JPH08106051A - Vertical illuminating device for microscope - Google Patents
Vertical illuminating device for microscopeInfo
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 41
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 45
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001361 White metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000010969 white metal Substances 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は顕微鏡の落射照明装置に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epi-illumination device for a microscope.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、例えば、回路パターンが形成され
たシリコンウェーハの表面を落射照明で顕微鏡観察する
とき、視野中心その他所定の個所を示したり、あるいは
寸法測定を行ったりするために、レチクル、スケール、
指標等のパターンを設けた透明基板を接眼レンズ鏡筒内
や中間像面に配置し、標本の像にパターンの像を重畳さ
せて観察することが行われていた。2. Description of the Related Art Conventionally, for example, when observing the surface of a silicon wafer on which a circuit pattern is formed with a microscope with epi-illumination, a reticle is used to indicate the center of the visual field and other predetermined points, or to perform dimension measurement. scale,
It has been performed that a transparent substrate provided with a pattern such as an index is placed in the eyepiece lens barrel or on the intermediate image plane, and the image of the pattern is superimposed on the image of the specimen for observation.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、接眼レンズと
して広角接眼レンズを使用する場合には、パターンが形
成された透明基板を接眼レンズ鏡筒の中に組み込むこと
自体が困難であった。また、顕微鏡によっては中間像面
の位置にパターンが形成された透明基板を設けることが
困難であった。However, when a wide-angle eyepiece is used as the eyepiece, it is difficult to incorporate the patterned transparent substrate into the eyepiece lens barrel. Further, depending on the microscope, it is difficult to provide a transparent substrate having a pattern formed at the position of the intermediate image plane.
【0004】本発明は上記の問題に鑑み、標本の像にレ
チクルや指標、スケール等のパターンを容易に重畳させ
ることができる顕微鏡の落射照明装置を提供することを
目的とする。In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide an epi-illumination device for a microscope which can easily superimpose a pattern such as a reticle, an index or a scale on an image of a sample.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、光源13から
の照明光を標本10に照射するための落射照明光学系5
を具備する顕微鏡1の落射照明装置において、前記落射
照明光学系5の前記標本10に対して共役の位置に、所
定パターン25が形成された透明基板17を配置し、前
記パターン25を前記標本10に投影することを特徴と
するものである。According to the present invention, an epi-illumination optical system 5 for irradiating a specimen 10 with illumination light from a light source 13 is provided.
In the epi-illumination device of the microscope 1 including the above, the transparent substrate 17 on which the predetermined pattern 25 is formed is arranged at a position conjugate with the sample 10 of the epi-illumination optical system 5, and the pattern 25 is set to the sample 10. It is characterized by projecting on.
【0006】本発明は、前記照明光と異なる色の照射光
を発光する第2の光源27をさらに具備することが好ま
しい。The present invention preferably further comprises a second light source 27 which emits irradiation light of a color different from the illumination light.
【0007】[0007]
【作用】本発明では、落射照明光学系の標本に対して共
役の位置にレチクルや指標、スケール等のパターンが形
成された透明基板を配置するので、レチクルや指標、ス
ケール等のパターンを容易に重畳させることができる。In the present invention, since the transparent substrate on which the pattern of the reticle, the index, the scale, etc. is formed is arranged at the conjugate position with respect to the sample of the epi-illumination optical system, the pattern of the reticle, the index, the scale, etc. can be easily formed. It can be superimposed.
【0008】[0008]
【実施例】本発明の実施例1を図1及び図2により説明
する。図1は実施例1の側面図で、併せて光学配置図を
示したものである。顕微鏡1の架台2に植立された支柱
3の上部には水平方向に延在する腕部4が設けられてい
る。腕部4の内部には水平方向に配置された落射照明光
学系5と、落射照明光学系5に対してハーフミラー6を
介して直交し、上下方向に配置された観察光学系7とが
設けられている。対物レンズ8はレボルバ9を介して腕
部4に支持され、標本10は支柱3から水平に延在する
支持部材11の上を水平に移動可能な載物台12に載置
されている。Embodiment 1 Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a side view of the first embodiment and also shows an optical layout. An arm portion 4 extending in a horizontal direction is provided on an upper portion of a column 3 that is set up on a pedestal 2 of the microscope 1. Inside the arm portion 4, there are provided an epi-illumination optical system 5 arranged in the horizontal direction, and an observation optical system 7 orthogonal to the epi-illumination optical system 5 via a half mirror 6 and arranged vertically. Has been. The objective lens 8 is supported by the arm 4 via a revolver 9, and the sample 10 is placed on a stage 12 that is horizontally movable on a support member 11 that extends horizontally from the column 3.
