JPH0764305A

JPH0764305A - 電子写真画像形成部材の製造方法

Info

Publication number: JPH0764305A
Application number: JP6184690A
Authority: JP
Inventors: Martha J Stegbauer; ジェイ．ステッグバウアーマーサ; H Neery Richard; エイチ．ニーリーリチャード; Robert S Waugh; エス．ウォーロバート
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1993-08-13
Filing date: 1994-08-05
Publication date: 1995-03-10
Also published as: US5324615A

Abstract

(57)【要約】【目的】高品質であり、均一に連続した光導電被覆層
を有し、最終印刷物に欠陥を生じない電子写真画像形成
部材を提供する。【構成】例えばｎ−ブチルアセテートのような溶媒と
下記一般式で表される薄層形成ポリマーから本質的に成
る薄層形成ポリマーの溶液中に分散された約０．６μｍ
未満の平均粒子寸法の光導電性顔料粒子を含み且つ該光
導電性顔料がバナジルフタロシアニン顔料粒子から本質
的に成る被覆物を付与し乾燥して得られた乾燥電荷発生
層を含む。【化１】（式中、ｘは約５０〜約７５モル％のポリビニルブチラ
ール含量になる数、ｙは約１２〜約５０モル％のポリビ
ニルアルコール含量になる数、ｚは１５モル％までのポ
リビニルアセテート含量になる数を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、概して電子写真画像形
成部材に関し、一層詳細には、改良された電荷発生層を
有する電子写真画像形成部材の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】円筒状
又はドラム形状の光受容基体を被覆する慣用の技術とし
て、被覆液浴中に該基体を浸漬することが含まれる。光
導電層を製造するために用いられる浴は、薄層形成バイ
ンダの溶媒溶液中に光導電顔料粒子を分散することによ
って調製される。残念なことに、ある有機光導電性顔料
粒子は、ディップコーティングによって塗布して高品質
の光導電被覆物を形成することができない。例えば、有
機光導電性顔料粒子、例えば、ベンゾイミダゾールペリ
レン顔料は、薄層形成バインダの溶媒溶液中に該顔料を
分散させようと試みた場合に沈降する傾向がある。該顔
料の沈降する傾向は、気泡の取込みを引起こすことにな
る連続的な攪拌を要求し、この気泡は、光受容基体上に
付着される最終的な光導電性被覆物中へ運ばれてしま
う。これらの泡は、光受容体によってゼログラフにより
形成される最終的なプリントに欠陥を生じてしまう。こ
の欠陥は、泡が存在する領域と存在しない領域との間で
電気的に帯電された光受容体の放電における差異によっ
て起こる。従って、例えば最終プリントが、放電領域の
現像の間に泡の上に暗領域を、又は帯電領域現像を用い
た場合には白いスポットを示すであろう。更に、多くの
顔料粒子は、薄層形成バインダの溶媒溶液中に該顔料を
分散させるように試みた場合には凝集する傾向がある。
この顔料凝集物は、不均一な光導電被覆物を引起し、こ
れは次いで、不均一な放電にために最終ゼログラフィ印
刷物中に他の印刷欠陥を引き起こす。

【０００３】更に、ある分散物は、光受容基体上の被覆
物として付与されたときに、不均一に反応して、ディッ
プコーティング又はロールコーティング操作の間に不連
続な被覆物を形成する。これらの不連続な被覆物は、該
被覆物の幾つかの領域における被覆物質の流動によって
生じ、他の領域では生じないと考えられる。

【０００４】米国特許第Ａ５，０５５，３６８号には、
重合体バインダと分散された光導電性チタニルフタロシ
アニン粒子を含む液状組成物により形成された層を有す
る電子写真画像記録素子が開示されている。該チタニル
フタロシアニン粒子は、約０．２μｍまでの粒子寸法を
有すと共に所定のＸ線回折特性により特徴付けられ、ま
た、この層は所定の分光吸収範囲によって特徴付けられ
る。該被覆組成物は、重合体バインダの溶媒溶液中に分
散された微細に粉砕された光導電性チタニルフタロシア
ニン粒子を含み、これは、（１）チタニルフタロシアニ
ン顔料を、溶媒が実質的にない剪断条件下で無機塩及び
非導電性粒子を含むミリング媒体と共にミリングして、
０．２μｍまでの粒子寸法を有する顔料を得る工程、
（２）約５０℃までの温度にて一層高い剪断でミリング
を続けて顔料粒子の知覚可能な色変化を達成する工程、
（３）ミルされた顔料の温度を少なくとも１０℃急速に
上げる工程、（４）ミルされた顔料をミリング媒体と分
離する工程、並びに（５）ミルされた顔料を重合体バイ
ンダの溶媒溶液と共にミリングして被覆組成物を形成す
る工程、によって製造される。ミリングの最初の工程
は、２４０時間程度とし得る。ポリ（ビニルブチラー
ル）が、バインダの例として挙げられている。

