JPH0746747B2 - 半導体レーザのボンディング方法 - Google Patents
半導体レーザのボンディング方法Info
- Publication number
- JPH0746747B2 JPH0746747B2 JP61212283A JP21228386A JPH0746747B2 JP H0746747 B2 JPH0746747 B2 JP H0746747B2 JP 61212283 A JP61212283 A JP 61212283A JP 21228386 A JP21228386 A JP 21228386A JP H0746747 B2 JPH0746747 B2 JP H0746747B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- laser
- stem
- laser chip
- post
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/023—Mount members, e.g. sub-mount members
- H01S5/02325—Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
- H01S5/02326—Arrangements for relative positioning of laser diodes and optical components, e.g. grooves in the mount to fix optical fibres or lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0235—Method for mounting laser chips
- H01S5/02355—Fixing laser chips on mounts
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49004—Electrical device making including measuring or testing of device or component part
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/4913—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
- Y10T29/49133—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. with component orienting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Die Bonding (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体レーザのボンディング方法に関するもの
である。
である。
従来の技術 一般に、半導体レーザは、第7図に示すようにステム51
から突設された銅のポスト52上に中間チップ53を介して
レーザチップ54を積層した状態でボンディングし、前記
ステム51にPINホトダイオード55を配置し、また前記ス
テム51には3本のピン56、57、58を、その内の1本56は
導通状態で、残りの2本57、58は絶縁状態で装着し、前
記レーザチップ54とPINホトダイオード55をそれぞれ金
線59にて前記ステム51に絶縁状態で装着されたピン57、
58に接続して構成されている。
から突設された銅のポスト52上に中間チップ53を介して
レーザチップ54を積層した状態でボンディングし、前記
ステム51にPINホトダイオード55を配置し、また前記ス
テム51には3本のピン56、57、58を、その内の1本56は
導通状態で、残りの2本57、58は絶縁状態で装着し、前
記レーザチップ54とPINホトダイオード55をそれぞれ金
線59にて前記ステム51に絶縁状態で装着されたピン57、
58に接続して構成されている。
この半導体レーザにおいては、レーザチップ54からの発
光方向、即ち第9図に示すようにポスト52の中心軸線O
に対する発光角度θが一定の誤差範囲内となるように規
制する必要がある。さらに、第8図に示すように、前記
ステム51の表面とレーザチップ54の先端との間の距離A
も、数10μm程度の許容誤差範囲内となるように正確に
規制する必要があり、また中間チップ53の先端からレー
ザチップ54の先端までの間隔δも0〜20μmの範囲に規
制する必要がある。
光方向、即ち第9図に示すようにポスト52の中心軸線O
に対する発光角度θが一定の誤差範囲内となるように規
制する必要がある。さらに、第8図に示すように、前記
ステム51の表面とレーザチップ54の先端との間の距離A
も、数10μm程度の許容誤差範囲内となるように正確に
規制する必要があり、また中間チップ53の先端からレー
ザチップ54の先端までの間隔δも0〜20μmの範囲に規
制する必要がある。
従来、このようにポスト52に対して中間チップ53及びレ
ーザチップ54を正確にボンディングするために、第10図
に示すように、まず工程Iにおいて、中間チップ53に対
してレーザチップ54を外形基準で位置決めしてボンディ
ングし、次に、工程IIにおいて、レーザチップ54をボン
ディングした中間チップ53をポスト52にボンディングす
るという方法が用いられており、前記中間チップ53の位
置決めは、ポスト52にステム51の表面を基準面として形
成された段面60に、中間チップ53の後端面を係合させる
ことによって行なっていた。
ーザチップ54を正確にボンディングするために、第10図
に示すように、まず工程Iにおいて、中間チップ53に対
してレーザチップ54を外形基準で位置決めしてボンディ
ングし、次に、工程IIにおいて、レーザチップ54をボン
ディングした中間チップ53をポスト52にボンディングす
るという方法が用いられており、前記中間チップ53の位
置決めは、ポスト52にステム51の表面を基準面として形
成された段面60に、中間チップ53の後端面を係合させる
ことによって行なっていた。
そして、レーザチップのボンディングが終了した後、レ
ーザチップからの発光方向が一定の誤差範囲内にあるか
