴン及び酸
素の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：１に調整し真空槽内の
ガス圧が５×１０-3 Torr となるように排気速度及びガ
ス流量を調整し、スパッタパワー２５０Ｗで、反応性ス
パッタにて第１の誘電体膜として酸化シリコン膜を１０
０ｎｍに成膜した。
素の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：１に調整し真空槽内の
ガス圧が５×１０-3 Torr となるように排気速度及びガ
ス流量を調整し、スパッタパワー２５０Ｗで、反応性ス
パッタにて第１の誘電体膜として酸化シリコン膜を１０
０ｎｍに成膜した。
【００３２】次にスパッタガスとしてアルゴン及び酸素
の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：０．００５になるように
調整し真空槽内のガス圧が５×１０-3 Torr となるよう
に排気速度及びガス流量を調整し、スパッタパワー３０
０Ｗで、反応性スパッタにて酸化タングステン膜を８０
ｎｍに成膜した。このときの０／Ｗ比は２．９４であっ
た。
の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：０．００５になるように
調整し真空槽内のガス圧が５×１０-3 Torr となるよう
に排気速度及びガス流量を調整し、スパッタパワー３０
０Ｗで、反応性スパッタにて酸化タングステン膜を８０
ｎｍに成膜した。このときの０／Ｗ比は２．９４であっ
た。
【００３３】次にスパッタガスとしてアルゴン及び窒素
の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：１にもどし真空槽内のガ
ス圧が５×１０-3 Torr となるように排気速度及びガス
流量を調整し、スパッタパワー２５０Ｗで、反応性スパ
ッタにて第３層目の第２の誘電体膜である酸化シリコン
膜を５０ｎｍに成膜した。酸化シリコン膜の屈折率は
１．４８であり、酸化タングステン膜のそれは２．４で
あった。このようにして成膜された熱線遮断ガラスの光
学特性は、可視光線透過率７８％で充分な可視光線透過
率と視認性をもち、日射透過率５８％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。
の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：１にもどし真空槽内のガ
ス圧が５×１０-3 Torr となるように排気速度及びガス
流量を調整し、スパッタパワー２５０Ｗで、反応性スパ
ッタにて第３層目の第２の誘電体膜である酸化シリコン
膜を５０ｎｍに成膜した。酸化シリコン膜の屈折率は
１．４８であり、酸化タングステン膜のそれは２．４で
あった。このようにして成膜された熱線遮断ガラスの光
学特性は、可視光線透過率７８％で充分な可視光線透過
率と視認性をもち、日射透過率５８％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。
【００３４】実施例２ 透明なガラス基板をイソプロピルアルコールにて脱脂洗
浄し、純粋リンスした後、窒素ブローで乾燥した。この
透明ガラス基板をスパッタ装置内に搬送し、５×１０-6
Torrまで排気した。真空槽内には第１の誘電体２及び第
２の誘電体膜４である低屈折率の誘電体膜として用いる
酸化シリコン用のシリコンターゲット、複合酸化タング
ステン膜３である熱線遮断膜として用いるシリコンを含
有した酸化タングステン膜用のシリコンとタングステン
の合金ターゲット（Ｓｉ：Ｗ＝０．１：１原子比）を設
置した。まずスパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混
合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：１になるように調整し、真空
槽内のガス圧が５×１０-3Torr となるように排気速度
やガス流量を調整し、スパッタパワー３００Ｗで、反応
性スパッタにて第１の誘電体膜２として酸化シリコン膜
を１０ｎｍに成膜した。次に、スパッタガスとしてアル
ゴン及び酸素の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝３０：４になる
ように調整し、更に真空槽内のガス圧が５×１０-3 Tor
r となるように排気速度やガス流量を調整し、スパッタ
パワー５００Ｗで、反応性スパッタにて複合酸化タング
ステン膜３としてシリコンを含有した酸化タングステン
膜３を９０ｎｍに成膜した。このときのＯ／Ｗ比は２．
９６であった。更に、第２の誘電体膜４として第１の透
明誘電体膜２と同様に酸化シリコンを１０ｎｍに成膜し
た。酸化シリコン膜の屈折率は１．４８であり、シリコ
ンを含有する酸化タングステン膜の屈折率は２．３であ
った。複合酸化シリコン膜の膜抵抗は５０ＭΩ／□であ
った。
浄し、純粋リンスした後、窒素ブローで乾燥した。この
透明ガラス基板をスパッタ装置内に搬送し、５×１０-6
Torrまで排気した。真空槽内には第１の誘電体２及び第
２の誘電体膜４である低屈折率の誘電体膜として用いる
酸化シリコン用のシリコンターゲット、複合酸化タング
ステン膜３である熱線遮断膜として用いるシリコンを含
有した酸化タングステン膜用のシリコンとタングステン
の合金ターゲット（Ｓｉ：Ｗ＝０．１：１原子比）を設
置した。まずスパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混
合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：１になるように調整し、真空
槽内のガス圧が５×１０-3Torr となるように排気速度
やガス流量を調整し、スパッタパワー３００Ｗで、反応
性スパッタにて第１の誘電体膜２として酸化シリコン膜
を１０ｎｍに成膜した。次に、スパッタガスとしてアル
ゴン及び酸素の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝３０：４になる
ように調整し、更に真空槽内のガス圧が５×１０-3 Tor
r となるように排気速度やガス流量を調整し、スパッタ
パワー５００Ｗで、反応性スパッタにて複合酸化タング
ステン膜３としてシリコンを含有した酸化タングステン
膜３を９０ｎｍに成膜した。このときのＯ／Ｗ比は２．
９６であった。更に、第２の誘電体膜４として第１の透
明誘電体膜２と同様に酸化シリコンを１０ｎｍに成膜し
た。酸化シリコン膜の屈折率は１．４８であり、シリコ
ンを含有する酸化タングステン膜の屈折率は２．３であ
った。複合酸化シリコン膜の膜抵抗は５０ＭΩ／□であ
った。
【００３５】このようにして成膜された熱線遮断ガラス
の光学的特性は、可視光線透過率８０％で充分な可視光
線透過率と視認性をもち日射透過率６０％で太陽光の熱
線を充分に遮断していた。更に、このガラスを建物用窓
ガラスとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用
することができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受
信することができた。また、自動車用窓ガラスとして使
用しても同様に携帯電話が支障なく使用することがで
き、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することが
できた。
の光学的特性は、可視光線透過率８０％で充分な可視光
線透過率と視認性をもち日射透過率６０％で太陽光の熱
線を充分に遮断していた。更に、このガラスを建物用窓
ガラスとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用
することができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受
信することができた。また、自動車用窓ガラスとして使
用しても同様に携帯電話が支障なく使用することがで
き、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することが
できた。
【００３６】実施例３ 実施例２と同等の膜材料や成膜条件で、第１の誘電体２
である酸化シリコン膜の膜厚を２０ｎｍとし、シリコン
を含有した酸化タングステン膜３の膜厚を９０ｎｍと
し、第２の誘電体膜４である酸化シリコン膜の膜厚を３
０ｎｍとした他は、実施例２と全く同様にして熱線遮断
ガラスを成膜した。
である酸化シリコン膜の膜厚を２０ｎｍとし、シリコン
を含有した酸化タングステン膜３の膜厚を９０ｎｍと
し、第２の誘電体膜４である酸化シリコン膜の膜厚を３
０ｎｍとした他は、実施例２と全く同様にして熱線遮断
ガラスを成膜した。
【００３７】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７５％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち、日射透過率４５％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７５％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち、日射透過率４５％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００３８】実施例４ 実施例２及び３とガラスと膜材料の異なるものについて
説明する。実施例２で用いた透明なガラス基板にかえ
て、色度図上でＹ値が１．２７、ｘ値が０．２９、ｙ値
が０．３２の緑色ガラス基板を使用し、イソプロピルア
ルコールにて脱脂洗浄し、純粋リンスした後、窒素ブロ
ーで乾燥した。この透明ガラス基板をスパッタ装置内に
搬送し、５×１０-6 Torr まで排気した。真空槽内には
第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜４として用いる酸
化アルミニウム膜用のアルミニウムターゲット、複合酸
化タングステン膜３として用いるアルミニウム含有酸化
タングステン膜用のアルミニウムとタングステンの合金
ターゲット（Ａｌ：Ｗ＝０．１：１原子比）を設置し
た。まずスパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内の
ガス圧が５×１０-3 Torr となるように排気速度やガス
流量を調整し、スパッタパワー４００Ｗで、第１の誘電
体膜２である酸化アルミニウム膜を１０ｎｍに成膜し
た。次に、スパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合
ガスＡｒ：Ｏ2 ＝３０：４になるように調整し、真空槽
内のガス厚が５×１０-3 Torr となるように排気速度や
ガス流量を調整し、スパッタパワー５００Ｗで、反応性
スパッタにてアルミニウム含有酸化タングステン膜を７
０ｎｍに成膜した。このときのＯ／Ｗ比は２．９８であ
った。また、第２の誘電体膜４として、第１の誘電体膜
２と同様にして酸化アルミニウム膜を１０ｎｍ成膜し
た。このようにして得られたアルミニウム含有酸化タン
グステン膜の屈折率は２．４であり、酸化アルミニウム
膜の屈折率は１．６であった。複合酸化タングステン膜
の膜抵抗は１５０ＭΩ／□であった。
説明する。実施例２で用いた透明なガラス基板にかえ
て、色度図上でＹ値が１．２７、ｘ値が０．２９、ｙ値
が０．３２の緑色ガラス基板を使用し、イソプロピルア
ルコールにて脱脂洗浄し、純粋リンスした後、窒素ブロ
ーで乾燥した。この透明ガラス基板をスパッタ装置内に
搬送し、５×１０-6 Torr まで排気した。真空槽内には
第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜４として用いる酸
化アルミニウム膜用のアルミニウムターゲット、複合酸
化タングステン膜３として用いるアルミニウム含有酸化
タングステン膜用のアルミニウムとタングステンの合金