【０００５】本発明の目的は、上記従来技術の欠点を打
開する電子写真画像形成部材の改良された製造方法を提
供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明のこの目的は、被
覆されるべき基体を提供すること、アルキル基中に２〜
５の炭素原子を有するアルキルアセテートを含む溶媒と
下記一般式で表される薄層形成ポリマーから本質的に成
る薄層形成ポリマーとを含む溶液中で、少なくとも約４
日間ボールミルすることによって分散された約０．６μ
ｍ未満の平均粒子寸法を有するバナジルフタロシアニン
粒子から本質的に成る光導電性顔料粒子を含む被覆物を
形成すること、該被覆物を乾燥して実質的に全ての該ア
ルキルアセテート溶媒を除去して、乾燥した電荷発生層
の総重量に基づいて約２０〜約４５重量％の顔料粒子を
含む乾燥した電荷発生層を形成すること、並びに、電荷
輸送層を形成することを含む電子写真画像形成部材を提
供することによって達成させる。

【０００７】

【化２】

【０００８】（式中、ｘは、ポリビニルブチラール含量
が約５０〜約７５モル％にあるような数であり、ｙはポ
リビニルアルコール含量が約１２〜約５０モル％にある
ような数であり、ｚはポリビニルアセテート含量が約０
〜１５モル％にあるような数を表す）。

【０００９】静電画像形成部材は、この技術分野ではよ
く知られている。普通、基体として、導電性の表面を有
する基体が提供される。その後、少なくとも１つの光導
電性層が該導電面に付与される。電荷阻止層は、光導電
層を付与する前に、導電面に付与され得る。望ましく
は、接着層が、電荷阻止層と光導電層との間に用いられ
得る。多層光受容体では、電荷発生バインダ層は、通
常、該阻止層上に付与され、電荷輸送層は、電荷発生層
上に形成される。しかし、所望すれば、電荷発生層は、
電荷輸送層に付与され得る。

【００１０】基体は、不透明又は実質的に透明とし得、
要求される機械特性を有する多くの好適な物質から構成
され得る。従って、基体は、非導電性又は導電性の物質
例えば無機又は有機組成物の層から構成され得る。非導
電性物質としては、この目的のために知られている種々
の樹脂を用いてよく、これには、硬質又は可撓性例えば
薄いウェブであるポリエステル、ポリカーボネート、ポ
リアミド、ポリウレタン等が含まれる。

【００１１】基体層の厚みは多くの因子に依存し、これ
には、光線の強さ及び経済的配慮が含まれ、従って、可
撓性ベルトとしてのこの層は、かなりの厚み例えば約１
２５μｍ、又は最終静電複写装置において不利な影響が
なければ５０μｍ未満の最少の厚みとし得る。ある可撓
性ベルトの具体例では、この層の厚みは、約６５〜約１
５０μｍの範囲を採り、好ましくは、小さい径のローラ
例えば１９ｍｍ直径ローラの周りを回転する場合に最適
な可撓性及び最少の伸びのために約７５〜約１００μｍ
である。ドラム又はシリンダの形状の基体は、所望の固
さの度合いに依存して任意の好適な厚みの金属、プラス
チック又は金属及びプラスチックの組み合わせを含み得
る。

【００１２】導電層は、静電複写部材として所望の光学
的透明度及び可撓度に依存して、かなり広い範囲にわた
って厚みを変え得る。従って、可撓性の光応答性画像形
成部材としては、導電層の厚みは、約２０〜約７５０オ
ングストローム単位、電気導電性、可撓性及び光透過性
の最適な組み合わせのために、より好ましくは約１００
〜約２００オングストローム単位とし得る。可撓性導電
層は、例えば、任意の好適な被覆技術、例えば、真空蒸
着技術によって基体上に形成された導電金属層とし得
る。基体が金属性、例えば、金属ドラムである場合、そ
の外面は通常、本来的に導電性であり、別個の導電層を
付与する必要はない。