どうかの計測を行っていた。
ーザチップからの発光方向が一定の誤差範囲内にあるか
どうかの計測を行っていた。
発明が解決しようとする問題点 ところが、このような方法では、ボンディング完了後に
発光方向を計測しているため、発光方向が一定の許容誤
差範囲を越えている場合に、許容誤差範囲内となるよう
に補正するのは極めて困難であり、大部分は不良品とし
て廃棄処分せざるを得ず、歩どまりが悪いという問題が
あった。
発光方向を計測しているため、発光方向が一定の許容誤
差範囲を越えている場合に、許容誤差範囲内となるよう
に補正するのは極めて困難であり、大部分は不良品とし
て廃棄処分せざるを得ず、歩どまりが悪いという問題が
あった。
尚、レーザチップ54の装着位置、特にその姿勢が正確で
あれば、発光方向も正確である筈であるが、実際にはス
テム51の表面と段面60の間の距離Bの誤差、中間チップ
53の長さCの誤差及び中間チップ53に対するレーザチッ
プ54のボンディング位置の誤差が累積されるために、前
記距離Aの精度を高くするのは困難であり、同様に、前
記段面60の中心軸線Oに対する垂直度や、中間チップ53
の後端面とレーザチップ24の先端面との間の平行度の誤
差が累積するため、発光方向の精度を高めることも極め
て困難である。
あれば、発光方向も正確である筈であるが、実際にはス
テム51の表面と段面60の間の距離Bの誤差、中間チップ
53の長さCの誤差及び中間チップ53に対するレーザチッ
プ54のボンディング位置の誤差が累積されるために、前
記距離Aの精度を高くするのは困難であり、同様に、前
記段面60の中心軸線Oに対する垂直度や、中間チップ53
の後端面とレーザチップ24の先端面との間の平行度の誤
差が累積するため、発光方向の精度を高めることも極め
て困難である。
本発明は従来のこのような問題点を解消し、レーザチッ
プからの発光方向を一定の誤差範囲内に確実に規制でき
る半導体レーザのボンディング方法及び装置を提供する
ことを目的とするものである。
プからの発光方向を一定の誤差範囲内に確実に規制でき
る半導体レーザのボンディング方法及び装置を提供する
ことを目的とするものである。
問題点を解決するための手段 本発明は、上記目的を達成するため、ステムから突出し
たポスト上に、前記ステムの表面から所定量離れた位置
に設けられた位置決め板に当接するよう中間チップを載
置する工程と、前記中間チップから所定量突出するよう
レーザチップを前記中間チップ上に載置する工程と、前
記レーザチップを発光させてその発光方向を計測し、必
要に応じて発光方向を補正した後、前記ポストと前記中
間チップと前記レーザチップとを同時にボンディングす
る工程とを備えているものである。
たポスト上に、前記ステムの表面から所定量離れた位置
に設けられた位置決め板に当接するよう中間チップを載
置する工程と、前記中間チップから所定量突出するよう
レーザチップを前記中間チップ上に載置する工程と、前
記レーザチップを発光させてその発光方向を計測し、必
要に応じて発光方向を補正した後、前記ポストと前記中
間チップと前記レーザチップとを同時にボンディングす
る工程とを備えているものである。
作用 そして、この方法によりポストや中間チップ等の寸法誤
差が累積したり、中間チップの切断面の垂直度によって
誤差を生じたりすることなく、ステム表面からレーザチ
ップ先端までの寸法精度が向上するとともに、レーザチ
ップのボンディング前に発光方向を計測してレーザチッ
プの位置を補正するため、発光方向の誤差を一定の範囲
内とした半導体レーザを得ることができる。
差が累積したり、中間チップの切断面の垂直度によって
誤差を生じたりすることなく、ステム表面からレーザチ
ップ先端までの寸法精度が向上するとともに、レーザチ
ップのボンディング前に発光方向を計測してレーザチッ
プの位置を補正するため、発光方向の誤差を一定の範囲
内とした半導体レーザを得ることができる。
実施例 以下、本発明の一実施例を第1図〜第6図を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
半導体レーザにおいては、第3図、第5図及び第6図に
示すように、銅から成り全表面に金メッキを施されたポ
スト2がステム1から一体的に突設され、このポスト1
の一側に中間チップ3の装着面5が形成されている。中
間チップ3はシリコン小板から成り、その上下両面には
錫メッキが施されている。又、この中間チップ3上にボ
ンディングされるレーザチップ4の上下面には金メッキ
が施されている。
示すように、銅から成り全表面に金メッキを施されたポ
スト2がステム1から一体的に突設され、このポスト1
の一側に中間チップ3の装着面5が形成されている。中
間チップ3はシリコン小板から成り、その上下両面には
錫メッキが施されている。又、この中間チップ3上にボ
ンディングされるレーザチップ4の上下面には金メッキ
が施されている。
次に、ボンディング装置の全体構成を説明する。第2図
〜第4図において、7は、複数のステム1を一列状に保
持したステム集合体6を供給部8と排出部9の間で1ピ
ッチづつ移送する移送装置であり、その途中位置の側部
にステムホルダー10が配置されている。このステムホル
ダー10とステム集合体6の間でステム1を移してステム
ホルダー10上でステム1を位置決めする位置決め装置12
が設けられている。13は、X−Yテーブル14上に設置さ
れたトレー15に多数のレーザチップ4を収容保持させた
レーザチップ供給部であり、16は、X−Yテーブル17上
に設置されたトレー18に多数の中間チップ3を収容保持
させた中間チップ供給部である。
〜第4図において、7は、複数のステム1を一列状に保
持したステム集合体6を供給部8と排出部9の間で1ピ
ッチづつ移送する移送装置であり、その途中位置の側部
にステムホルダー10が配置されている。このステムホル
ダー10とステム集合体6の間でステム1を移してステム
ホルダー10上でステム1を位置決めする位置決め装置12
が設けられている。13は、X−Yテーブル14上に設置さ
れたトレー15に多数のレーザチップ4を収容保持させた
レーザチップ供給部であり、16は、X−Yテーブル17上
に設置されたトレー18に多数の中間チップ3を収容保持
させた中間チップ供給部である。
前記中間チップ供給部16と前記ステムホルダー10の間の
中間位置には中間チップ3の位置を移載途中で規正する
