JPH0788766A - 研磨液供給方法及び装置 - Google Patents
研磨液供給方法及び装置Info
- Publication number
- JPH0788766A JPH0788766A JP5257647A JP25764793A JPH0788766A JP H0788766 A JPH0788766 A JP H0788766A JP 5257647 A JP5257647 A JP 5257647A JP 25764793 A JP25764793 A JP 25764793A JP H0788766 A JPH0788766 A JP H0788766A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing liquid
- filter drum
- filter
- tank
- abrasive grains
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】所定大きさ以上の砥粒を排除及び凝集粒を粉砕
して加工部に供給する。 【構成】フィルター機能を有し、研磨液６が供給される
フィルタードラム２と、フィルタードラム２に超音波振
動を与える超音波ホーン４と、フィルタードラム２を通
った研磨液６を収納するタンク１と、タンク１内の研磨
液６を加工部である基板１０とポッシュ布１１間に供給
するパイプ８とからなる。
して加工部に供給する。 【構成】フィルター機能を有し、研磨液６が供給される
フィルタードラム２と、フィルタードラム２に超音波振
動を与える超音波ホーン４と、フィルタードラム２を通
った研磨液６を収納するタンク１と、タンク１内の研磨
液６を加工部である基板１０とポッシュ布１１間に供給
するパイプ８とからなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は加工部に研磨液を供給す
る方法及び装置に関する。
る方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、鏡面加工あるいは特定範囲の面粗
さを要求する研磨工程は、砥粒を加工液と混合したスラ
リーよりなる研磨液が用いられている。現在、例えばシ
リコンウエハーではＲａ５Å以下、磁気ディスク基板で
はＲａ１０〜３０Åの均一な面粗さが要求されている。
ところで、最大面粗さあるいは算術平均面粗さなどで表
示される３μｍ以下の均一な面粗さが要求される加工に
用いられる研磨液は、砥粒そのものの分級精度を上げる
ため、沈降法、遠心分離法などの手段によって分級され
ている。
さを要求する研磨工程は、砥粒を加工液と混合したスラ
リーよりなる研磨液が用いられている。現在、例えばシ
リコンウエハーではＲａ５Å以下、磁気ディスク基板で
はＲａ１０〜３０Åの均一な面粗さが要求されている。
ところで、最大面粗さあるいは算術平均面粗さなどで表
示される３μｍ以下の均一な面粗さが要求される加工に
用いられる研磨液は、砥粒そのものの分級精度を上げる
ため、沈降法、遠心分離法などの手段によって分級され
ている。
【０００３】また砥粒そのものが小さく細かくなると、
砥粒単体表面の界面エネルギーが大きくなり、砥粒同士
が互いに引き合い凝集を起こすことが知られている。砥
粒の凝集した塊、いわゆる凝集粒は、加工面に大きなス
クラッチを発生させ、また面粗さを悪くする阻害要因と
なっている。凝集粒は、研磨液製造工程中で発生する他
に、研磨液の保管時、輸送時においても発生するため、
研磨液使用時における大きな管理項目になっている。こ
の凝集粒の発生を防止するため、砥粒単粒毎に凝集防止
表面処理、また加工液に界面活性剤を混入させて分散促
進処理を施すことが行われている。
砥粒単体表面の界面エネルギーが大きくなり、砥粒同士
が互いに引き合い凝集を起こすことが知られている。砥
粒の凝集した塊、いわゆる凝集粒は、加工面に大きなス
クラッチを発生させ、また面粗さを悪くする阻害要因と
なっている。凝集粒は、研磨液製造工程中で発生する他
に、研磨液の保管時、輸送時においても発生するため、
研磨液使用時における大きな管理項目になっている。こ
の凝集粒の発生を防止するため、砥粒単粒毎に凝集防止
表面処理、また加工液に界面活性剤を混入させて分散促
進処理を施すことが行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記した砥粒そのもの
の分級精度を上げる方法でも分級精度は完全ではなく、
一般に所定大きさ以上の砥粒の混入は避けられない。ま
た凝集防止のために表面処理や分散促進処理などを施し
ても、この処理前は勿論のこと、処理後の保管時、輸送
時において若干の凝集粒が発生するという問題があっ
た。
の分級精度を上げる方法でも分級精度は完全ではなく、
一般に所定大きさ以上の砥粒の混入は避けられない。ま
た凝集防止のために表面処理や分散促進処理などを施し
ても、この処理前は勿論のこと、処理後の保管時、輸送
時において若干の凝集粒が発生するという問題があっ
た。
【０００５】本発明の目的は、所定大きさ以上の砥粒を
排除及び凝集粒を粉砕して加工部に供給することができ
る研磨液供給方法及び装置を提供することにある。
排除及び凝集粒を粉砕して加工部に供給することができ
る研磨液供給方法及び装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の方法は、研磨液をフィルター機能を有するフ
ィルタードラムに供給し、フィルタードラムに超音波振
動を与え、該フィルタードラムを通った研磨液を加工部
に供給することを特徴とする。
の本発明の方法は、研磨液をフィルター機能を有するフ
ィルタードラムに供給し、フィルタードラムに超音波振
動を与え、該フィルタードラムを通った研磨液を加工部
に供給することを特徴とする。
【０００７】上記目的を達成するための本発明の装置
は、フィルター機能を有し、研磨液が供給されるフィル
タードラムと、このフィルタードラムに超音波振動を与
える超音波発振手段と、前記フィルタードラムを通った
研磨液を収納するタンクと、このタンク内の研磨液を加
工部に供給するパイプとからなることを特徴とする。
は、フィルター機能を有し、研磨液が供給されるフィル
タードラムと、このフィルタードラムに超音波振動を与
える超音波発振手段と、前記フィルタードラムを通った
研磨液を収納するタンクと、このタンク内の研磨液を加
工部に供給するパイプとからなることを特徴とする。
【０００８】
【作用】超音波振動しているフィルタードラム内に供給
された研磨液内に含まれる凝集粒は、フィルタードラム
のフィルター穴を通る時に超音波振動しているフィルタ
ードラムによって叩かれて粉砕される。また研磨液内に
含まれる所定大きさ以上の砥粒は、フィルタードラムの
フィルター穴を通過することができなくフィルタードラ
ム内に残る。従って、所定大きさ以上の砥粒を排除及び
凝集粒が粉砕された研磨液が加工部に供給される。
された研磨液内に含まれる凝集粒は、フィルタードラム
のフィルター穴を通る時に超音波振動しているフィルタ
ードラムによって叩かれて粉砕される。また研磨液内に
含まれる所定大きさ以上の砥粒は、フィルタードラムの
フィルター穴を通過することができなくフィルタードラ
ム内に残る。従って、所定大きさ以上の砥粒を排除及び
凝集粒が粉砕された研磨液が加工部に供給される。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１及び図２によ
り説明する。タンク１内には、フィルター機能を有する
フィルタードラム２が配設されており、フィルタードラ
ム２には、約０．５〜３０μｍのフィルター穴３が多数
形成されている。フィルタードラム２には超音波ホーン
４が接続され、超音波ホーン４は超音波発振器５で超音
波振動するようになっている。前記フィルタードラム２
の上部には、研磨液６を供給する柔軟性のパイプ７が接
続されている。前記タンク１内の下方には、パイプ８が
接続されており、パイプ８の供給口より基板１０とポッ
シュ布１１間に研磨液６が供給され、基板１０は加工さ
れる。なお、１２はポッシュ布１１を基板１０に圧接さ
せるゴムローラを示す。
り説明する。タンク１内には、フィルター機能を有する
フィルタードラム２が配設されており、フィルタードラ
ム２には、約０．５〜３０μｍのフィルター穴３が多数
形成されている。フィルタードラム２には超音波ホーン
４が接続され、超音波ホーン４は超音波発振器５で超音
波振動するようになっている。前記フィルタードラム２
の上部には、研磨液６を供給する柔軟性のパイプ７が接
続されている。前記タンク１内の下方には、パイプ８が
接続されており、パイプ８の供給口より基板１０とポッ
シュ布１１間に研磨液６が供給され、基板１０は加工さ
れる。なお、１２はポッシュ布１１を基板１０に圧接さ
せるゴムローラを示す。
【００１０】次に作用について説明する。超音波ホーン
４により上下に超音波振動しているフィルタードラム２
内には、図示しないタンクよりパイプ７を通して研磨液
６が供給される。フィルタードラム２内に供給された研
磨液６内に含まれる凝集粒１３は、フィルター穴３を通
る時に超音波振動しているフィルタードラム２によって
叩かれて粉砕され、タンク１内に排出される。また研磨
液６内に含まれる所定大きさ以上の砥粒は、フィルター
ドラム２のフィルター穴３を通過することができなくフ
ィルタードラム２内に残る。
４により上下に超音波振動しているフィルタードラム２
内には、図示しないタンクよりパイプ７を通して研磨液
６が供給される。フィルタードラム２内に供給された研
磨液６内に含まれる凝集粒１３は、フィルター穴３を通
る時に超音波振動しているフィルタードラム２によって
叩かれて粉砕され、タンク１内に排出される。また研磨
液６内に含まれる所定大きさ以上の砥粒は、フィルター
ドラム２のフィルター穴３を通過することができなくフ
ィルタードラム２内に残る。
【００１１】従って、所定大きさ以上の砥粒はパイプ８
に送られなく、また凝集粒１３は粉砕されてパイプ８に
送られ、基板１０とポッシュ布１１間の加工部に供給さ
れるので、安定した加工品質を得ることができる。
に送られなく、また凝集粒１３は粉砕されてパイプ８に
送られ、基板１０とポッシュ布１１間の加工部に供給さ
れるので、安定した加工品質を得ることができる。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、所定大きさ以上の砥粒
を排除及び凝集粒を粉砕した研磨液が加工部に供給され
るので、安定した加工品質を得ることができる。
を排除及び凝集粒を粉砕した研磨液が加工部に供給され
るので、安定した加工品質を得ることができる。
【図１】本発明になる研磨液供給装置の一実施例を示す
概略構成図である。
概略構成図である。
【図２】凝集粒が粉砕さる状態を示す拡大説明図であ
る。
る。
１ タンク ２ フィルタードラム ３ フィルター穴 ４ 超音波ホーン ６ 研磨液 ８ パイプ １０ 基板 １１ ポッシュ布
Claims (2)
- 【請求項１】 研磨液をフィルター機能を有するフィル
タードラムに供給し、フィルタードラムに超音波振動を
与え、該フィルタードラムを通った研磨液を加工部に供
給することを特徴とする研磨液供給方法。 - 【請求項２】 フィルター機能を有し、研磨液が供給さ
れるフィルタードラムと、このフィルタードラムに超音
波振動を与える超音波発振手段と、前記フィルタードラ
ムを通った研磨液を収納するタンクと、このタンク内の
研磨液を加工部に供給するパイプとからなることを特徴
とする研磨液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5257647A JPH0788766A (ja) | 1993-09-21 | 1993-09-21 | 研磨液供給方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5257647A JPH0788766A (ja) | 1993-09-21 | 1993-09-21 | 研磨液供給方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0788766A true JPH0788766A (ja) | 1995-04-04 |
Family
ID=17309157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5257647A Pending JPH0788766A (ja) | 1993-09-21 | 1993-09-21 | 研磨液供給方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0788766A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005254071A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Koei Moss Filter Kogyo Kk | 超音波装置 |
| JP2010131555A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 洗浄ストレーナ |
| CN112223078A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-01-15 | 湖南高福星智能科技有限公司 | 一种抛光液智能供给型抛光机床 |
-
1993
- 1993-09-21 JP JP5257647A patent/JPH0788766A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005254071A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Koei Moss Filter Kogyo Kk | 超音波装置 |
| JP2010131555A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 洗浄ストレーナ |
| CN112223078A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-01-15 | 湖南高福星智能科技有限公司 | 一种抛光液智能供给型抛光机床 |
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