【００１３】導電面の形成後、正孔阻止層が導電面に付
与され得る。一般に、正の帯電光受容体のために電子阻
止層は、光受容体の画像形成面から正孔を導電層に向か
って移動させる。隣接する光導電層とその下に設置され
た導電層との間で正孔に対する電子障壁を形成すること
ができる任意の好適な阻止層が用いられ得る。阻止層は
よく知られており、例えば米国特許第Ａ４，２９１，１
１０号、同第４，３３８，３８７号及び同第４，２８
６，０３３号に開示されている。この阻止層は、酸化表
面を含み得、それは空気に暴露された場合に殆どの金属
粉砕平面の外面上に本来形成される。阻止層は、全ての
好適な慣用技術例えば吹きつけ、ディップコーティン
グ、引き棒コーティング、グラビアコーティング、シル
クスクリーン、エアナイフコーティング、リバースコー
ティング、真空蒸着、化学処理等による被覆物として付
与され得る。付着被覆物の乾燥は、任意の好適な慣用技
術例えばオーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥等によっ
て実行され得る。阻止層は、連続的にすべきであり、厚
みが大きくなると望ましくない高い残留電位を引起すか
もしれないので、約２μｍ未満の厚みを有するべきであ
る。

【００１４】任意的な接着層は、正孔阻止層に付与され
得る。この技術分野においてよく知られている任意の好
適な接着層が用いられ得る。満足な結果は、約０．０５
μｍ（５００Å）と約０．３μｍ（３０００Å）の間の
厚みの接着層により達成され得る。電荷阻止層に対して
接着層被覆混合物を塗布する慣用技術には、吹きつけ、
ディップコーティング、ロールコーティング、線巻ロッ
ドコーティング、グラビアコーティング、バードアプリ
ケータコーティング等が含まれる。付着被覆物の乾燥
は、全て好適な慣用技術例えばオーブン乾燥、赤外線乾
燥、空気乾燥等によってもたらされ得る。

【００１５】本発明の光発生層は、アルキルアセテート
を含む溶媒中に溶解された本発明の薄層形成ポリマー、
ポリビニルブチラール共重合体の溶液中に、約０．６μ
ｍ未満の平均粒子径を有するバナジルフタロシアニン光
導電性顔料粒子から本質的に成る被覆分散物を付与する
ことによって製造され得る。この分散物は、接着阻止
層、好適な導電層に対して又は電荷輸送層に対して付与
され得る。バナジルフタロシアニンは、技術及び特許文
献に広く開示されているよく知られた光導電性顔料であ
る。これは、電荷発生層薄膜形成バインダを溶解するた
めに用いられるアルキルアセテート中で不溶性である。
電荷輸送層と組み合わせて用いられる場合、光導電層
は、電荷輸送層と基体との間に存在し得、又は電荷輸送
層は光導電層と基体との間に存在することができる。

【００１６】一般に、満足な結果は、光導電性の被覆物
がディップコーティングによって付与される場合に、約
０．６μｍ未満の光導電性粒子の平均寸法で達成され
る。好ましくは、光導電性粒子の平均寸法は約０．４μ
ｍ未満である。また好ましくは、光導電性粒子寸法は、
それが分散される乾燥された光導電性被覆物の厚み未満
である。

【００１７】多重光発生層組成物は、光導電性層が光発
生層の特性を促進又は低下する場合に用いられ得る。

【００１８】本発明の光導電性被覆物中のバインダ物質
として用いられる薄層形成ポリマーは、硫酸酸触媒の存
在下でのポリビニルアルコールとブチルアルデヒドの反
応生成物である。ポリビニルアルコールのヒドロキシル
基は反応してランダムなブチラール構造をもたらし、こ
れは、反応温度及び時間を変えることによって調節され
ることができる。酸触媒は、水酸化カリウムで中性化さ
れる。ポリビニルアルコールは、ポリビニルアセテート
を加水分解することによって合成される。得られる加水
分解ポリビニルアルコールは、ポリビニルアセテート部
位をいくつか含み得る。部分的に又は完全に加水分解さ
れたポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールの
ヒドロキシル基のいくつかが反応するがポリビニルアル
コールの他のヒドロキシル基は未反応のまま残る条件下
で、ブチルアルデヒドと反応する。本発明の光導電層中
での使用には、この反応産物は約５０〜約７５モル％の
ポリビニルブチラール含量、約１２〜約５０モル％のポ
リビニルアルコール含量、並びに、約５モル％までのポ
リビニルアセテート含量を有すべきである。これらの薄
層形成ポリマーは市販されており、これには、例えば、
約７０モル％のポリビニルブチラール含量、２８モル％
のポリビニルアルコール含量及び約２モル％未満のポリ
ビニルアセテート含量であって、約５００００と約８０
０００の間の重量平均分子量を有するＢｕｔｖａｒＢ
−７９樹脂（モンサントケミカル社から市販）；約７０
モル％のポリビニルブチラール含量、約２８モル％のポ
リビニルアルコール含量及び約２モル％未満のポリビニ
ルアセテート含量であって、約９００００と約１２００
００の間の重量平均分子量を有するＢｕｔｖａｒＢ−
７６樹脂（モンサントケミカル社から市販）；並びに、
約７２モル％のポリビニルブチラール含量、５モル％の
ビニルアセテート基含量及び１３モル％のポリビニルア
ルコール含量であって、約９３０００の重量平均分子量
を有するＢＭＳ樹脂（積水化学社から市販）が含まれ
る。本発明の方法に用いられ得る薄層形成ポリビニルブ
チラール共重合体は、アルキルアセテート中で可溶性で
あるべきであり、少なくとも約５００００〜８００００
の重量平均分子量を有する。これらの共重合体は、市販
されており、安価であり、アルキルエステル中で可溶性
であるために好ましい。