中間規正部19が配設されている。20は、中間チップ3の
移載装置であって、この移載装置20が一方の移動端に位
置するときは、その一端20aはトレー18上に位置すると
ともに他端は中間規正部19上に位置し、他方の移動端に
位置したときは一端20aは中間規正部19上に位置し、他
端20bはステムホルダー10に位置決めされたステム1の
ポスト2上に位置するように構成され、この移載装置20
がその両移動端間で往復移動することにより中間チップ
3を中間チップ供給部16から中間規正部19に移載し、中
間規正部19で位置規正された中間チップ3をポスト2上
に供給するように構成されている。
中間位置には中間チップ3の位置を移載途中で規正する
中間規正部19が配設されている。20は、中間チップ3の
移載装置であって、この移載装置20が一方の移動端に位
置するときは、その一端20aはトレー18上に位置すると
ともに他端は中間規正部19上に位置し、他方の移動端に
位置したときは一端20aは中間規正部19上に位置し、他
端20bはステムホルダー10に位置決めされたステム1の
ポスト2上に位置するように構成され、この移載装置20
がその両移動端間で往復移動することにより中間チップ
3を中間チップ供給部16から中間規正部19に移載し、中
間規正部19で位置規正された中間チップ3をポスト2上
に供給するように構成されている。
前記位置決め装置12の背後にはレーザチップ装着装置21
が配設されている。このレーザチップ装着装置21は、X
−Yテーブル22上に昇降体23を配設し、この昇降体23に
ステッピングモータ等により正確な回転角で回転可能な
ピックアップ装置24が配設されている。また、前記レー
ザチップ供給部13とステムホルダー10の間にはレーザチ
ップ4の吸着位置を光学的に認識する吸着位置認識装置
25が配設されている。そして、前記X−Yテーブル22及
び昇降体23の動作により、前記トレー15上のレーザチッ
プ4をピックアップ装置24で吸着し、吸着位置認識装置
25で吸着位置を認識し、レーザチップ4の位置補正を行
って中間チップ3上に正確に装着するように構成されて
いる。又、レーザチップ4の積層装着時には、ピックア
ップ装置24の回転によりレーザチップ4の回転姿勢も規
正するように構成されている。なお、トレー15のレーザ
チップ4の取り出し位置の上方にはレーザチップを認識
するチップ認識装置26が配設されている。前記ステムホ
ルダー10の前部両側には、第3図に示すように、ポスト
2を両側から挟持するように一対の電極27a、27bが配設
され、第4図に示すようにボンディング用の通電回路28
に接続されている。
が配設されている。このレーザチップ装着装置21は、X
−Yテーブル22上に昇降体23を配設し、この昇降体23に
ステッピングモータ等により正確な回転角で回転可能な
ピックアップ装置24が配設されている。また、前記レー
ザチップ供給部13とステムホルダー10の間にはレーザチ
ップ4の吸着位置を光学的に認識する吸着位置認識装置
25が配設されている。そして、前記X−Yテーブル22及
び昇降体23の動作により、前記トレー15上のレーザチッ
プ4をピックアップ装置24で吸着し、吸着位置認識装置
25で吸着位置を認識し、レーザチップ4の位置補正を行
って中間チップ3上に正確に装着するように構成されて
いる。又、レーザチップ4の積層装着時には、ピックア
ップ装置24の回転によりレーザチップ4の回転姿勢も規
正するように構成されている。なお、トレー15のレーザ
チップ4の取り出し位置の上方にはレーザチップを認識
するチップ認識装置26が配設されている。前記ステムホ
ルダー10の前部両側には、第3図に示すように、ポスト
2を両側から挟持するように一対の電極27a、27bが配設
され、第4図に示すようにボンディング用の通電回路28
に接続されている。
又、ステムホルダー10にて保持されたステム1のポスト
2に供給された中間チップ3を正確に位置決めするため
に、第3図及び第5図に示すように、中間チップ3のチ
ップ押え29と、位置決め板30(第3図では図示省略)
と、この位置決め板30に向かって中間チップ3を押し当
てる押圧片31が設けられている。
2に供給された中間チップ3を正確に位置決めするため
に、第3図及び第5図に示すように、中間チップ3のチ
ップ押え29と、位置決め板30(第3図では図示省略)
と、この位置決め板30に向かって中間チップ3を押し当
てる押圧片31が設けられている。
前記ピックアップ装置24とステムホルダー10間には、第
6図に示すように、ポスト2上に中間チップ3を介して
積層されたレーザチップ4に通電してレーザ発光させる
直流電源32を切替スイッチ33を介して接続されている。
即ち、レーザチップ4には、n型(エピタキシャル側を
上)とp型(エピタキシャル側を下)があり、それぞれ
に対応して印加すべき電圧の正負が逆になるため、切替
スイッチ33にて簡単に切替え得るように構成されてい
る。
6図に示すように、ポスト2上に中間チップ3を介して
積層されたレーザチップ4に通電してレーザ発光させる
直流電源32を切替スイッチ33を介して接続されている。
即ち、レーザチップ4には、n型(エピタキシャル側を
上)とp型(エピタキシャル側を下)があり、それぞれ
に対応して印加すべき電圧の正負が逆になるため、切替
スイッチ33にて簡単に切替え得るように構成されてい
る。
前記ステムホルダー10の前部には、第2図では図示を省
略したが、第4図に示すように、レーザチップ4からの
発光出力を検出すべく、太陽電池を用いた発光出力検出
装置34が配設されている。
略したが、第4図に示すように、レーザチップ4からの
発光出力を検出すべく、太陽電池を用いた発光出力検出
装置34が配設されている。
また、前記ステムホルダー10の前方には、レーザチップ
4からのレーザ光が投射されるスクリーン35と、スクリ
ーン上の像から受光中心を検出する発光中心認識装置36
が配設されている。
4からのレーザ光が投射されるスクリーン35と、スクリ
ーン上の像から受光中心を検出する発光中心認識装置36
が配設されている。
これら各装置は、第4図に示すように、CPU37にて第1
図に示すフローチャートに基づいて制御されるように構
成されている。第4図において、38は操作盤、39は吸着
位置認識装置25及びチップ認識装置26からの信号が入力