ターゲット（Ａｌ：Ｗ＝０．１：１原子比）を設置し
た。まずスパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内の
ガス圧が５×１０-3 Torr となるように排気速度やガス
流量を調整し、スパッタパワー４００Ｗで、第１の誘電
体膜２である酸化アルミニウム膜を１０ｎｍに成膜し
た。次に、スパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合
ガスＡｒ：Ｏ2 ＝３０：４になるように調整し、真空槽
内のガス厚が５×１０-3 Torr となるように排気速度や
ガス流量を調整し、スパッタパワー５００Ｗで、反応性
スパッタにてアルミニウム含有酸化タングステン膜を７
０ｎｍに成膜した。このときのＯ／Ｗ比は２．９８であ
った。また、第２の誘電体膜４として、第１の誘電体膜
２と同様にして酸化アルミニウム膜を１０ｎｍ成膜し
た。このようにして得られたアルミニウム含有酸化タン
グステン膜の屈折率は２．４であり、酸化アルミニウム
膜の屈折率は１．６であった。複合酸化タングステン膜
の膜抵抗は１５０ＭΩ／□であった。
【００３９】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７２％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４３％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７２％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４３％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００４０】実施例５ 実施例４における複合酸化タングステン膜３としてアル
ミニウムとタングステンの合金ターゲットの代わりにク
ロムとタングステンの合金ターゲット（Ｃｒ：Ｗ＝０．
１：１）を用いてクロムを含有する酸化タングステン膜
を５０ｎｍに成膜した（Ｏ／Ｗ比＝２．５）他は、実施
例４と全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。クロ
ム含有酸化タングステン膜の屈折率は２．４であり、膜
抵抗は２０ＭΩ／□であった。この構成での光学的特性
は可視光線透過率７０％で窓ガラスとして要求される充
分な可視光線透過率と視認性をもち日射透過率４０％で
太陽光の熱線を充分に遮断していた。更に、このガラス
を建物用窓ガラスとして使用したところ、携帯電話が支
障無く使用することができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波
を良好に受信することができた。また、自動車用窓ガラ
スとして使用しても同様に携帯電話が支障なく使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。
ミニウムとタングステンの合金ターゲットの代わりにク
ロムとタングステンの合金ターゲット（Ｃｒ：Ｗ＝０．
１：１）を用いてクロムを含有する酸化タングステン膜
を５０ｎｍに成膜した（Ｏ／Ｗ比＝２．５）他は、実施
例４と全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。クロ
ム含有酸化タングステン膜の屈折率は２．４であり、膜
抵抗は２０ＭΩ／□であった。この構成での光学的特性
は可視光線透過率７０％で窓ガラスとして要求される充
分な可視光線透過率と視認性をもち日射透過率４０％で
太陽光の熱線を充分に遮断していた。更に、このガラス
を建物用窓ガラスとして使用したところ、携帯電話が支
障無く使用することができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波
を良好に受信することができた。また、自動車用窓ガラ
スとして使用しても同様に携帯電話が支障なく使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。
【００４１】実施例６ 実施例２における第１の誘電体膜２としての酸化シリコ
ン膜の代わりに酸化錫膜を１５ｎｍとし、複合酸化タン
グステン膜３としてのシリコン含有酸化タングステン膜
の代わりにマンガンを含有する酸化タングステン膜を５
０ｎｍ（Ｏ／Ｗ比＝２．６）用いた他は、実施例２と全
く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。このとき用い
たマンガンとタングステンの合金ターゲットのＭｎ：Ｗ
は０．１：１であった。マンガン含有酸化タングステン
膜の屈折率は２．５であり、酸化錫膜の屈折率は１．９
であった。複合酸化タングステン膜の膜抵抗は６０ＭΩ
／□であった。
ン膜の代わりに酸化錫膜を１５ｎｍとし、複合酸化タン
グステン膜３としてのシリコン含有酸化タングステン膜
の代わりにマンガンを含有する酸化タングステン膜を５
０ｎｍ（Ｏ／Ｗ比＝２．６）用いた他は、実施例２と全
く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。このとき用い
たマンガンとタングステンの合金ターゲットのＭｎ：Ｗ
は０．１：１であった。マンガン含有酸化タングステン
膜の屈折率は２．５であり、酸化錫膜の屈折率は１．９
であった。複合酸化タングステン膜の膜抵抗は６０ＭΩ
／□であった。
【００４２】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７２％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４５％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７２％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４５％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００４３】実施例７ 実施例６における複合酸化タングステン膜３としてのマ
ンガンを含有する酸化タングステン膜の代わりにバナジ
ウムを含有する酸化タングステン膜を６０ｎｍ（Ｏ／Ｗ
比＝２．６）用い、第２の誘電体膜４としての酸化シリ
コンの代わりに酸化錫を２０ｎｍ用いた他は、実施例５
と全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。このとき
用いたバナジウムとタングステンの合金ターゲットの
Ｖ：Ｗは０．２：１であった。バナジウム含有酸化タン
グステン膜の屈折率は２．２であり、第２の誘電体膜４
としての酸化錫の屈折率は１．６であった。複合酸化タ
ングステン膜の膜抵抗は、４０ＭΩ／□であった。
ンガンを含有する酸化タングステン膜の代わりにバナジ
ウムを含有する酸化タングステン膜を６０ｎｍ（Ｏ／Ｗ
比＝２．６）用い、第２の誘電体膜４としての酸化シリ
コンの代わりに酸化錫を２０ｎｍ用いた他は、実施例５
と全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。このとき
用いたバナジウムとタングステンの合金ターゲットの
Ｖ：Ｗは０．２：１であった。バナジウム含有酸化タン
グステン膜の屈折率は２．２であり、第２の誘電体膜４
としての酸化錫の屈折率は１．６であった。複合酸化タ
ングステン膜の膜抵抗は、４０ＭΩ／□であった。
【００４４】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７４％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち日射透過率４７％で太陽光の熱線を充
分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラス
として使用したところ、携帯電話が支障無く使用するこ
とができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信する
ことができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用して
も同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラジ
オではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができた。
７４％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち日射透過率４７％で太陽光の熱線を充
分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラス
として使用したところ、携帯電話が支障無く使用するこ
とができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信する
ことができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用して
も同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラジ
オではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができた。
【００４５】実施例８ 透明なガラス基板をイソプロピルアルコールにて脱脂洗
浄し、純粋リンスした後、窒素ブローで乾燥した。この
透明なガラス基板をスパッタ装置内に搬送し、５×１０
-6Torrまで排気した。真空槽内には第１の誘電体膜２及
び第２の誘電体膜４である高屈折率の誘電体膜として用
いる酸化チタン用のチタンターゲット、複合酸化タング
ステン３である熱線遮断膜として用いるシリコンを含有
した酸化タングステン膜用のシリコンとタングステンの
合金ターゲット（Ｓｉ：Ｗ＝０．２：１原子比）を設置
した。まずスパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合
ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：１になるように調整し、真空槽
内のガス圧が５×１０-3 Torr となるように排気速度や
ガス流量を調整し、スパッタパワー４００Ｗで、反応性
スパッタにて第１の誘電体膜２として酸化チタン膜を１
５ｎｍに成膜した。次に、スパッタガスとしてアルゴン
及び酸素の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝３０：４になるよう
に調整し、真空槽内のガス圧が５×１０-3 Torr となる
ように排気速度やガス流量を調整し、スパッタパワー５
００Ｗで、反応性スパッタにてシリコンを含有した酸化
タングステン膜３を１００ｎｍに成膜した。このときの
複合酸化タングステン膜のＯ／Ｗ比は２．９６であっ
た。更に、第２の誘電体膜４として第１の誘電体膜２と
同様に酸化チタンを１５ｎｍに成膜した。酸化チタン膜
の屈折率は２．３であり、シリコンを含有する酸化タン
グステン膜の屈折率は１．９であり、膜抵抗は５０ＭΩ
／□であった。
浄し、純粋リンスした後、窒素ブローで乾燥した。この
透明なガラス基板をスパッタ装置内に搬送し、５×１０
-6Torrまで排気した。真空槽内には第１の誘電体膜２及
び第２の誘電体膜４である高屈折率の誘電体膜として用
いる酸化チタン用のチタンターゲット、複合酸化タング
ステン３である熱線遮断膜として用いるシリコンを含有
した酸化タングステン膜用のシリコンとタングステンの
合金ターゲット（Ｓｉ：Ｗ＝０．２：１原子比）を設置
した。まずスパッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合
ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝１：１になるように調整し、真空槽
内のガス圧が５×１０-3 Torr となるように排気速度や
ガス流量を調整し、スパッタパワー４００Ｗで、反応性