【００１９】薄層形成ポリマーのための溶媒は、酢酸の
線状又は分岐アルキルエステルから構成されなければな
らない。好ましい溶媒はｎ−ブチルアセテートであり、
これは速乾性であり、簡便に使用できそして市販されて
いるためである。薄層形成バインダを溶解することがで
きるアルキルアセテート以外の溶媒は、不安定又は他の
望ましくない特性を示す分散物を形成する傾向がある。
例えば、バナジルフタロシアニン光導電層をシクロヘキ
サンで製造した場合、乾燥被覆物は、消耗帯電(depleti
on charging)を示す。消耗帯電では、最初に付着した電
荷が光導電層に捕獲され、帯電速度に悪影響を与える。
消耗は、普通、暗減衰の上昇及びサイクル安定性の損失
を伴うので、ゼログラフィシステムには望ましくない。

【００２０】アルキルアセテート溶媒中に分散された薄
層形成ポリビニル共重合体の溶液中に、顔料粒子を分散
するために任意の好適な技術を用い得る。普通の分散技
術には、例えば、ミリング媒体を用いるボールミリン
グ、ロールミリング、種々の磨砕機中でのミリング、サ
ンドミリング等が含まれる。ミルされる混合物の固体含
量は、本質的でないと考えられるので、広範囲の濃度か
ら選択されることができる。ボールロールミルを用いた
普通のミリング時間は、約４〜約６日である。所望すれ
ば、光導電性顔料を、薄層形成バインダと共に又は伴わ
ずに、最終的な被覆物分散物を形成する前に溶媒の不存
在下でミルされ得る。また、光導電性粒子及びバインダ
溶液の濃縮混合物が、まずミルされ、その後、被覆混合
物の製造のために、追加のバインダ溶液によって希釈さ
れ得る。

【００２１】本発明の光発生層は、アルキルアセテート
を含む溶媒中に分散された本発明の薄層形成ポリマー、
ポリビニルブチラール共重合体の溶液中で、少なくとも
４日間、ボールミリングによって分散された約０．６μ
ｍ未満の平均粒子寸法を有するバナジルフタロシアニン
光導電性顔料粒子から本質的に成る被覆分散物を付与す
ることによって製造され得る。約４日間未満のボールミ
リングによって分散された場合、粒子寸法は、大きくな
り過ぎ得、又は電気特性が悪く影響し、例えば暗減衰が
一層高くなり得る。任意の好適なボールミリング技術が
用いられ得る。普通のボールミリングシステムはボール
を用いる。ミリングボールは任意の好適な形状とし得
る。通常のボール形状には、例えば、球状、楕円状及び
円筒状であって、約０．３〜約１．２ｃｍの平均直径を
有するものが含まれる。このボールは、全ての好適な、
実質的に不活性の物質、例えばステンレス鋼、セラミッ
ク、ガラス等で構成され得る。このボールは、通常、水
平軸の周りを回転する円筒状ハウジング中に転倒され
る。ボールミルハウジングは、通常、約３．５〜約９ｃ
ｍの直径を有し、全ての好適な物質例えば、不活性プラ
スチック、ガラス、スチール等から構成され得る。ハウ
ジングの回転速度は、ハウジングの直径並びにボールの
直径、密度及び添加量に依存する。ボールミルハウジン
グのための普通の範囲は、約１００〜約３００ｒｐｍで
ある。高速剪断力のみに関連する混合又は連続化工程例
えば、高速ロールミル又はジェットミルは、本発明の方
法によって達成されるものに相当するような電気的な結
果物をもたらさない。ミリングは、好ましくは、エネル
ギーを保持するために約室温で達成される。 "ボールミ
リング”とは、本文において用いられる場合、溶媒及び
顔料及び／又はバインダが、水平軸を有しミリング媒体
を含有する円筒状容器中に配置され、転倒動作をもたら
すために十分な速度及び粒子寸法の減少及び分散を達成
するために十分な時間で水平面で回転される工程、又
は、溶媒及び顔料及び／又はバインダが垂直軸を有しミ
リング媒体を含有する円筒状容器中に配置され、媒体の
凝集が、容器の垂直軸に対して軸上に整列された中心シ
フトの回転によって達成され、この容器は、粒子寸法の
減少及び分散をもたらすために十分な転倒動作をもたら
す複数のアームを有している工程として、定義される。
得られた分散物は、接着阻止層、好適な導電層に対して
又は電荷輸送層に対して付与される。電荷輸送層と組み
合わせて用いられる場合、光導電層は、電荷輸送層と基
体との間に存在し得、又は電荷輸送層は光導電層と基体
との間に存在することができる。