されるレーザチップ4の認識回路、40は発光中心認識装
置36からの信号が入力される発光中心認識回路、41は前
記直流電源32及び切替スイッチ33を含み、また発光出力
検出装置34からの信号が入力されるレーザ発光回路、42
は各作動装置のドライバー、43、44はモニターテレビで
ある。
図に示すフローチャートに基づいて制御されるように構
成されている。第4図において、38は操作盤、39は吸着
位置認識装置25及びチップ認識装置26からの信号が入力
されるレーザチップ4の認識回路、40は発光中心認識装
置36からの信号が入力される発光中心認識回路、41は前
記直流電源32及び切替スイッチ33を含み、また発光出力
検出装置34からの信号が入力されるレーザ発光回路、42
は各作動装置のドライバー、43、44はモニターテレビで
ある。
次に、第1図、第5図及び第6図を参照しながら動作を
説明する。まず、位置決め装置12にてステム1を移送装
置7からステムホルダー10上に位置決めするとともに一
対の電極27a、27bにてポスト2を挟持する(ステップ
)。また移載装置20にて中間チップ供給部16から中間
チップ3を取り出すとともに中間規正部19にて位置規正
された中間チップ3をポスト2上に供給する(ステップ
、)。その際、中間規正部19が正常に作動せず、中
間チップ3の位置規正が適正でなかった場合、その中間
チップ3を捨てて(ステップ)、トレー18を移動させ
(ステップ)、次の中間チップ3をポスト2上に供給
する(ステップ、)。次に、ポスト2上に供給され
た中間チップ3の位置決めを行う(ステップ)。詳細
には、第5図に示すように、まず工程Iにおいてポスト
2の装着面5上に中間チップ3が供給されると、チップ
押え29にて中間チップ3を上から押さえた後移載装置20
を上昇させ、次に工程IIにおいて、中間チップ3の位置
決めを行うべく、位置決め板30を前記ステム1の表面か
ら所定距離のポスト2前方位置に突出させるとともに前
記チップ押え29を上昇させた後、中間チップ3の後端を
押圧片31にて前方に押して中間チップ3の前端を位置決
め板30に当接させ、引き続いて、工程IIIにて前記チッ
プ押え29が下降して位置決めされた中間チップ3を押圧
固定し、その後、工程IVでレーザチップ4が中間チップ
3上の所定位置に正確に供給積層される(ステップ
)。このレーザチップ4の供給に当たっては、レーザ
チップ供給部13のトレー15上のレーザチップ4の中心位
置と傾きをチップ認識装置26にて認識し(ステップ
)、レーザチップ4の中心位置や傾きが著しく適正で
ない場合は、トレー15を移動させ(ステップ)、次に
ピックアップ装置24にてレーザチップ4をピックアップ
し(ステップ)、吸着位置認識装置25にてレーザチッ
プ4の吸着位置を認識し(ステップ)、吸着位置が大
きくずれていたり、吸着失敗のために認識自体が適正で
行えない場合には、そのレーザチップ4を捨てて(ステ
ップ)、次のレーザチップ4を吸着するようにすると
ともに、認識できた場合は、ピックアップ装置24の中心
軸心に対する正確な位置及び中心軸心まわりの回転姿勢
等を検出し、それらの位置ずれ及び姿勢の傾きを補正し
て(ステップ)レーザチップ4を正確に中間チップ3
上の所定位置に積層する(ステップ)。次に、ピック
アップ装置24とステム1間に、第6図に示すように、直
流電源32からの電圧を印加してレーザチップ4を発光さ
せ、発光出力検出装置34にて発光出力が適正がどうかを
判断し、適正でない場合は中間チップ3及びレーザチッ
プ4を捨てる(ステップ、)。適正な場合には、次
に発光中心認識装置36及び発光中心認識回路40にて発光
中心がポスト2の軸心Oに対する発光方向θが許容誤差
内であるかどうかを認識し(ステップ)、適正でない
場合はレーザチップ4をピックアップ装置24にて持ち上
げ、レーザチップ4の回転姿勢を補正して(ステップ
)、再び発光中心が適正であるかどうか認識する。適
正でない場合は、上記動作を繰り返し、n0回(通常は
4、5回)繰り返しても適正にならない場合は、そのレ
ーザチップ4及び中間チップ3を捨て(ステップ、
)、次の中間チップ3及びレーザチップ4を積層す
る。レーザチップ4の発光方向が適正であると、ポスト
2を挟持している電極27a、27b間に通電回路28から電圧
を印加してポスト2に通電し、加熱する。すると、ポス
ト2と中間チップ3とレーザチップ4のそれぞれの接合
面では金と錫が接触しているため、290℃で共晶結合を
生じ、これらポスト2と中間チップ3とレーザチップ4
は同時に強固に結合され、一度にボンディングされる
(ステップ)。こうして、1つの半導体レーザのボン
ディングが終了すると、ステム集合体6、トレー18上の
中間チップ3、トレー15上のレーザチップ4がいずれも
存在するかどうか判断し(ステップ)、いずれかを欠
いておれば装置の動作は一旦終了し、いずれも存在して
いると、ステム集合体6内にステム1が存在するかどう
か判断し(ステップ)、ステム1が存在する場合はそ
のまま、また存在しない場合はステム集合体6を供給し
た後(ステップ)、ステム集合体6を1ピッチ送る
(ステップ)。そして、それぞれステップ、、
にそれぞれ戻って、以上の動作を繰り返すことにより、
半導体レーザを順次ボンディングするのである。
説明する。まず、位置決め装置12にてステム1を移送装
置7からステムホルダー10上に位置決めするとともに一
対の電極27a、27bにてポスト2を挟持する(ステップ
)。また移載装置20にて中間チップ供給部16から中間
チップ3を取り出すとともに中間規正部19にて位置規正
された中間チップ3をポスト2上に供給する(ステップ
、)。その際、中間規正部19が正常に作動せず、中
間チップ3の位置規正が適正でなかった場合、その中間
チップ3を捨てて(ステップ)、トレー18を移動させ
(ステップ)、次の中間チップ3をポスト2上に供給
する(ステップ、)。次に、ポスト2上に供給され
た中間チップ3の位置決めを行う(ステップ)。詳細
には、第5図に示すように、まず工程Iにおいてポスト
2の装着面5上に中間チップ3が供給されると、チップ
押え29にて中間チップ3を上から押さえた後移載装置20
を上昇させ、次に工程IIにおいて、中間チップ3の位置
決めを行うべく、位置決め板30を前記ステム1の表面か
ら所定距離のポスト2前方位置に突出させるとともに前
記チップ押え29を上昇させた後、中間チップ3の後端を