スパッタにて第１の誘電体膜２として酸化チタン膜を１
５ｎｍに成膜した。次に、スパッタガスとしてアルゴン
及び酸素の混合ガスをＡｒ：Ｏ2 ＝３０：４になるよう
に調整し、真空槽内のガス圧が５×１０-3 Torr となる
ように排気速度やガス流量を調整し、スパッタパワー５
００Ｗで、反応性スパッタにてシリコンを含有した酸化
タングステン膜３を１００ｎｍに成膜した。このときの
複合酸化タングステン膜のＯ／Ｗ比は２．９６であっ
た。更に、第２の誘電体膜４として第１の誘電体膜２と
同様に酸化チタンを１５ｎｍに成膜した。酸化チタン膜
の屈折率は２．３であり、シリコンを含有する酸化タン
グステン膜の屈折率は１．９であり、膜抵抗は５０ＭΩ
／□であった。
【００４６】このようにして成膜された熱線遮断ガラス
の光学的特性は、可視光線透過率７９％で充分な可視光
線透過率と視認性をもち日射透過率５８％で太陽光の熱
線を充分に遮断していた。更に、このガラスを建物用窓
ガラスとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用
することができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受
信することができた。更に、自動車用窓ガラスとして使
用しても同様に携帯電話が支障なく使用することがで
き、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することが
できた。
の光学的特性は、可視光線透過率７９％で充分な可視光
線透過率と視認性をもち日射透過率５８％で太陽光の熱
線を充分に遮断していた。更に、このガラスを建物用窓
ガラスとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用
することができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受
信することができた。更に、自動車用窓ガラスとして使
用しても同様に携帯電話が支障なく使用することがで
き、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することが
できた。
【００４７】実施例９ 実施例８と同等の膜材料及び成膜条件で、第１の誘電体
膜２である酸化チタン膜の膜厚を２５ｎｍとし、シリコ
ンを含有した酸化タングステン膜３の膜厚を８０ｎｍと
し、第２の誘電体膜４である酸化チタン膜の膜厚を２０
ｎｍとした他は、実施例８と全く同様にして熱線遮断ガ
ラスを成膜した。
膜２である酸化チタン膜の膜厚を２５ｎｍとし、シリコ
ンを含有した酸化タングステン膜３の膜厚を８０ｎｍと
し、第２の誘電体膜４である酸化チタン膜の膜厚を２０
ｎｍとした他は、実施例８と全く同様にして熱線遮断ガ
ラスを成膜した。
【００４８】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７７％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち日射透過率４６％で太陽光の熱線を充
分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラス
として使用したところ、携帯電話が支障無く使用するこ
とができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信する
ことができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用して
も同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラジ
オではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができた。
７７％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち日射透過率４６％で太陽光の熱線を充
分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラス
として使用したところ、携帯電話が支障無く使用するこ
とができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信する
ことができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用して
も同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラジ
オではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができた。
【００４９】実施例１０ 実施例８及び９と膜材料の異なるものについて説明す
る。実施例９で用いた透明なガラス基板をイソプロピル
アルコールにて脱脂洗浄し、純粋リンスした後、窒素ブ
ローで乾燥した。この透明なガラス基板をスパッタ装置
内に搬送し、５×１０-6 Torr まで排気した。真空槽内
には第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜４として用い
る酸化タンタル膜用のタンタルターゲット、複合酸化タ
ングステン膜３として用いるアルミニウム含有酸化タン
グステン膜用のアルミニウムとタングステンの合金ター
ゲット（Ａｌ：Ｗ＝０．３：１原子比）を設置した。ま
ずスパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内のガス圧
が５×１０-3 Torr となるように排気速度やガス流量を
調整し、スパッタパワー４００Ｗで、第１の誘電体膜２
として酸化タンタル膜を１０ｎｍに成膜した。次に、ス
パッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合ガスＡｒ：Ｏ
2 ＝３０：４になるように調整し、真空槽内のガス圧が
５×１０-3 Torr となるように排気速度やガス流量を調
整し、スパッタパワー４５０Ｗで、反応性スパッタにて
複合酸化タングステン膜３としてアルミニウム含有酸化
タングステン膜を９０ｎｍに成膜した。このときの複合
酸化タングステン膜のＯ／Ｗ比は２．９２であった。更
に、第２の誘電体膜４として第１の誘電体膜２と同様に
して酸化タンタル膜を１０ｎｍに成膜した。このように
して得られたアルミニウム含有酸化タングステン膜の屈
折率は２．１であり、酸化タンタル膜の屈折率は２．４
であった。複合酸化タングステン膜の膜抵抗は１００Ｍ
Ω／□であった。
る。実施例９で用いた透明なガラス基板をイソプロピル
アルコールにて脱脂洗浄し、純粋リンスした後、窒素ブ
ローで乾燥した。この透明なガラス基板をスパッタ装置
内に搬送し、５×１０-6 Torr まで排気した。真空槽内
には第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜４として用い
る酸化タンタル膜用のタンタルターゲット、複合酸化タ
ングステン膜３として用いるアルミニウム含有酸化タン
グステン膜用のアルミニウムとタングステンの合金ター
ゲット（Ａｌ：Ｗ＝０．３：１原子比）を設置した。ま
ずスパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内のガス圧
が５×１０-3 Torr となるように排気速度やガス流量を
調整し、スパッタパワー４００Ｗで、第１の誘電体膜２
として酸化タンタル膜を１０ｎｍに成膜した。次に、ス
パッタガスとしてアルゴン及び酸素の混合ガスＡｒ：Ｏ
2 ＝３０：４になるように調整し、真空槽内のガス圧が
５×１０-3 Torr となるように排気速度やガス流量を調
整し、スパッタパワー４５０Ｗで、反応性スパッタにて
複合酸化タングステン膜３としてアルミニウム含有酸化
タングステン膜を９０ｎｍに成膜した。このときの複合
酸化タングステン膜のＯ／Ｗ比は２．９２であった。更
に、第２の誘電体膜４として第１の誘電体膜２と同様に
して酸化タンタル膜を１０ｎｍに成膜した。このように
して得られたアルミニウム含有酸化タングステン膜の屈
折率は２．１であり、酸化タンタル膜の屈折率は２．４
であった。複合酸化タングステン膜の膜抵抗は１００Ｍ
Ω／□であった。
【００５０】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７２％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４２％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７２％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４２％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００５１】実施例１１ 実施例１０における複合酸化タングステン膜３としてア
ルミニウムとタングステンの合金ターゲットの代わりに
シリコンとタングステンの合金ターゲット（Ｓｉ：Ｗ＝
０．１：１）を用いてシリコンを含有する酸化タングス
テン膜を６０ｎｍ（Ｏ／Ｗ比＝２．９６）に成膜した他
は、実施例１０と全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜
した。シリコン含有酸化タングステン膜の屈折率は１．
９であり、膜抵抗は５０ＭΩ／□であった。
ルミニウムとタングステンの合金ターゲットの代わりに
シリコンとタングステンの合金ターゲット（Ｓｉ：Ｗ＝
０．１：１）を用いてシリコンを含有する酸化タングス
テン膜を６０ｎｍ（Ｏ／Ｗ比＝２．９６）に成膜した他
は、実施例１０と全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜
した。シリコン含有酸化タングステン膜の屈折率は１．
９であり、膜抵抗は５０ＭΩ／□であった。
【００５２】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７１％窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過率
と視認性をもち日射透過率４３％で太陽光の熱線を充分
に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラスと
して使用したところ、携帯電話が支障無く使用すること
ができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信するこ
とができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用しても
同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラジオ
ではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができた。
７１％窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過率
と視認性をもち日射透過率４３％で太陽光の熱線を充分
に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラスと
して使用したところ、携帯電話が支障無く使用すること
ができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信するこ
とができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用しても
同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラジオ
ではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができた。
【００５３】実施例１２ 実施例８における第１の誘電体膜２としての酸化チタン
膜の代わりに酸化ニオブ膜を１３ｎｍとし、複合酸化タ
ングステン膜３としてのシリコン含有酸化タングステン
膜の代わりにマンガンを含有する酸化タングステン膜を
５５ｎｍ（Ｏ／Ｗ比＝２．８）用いた他は、実施例８と
全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。このとき用
いたマンガンとタングステンの合金ターゲットのＭｎ：
Ｗは０．３：１であった。マンガン含有酸化タングステ
ン膜の屈折率は２．３であり、酸化ニオブ膜の屈折率は
２．７であった。複合酸化タングステン膜の膜抵抗は１
４０ＭΩ／□であった。
膜の代わりに酸化ニオブ膜を１３ｎｍとし、複合酸化タ
ングステン膜３としてのシリコン含有酸化タングステン
膜の代わりにマンガンを含有する酸化タングステン膜を
５５ｎｍ（Ｏ／Ｗ比＝２．８）用いた他は、実施例８と
全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。このとき用
いたマンガンとタングステンの合金ターゲットのＭｎ：
Ｗは０．３：１であった。マンガン含有酸化タングステ
ン膜の屈折率は２．３であり、酸化ニオブ膜の屈折率は
２．７であった。複合酸化タングステン膜の膜抵抗は１
４０ＭΩ／□であった。
【００５４】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７４％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４７％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７４％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４７％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００５５】実施例１３ 実施例１２における複合酸化タングステン膜３としての
マンガンを含有する酸化タングステン膜の代わりにバナ
ジウムを含有する酸化タングステン膜を６５ｎｍ（Ｏ／
Ｗ比＝２．６）用い、第２の誘電体膜４としての酸化チ
タンの代わりに酸化ニオブ膜を２０ｎｍ用いた他は、実
施例１２と全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。
このとき用いたバナジウムとタングステンの合金ターゲ
ットのＶ：Ｗは０．２：１であった。バナジウム含有酸
化タングステン膜の屈折率は２．２であり、酸化ニオブ
膜の屈折率は２．７であった。複合酸化タングステン膜
の膜抵抗は６０ＭΩ／□であった。
マンガンを含有する酸化タングステン膜の代わりにバナ
ジウムを含有する酸化タングステン膜を６５ｎｍ（Ｏ／
Ｗ比＝２．６）用い、第２の誘電体膜４としての酸化チ
タンの代わりに酸化ニオブ膜を２０ｎｍ用いた他は、実
施例１２と全く同様にして熱線遮断ガラスを成膜した。
このとき用いたバナジウムとタングステンの合金ターゲ
ットのＶ：Ｗは０．２：１であった。バナジウム含有酸
化タングステン膜の屈折率は２．２であり、酸化ニオブ
膜の屈折率は２．７であった。複合酸化タングステン膜
の膜抵抗は６０ＭΩ／□であった。
【００５６】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７６％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４７％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７６％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４７％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００５７】実施例１４ 実施例１２における複合酸化タングステン膜３としての
マンガンを含有する酸化タングステン膜の代わりにニオ
ブを含有する酸化タングステン膜を４０ｎｍ（Ｏ／Ｗ比
＝２．６）用い、第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜
４としての酸化ニオブの代わりに酸化アルミニウムを１
５ｎｍ用いた他は、実施例１２と全く同様にして熱線遮
断ガラスを成膜した。このとき用いたニオブとタングス
テンの合金ターゲットのＮｂ：Ｗは０．１：１であっ
た。ニオブ含有酸化タングステン膜の屈折率は２．４で
あり、酸化アルミニウムの屈折率は１．６であった。複
合酸化タングステン膜の膜抵抗は１７０ＭΩ／□であっ
た。
マンガンを含有する酸化タングステン膜の代わりにニオ
ブを含有する酸化タングステン膜を４０ｎｍ（Ｏ／Ｗ比
＝２．６）用い、第１の誘電体膜２及び第２の誘電体膜
４としての酸化ニオブの代わりに酸化アルミニウムを１
５ｎｍ用いた他は、実施例１２と全く同様にして熱線遮
断ガラスを成膜した。このとき用いたニオブとタングス
テンの合金ターゲットのＮｂ：Ｗは０．１：１であっ
た。ニオブ含有酸化タングステン膜の屈折率は２．４で
あり、酸化アルミニウムの屈折率は１．６であった。複
合酸化タングステン膜の膜抵抗は１７０ＭΩ／□であっ
た。
【００５８】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７５％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４４％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７５％で窓ガラスとして要求されるに充分な可視光線透
過率と視認性をもち日射透過率４４％で太陽光の熱線を
充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラ
スとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用する
ことができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信す
ることができた。更に、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障無く使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００５９】実施例１５ 着色誘電体膜としてバナジウム含有酸化シリコン膜を用
いた場合について説明する。ガラス基板として色度図上
でＹ値が１．２７、ｘ値が０．２９、ｙ値が０．３２の
緑色ガラス基板を使用した。このガラス基板をイソプロ
ピルアルコールにて脱脂洗浄し、純粋洗浄した後、窒素
ブローで乾燥した。このガラス基板をスパッタ装置内に
搬送し、５×１０-6Torr まで排気した。スパッタ装置
内には、スパッタターゲットとして着色誘電体膜用とし
てバナジウムとシリコンの合金ターゲット（Ｖ：Ｗ＝
０．２：１）、透明誘電体膜用としてシリコンターゲッ
ト、複合酸化タングステン膜用としてシリコンとタング
ステンの合金ターゲット（Ｓｉ：Ｗ＝０．１：１）が設
置されている。
いた場合について説明する。ガラス基板として色度図上
でＹ値が１．２７、ｘ値が０．２９、ｙ値が０．３２の
緑色ガラス基板を使用した。このガラス基板をイソプロ
ピルアルコールにて脱脂洗浄し、純粋洗浄した後、窒素
ブローで乾燥した。このガラス基板をスパッタ装置内に
搬送し、５×１０-6Torr まで排気した。スパッタ装置
内には、スパッタターゲットとして着色誘電体膜用とし
てバナジウムとシリコンの合金ターゲット（Ｖ：Ｗ＝
０．２：１）、透明誘電体膜用としてシリコンターゲッ
ト、複合酸化タングステン膜用としてシリコンとタング
ステンの合金ターゲット（Ｓｉ：Ｗ＝０．１：１）が設
置されている。
【００６０】まずターゲット表面をクリーニングするた
め、スパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内に導入
し、真空槽内の圧力が５×１０-3 Torr になるようにア
ルゴンガス流量や排気速度を調整した。次に、スパッタ
パワー５００Ｗで３分間、ターゲット表面をクリーニン
グした。更に、スパッタガスとして酸素ガスを導入し
た。このときアルゴンガスと酸素ガスとの流量比を３
０：４になるように調整し、かつ圧力を５×１０-3 Tor
r になるように調整した。真空槽内のガス濃度が均一に
なるのに必要な時間が経過した後、第１層としてスパッ
タパワー５００Ｗで、膜厚７０ｎｍの着色誘電体である
バナジウム含有酸化シリコン膜を成膜した。
め、スパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内に導入
し、真空槽内の圧力が５×１０-3 Torr になるようにア
ルゴンガス流量や排気速度を調整した。次に、スパッタ
パワー５００Ｗで３分間、ターゲット表面をクリーニン
グした。更に、スパッタガスとして酸素ガスを導入し
た。このときアルゴンガスと酸素ガスとの流量比を３
０：４になるように調整し、かつ圧力を５×１０-3 Tor
r になるように調整した。真空槽内のガス濃度が均一に
なるのに必要な時間が経過した後、第１層としてスパッ
タパワー５００Ｗで、膜厚７０ｎｍの着色誘電体である
バナジウム含有酸化シリコン膜を成膜した。
【００６１】次に、第２層として着色誘電体膜の成膜手
順と同様にして複合酸化タングステン膜（Ｏ／Ｗ比＝
２．９６）を５０ｎｍに成膜した。更に、第３層として
着色誘電体膜を第１層と同様にして５０ｎｍに成膜し
た。このようにして成膜された着色誘電体膜の屈折率は
１．６であり、複合酸化タングステン膜のそれは２．３
であった。複合酸化タングステン膜の膜抵抗は約７０Ｍ
Ω／□であった。この構成での光学的特性は可視光線透
過率７０％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線
透過率と視認性をもち日射透過率４５％で太陽光の熱線
を充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガ
ラスとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用す
ることができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信
することができた。さらに、自動車用窓ガラスとして使
用しても同様に携帯電話が支障なく使用することがで
き、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することが
できた。
順と同様にして複合酸化タングステン膜（Ｏ／Ｗ比＝
２．９６）を５０ｎｍに成膜した。更に、第３層として
着色誘電体膜を第１層と同様にして５０ｎｍに成膜し
た。このようにして成膜された着色誘電体膜の屈折率は
１．６であり、複合酸化タングステン膜のそれは２．３
であった。複合酸化タングステン膜の膜抵抗は約７０Ｍ
Ω／□であった。この構成での光学的特性は可視光線透
過率７０％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線
透過率と視認性をもち日射透過率４５％で太陽光の熱線
を充分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガ
ラスとして使用したところ、携帯電話が支障無く使用す
ることができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信
することができた。さらに、自動車用窓ガラスとして使
用しても同様に携帯電話が支障なく使用することがで
き、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することが
できた。
【００６２】実施例１６ 着色誘電体膜として実施例１５で用いたバナジウム含有
酸化シリコン膜に代えてタングステン含有酸化シリコン
膜を用いた場合について説明する。着色誘電体膜用のス
パッタターゲットとしてタングステンとシリコンの合金
ターゲット（Ｗ：Ｓｉ＝０．１：１）を使用した。実施
例１５と同様に第１層及び第３層として適用した場合に
ついて説明する。
酸化シリコン膜に代えてタングステン含有酸化シリコン
膜を用いた場合について説明する。着色誘電体膜用のス
パッタターゲットとしてタングステンとシリコンの合金
ターゲット（Ｗ：Ｓｉ＝０．１：１）を使用した。実施
例１５と同様に第１層及び第３層として適用した場合に
ついて説明する。
【００６３】成膜の手順は実施例１５と全く同様であ
り、第１層の着色誘電体膜として５０ｎｍ、第２層の複
合酸化タングステン膜として５０ｎｍ、第３層の着色誘
電体膜として５０ｎｍに成膜した。このようにして成膜
された着色誘電体膜の屈折率は１．５であり、複合酸化
タングステン膜のそれは２．３であった。
り、第１層の着色誘電体膜として５０ｎｍ、第２層の複
合酸化タングステン膜として５０ｎｍ、第３層の着色誘
電体膜として５０ｎｍに成膜した。このようにして成膜
された着色誘電体膜の屈折率は１．５であり、複合酸化
タングステン膜のそれは２．３であった。
【００６４】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７２％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち日射透過率４６％で太陽光の熱線を充
分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラス
として使用したところ、携帯電話が支障無く使用するこ
とができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信する
ことができた。さらに、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７２％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち日射透過率４６％で太陽光の熱線を充
分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラス
として使用したところ、携帯電話が支障無く使用するこ
とができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信する
ことができた。さらに、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００６５】実施例１７ 着色誘電体膜として実施例１５で用いたバナジウム含有
酸化シリコン膜に代えてバナジウム含有酸化アルミニウ
ム膜を用いた場合について説明する。ガラス基板、成膜
手順及び膜厚は実施例１５と全く同様であり、スパッタ
ターゲットとしてバナジウムとアルミニウムの合金ター
ゲット（Ｖ：Ａｌ＝０．１：１）を使用した。第１層の
着色誘電体膜として７０ｎｍ、複合酸化物膜として５０
ｎｍ、第３層の着色誘電体膜として５０ｎｍに積層し
た。着色誘電体膜の屈折率は１．７であった。
酸化シリコン膜に代えてバナジウム含有酸化アルミニウ
ム膜を用いた場合について説明する。ガラス基板、成膜
手順及び膜厚は実施例１５と全く同様であり、スパッタ
ターゲットとしてバナジウムとアルミニウムの合金ター
ゲット（Ｖ：Ａｌ＝０．１：１）を使用した。第１層の
着色誘電体膜として７０ｎｍ、複合酸化物膜として５０
ｎｍ、第３層の着色誘電体膜として５０ｎｍに積層し
た。着色誘電体膜の屈折率は１．７であった。
【００６６】この構成での光学的特性は可視光線透過率
７０％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち日射透過率４７％で太陽光の熱線を充
分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラス
として使用したところ、携帯電話が支障無く使用するこ
とができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信する
ことができた。さらに、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
７０％で窓ガラスとして要求される充分な可視光線透過
率と視認性をもち日射透過率４７％で太陽光の熱線を充
分に遮断していた。また、このガラスを建物用窓ガラス
として使用したところ、携帯電話が支障無く使用するこ
とができ、ラジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信する
ことができた。さらに、自動車用窓ガラスとして使用し
ても同様に携帯電話が支障なく使用することができ、ラ
ジオではＦＭやＡＭ電波を良好に受信することができ
た。
【００６７】実施例１〜１７の結果を表１〜表３に示
す。
す。
【００６８】
【表１】
【００６９】
【表２】
【００７０】
【表３】
【００７１】
【発明の効果】本発明の断熱膜によれば、透明な基板上
に基板側より第１層として第１の誘電体膜、第２層とし
て酸化タングステン膜又はＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ
族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた金
属元素を少なくとも１種含有する複合酸化タングステン
膜、第３層として第２の誘電体膜が形成されていること
を特徴とする熱線遮断ガラスにより、簡素な層構成で熱
線を効果的に遮断し、良好な電波透過性を有する窓ガラ
スが得られる。
に基板側より第１層として第１の誘電体膜、第２層とし
て酸化タングステン膜又はＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ
族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた金
属元素を少なくとも１種含有する複合酸化タングステン
膜、第３層として第２の誘電体膜が形成されていること
を特徴とする熱線遮断ガラスにより、簡素な層構成で熱
線を効果的に遮断し、良好な電波透過性を有する窓ガラ
スが得られる。
【図１】本発明の熱線遮断ガラスの構成を示す断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明の熱線遮断ガラスの分光特性を示すグラ
フである。
フである。
１ 透明なガラス基板 ２ 第１の誘電体膜 ３ 酸化タングステン膜及び複合酸化タングステン膜 ４ 第２の誘電体膜
Claims (18)
- 【請求項１】 透明なガラス基板上に、基板側より第１
層として第１の誘電体膜を設け、該第１層上に第２層と
して酸化タングステン膜を設け、該第２層上に第３層と
して第２の誘電体膜を設けてなることを特徴とする熱線
遮断ガラス。 - 【請求項２】 透明なガラス基板上に、基板側より第１
層として第１の誘電体膜を設け、該第１層上に第２層と
して周期律表のＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ族、ＶＩｂ
族及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた少なくとも１
種の金属元素を含有する複合酸化タングステン膜を設
け、該第２層上に第３層として第２の誘電体膜を設けて
なることを特徴とする熱線遮断ガラス。 - 【請求項３】 第１及び第２の誘電体膜としてシリコ
ン、チタン、アルミニウム、錫、ジルコニウム、タンタ
ル、クロム、ステンレス、ニクロム及びニオブから成る
群から選ばれた少なくとも１種の酸化物、又はそれらの
複合酸化物を使用したことを特徴とする請求項１又は２
記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項４】 第２層としてＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖ
ｂ族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた
少なくとも１種の金属元素を３〜１５原子％含有する複
合酸化タングステン膜を用いることを特徴とする請求項
２記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項５】 第２層の酸化タングステン膜又は複合酸
化タングステン膜中のタングステン酸化物の酸素／タン
グステン比が２．６０〜２．９８の範囲であることを特
徴とする請求項１、２又は３記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項６】 第２層の複合酸化タングステン膜のシー
ト抵抗値が５００ＫΩ／□〜２００ＭΩ／□の範囲であ
ることを特徴とする請求項２記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項７】 第１層及び第３層の誘電体膜の屈折率が
同一であり、かつ第２層の複合タングステン膜の屈折率
よりも低いことを特徴とする請求項２記載の熱線遮断ガ
ラス。 - 【請求項８】 第１層及び第３層の誘電体膜の屈折率が
異なり、かつ第２層の複合タングステン膜の屈折率より
も低いことを特徴とする請求項２記載の熱線遮断ガラ
ス。 - 【請求項９】 第１層及び第３層の誘電体膜がシリコ
ン、アルミニウム及び錫から成る群から選ばれた少なく
とも１種の元素を含有する酸化物膜、又は複合酸化物膜
であり、かつ屈折率が１．４〜１．９の範囲であること
を特徴とする請求項７又は８記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項１０】 第２層の複合酸化タングステン膜の屈
折率が１．９〜２．８の範囲であることを特徴とする請
求項７、８又は９記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項１１】 第１層及び第３層の誘電体膜の屈折率
が同一であり、かつ第２層の複合タングステン膜の屈折
率よりも高いことを特徴とする請求項２記載の熱線遮断
ガラス。 - 【請求項１２】 第１層及び第３層の誘電体膜の屈折率
が異なり、かつ第２層の複合タングステン膜の屈折率よ
りも高いことを特徴とする請求項２記載の熱線遮断ガラ
ス。 - 【請求項１３】 第１層及び第３層の誘電体膜がチタ
ン、タンタル及びニオブから成る群から選ばれた少なく
とも１種の元素を含有する酸化物膜又は複合酸化物膜で
あり、かつ屈折率が２．３〜２．８の範囲であることを
特徴とする請求項１１又は１２記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項１４】 第２層の複合酸化タングステン膜の屈
折率が１．９〜２．２の範囲であることを特徴とする請
求項１１又は１２記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項１５】 透明なガラス基板上に、第１層として
着色した誘電体膜を設け、該第１層上に第２層としてタ
ングステンと周期律表のＩＩＩａ族、ＩＶａ族、Ｖｂ
族、ＶＩｂ族及びＶＩＩｂ族から成る群から選ばれた少
なくとも１種の元素からなる複合酸化物膜を設け、該第
２層上に第３層として着色した誘電体膜を設けてなるこ
とを特徴とする熱線遮断ガラス。 - 【請求項１６】 着色した誘電体膜として、バナジウム
及びタングステンから成る群から選ばれた少なくとも１
種の元素を含む、シリコン、アルミニウム及びチタンか
ら選ばれた少なくとも１種の酸化物を使用したことを特
徴とする請求項１５記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項１７】 透明なガラス基板が色度図上でＹ値が
１．０〜１．４の範囲、ｘ値が０．２４〜０．３２の範
囲、ｙ値が０．３０〜０．４１の範囲の色合いを有する
ガラス基板であることを特徴とする請求項１、２又は１
５記載の熱線遮断ガラス。 - 【請求項１８】 スパッタ法で作成したことを特徴とす
る請求項１〜１７記載の熱線遮断ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14927494A JPH0812378A (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 熱線遮断ガラス及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14927494A JPH0812378A (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 熱線遮断ガラス及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0812378A true JPH0812378A (ja) | 1996-01-16 |
Family
ID=15471639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14927494A Pending JPH0812378A (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 熱線遮断ガラス及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0812378A (ja) |
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2364068A (en) * | 1998-12-21 | 2002-01-16 | Cardinal Ig Co | Glass with water-sheeting coating of silica |
| WO2006025470A1 (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-09 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 導電性粒子、可視光透過型粒子分散導電体およびその製造方法、透明導電薄膜およびその製造方法、これを用いた透明導電物品、赤外線遮蔽物品 |
| JP2006154516A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター、及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル |
| US7294404B2 (en) | 2003-12-22 | 2007-11-13 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
| JP2009001482A (ja) * | 1996-09-13 | 2009-01-08 | Pilkington Group Ltd | 改良被覆ガラス |
| US7604865B2 (en) | 2004-07-12 | 2009-10-20 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| WO2010055570A1 (ja) | 2008-11-13 | 2010-05-20 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線遮蔽微粒子及びその製造方法、並びにそれを用いた赤外線遮蔽微粒子分散体、赤外線遮蔽基材 |
| US8083847B2 (en) | 2003-10-20 | 2011-12-27 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Fine particle dispersion of infrared-shielding material, infrared-shielding body, and production method of fine particles of infrared-shielding material and fine particles of infrared-shielding material |
| JP2012072402A (ja) * | 2011-09-26 | 2012-04-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子 |
| WO2014010684A1 (ja) | 2012-07-11 | 2014-01-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽分散体の製造方法および熱線遮蔽分散体並びに熱線遮蔽体 |
| US9738967B2 (en) | 2006-07-12 | 2017-08-22 | Cardinal Cg Company | Sputtering apparatus including target mounting and control |
| CN107651860A (zh) * | 2016-07-25 | 2018-02-02 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 具有红外阻隔功能的氧化钨薄膜及其制备方法 |
| KR20180121990A (ko) | 2016-03-16 | 2018-11-09 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 근적외선 차폐 재료 미립자와 이의 제조 방법 및 근적외선 차폐 재료 미립자 분산액 |
| KR20180122414A (ko) | 2016-03-16 | 2018-11-12 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 근적외선 차폐 재료 미립자 분산체, 근적외선 차폐체 및 근적외선 차폐용 적층 구조체 및 이들의 제조방법 |
| WO2019031242A1 (ja) | 2017-08-09 | 2019-02-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 電磁波吸収粒子分散体、電磁波吸収合わせ透明基材 |
| WO2019058737A1 (ja) | 2017-09-22 | 2019-03-28 | 住友金属鉱山株式会社 | セシウムタングステン酸化物膜とその製造方法 |
| WO2019093524A1 (ja) | 2017-11-13 | 2019-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面処理赤外線吸収微粒子、表面処理赤外線吸収微粒子粉末、当該表面処理赤外線吸収微粒子を用いた赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収微粒子分散体およびそれらの製造方法 |
| WO2019098144A1 (ja) | 2017-11-14 | 2019-05-23 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線吸収体 |
| WO2019216134A1 (ja) | 2018-05-09 | 2019-11-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 複合タングステン酸化物膜及びその製造方法、並びに該膜を有する膜形成基材及び物品 |
| WO2019216152A1 (ja) | 2018-05-11 | 2019-11-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面処理赤外線吸収微粒子分散液および赤外線吸収透明基材 |
| WO2019244650A1 (ja) | 2018-06-20 | 2019-12-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 複合タングステン酸化物膜及びその製造方法、並びに該膜を有する膜形成基材及び物品 |
| US10604442B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-03-31 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
| WO2020066426A1 (ja) | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線吸収材料微粒子分散液とその製造方法 |
| WO2020153035A1 (ja) | 2019-01-21 | 2020-07-30 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面処理赤外線吸収微粒子、表面処理赤外線吸収微粒子粉末、当該表面処理赤外線吸収微粒子を用いた赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収微粒子分散体、および、赤外線吸収基材 |
| KR20210020043A (ko) | 2018-06-20 | 2021-02-23 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 복합 텅스텐 산화물막 및 그 제조 방법, 및 그 막을 갖는 막형성 기재 및 물품 |
| US11105959B2 (en) | 2004-08-31 | 2021-08-31 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Electroconductive particle, visible light transmitting particle-dispersed electrical conductor and manufacturing method thereof, transparent electroconductive thin film and manufacturing method thereof, transparent electroconductive article that uses the same, and infrared-shielding article |
| WO2022209712A1 (ja) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線吸収粒子、赤外線吸収粒子分散液、赤外線吸収粒子分散体、赤外線吸収合わせ透明基材、赤外線吸収透明基材 |
| FR3130792A1 (fr) | 2021-12-22 | 2023-06-23 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces |
| FR3132096A1 (fr) | 2022-01-27 | 2023-07-28 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2023144223A1 (fr) * | 2022-01-27 | 2023-08-03 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2023209051A1 (fr) | 2022-04-28 | 2023-11-02 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage feuilleté pour affichage tête haute |
| FR3148023A1 (fr) | 2023-04-24 | 2024-10-25 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces |
| US12134819B2 (en) | 2017-09-22 | 2024-11-05 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Cesium tungsten oxide film and method for manufacturing same |
-
1994
- 1994-06-30 JP JP14927494A patent/JPH0812378A/ja active Pending
Cited By (66)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009001482A (ja) * | 1996-09-13 | 2009-01-08 | Pilkington Group Ltd | 改良被覆ガラス |
| GB2364068B (en) * | 1998-12-21 | 2003-01-29 | Cardinal Ig Co | Soil-resistant coating for glass surfaces |
| GB2364068A (en) * | 1998-12-21 | 2002-01-16 | Cardinal Ig Co | Glass with water-sheeting coating of silica |
| US8083847B2 (en) | 2003-10-20 | 2011-12-27 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Fine particle dispersion of infrared-shielding material, infrared-shielding body, and production method of fine particles of infrared-shielding material and fine particles of infrared-shielding material |
| US7294404B2 (en) | 2003-12-22 | 2007-11-13 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
| USRE44155E1 (en) | 2004-07-12 | 2013-04-16 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| USRE43817E1 (en) | 2004-07-12 | 2012-11-20 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| US7604865B2 (en) | 2004-07-12 | 2009-10-20 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| US11105959B2 (en) | 2004-08-31 | 2021-08-31 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Electroconductive particle, visible light transmitting particle-dispersed electrical conductor and manufacturing method thereof, transparent electroconductive thin film and manufacturing method thereof, transparent electroconductive article that uses the same, and infrared-shielding article |
| US8980135B2 (en) | 2004-08-31 | 2015-03-17 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Electroconductive particle, visible light transmitting particle-dispersed electrical conductor and manufacturing method thereof, transparent electroconductive thin film and manufacturing method thereof, transparent electroconductive article that uses the same, and infrared-shielding article |
| WO2006025470A1 (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-09 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 導電性粒子、可視光透過型粒子分散導電体およびその製造方法、透明導電薄膜およびその製造方法、これを用いた透明導電物品、赤外線遮蔽物品 |
| JP2006154516A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター、及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル |
| US9738967B2 (en) | 2006-07-12 | 2017-08-22 | Cardinal Cg Company | Sputtering apparatus including target mounting and control |
| US8470212B2 (en) | 2008-11-13 | 2013-06-25 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Infrared shielding nanoparticle, its manufacturing method, infrared shielding nanoparticle dispersion using the same, and infrared shielding base material |
| WO2010055570A1 (ja) | 2008-11-13 | 2010-05-20 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線遮蔽微粒子及びその製造方法、並びにそれを用いた赤外線遮蔽微粒子分散体、赤外線遮蔽基材 |
| JP2012072402A (ja) * | 2011-09-26 | 2012-04-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子 |
| WO2014010684A1 (ja) | 2012-07-11 | 2014-01-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽分散体の製造方法および熱線遮蔽分散体並びに熱線遮蔽体 |
| US10450471B2 (en) | 2012-07-11 | 2019-10-22 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Method for producing heat-ray shielding dispersion body, heat-ray shielding dispersion body, and heat-ray shielding body |
| US10533100B2 (en) | 2016-03-16 | 2020-01-14 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Near-infrared shielding material fine particles and method for producing the same, and near-infrared shielding material fine particle dispersion liquid |
| KR20180121990A (ko) | 2016-03-16 | 2018-11-09 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 근적외선 차폐 재료 미립자와 이의 제조 방법 및 근적외선 차폐 재료 미립자 분산액 |
| KR20180122414A (ko) | 2016-03-16 | 2018-11-12 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 근적외선 차폐 재료 미립자 분산체, 근적외선 차폐체 및 근적외선 차폐용 적층 구조체 및 이들의 제조방법 |
| US10562786B2 (en) | 2016-03-16 | 2020-02-18 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Near-infrared shielding material fine particle dispersion body, near-infrared shielding body and near-infrared shielding laminated structure, and method for producing the same |
| CN107651860A (zh) * | 2016-07-25 | 2018-02-02 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 具有红外阻隔功能的氧化钨薄膜及其制备方法 |
| US11325859B2 (en) | 2016-11-17 | 2022-05-10 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
| US10604442B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-03-31 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
| KR20200039672A (ko) | 2017-08-09 | 2020-04-16 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 전자파 흡수 입자, 전자파 흡수 입자 분산액 및 전자파 흡수 입자 제조방법 |
| WO2019031242A1 (ja) | 2017-08-09 | 2019-02-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 電磁波吸収粒子分散体、電磁波吸収合わせ透明基材 |
| US11533832B2 (en) | 2017-08-09 | 2022-12-20 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Electromagnetic wave absorbing particle dispersoid and electromagnetic wave absorbing laminated transparent base material |
| US11369048B2 (en) | 2017-08-09 | 2022-06-21 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Electromagnetic-wave-absorbing particles, electromagnetic-wave-absorbing particle dispersion liquids, and manufacturing methods of electromagnetic-wave-absorbing particles |
| WO2019031243A1 (ja) | 2017-08-09 | 2019-02-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 電磁波吸収粒子、電磁波吸収粒子分散液、電磁波吸収粒子の製造方法 |
| KR20200038461A (ko) | 2017-08-09 | 2020-04-13 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 전자파 흡수 입자 분산체 및 전자파 흡수 투명 적층 기재 |
| WO2019058737A1 (ja) | 2017-09-22 | 2019-03-28 | 住友金属鉱山株式会社 | セシウムタングステン酸化物膜とその製造方法 |
| US12134819B2 (en) | 2017-09-22 | 2024-11-05 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Cesium tungsten oxide film and method for manufacturing same |
| WO2019093524A1 (ja) | 2017-11-13 | 2019-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面処理赤外線吸収微粒子、表面処理赤外線吸収微粒子粉末、当該表面処理赤外線吸収微粒子を用いた赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収微粒子分散体およびそれらの製造方法 |
| KR20200084323A (ko) | 2017-11-13 | 2020-07-10 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 표면 처리 적외선 흡수 미립자, 표면 처리 적외선 흡수 미립자 분말, 당해 표면 처리 적외선 흡수 미립자를 사용한 적외선 흡수 미립자 분산액, 적외선 흡수 미립자 분산체 및 그들의 제조 방법 |
| US11208563B2 (en) | 2017-11-13 | 2021-12-28 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Surface-treated infrared absorbing fine particles, surface-treated infrared absorbing fine powder, infrared absorbing fine particle dispersion liquid using the surface-treated infrared absorbing fine particles, infrared absorbing fine particle dispersion body and method for producing them |
| WO2019098144A1 (ja) | 2017-11-14 | 2019-05-23 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線吸収体 |
| KR20200086672A (ko) | 2017-11-14 | 2020-07-17 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 적외선 흡수체 |
| US12018359B2 (en) | 2018-05-09 | 2024-06-25 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Composite tungsten oxide film and method for producing same, and film-deposited base material and article each provided with said film |
| KR20210006910A (ko) | 2018-05-09 | 2021-01-19 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 복합 텅스텐 산화물 막 및 그의 제조 방법, 및 상기 막을 갖는 막 형성 기재 및 물품 |
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| WO2019216152A1 (ja) | 2018-05-11 | 2019-11-14 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面処理赤外線吸収微粒子分散液および赤外線吸収透明基材 |
| US11987520B2 (en) | 2018-05-11 | 2024-05-21 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Surface-treated infrared absorbing fine particle dispersion liquid and infrared absorbing transparent substrate |
| KR20210007943A (ko) | 2018-05-11 | 2021-01-20 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 표면 처리 적외선 흡수 미립자 분산액 및 적외선 흡수 투명 기재 |
| KR20210020043A (ko) | 2018-06-20 | 2021-02-23 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 복합 텅스텐 산화물막 및 그 제조 방법, 및 그 막을 갖는 막형성 기재 및 물품 |
| WO2019244650A1 (ja) | 2018-06-20 | 2019-12-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 複合タングステン酸化物膜及びその製造方法、並びに該膜を有する膜形成基材及び物品 |
| US12006566B2 (en) | 2018-06-20 | 2024-06-11 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Composite tungsten oxide film and method for producing same, and film-deposited base material and article each provided with said film |
| KR20210060604A (ko) | 2018-09-27 | 2021-05-26 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 적외선 흡수 재료 미립자 분산액과 그의 제조 방법 |
| WO2020066426A1 (ja) | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線吸収材料微粒子分散液とその製造方法 |
| US12351476B2 (en) | 2018-09-27 | 2025-07-08 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Infrared absorbing material fine particle dispersion liquid and method for production thereof |
| KR20210116428A (ko) | 2019-01-21 | 2021-09-27 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 표면 처리 적외선 흡수 미립자, 표면 처리 적외선 흡수 미립자 분말, 당해 표면 처리 적외선 흡수 미립자를 사용한 적외선 흡수 미립자 분산액, 적외선 흡수 미립자 분산체, 및 적외선 흡수 기재 |
| WO2020153035A1 (ja) | 2019-01-21 | 2020-07-30 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面処理赤外線吸収微粒子、表面処理赤外線吸収微粒子粉末、当該表面処理赤外線吸収微粒子を用いた赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収微粒子分散体、および、赤外線吸収基材 |
| WO2022209712A1 (ja) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線吸収粒子、赤外線吸収粒子分散液、赤外線吸収粒子分散体、赤外線吸収合わせ透明基材、赤外線吸収透明基材 |
| KR20230131276A (ko) | 2021-03-31 | 2023-09-12 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 적외선 흡수 입자, 적외선 흡수 입자 분산액, 적외선흡수 입자 분산체, 적외선 흡수 접합 투명 기재, 적외선 흡수 투명 기재 |
| FR3130792A1 (fr) | 2021-12-22 | 2023-06-23 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2023117725A1 (fr) | 2021-12-22 | 2023-06-29 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2023144223A1 (fr) * | 2022-01-27 | 2023-08-03 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2023143884A1 (fr) | 2022-01-27 | 2023-08-03 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces |
| FR3132095A1 (fr) * | 2022-01-27 | 2023-07-28 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces |
| FR3132096A1 (fr) | 2022-01-27 | 2023-07-28 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2023144221A1 (fr) * | 2022-01-27 | 2023-08-03 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2023144222A1 (fr) | 2022-01-27 | 2023-08-03 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2023209051A1 (fr) | 2022-04-28 | 2023-11-02 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage feuilleté pour affichage tête haute |
| FR3135082A1 (fr) | 2022-04-28 | 2023-11-03 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage feuilleté pour affichage tête haute |
| FR3148023A1 (fr) | 2023-04-24 | 2024-10-25 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d’un empilement fonctionnel de couches minces |
| WO2024223577A1 (fr) | 2023-04-24 | 2024-10-31 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d'un empilement fonctionnel de couches minces |
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