【００２２】任意の好適な技術が、被覆されるべき基体
へ被覆物を塗布するために用いられ得る。普通の被覆技
術には、ディップコーティング、ロールコーティング、
スプレーコーティング、回転式噴霧器等が含まれる。被
覆技術は広範囲の固体濃度を用い得る。好ましくは、固
体含量は、分散物の総重量に基づいて約２重量％と約８
重量％の間である。 "固体”とは、被覆分散物のバイン
ダ成分と顔料粒子とを意味する表現である。これらの固
体濃度は、デッィプコーティング、ロールコーティン
グ、スプレーコーティング等に有用である。一般に、よ
り密な被覆分散物がロールコーティングに好適である。
本発明の被覆分散物は、ディップコーティングによりバ
ナジルフタロシアニンの電荷発生層を形成することに、
意外にも効果的である。

【００２３】蒸着被覆物の乾燥は、任意の慣用の技術、
例えばオーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥等によって
もたらされ得る。

【００２４】満足な結果は、乾燥した光導電性被覆物の
総重量に基づいて約２０〜約４５重量％のバナジルフタ
ロシアニンを含む場合に達せられる。顔料濃度が約２０
重量％未満の場合には、顔料と顔料との接触が失われ、
電気特性の悪化を生じる。驚くべきことに、顔料濃度が
約４５重量％を越える場合、電気特性は、特に高い暗減
衰及び低い電荷許容性について悪く影響する。好ましく
は、用いられるバナジルフタロシアニンは、約３０〜約
４０重量％である。光導電特性が被覆平方センチ当たり
の顔料の相対量によって影響されるので、顔料のより低
い添加量は、乾燥された光導電性被覆層が厚い場合に用
いられ得る。逆に、より高い顔料の添加量は、乾燥され
た光導電層が薄いものである場合に望ましい。

【００２５】電荷発生層及び電荷輸送層から構成される
多重光受容体において、満足な結果は、約０．１〜約１
０μｍの乾燥された光導電層の被覆厚によって達成され
得る。好ましくは、光導電層の厚みは、約０．２〜約４
μｍである。しかし、これらの厚みは、顔料の添加量に
も依存している。従って、より高い顔料の添加量によ
り、一層薄い光導電性被覆物の使用が可能になる。これ
らの範囲外の厚みは、本発明の目的が達成されるなら
ば、選択されることができる。

【００２６】活性電荷輸送層は、電気的に不活性な高分
子物質中に分散され且つこれらの物質を電気的に活性化
する添加剤として有用である活性化化合物を含み得る。
これらの化合物は、光により発生した正孔を、それを発
生した物質から放出させることを援助することができ
ず、その発生物質を通ってこれらの正孔を輸送させるこ
とができない高分子物質に添加され得る。これは、電気
的に不活性なポリマー材料を、光により発生した正孔の
発生物質からの放出の援助を可能にし、活性層の表面電
荷を放出するために活性層を通してこれらの正孔の輸送
をもたらすことを可能にする物質に変換する。本発明の
多層光導電体の２つの電気的に活性な層のうちの１つに
用いられる特別に好ましい輸送層は、少なくとも１つの
電荷輸送芳香族アミン化合物約２５〜約７５重量％と、
その芳香族アミンが可溶性である重合体薄層形成樹脂約
７５〜約２５重量％とを含む。

【００２７】電荷輸送層を形成する混合物は、好ましく
は、下記一般式を有する１以上の化合物の芳香族アミン
化合物を含む。

【００２８】

【化３】

【００２９】式中、Ｒ₁及びＲ₂は、置換又は無置換の
フェニル基、ナフチル基及びポリフェニル基から成る群
から選択される芳香族基であり、Ｒ₃は、置換又は無置
換のアリール基、１〜１８の炭素原子を有するアルキル
基及び３〜１８の炭素原子を有する脂環式化合物から成
る群から選択される。置換基は、自由電子求引基例えば
ＮＯ₂基、ＣＮ基等とすべきである。

【００３０】上記化学式によって表され、電荷発生層の
光発生正孔の注入を支持し電荷輸送層を通して正孔を輸
送することができる電荷輸送層のための電荷輸送芳香族
アミンの例には、不活性樹脂バインダ中に分散されたト
リフェニルメタン、ビス（４−ジエチルアミン−２−メ
チルフェニル）フェニルメタン；４′−４″−ビス（ジ
エチルアミノ）−２′，２″−ジメチルトリフェニルメ
タン、Ｎ，Ｎ′−ビス（アルキルフェニル）−〔１，
１′−ビフェニル〕−４−４′−ジアミンであって、こ
こでアルキルは例えばメチル、エチル、プロピル、ｎ−
ブチル等であるもの、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′
−ビス（クロロフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕
−４−４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，
Ｎ′−ビス（３″−メチルフェニル）−（１，１′−ビ
フェニル）−４，４′−ジアミン等が含まれる。

【００３１】塩化メチレン又は他の好適な溶媒中で可溶
性の全て好適な不活性樹脂バインダが、本発明の方法に
おいて用いられ得る。塩化メチレン中で可溶性の典型的
な不活性樹脂バインダには、ポリカーボネート樹脂、ポ
リビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリーレー
ト、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスルフォン
等が含まれる。分子量は約２００００〜約１５００００
まで変えることができる。

【００３２】典型的な塗布技術には、吹きつけ、ディッ
プコーティング、ロールコーティング、線巻ロッドコー
ティング等が含まれる。蒸着された被覆物の乾燥は、任
意の好適な慣用技術例えば、オーブン乾燥、赤外線照射
乾燥、空気乾燥等によってもたらされ得る。

【００３３】一般に、正孔輸送層の厚みは、約１０〜約
５０μｍの範囲であるが、この範囲外の厚みも用いられ
ることができる。正孔輸送層は、正孔輸送層に配置され
る静電電荷が、その上の静電潜像の形成及び残留を妨げ
るに十分な割合で、照射がない場合に導電されない範囲
で絶縁体であるべきである。一般に、正孔輸送層体電荷
発生層の厚みの割合は、好ましくは、約２：１〜２０
０：１であり、ある場合には４００：１を越える程度に
維持される。

【００３４】好ましい電気的に不活性な樹脂材料は、ポ
リカーボネート樹脂であり、この分子量は、約２０００
０〜約１５００００、より好ましくは５００００〜約１
２００００である。電気的不活性樹脂物質として最も好
ましい物質は、レクサン１４５としてゼネラルエレクト
ック社から市販の分子量約３５０００〜約４００００の
ポリ（４，４′−ジプロピリデン−ジフェニレンカーボ
ネート）；レクサン１４１としてゼネラルエレクトック
社から市販の分子量約４００００〜約４５０００のポリ
（４，４′−イソプロピリデン−ジフェニレンカーボネ
ート）；ファルベンファブリッケンバイエルＡ．Ｇ．か
らマクロロンとして市販の分子量約５００００〜約１２
００００のポリカーボネート樹脂；及び、メルロンとし
てモベイケミカル社から市販の分子量約２００００〜約
５００００のポリカーボネート樹脂である。塩化メチレ
ン溶媒は、全ての化合物の適切な溶解のために、また、
その低い沸点のために、電荷輸送層被覆混合物の望まし
い化合物である。

【００３５】光受容体は、例えば、上述したように導電
面と電荷輸送層との間に挟まれた電荷発生層、又は導電
面と電荷発生層との間に挟まれた電荷輸送層から構成さ
れ得る。

【００３６】任意には、上塗り層も、摩耗に対する抵抗
の改良のために用いられ得る。幾つかの場合には、抗カ
ールのバック被覆物も、ウェブ構造の光受容体を製造す
る場合に、平坦さ及び／又は摩耗抵抗を改良するため
に、光受容体の反対面に塗布し得る。これらの上塗り及
び抗カールバック被覆物層は、当業においてよく知られ
ており、電気的に絶縁又はわずかに半導体である熱可塑
性有機重合体又は無機重合体から構成され得る。