押圧片31にて前方に押して中間チップ3の前端を位置決
め板30に当接させ、引き続いて、工程IIIにて前記チッ
プ押え29が下降して位置決めされた中間チップ3を押圧
固定し、その後、工程IVでレーザチップ4が中間チップ
3上の所定位置に正確に供給積層される(ステップ
)。このレーザチップ4の供給に当たっては、レーザ
チップ供給部13のトレー15上のレーザチップ4の中心位
置と傾きをチップ認識装置26にて認識し(ステップ
)、レーザチップ4の中心位置や傾きが著しく適正で
ない場合は、トレー15を移動させ(ステップ)、次に
ピックアップ装置24にてレーザチップ4をピックアップ
し(ステップ)、吸着位置認識装置25にてレーザチッ
プ4の吸着位置を認識し(ステップ)、吸着位置が大
きくずれていたり、吸着失敗のために認識自体が適正で
行えない場合には、そのレーザチップ4を捨てて(ステ
ップ)、次のレーザチップ4を吸着するようにすると
ともに、認識できた場合は、ピックアップ装置24の中心
軸心に対する正確な位置及び中心軸心まわりの回転姿勢
等を検出し、それらの位置ずれ及び姿勢の傾きを補正し
て(ステップ)レーザチップ4を正確に中間チップ3
上の所定位置に積層する(ステップ)。次に、ピック
アップ装置24とステム1間に、第6図に示すように、直
流電源32からの電圧を印加してレーザチップ4を発光さ
せ、発光出力検出装置34にて発光出力が適正がどうかを
判断し、適正でない場合は中間チップ3及びレーザチッ
プ4を捨てる(ステップ、)。適正な場合には、次
に発光中心認識装置36及び発光中心認識回路40にて発光
中心がポスト2の軸心Oに対する発光方向θが許容誤差
内であるかどうかを認識し(ステップ)、適正でない
場合はレーザチップ4をピックアップ装置24にて持ち上
げ、レーザチップ4の回転姿勢を補正して(ステップ
)、再び発光中心が適正であるかどうか認識する。適
正でない場合は、上記動作を繰り返し、n0回(通常は
4、5回)繰り返しても適正にならない場合は、そのレ
ーザチップ4及び中間チップ3を捨て(ステップ、
)、次の中間チップ3及びレーザチップ4を積層す
る。レーザチップ4の発光方向が適正であると、ポスト
2を挟持している電極27a、27b間に通電回路28から電圧
を印加してポスト2に通電し、加熱する。すると、ポス
ト2と中間チップ3とレーザチップ4のそれぞれの接合
面では金と錫が接触しているため、290℃で共晶結合を
生じ、これらポスト2と中間チップ3とレーザチップ4
は同時に強固に結合され、一度にボンディングされる
(ステップ)。こうして、1つの半導体レーザのボン
ディングが終了すると、ステム集合体6、トレー18上の
中間チップ3、トレー15上のレーザチップ4がいずれも
存在するかどうか判断し(ステップ)、いずれかを欠
いておれば装置の動作は一旦終了し、いずれも存在して
いると、ステム集合体6内にステム1が存在するかどう
か判断し(ステップ)、ステム1が存在する場合はそ
のまま、また存在しない場合はステム集合体6を供給し
た後(ステップ)、ステム集合体6を1ピッチ送る
(ステップ)。そして、それぞれステップ、、
にそれぞれ戻って、以上の動作を繰り返すことにより、
半導体レーザを順次ボンディングするのである。
なお、上記実施例ではポスト2は銅から成り、中間チッ
プ3はシリコンから成るものを例示したが、これらの材
質は任意に選定可能である。また、中間チップ3やレー
ザチップ4を位置決めして供給する具体的な手順等も種
々変更して実施することが可能である。さらに、中間チ
ップ3を省略してポスト2上に直接レーザチップ4をボ
ンディングしてもよい。本発明は、要するにポストに対
して直接又は中間チップを介してレーザチップを積層状
態で位置決めした状態で、レーザチップを発光させて発
光方向を認識し、発光方向が適正となるようにレーザチ
ップの姿勢を補正した後、レーザチップをボンディング
することをその要旨とするものであり、この要旨に沿っ
て任意の態様で実施することができる。
プ3はシリコンから成るものを例示したが、これらの材
質は任意に選定可能である。また、中間チップ3やレー
ザチップ4を位置決めして供給する具体的な手順等も種
々変更して実施することが可能である。さらに、中間チ
ップ3を省略してポスト2上に直接レーザチップ4をボ
ンディングしてもよい。本発明は、要するにポストに対
して直接又は中間チップを介してレーザチップを積層状
態で位置決めした状態で、レーザチップを発光させて発
光方向を認識し、発光方向が適正となるようにレーザチ
ップの姿勢を補正した後、レーザチップをボンディング
することをその要旨とするものであり、この要旨に沿っ
て任意の態様で実施することができる。
発明の効果 本発明によればポストや中間チップ等の寸法誤差が累積
したり、中間チップの切断面の垂直度によって誤差を生
じたりすることなく、ステム表面からレーザチップ先端
までの寸法精度が向上するとともに、レーザチップのボ
ンディング前に発光方向を計測してレーザチップの位置
を補正するため、発光方向の誤差を一定の範囲内とした
半導体レーザを得ることができる。
したり、中間チップの切断面の垂直度によって誤差を生
じたりすることなく、ステム表面からレーザチップ先端
までの寸法精度が向上するとともに、レーザチップのボ
ンディング前に発光方向を計測してレーザチップの位置
を補正するため、発光方向の誤差を一定の範囲内とした
半導体レーザを得ることができる。
第1図は本発明方法の一実施例のフローチャート、第2
図は本発明の方法に用いる装置の一実施例の全体斜視
図、第3図は同要部の斜視図、第4図は同実施例のブロ
ック図、第5図は中間チップの位置決め工程図、第6図
はレーザ発光時の状態を示す斜視図、第7図は半導体レ
ーザの要部の斜視図、第8図は同寸法関係を示す側面
図、第9図は半導体レーザの発光状態の要部の斜視図、
第10図は従来例の工程図である。 2……ポスト 3……中間チップ 4……レーザチップ 24……ピックアップ装置(レーザチップ供給手段) 27a……電極(ボンディング手段) 27b……電極(ボンディング手段) 28……通電回路(ボンディング手段) 36……発光中心認識装置(計測手段) 41……レーザ発光回路(レーザ発光手段)。
図は本発明の方法に用いる装置の一実施例の全体斜視
図、第3図は同要部の斜視図、第4図は同実施例のブロ