【0009】落射照明光学系5は、光源13からの照明
光を集光する集光レンズ14、開口絞り15、リレーレ
ンズ16、透明基板17、視野レンズ18及びハーフミ
ラー6を含み、透明基板17は標本10の表面の物体面
と共役の位置に、落射照明光学系5の光軸に対して垂
直、且つ交換可能に配置されている。The epi-illumination optical system 5 includes a condenser lens 14 for converging illumination light from a light source 13, an aperture stop 15, a relay lens 16, a transparent substrate 17, a field lens 18 and a half mirror 6, and a transparent substrate 17 Is arranged at a position conjugate with the object plane on the surface of the sample 10 so as to be perpendicular to the optical axis of the epi-illumination optical system 5 and exchangeable.
【0010】観察光学系7は対物レンズ8、結像レンズ
21を含み、結像面22にCCD23が設けられてい
る。CCD23により取り込まれた物体面の画像はモニ
タテレビ(不図示)において観察することができる。な
おCCD23の代わりに接眼レンズを設け肉眼で観察す
るようにしても良い。The observation optical system 7 includes an objective lens 8 and an imaging lens 21, and a CCD 23 is provided on the imaging surface 22. The image of the object plane captured by the CCD 23 can be observed on a monitor television (not shown). Instead of the CCD 23, an eyepiece lens may be provided to allow observation with the naked eye.
【0011】次に透明基板17について図2(a)、
(b)により説明する。図2(a)は透明基板17の平
面図であり、図2(b)は図2(a)のA−A矢視図で
ある。円形の透明基板17の表面に、レチクルのパター
ン25がクロム又は酸化クロムの真空蒸着により形成さ
れている。クロム又は酸化クロムの真空蒸着膜は遮光性
を有し、光源13からの照明光の一部はパターン25に
より遮断される。透明基板17の配置される位置は、本
来視野絞りが配置される位置であるから、視野絞りとし
て透明基板17の周縁に真空蒸着膜で遮光部31を形成
している。Next, the transparent substrate 17 is shown in FIG.
This will be described with reference to (b). 2A is a plan view of the transparent substrate 17, and FIG. 2B is a view taken along the line AA of FIG. 2A. A reticle pattern 25 is formed on the surface of a circular transparent substrate 17 by vacuum vapor deposition of chromium or chromium oxide. The vacuum deposition film of chromium or chromium oxide has a light-shielding property, and part of the illumination light from the light source 13 is blocked by the pattern 25. Since the position where the transparent substrate 17 is arranged is the position where the field diaphragm is originally arranged, the light shielding portion 31 is formed by a vacuum deposition film on the periphery of the transparent substrate 17 as the field diaphragm.
【0012】標本を観察するときは、光源13を点灯
し、照明光で透明基板17及び対物レンズ8を介して標
本10を照明する。標本10からの光は対物レンズ8を
介しCCD23に入射し、取り込まれた画像はモニタテ
レビ(不図示)で観察される。When observing the sample, the light source 13 is turned on and the sample 10 is illuminated with illumination light through the transparent substrate 17 and the objective lens 8. The light from the sample 10 enters the CCD 23 through the objective lens 8 and the captured image is observed on a monitor television (not shown).
【0013】光源13からの照明光の大部分は、透明基
板17をパターン25以外の部分で透過して標本10の
表面を照明する。照明光の一部は、パターン25により
遮断され、標本10の表面に到達しない。透明基板17
は標本10の表面の物体面と共役の位置に配置されてい
るから、パターン25は暗線として標本10の表面に投
影される。従って投影されたパターンを標本の像に重畳
して観察することができる。Most of the illumination light from the light source 13 is transmitted through the transparent substrate 17 at a portion other than the pattern 25 and illuminates the surface of the sample 10. Part of the illumination light is blocked by the pattern 25 and does not reach the surface of the sample 10. Transparent substrate 17
Is arranged at a position conjugate with the object plane on the surface of the sample 10, so the pattern 25 is projected as a dark line on the surface of the sample 10. Therefore, the projected pattern can be observed by superimposing it on the image of the sample.
【0014】本実施例の他の態様として、例えば光源1
3からの照明光が白色光であり、標本が白色金属である
場合、無色の透明基板17上にパターン25が赤色の透
明膜で形成されていると、標本10の表面は、パターン
以外の部分が白色光で照明され、パターン25が明線の
赤色のパターンとして標本10の表面に投影される。本
態様によれば、パターンは色の違いにより明確に認識す
ることができる。As another mode of this embodiment, for example, the light source 1
When the illumination light from 3 is white light and the sample is white metal, if the pattern 25 is formed of a red transparent film on the colorless transparent substrate 17, the surface of the sample 10 is a portion other than the pattern. Is illuminated with white light, and the pattern 25 is projected as a bright red pattern on the surface of the sample 10. According to this aspect, the pattern can be clearly recognized by the difference in color.
【0015】次に実施例2について図3及び図4により
説明する。上述の実施例1と同一又は類似の部材につい
ては同一符号を付し、詳細説明は省略する。落射照明光
学系5には、透明基板26が標本10の表面の物体面と
共役の位置に交換可能に配置されている。Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4. The same or similar members as in the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In the epi-illumination optical system 5, a transparent substrate 26 is replaceably arranged at a position conjugate with the object plane on the surface of the sample 10.
【0016】光源27は透明基板26と視野レンズ18
と間の、光軸から離れた位置に照明光の光路を妨げない
ように設けられており、光源27が発する照射光は透明
基板26を視野レンズ18側から斜めに照射する。照射
光の色は光源13からの照明光の色と異なり、両者は明
確に判別可能である。光源27からファイバで透明基板
26まで照射光を導いても良い。The light source 27 includes a transparent substrate 26 and a field lens 18.
Is provided at a position apart from the optical axis so as not to obstruct the optical path of the illumination light, and the irradiation light emitted by the light source 27 obliquely irradiates the transparent substrate 26 from the field lens 18 side. The color of the irradiation light is different from the color of the illumination light from the light source 13, and both can be clearly discriminated. Irradiation light may be guided from the light source 27 to the transparent substrate 26 by a fiber.
【0017】次に透明基板26について図4(a)、
(b)により説明する。図4(a)は透明基板26の平
面図であり、図4(b)は図4(a)のA−A矢視図で
ある。円形の透明基板26に刻設された溝26aに白色
塗料が充填されて、パターン30が形成されている。白
色塗料は透明なビヒクルとその内に分散した微細で不透
明な白色顔料からなる。また、実施例1と同様に透明基
板26の周縁には、視野絞りとして遮光部32が形成さ
れている。Next, regarding the transparent substrate 26, as shown in FIG.
This will be described with reference to (b). 4A is a plan view of the transparent substrate 26, and FIG. 4B is a view taken along the line AA of FIG. 4A. A groove 26a formed in a circular transparent substrate 26 is filled with white paint to form a pattern 30. The white paint consists of a transparent vehicle and a fine, opaque white pigment dispersed therein. Further, as in the first embodiment, a light shielding portion 32 is formed as a field stop on the periphery of the transparent substrate 26.
【0018】標本を観察する際は、光源13及び光源2
7を点灯する。光源13からの照明光の大部分は、透明
基板26をパターン30以外の部分で透過して標本10
の表面を照射する。照明光の一部は、パターン30にお
いて散乱する。照明光は光源13の方向から透明基板2
6に入射するから、その散乱光は殆ど視野レンズ18方
向に射出せず、標本10に向わない。従って照明光によ
り投影されたパターンは暗線である。一方、光源27か
らの照射光は、視野レンズ18側から斜めに透明基板2
6に入射してパターン30を照射し、パターン30で散
乱する。散乱した照射光の大部分は透明基板26から視
野レンズ18方向に射出して、標本10の表面に向か
う。従って照射光により投影されたパターンは明線であ
る。When observing the sample, the light source 13 and the light source 2
7 is turned on. Most of the illumination light from the light source 13 is transmitted through the transparent substrate 26 at a portion other than the pattern 30 and the sample 10
Illuminate the surface of. Part of the illumination light is scattered in the pattern 30. The illumination light is transmitted from the direction of the light source 13 to the transparent substrate 2
Since the light is incident on the sample 6, the scattered light hardly exits in the direction of the field lens 18 and does not face the sample 10. Therefore, the pattern projected by the illumination light is a dark line. On the other hand, the irradiation light from the light source 27 is obliquely transmitted from the field lens 18 side to the transparent substrate 2
The light is incident on the pattern 6 to irradiate the pattern 30, and the pattern 30 scatters. Most of the scattered irradiation light is emitted from the transparent substrate 26 in the direction of the field lens 18 toward the surface of the sample 10. Therefore, the pattern projected by the irradiation light is a bright line.
【0019】このようにして、標本10の表面のパター
ン30が投影された部分以外の部分は照明光により照明
され、パターン30は照射光により明線として投影され
る。照明光と照射光とは色が異なるから投影されたパタ
ーンは明瞭に認識することがでる。In this way, the portion of the surface of the sample 10 other than the portion on which the pattern 30 is projected is illuminated by the illumination light, and the pattern 30 is projected as a bright line by the irradiation light. Since the illumination light and the irradiation light have different colors, the projected pattern can be clearly recognized.