【００３７】

【実施例】

〔実施例Ｉ〕分散物を、ｎ−ブチルアセテート溶媒中に
薄層形成バインダであるポリビニルブチラール共重合体
（Ｂ７９、商品名Ｂｕｔｖａｒ、モンサントから購
入）を溶解し、その後、バナジルフタロシアニン（ＶＯ
Ｐｃ）顔料を添加することによって調製した。顔料対バ
インダの重量％比は、３５：６５であり、４．２％固体
分であった。該分散物を、１／８インチ（０．３ｃｍ）
直径のステンレス鋼小球と共に４日間、ボールミルにお
いてミルした。分散物をろ過して該小球を取り除いた。
ミルされた顔料の平均粒子寸法は、０．２１μｍ未満で
あった。電荷発生層被覆混合物は、１．５μｍ厚のナイ
ロン被覆物で被覆された直径４０ｍｍ及び３１０ｍｍの
長さの円筒形のアルミニウムドラムを、電荷発生層被覆
物混合物へ、２００ｍｍ／分の速度でドラムの軸に対し
て平行な経路に沿って垂直方向に浸漬し、そしてそこか
ら取り出すディップコーティング工程によって塗布され
た。塗布された電荷発生被覆物を、オーブン中で１０６
℃で１０分間乾燥して、厚み約０．２μｍを有する層を
形成した。該被覆電荷発生層を、その後、モノクロロベ
ンゼン溶媒中に溶解された３６％Ｎ，Ｎ′−ジフェニル
−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−１，１′−
ビフェニル−４，４′−ジアミン及びポリカーボネート
を含む電荷輸送混合物でディップコートした。塗布され
た電荷輸送被覆物を、強制空気オーブン中で１１８℃で
５５分間乾燥して厚み２０μｍの層を形成した。

【００３８】〔実施例II〕実施例Ｉで記載したように調
製した電子写真画像形成部材を、８００ボルトの領域で
電気的に帯電して、７８０ｎｍの波長の光で放電させる
ことによって、試験した。

【００３９】〔実施例III 〕実施例Ｉで記載したように
調製した電子写真画像形成部材を、３８０ボルトの領域
で電気的に帯電して、７８０ｎｍの波長の光で放電させ
ることによって、試験した。この試験の結果及び実施例
IIで処理されたものを下記表１に示す。

【００４０】

【表１】

【００４１】ここで、 "Ｖｏ”は、光受容体が帯電され
るための初期表面電位であり、 "％暗減衰”は、Ｖｏの
０．１６秒後及び続く０．２６秒後に相当する時点での
２つのプローブ間の電位損失であり、Ｖｏの％として表
されている。 "Ｖｅ”は、約３００ｅｒｇｓ／ｃｍ²の
広バンド無フィルタータングステン光による光受容体の
消去後の表面電位であり、 "ｄＶ／ｄＸ”は、露光によ
る電圧損失の初期の傾きであり、光受容体の感度に相当
し、 "消耗値”は、表面電界の測定の前に電界をかける
ことによって吐き出された電荷に相当し、電圧として測
定される。

【００４２】これは、この光受容体が、低い電気領域で
よく稼働することを示した。〔実施例IV〕実施例Ｉにおいて記述されたようにして調
製されたバナジルフタロシアニン分散物の試料を、２４
時間に亘って固定容器中に維持させた。分散物は、２４
時間以上、沈殿することなく安定のようであった。

【００４３】〔実施例Ｖ〕分散物を、ｎ−ブチルアセテ
ート溶媒中に薄層形成バインダであるポリビニルブチラ
ール共重合体（Ｂ７９）を溶解し、その後、バナジルフ
タロシアニン顔料を添加することによって調製した。顔
料対バインダの重量比は、３５：６５であり、４．１％
固体分であった。該分散物を、３０分間、高剪断性混合
器（シェアソン社）で分散させ、その後、８０００ｐｓ
ｉで、ホモジナイザ（ＭＦ１１０）を６回通過させた。
粉砕された顔料の粒子寸法は、０．３６μｍであった。
被覆物の塗布は、実施例Ｉで記述されたドラムと同一の
円筒状ドラムを、実施例Ｉで記述した方法で該混合物に
浸漬し取り出すディップ工程によって達成した。被覆物
は、電気試験のために十分な厚みの層をもたらすように
塗布されることができなかった。これは、高剪断及びホ
モジナイザを用いることによって調製され、高くミルさ
れたバナジルフタロシアニン混合物が、ディップコーテ
ィング塗布技術を用いた場合に、許容可能な被覆物を形
成することができないことを示す。

【００４４】〔実施例VI〕分散物を、メチルイソブチル
ケトン（ＭＩＢＫ）溶媒中に薄層形成バインダであるポ
リビニルブチラール（Ｂ７９）を溶解し、その後、バナ
ジルフタロシアニン顔料を、１／８インチ（０．３ｃ
ｍ）直径のステンレス鋼小球と共に添加することによっ
て調製した。顔料対バインダの重量比は、３５：６５で
あり、４．４％固体分であった。該分散物を、４日間ロ
ールミルした。この分散物をろ過してステンレス鋼小球
を取り除いた。ミルされた顔料の粒子寸法は、０．１５
μｍであった。該混合物を、実施例Ｉで記述されたドラ
ムと同一の円筒状ドラムを実施例Ｉで記述した方法で該
混合物に浸漬し、そしてそこから取り出すディップ工程
によって、基体に被覆物として塗布した。塗布された電
荷発生被覆物を、１０分間１０６℃で強制空気オーブン
中で乾燥し、厚み０．２μｍを有する層を形成した。そ
の後、この被覆光受容体を、実施例Ｉで記述したように
電荷輸送混合物でディップコートした。被覆された電荷
輸送被覆物を、実施例Ｉのように乾燥して、厚み２０μ
ｍを有する層を形成した。

【００４５】〔実施例VII 〕分散物を、ｎ−ブタノール
溶媒中に薄層形成バインダであるポリビニルブチラール
（Ｂ７９）を溶解し、その後、バナジルフタロシアニン
顔料を、１／８インチ（０．３ｃｍ）直径のステンレス
鋼小球と共に添加することによって調製した。顔料対バ
インダの重量比は、３５：６５であり、５．４％固体分
であった。該分散物を、４日間ロールミルした。この分
散物をろ過してステンレス鋼小球を取り除いた。ミルさ
れた顔料の平均粒子寸法は、０．１０μｍであった。該
混合物を、実施例IIで記述されたドラムと同一の円筒状
ドラムを５０ｍｍ／分の速度とした以外は実施例IIで記
述した方法で該混合物に浸漬し取り出すディップ工程に
よって、基体に対して被覆物として塗布した。塗布され
た電荷発生被覆物を、１０分間１０６℃で強制空気オー
ブン中で乾燥し、厚み０．２μｍを有する層を形成し
た。その後、この被覆光受容体を、実施例Ｉで記述した
ように電荷輸送混合物でディップコートした。被覆され
た電荷輸送被覆物を、実施例Ｉのように乾燥して、厚み
２０μｍを有する層を形成した。

【００４６】〔実施例VIII〕実施例VI及びVII で記述し
たように製造した電子写真画像形成部材を、実施例IVで
記述したように試験した。結果を下記表２に示す。

【００４７】

【表２】

【００４８】この表より、他の種類の溶媒を用いると、
消耗、暗減衰及び感度の損失が増大して電気特性に悪影
響を及ぼすことがわかる。

【００４９】

【発明の効果】本発明は、高品質であり、均一に連続し
た光導電被覆層を有し、最終印刷物に欠陥を生じない電
子写真画像形成部材を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者リチャードエイチ．ニーリーアメリカ合衆国ニューヨーク州 14526 ペンフィールドコーチマンドライヴ 59 (72)発明者ロバートエス．ウォーアメリカ合衆国ニューヨーク州 14580 ウェブスターインペリルドライヴ 1241

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子写真画像形成部材の製造方法であっ
て、被覆されるべき基体を提供すること、アルキル基中に２〜５の炭素原子を有するアルキルアセ
テートを含む溶媒と下記一般式で表される薄層形成ポリ
マーから本質的に成る薄層形成ポリマーとを含む溶液中
に、少なくとも約９６時間ボールミルすることによって
分散された約０．６μｍ未満の平均粒子寸法を有するバ
ナジルフタロシアニン粒子から本質的に成る光導電性顔
料粒子を含む被覆物を形成すること、該被覆物を乾燥して実質的に全ての該アルキルアセテー
ト溶媒を除去して、乾燥した電荷発生層の総重量に基づ
いて約２０〜約４５重量％の顔料粒子を含む乾燥した電
荷発生層を形成すること、並びに、電荷輸送層を形成すること、を含む電子写真画像形成部材の製造方法：【化１】（式中、ｘは、ポリビニルブチラール含量が約５０〜約
７５モル％にあるような数であり、ｙはポリビニルアルコール含量が約１２〜約５０モル％
にあるような数であり、ｚはポリビニルアセテート含量が約０〜１５モル％にあ
るような数を表す）。
【請求項２】前記アルキルアセテートがｎ−ブチルア
セテートである請求項１記載の電子写真画像形成部材の
製造方法。
【請求項３】前記乾燥した電荷発生層が、前記乾燥し
た電荷発生層の総重量に基づいて、約３０〜約４０重量
％の前記光導電性顔料粒子を含む請求項１記載の電子写
真画像形成部材の製造方法。