ック図、第5図は中間チップの位置決め工程図、第6図
はレーザ発光時の状態を示す斜視図、第7図は半導体レ
ーザの要部の斜視図、第8図は同寸法関係を示す側面
図、第9図は半導体レーザの発光状態の要部の斜視図、
第10図は従来例の工程図である。 2……ポスト 3……中間チップ 4……レーザチップ 24……ピックアップ装置(レーザチップ供給手段) 27a……電極(ボンディング手段) 27b……電極(ボンディング手段) 28……通電回路(ボンディング手段) 36……発光中心認識装置(計測手段) 41……レーザ発光回路(レーザ発光手段)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 甲斐野 真次 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭56−24941(JP,A) 特開 昭60−12786(JP,A) 特開 昭60−177636(JP,A) 特開 昭58−70592(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】ステムから突出したポスト上に、前記ステ
ムの表面から所定量離れた位置に設けられた位置決め板
に当接するよう中間チップを載置する工程と、前記中間
チップから所定量突出するようレーザチップを前記中間
チップに載置する工程と、前記レーザチップを発光させ
てその発光方向を計測し、必要に応じて発光方向を補正
した後、前記ポストと前記中間チップと前記レーザチッ
プとを同時にボンディングする工程とを備えてなる半導
体レーザのボンディング方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61212283A JPH0746747B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 半導体レーザのボンディング方法 |
EP87113055A EP0259816B1 (en) | 1986-09-09 | 1987-09-07 | Method for bonding semiconductor laser element and apparatus therefor |
DE8787113055T DE3779228D1 (de) | 1986-09-09 | 1987-09-07 | Methode und apparat zum befestigen eines halbleiterlaserelementes. |
KR1019870009910A KR910005314B1 (ko) | 1986-09-09 | 1987-09-08 | 반도체 레이저의 본딩방법 및 그 장치 |
US07/093,678 US4817849A (en) | 1986-09-09 | 1987-09-08 | Method for bonding semiconductor laser element and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61212283A JPH0746747B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 半導体レーザのボンディング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6367793A JPS6367793A (ja) | 1988-03-26 |
JPH0746747B2 true JPH0746747B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=16620035
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61212283A Expired - Fee Related JPH0746747B2 (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | 半導体レーザのボンディング方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4817849A (ja) |
EP (1) | EP0259816B1 (ja) |
JP (1) | JPH0746747B2 (ja) |
KR (1) | KR910005314B1 (ja) |
DE (1) | DE3779228D1 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8807729D0 (en) * | 1988-03-31 | 1988-05-05 | British Telecomm | Device mounting |
FR2651025B1 (fr) * | 1989-08-18 | 1991-10-18 | Commissariat Energie Atomique | Assemblage de pieces faisant un angle entre elles et procede d'obtention de cet assemblage |
CA2034702A1 (en) * | 1990-01-23 | 1991-07-24 | Masanori Nishiguchi | Method for packaging semiconductor device |
JP2547895B2 (ja) * | 1990-03-20 | 1996-10-23 | シャープ株式会社 | 半導体装置の実装方法 |
US5262355A (en) * | 1990-06-19 | 1993-11-16 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for packaging a semiconductor device |
US5264392A (en) * | 1990-07-05 | 1993-11-23 | At&T Bell Laboratories | Fabrication technique for silicon-based optical subassemblies |
JP2811613B2 (ja) * | 1991-09-02 | 1998-10-15 | ティーディーケイ株式会社 | 電子部品の製造方法及び装置 |