【0020】尚、両実施例に示したパターン以外の数字
又は文字等のパターンを必要に応じ透明基板に設けて良
い。Patterns such as numbers or letters other than the patterns shown in both embodiments may be provided on the transparent substrate as needed.
【0021】尚、標本の情況によっては、斜め照明系又
はリング照明系等を別に設けて主な照明を透明照明系に
より行い、落射照明系ではパターンの投影を主に行うよ
うにしても良い。生物標本のような透明、あるいは半透
明の標本の観察に際しては、透明照明系を別に設けて主
な照明を透明照明系により行い、落射照明系では暗視野
又は輝線でのパターンの投影を主に行うようにしても良
い。Depending on the condition of the sample, an oblique illumination system, a ring illumination system, or the like may be separately provided to perform the main illumination by the transparent illumination system, and the epi-illumination system may mainly project the pattern. When observing a transparent or semi-transparent specimen such as a biological specimen, a transparent illumination system is separately provided and the main illumination is performed by the transparent illumination system. You may do it.
【0022】[0022]
【発明の効果】本発明によれば、レチクルや指標、スケ
ール等のパターンが形成された透明基板を、透明基板を
照明するための落射照明光学系の物体面と共役な位置に
配置するので、標本の像にパターンの像を容易に重畳さ
せて観察することができる。According to the present invention, the transparent substrate on which the pattern of the reticle, the index, the scale, etc. is formed is arranged at a position conjugate with the object plane of the epi-illumination optical system for illuminating the transparent substrate. The image of the pattern can be easily superimposed on the image of the sample for observation.
【図1】本発明の実施例1の側面図。FIG. 1 is a side view of a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施例1にかかる透明基板の平面図及
び断面図。FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view of a transparent substrate according to the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施例2の側面図。FIG. 3 is a side view of the second embodiment of the present invention.
【図4】本発明の実施例2にかかる透明基板の平面図及
び断面図。FIG. 4 is a plan view and a sectional view of a transparent substrate according to a second embodiment of the present invention.
1・・・・・顕微鏡 5・・・・・落射照明光学系 6・・・・・ハーフミラー 7・・・・・観察光学系 8・・・・・対物レンズ 10・・・・・標本 13・・・・・光源 14・・・・・集光レンズ 15・・・・・開口絞り 16・・・・・リレーレンズ 17、26・・・・・透明基板 18・・・・・視野レンズ 23・・・・・CCD 25、30・・・・・パターン 27・・・・・光源 1 Microscope 5 Epi-illumination optical system 6 Half mirror 7 Observation optical system 8 Objective lens 10 Sample 13・ ・ ・ ・ ・ Light source 14 ・ ・ ・ Condenser lens 15 ・ ・ ・ ・ ・ Aperture stop 16 ・ ・ ・ ・ ・ Relay lens 17, 26 ・ ・ ・ Transparent substrate 18 ・ ・ ・ ・ ・ Field lens 23 ... CCD 25, 30 ... pattern 27 ... light source
Claims (2)
落射照明光学系を具備する顕微鏡の落射照明装置におい
て、 前記落射照明光学系の前記標本に対して共役の位置に、
所定パターンが形成された透明基板を配置し、前記パタ
ーンを前記標本に投影することを特徴とする顕微鏡の落
射照明装置。1. An epi-illumination device of a microscope comprising an epi-illumination optical system for irradiating a specimen with illumination light from a light source, wherein the epi-illumination optical system is provided at a position conjugate with the sample.
An epi-illumination device for a microscope, wherein a transparent substrate on which a predetermined pattern is formed is arranged and the pattern is projected onto the sample.
第2の光源をさらに具備することを特徴とする請求項1
に記載の顕微鏡の落射照明装置。2. A second light source that emits irradiation light of a color different from that of the illumination light is further provided.
The epi-illumination device for a microscope according to.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6264662A JPH08106051A (en) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | Vertical illuminating device for microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6264662A JPH08106051A (en) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | Vertical illuminating device for microscope |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08106051A true JPH08106051A (en) | 1996-04-23 |
Family
ID=17406469
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6264662A Pending JPH08106051A (en) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | Vertical illuminating device for microscope |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08106051A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000284182A (en) * | 1999-03-11 | 2000-10-13 | Corning Inc | Focusing filament for automatic focusing system |
JP2006267432A (en) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Olympus Corp | Scanning type viewing apparatus |
-
1994
- 1994-10-04 JP JP6264662A patent/JPH08106051A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000284182A (en) * | 1999-03-11 | 2000-10-13 | Corning Inc | Focusing filament for automatic focusing system |
JP2006267432A (en) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Olympus Corp | Scanning type viewing apparatus |
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