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JPH0785112B2 - ステージ装置 - Google Patents

ステージ装置

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JPH0785112B2
JPH0785112B2 JP62031622A JP3162287A JPH0785112B2 JP H0785112 B2 JPH0785112 B2 JP H0785112B2 JP 62031622 A JP62031622 A JP 62031622A JP 3162287 A JP3162287 A JP 3162287A JP H0785112 B2 JPH0785112 B2 JP H0785112B2
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air conditioner
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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、半導体生産用露光装置に係り、特に半導体ウ
エハを乗せたXYテーブルを周囲温度等の影響を受けるこ
となくレーザ干渉計を用いて高精度に位置決めし、半導
体ウエハにマスクパターンを露光転写する半導体露光装
置のステージ装置に関するものである。
［従来の技術］ 近年、半導体集積回路の高集積化に伴い、超微細パター
ン形成への要求が強まり、マスクとウエハの位置合わせ
精度に対する要求もますます厳しくなって来ている。こ
のため、ウエハを載置し位置決めを行なうXYテーブルも
0.1μｍ以下の精度が要求され、その位置計測にはレー
ザ干渉計が用いられている。
レーザ干渉計による測長では、その測長光路上の空気の
温度の変化が測長誤差となるため、従来この種の装置は
温度を一定にするチャンバに入れて温度調節された状態
で使用するか、あるいはXYステージの周りを部分的に温
度調節するために、一方向から温調された空気を流す空
調手段を有していた。
［発明が解決しようとしている問題点］ しかしながら、このような半導体露光装置においては、
XYステージのＸ方向駆動を行なうＸモータ、Ｙ方向駆動
を行なうＹモータあるいは露光光を発する照明系などさ
まざまな発熱源を内蔵しており、上記従来例のようにチ
ャンバに入れたとしても、空間的な温度むらは避けるこ
とができなかった。また上記のもう一つの従来例のよう
に一方向、例えばＸ方向からのみ温度調節された空気を
流しても、Ｙ方向での温度むらは避けることができない
という不都合があった。
そして、レーザ干渉計の測長光路上に空間的な温度むら
があると、測長尺度が空間的に歪むことになり、XYステ
ージの停止位置に依存した測長誤差が生じる。従って、
上記従来例ではXYステージの位置決め精度を充分に高く
することができないという欠点があった。
本発明の目的は、前述の従来例における問題点に鑑み、
ステージ装置において、温度むらによる位置決め精度の
悪化を防止することができるようにすることにある。
［問題点を解決するための手段および作用］ この目的を達成するため本発明では、基板を移動するス
テージの位置を計測するためのレーザ干渉計の測長光路
に沿って温度制御された空気を前記ステージに向けて吹
き込むようにしている。
従来、レーザ干渉計の測長光路上に空間的な温度むらが
あると測長尺度が空間的に歪むことにより、ステージの
位置決め精度を高精度なものにすることができなかった
が、本発明によれば、レーザ干渉計の測長光路に沿って
温度制御された空気をステージに向けて吹き込むように
したため、レーザ干渉計の測長光路内のインデックスが
コントロールされ、レーザ干渉計の測長誤差がなくな
る。したがって、ステージの位置決め精度が向上する。
［実施例］ 以下図面により本発明の実施例を説明する。第１図は、
本発明の一実施例に係る半導体露光装置の概略を示す。
同図の装置は、露光光を発する照明系１、マスク２、ウ
エハ３、マスク２のパターンをウエハ３に投影する投影
光学系４、ウエハ３を載置するXYステージ５、XYステー
ジ５のＸ方向駆動モータ６、XYステージ５のＹ方向駆動
モータ７、Ｘ方向ボールネジ８、Ｙ方向ボールネジ９、
レーザ干渉計光源10、Ｘ方向干渉計11、Ｙ方向干渉計1
2、それぞれXYステージ５に固着されているＸ方向測長
用反射鏡13およびＹ方向測長用反射鏡14、Ｘ方向空調装
置15、Ｙ方向空調装置16等によって構成される。
第１図の装置においては、レーザ干渉計光源10から出た
光がＸ方向干渉計11およびＹ方向干渉計12に導入され
る。そして、Ｘ方向干渉計11とXYステージ５に固着され
た反射鏡13との働きによりＸ方向の位置計測が行なわ
れ、Ｙ方向干渉計12とXYステージ５に固着された反射鏡
14との働きによりＹ方向の位置計測が行なわれる。この
ような位置計測結果にもとづきウエハ３の位置決めが行
なわれた後、マスクのパターンが該ウエハ３に露光され
る。
ところで上記の構成において、Ｘ方向空調装置15および
Ｙ方向空調装置16は同一温度に制御された空気をそれぞ
れＸ方向およびＹ方向に沿ってXYステージ５に向けて吹
き込む。これにより、Ｘ方向干渉計11と反射鏡13との間
のＸ方向測長光路およびＹ方向干渉計12と反射鏡14との
間のＹ方向測長光路の空気温度には空間的むらがなくな
り、XYステージがXY平面内のどの位置にあっても、測長
誤差がなくなり、正しく位置決められる。
［他の実施例］ 第２図は、本発明の第２の実施例に係る半導体露光装置
を示す。同図の装置は、第１図の装置におけるＸ方向空
調装置15およびＹ方向空調装置に代えて、共通の空調装
置17、Ｘ方向空気吹き込み口18、Ｙ方向空気吹き込み口
19、通風ダクト20,21を備えている。この構成において
は、１台の空調装置17で、X,Y2方向から温度制御された
空気をXYステージ５に向けて吹き込み温度むらをなくす
ることが可能となり、装置が簡単になるとともにＸ方向
とＹ方向に吹き出す空気の温度を容易にかつ完全に同一
化することができる。
なお、第１図または第２図の実施例に係る露光装置全体
をあるいは部分的にチャンバにて包むことにより周囲温
度の影響等を一層少なくすることも可能である。
さらに、第１図または第２図の実施例に係る露光装置を
チャンバと併用し、２方向吹き込み用の空調装置を該チ
ャンバに内蔵することも可能である。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、レーザ干渉計の測
長光路に沿って温度制御された空気をステージに向けて
吹き込むようにしたため、レーザ干渉計の測長光路内の
インデックスをコントロールすることができ、レーザ干
渉計の測長誤差をなくすることができる。したがって、
ステージの位置決め精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例に係る半導体露光装置の構成
を示した斜視図、そして第２図は本発明の第２の実施例
に係る半導体露光装置の構成を示した斜視図である。 これらの図において、１は照明系、２はマスク、３はウ
エハ、４は投影レンズ、５はXYステージ、6,7はモー
タ、8,9はボールネジ、10はレーザ干渉計光源、11,12は
干渉計、13,14は測長用反射鏡、15,16は空調装置、17は
空調装置、18,19は空気吹き込み口、20,21はダクトであ
る。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】Ｘ及びＹ方向に移動するXYステージと、前
    記XYステージのＸ方向の位置を計測するためのＸ方向用
    レーザ干渉計と、前記XYステージのＹ方向の位置を計測
    するためのＹ方向用レーザ干渉計と、前記Ｘ及びＹ方向
    用レーザ干渉計のそれぞれの測長光路に沿って２方向か
    ら温度制御された空気を前記XYステージに向けて吹き込
    む空調手段を有することを特徴とするステージ装置。
  2. 【請求項２】前記空調手段はＸ方向用空調装置とＹ方向
    用空調装置を有することを特徴とする特許請求の範囲第
    １項に記載のステージ装置。
  3. 【請求項３】前記空調手段はＸ及びＹ方向に共通の空調
    装置と、前記空調装置からＸ及びＹ方向に空気を案内す
    るための案内手段を有することを特徴とする特許請求の
    範囲第１項に記載のステージ装置。
  4. 【請求項４】基板を移動するステージと、前記ステージ
    の位置を計測するためのレーザ干渉計と、前記レーザ干
    渉計の測長光路に沿って温度制御された空気を前記ステ
    ージに向けて吹き込む空調手段を有することを特徴とす
    るステージ装置。
  5. 【請求項５】前記ステージはＸ及びＹ方向に移動するXY
    ステージであり、前記レーザ干渉計は前記XYステージの
    Ｘ及びＹ方向のそれぞれの位置を計測するためのＸ方向
    用レーザ干渉計とＹ方向用レーザ干渉計を有し、前記空
    調手段は前記Ｘ及びＹ方向用レーザ干渉計のそれぞれの
    測長光路に沿って２方向から温度制御された空気を前記
    XYステージに向けて吹き込むことを特徴とする特許請求
    の範囲第４項に記載のステージ装置。
  6. 【請求項６】前記基板はマスクのパターンが投影露光さ
    れる半導体ウエハであり、前記XYステージは前記マスク
    に対して前記半導体ウエハの位置を決定するために前記
    半導体ウエハを移動することを特徴とする特許請求の範
    囲第６項に記載のステージ装置。
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