US5230145A (en) * | 1992-07-15 | 1993-07-27 | At&T Bell Laboratories | Assembly including patterned diamond film submount with self-aligned laser device |
JPH06132613A (ja) * | 1992-10-14 | 1994-05-13 | Fujitsu Ltd | 半導体レーザ装置 |
US5322463A (en) * | 1993-04-02 | 1994-06-21 | At&T Bell Laboratories | Process and apparatus for assembling a laser |
JP2825088B2 (ja) * | 1996-11-19 | 1998-11-18 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造装置およびその製造方法 |
JP3301347B2 (ja) * | 1997-04-22 | 2002-07-15 | 松下電器産業株式会社 | 導電性ボールの搭載装置および搭載方法 |
KR19990029741A (ko) * | 1997-09-29 | 1999-04-26 | 갈라스 윌리엄 이 | 금 도금되는 땜납 재료와 땜납을 이용하여 플럭스 없이 납땜하는 방법 |
JP3328878B2 (ja) * | 1998-10-26 | 2002-09-30 | 澁谷工業株式会社 | ボンディング装置 |
JP4050865B2 (ja) | 1999-12-01 | 2008-02-20 | シャープ株式会社 | 半導体レーザ装置及びその製造方法及びそれを用いた光ピックアップ |
JP2001338935A (ja) * | 2000-05-26 | 2001-12-07 | Nidec Copal Corp | ダイボンディング装置 |
JP3538602B2 (ja) | 2000-06-28 | 2004-06-14 | シャープ株式会社 | 半導体レーザー装置の製造方法および半導体レーザー装置の製造装置 |
DE10038510C2 (de) * | 2000-08-08 | 2002-11-07 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur Kontaktierung elektronischer Schaltungen und elektronische Schaltung |
US6956999B2 (en) | 2001-02-20 | 2005-10-18 | Cyberoptics Corporation | Optical device |
US6546173B2 (en) * | 2001-02-20 | 2003-04-08 | Avanti Optics Corporation | Optical module |
US6443631B1 (en) | 2001-02-20 | 2002-09-03 | Avanti Optics Corporation | Optical module with solder bond |
US6546172B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-04-08 | Avanti Optics Corporation | Optical device |
US20040212802A1 (en) | 2001-02-20 | 2004-10-28 | Case Steven K. | Optical device with alignment compensation |
WO2003058720A1 (de) * | 2002-01-09 | 2003-07-17 | Infineon Technologies Ag | Photodiodenanordnung und verfahren zur herstellung einer verbindung zwischen einem ersten halbleiterbauelement und einem zweiten halbleiterbauelement |
AU2003263942A1 (en) * | 2002-08-20 | 2004-03-11 | Cyberoptics Corporation | Optical alignment mount with height adjustment |
JP2006135245A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Sharp Corp | 半導体レーザ装置の製造方法および半導体レーザ装置 |
JP5082671B2 (ja) * | 2007-08-16 | 2012-11-28 | 富士通株式会社 | はんだ修正装置およびはんだ修正方法 |
JP6305127B2 (ja) * | 2014-03-12 | 2018-04-04 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ光源 |
CN109712918B (zh) * | 2018-12-29 | 2021-03-16 | 铜陵富仕三佳机器有限公司 | 芯片检测收集设备及其使用方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3448280A (en) * | 1966-11-02 | 1969-06-03 | Western Electric Co | Apparatus for positioning workpiece to aline a cavity therein with a light beam |
JPS5624941A (en) * | 1979-08-07 | 1981-03-10 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of semiconductor device |
FR2498003A1 (fr) * | 1981-01-13 | 1982-07-16 | Thomson Csf | Procede de fixation d'une piece en ferrite sur une piece metallique, dispositif hyperfrequence obtenu par ce procede et utilisation d'un tel dispositif |
US4443494A (en) * | 1981-02-17 | 1984-04-17 | Dentsply Research And Development Corporation | Method for joining objects |
US4389557A (en) * | 1981-08-17 | 1983-06-21 | Northern Telecom Limited | Semiconductor laser bonding technique |
JPS6012786A (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-23 | Hitachi Ltd | 発光装置の製造方法 |
US4557043A (en) * | 1983-12-05 | 1985-12-10 | Rca Corporation | Component lead processing apparatus |
JPS60177636A (ja) * | 1984-02-23 | 1985-09-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体と金属の接合方法 |
JPS61174688A (ja) * | 1985-01-29 | 1986-08-06 | Rohm Co Ltd | 半導体レ−ザ用発光性半導体チツプのダイボンデング位置設定方法 |
-
1986
- 1986-09-09 JP JP61212283A patent/JPH0746747B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-09-07 EP EP87113055A patent/EP0259816B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-07 DE DE8787113055T patent/DE3779228D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-08 US US07/093,678 patent/US4817849A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-08 KR KR1019870009910A patent/KR910005314B1/ko not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0259816A2 (en) | 1988-03-16 |
EP0259816B1 (en) | 1992-05-20 |
KR880004726A (ko) | 1988-06-07 |
KR910005314B1 (ko) | 1991-07-24 |
DE3779228D1 (de) | 1992-06-25 |
US4817849A (en) | 1989-04-04 |
JPS6367793A (ja) | 1988-03-26 |
EP0259816A3 (en) | 1989-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0746747B2 (ja) | 半導体レーザのボンディング方法 | |
US6208419B1 (en) | Method of and apparatus for bonding light-emitting element | |
JPH06317729A (ja) | レーザ・アレイをファイバ・アレイに整合させる方法、装置及び整合体 | |
EP4231339B1 (en) | Bonding system and bonding method | |
JP2000299501A (ja) | 発光素子のボンディング方法および装置 | |
US6867508B2 (en) | Method and apparatus for fabricating semiconductor laser device | |
JP2000150970A (ja) | 発光素子のボンディング方法および装置 | |
JP4562309B2 (ja) | チップボンディング方法およびその装置 | |
JP3379818B2 (ja) | 多ビーム半導体レーザーの製造方法 | |
CN112218517B (zh) | 安装装置 | |
JP3986196B2 (ja) | 光半導体装置の製造方法 | |
US6998279B2 (en) | Method of mounting light emitting element | |
JPH07105575B2 (ja) | 光素子のダイボンディング方法及びそのダイボンディング装置 | |
JPH11219974A (ja) | チップ認識装置およびこれを備えたチップ実装装置 | |
JP3209623B2 (ja) | マウンタ | |
JP2006351875A (ja) | 半導体モジュールの製造方法および半導体モジュールの製造装置 | |
TWI819619B (zh) | 發光二極體檢測裝置和發光二極體檢測方法 | |
JP2003133340A (ja) | 半導体デバイスの製造方法及び装置、並びに検査方法 | |
JPH0462998A (ja) | 画像素子アレイチップの搭載方法 | |
JPS6140040A (ja) | 発光素子のダイスボンデイング位置決め方法 | |
JPH0746743B2 (ja) | 半導体レーザのボンディング方法 | |
WO2023032036A1 (ja) | 通電検査装置及び通電検査方法 | |
JPH0645652A (ja) | 光学ヘッドのダイボンディング装置及びダイボンディング方法 | |
JPWO2023032036A5 (ja) | ||
JP2000286452A (ja) | 発光素子の発光中心検出方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |