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JPH07330475A - Production of joined body consisting of ceramics and metal - Google Patents

Production of joined body consisting of ceramics and metal

Info

Publication number
JPH07330475A
JPH07330475A JP12367494A JP12367494A JPH07330475A JP H07330475 A JPH07330475 A JP H07330475A JP 12367494 A JP12367494 A JP 12367494A JP 12367494 A JP12367494 A JP 12367494A JP H07330475 A JPH07330475 A JP H07330475A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
circuit
copper
ceramics
spacer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12367494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Kageyama
俊之 蔭山
Yoshiyuki Nakamura
美幸 中村
Koichi Uchino
紘一 内野
Akira Miyai
明 宮井
Akira Kinoshita
彰 木下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denki Kagaku Kogyo KK filed Critical Denki Kagaku Kogyo KK
Priority to JP12367494A priority Critical patent/JPH07330475A/en
Publication of JPH07330475A publication Critical patent/JPH07330475A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce joined bodies each consisting of ceramics and a metal with remarkably improved productivity without deteriorating the surface state of the metal or the metal-ceramics joined state. CONSTITUTION:When a metallic circuit and/or a metallic sheet for forming a metallic circuit is laminated on ceramics optionally with a brazing filler metal contg. an active metal in-between and the resultant laminated body is joined by heating, two or more such laminated bodies are superposed while interposing a metallic spacer with a nonoxide layer on the surface and joining is carried out by heating.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、セラミックスと金属回
路及び/又は金属回路形成用金属板の金属からなる接合
体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a joined body composed of ceramics and a metal circuit and / or a metal plate for forming a metal circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、セラミックス基板に金属回路又は
金属回路形成用金属板を接合する方法としては、活性金
属を含むろう材を介在させた、セラミックス基板と金属
回路及び/又は金属回路形成用金属板との積層体を高真
空下で加熱接合する活性金属法(特開昭60−1776
34号公報)、酸化物セラミックス基板又は表面を酸化
処理してなる窒化アルミニウム基板と銅回路及び/又は
銅回路形成用銅板との直接積層体を銅の融点以下、Cu
−Oの共晶温度以上で加熱接合するDBC法(特開昭5
6−163093号公報)が一般的に採用されている。
更には、セラミックス基板にSi、Al、Mg、Ca、
Fe等の金属酸化物を介してMo、Mn、W等の高融点
金属によるメタライズ処理を行ってから活性金属を含ま
ないろう材を介して金属回路及び/又は金属回路形成用
金属板を積層しそれを高真空下で加熱接合するメタライ
ズ法もある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of joining a metal circuit or a metal plate for forming a metal circuit to a ceramic substrate, a ceramic substrate and a metal circuit and / or a metal for forming a metal circuit with a brazing material containing an active metal interposed therebetween. Active metal method of heat-bonding a laminate with a plate under high vacuum (Japanese Patent Laid-Open No. 60-1776).
34), a direct laminate of an oxide ceramics substrate or an aluminum nitride substrate obtained by oxidizing the surface and a copper circuit and / or a copper plate for forming a copper circuit is formed at a temperature not higher than the melting point of copper.
DBC method in which heat bonding is performed at a eutectic temperature of -O or higher
No. 6-163093) is generally adopted.
Furthermore, Si, Al, Mg, Ca,
After metallizing with a refractory metal such as Mo, Mn, and W through a metal oxide such as Fe, a metal circuit and / or a metal plate for forming a metal circuit is laminated through a brazing material containing no active metal. There is also a metallizing method in which it is heated and joined under high vacuum.

【0003】[0003]

【発明が解決しょうとする課題】しかしながら、上記活
性金属法又はDBC法は、セラミックス基板と金属回路
及び/又は金属回路形成用金属板との積層体を1ユニッ
トとして加熱接合されるものであるため生産性が劣っ
た。この欠点を解決するには、2以上のユニットを積層
し加熱処理すればよいが、この場合には、金属同士が融
着し剥離が困難になるという問題がある。
However, in the active metal method or the DBC method, the laminated body of the ceramic substrate and the metal circuit and / or the metal plate for forming the metal circuit is heat-bonded as one unit. Productivity was poor. In order to solve this drawback, two or more units may be laminated and heat treated, but in this case, there is a problem that the metals are fused and peeling becomes difficult.

【0004】そこで、ユニット間にスペーサーを介して
加熱接合する手法が検討実施されている。これに使用す
るスペーサーの要求特性として、容積が小さい、化学的
に安定である、繰り返し使用ができる、ズレない、入手
が容易である等の観点からセラミックスの薄板がスペー
サーとして採用されている。
Therefore, a method of heating and joining the units via a spacer has been studied. As a required characteristic of the spacer used for this purpose, a thin ceramic plate is adopted as the spacer from the viewpoints of a small volume, chemical stability, repeated use, no deviation, and easy availability.

【0005】ところが、スペーサーとしてセラミックス
を用いると、金属回路及び/又は金属回路形成用金属板
と接合されるセラミックス基板及び/又は上記スペーサ
ーとするセラミックス基板に著しい反りがある場合、ス
ペーサーに挟まれた金属回路及び/又は金属回路形成用
金属板とセラミックス基板に荷重を負荷しながら加熱接
合しても、金属回路及び/又は金属回路形成用金属板と
セラミックス基板間に非接触部及び/又は密着不足部が
生じ接合不良が起きるという問題がある。
However, when ceramics are used as the spacers, when the ceramic substrate joined to the metal circuit and / or the metal plate for forming the metal circuit and / or the ceramic substrate serving as the spacer has a significant warp, it is sandwiched between the spacers. Even if the metal circuit and / or the metal plate for forming a metal circuit and the ceramic substrate are heat-bonded while applying a load, a non-contact portion and / or insufficient adhesion between the metal circuit and / or the metal plate for forming a metal circuit and the ceramic substrate There is a problem that a part is generated and a joint failure occurs.

【0006】そこで、スペーサーが処理後容易に復元で
きる変形であれば、加熱処理時にセラミックス基板の反
りに合わせて変形し、金属回路及び/又は金属回路形成
用金属板をセラミックス基板の形状に追従させ良好な接
合を得ることが可能となる筈である。この観点から種々
検討した結果、非酸化物層を表面にもつ金属がスペーサ
ーとして好適であることを見いだし、本発明を完成させ
たものである。
Therefore, if the spacer is deformable so that it can be easily restored after the treatment, it is deformed in accordance with the warpage of the ceramic substrate during the heat treatment, and the metal circuit and / or the metal plate for forming the metal circuit is made to follow the shape of the ceramic substrate. It should be possible to obtain good bonding. As a result of various studies from this viewpoint, the inventors have found that a metal having a non-oxide layer on the surface is suitable as a spacer, and completed the present invention.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、セ
ラミックスと金属回路及び/又は金属回路形成用金属板
とを活性金属を含むろう材を介在させ又は介在させない
で積層された積層体を加熱接合するにあたり、上記積層
体を1ユニットとする2以上のユニットを非酸化物層を
表面にもつ金属からなるスぺーサーを介して積層し、そ
れを加熱接合することを特徴とするセラミックスと金属
からなる接合体の製造方法である。
That is, according to the present invention, a laminated body in which ceramics and a metal circuit and / or a metal plate for forming a metal circuit are laminated with or without a brazing material containing an active metal is heated. At the time of joining, two or more units each having the above-mentioned laminated body as one unit are laminated via a spacer made of a metal having a non-oxide layer on the surface, and the two are heat-joined, which is characterized by being a ceramic and a metal. Is a method for producing a joined body.

【0008】以下、更に詳しく本発明を説明すると、本
発明で使用されるセラミックス基板、金属回路又は金属
回路形成用金属板、活性金属を含むろう材等について
は、従来のもので充分であり、それらの概要を説明すれ
ば以下のとおりである。
The present invention will be described in more detail below. As for the ceramic substrate, the metal circuit or the metal plate for forming the metal circuit, the brazing material containing the active metal, etc. used in the present invention, the conventional ones are sufficient. The outline of them is as follows.

【0009】セラミックス基板としては、窒化アルミニ
ウム基板、アルミナ基板、ムライト基板等が用いられ、
中でも活性金属とメタライズ法においては窒化アルミニ
ウム基板、DBC法においてはアルミナ基板、ムライト
基板及び表面が酸化処理された窒化アルミニウム基板等
が用いられ、セラミックス基板の厚みは0.635mm
が一般的であるが、特に限定されるものではない。
As the ceramic substrate, an aluminum nitride substrate, an alumina substrate, a mullite substrate, etc. are used.
Among them, an aluminum nitride substrate is used in the active metal and metallizing method, an alumina substrate, a mullite substrate, an aluminum nitride substrate whose surface is oxidized, and the like are used in the DBC method. The thickness of the ceramic substrate is 0.635 mm.
Is general, but is not particularly limited.

【0010】金属回路及び/又は金属回路形成用金属板
の材質としては、DBC法の場合は銅であり、活性金属
法とメタライズ法の場合には、銅、アルミニウム、タン
グステン、モリブデン等であるが、銅が一般的である。
通常、金属回路及び/又は金属回路形成用金属板は、セ
ラミックス基板の一方の面に接合され、他方の面には金
属放熱板が接合されるが、金属放熱板を設けない構造も
ある。金属放熱板の材質についても上記のものが使用さ
れる。
The material of the metal circuit and / or the metal plate for forming the metal circuit is copper in the case of the DBC method, and copper, aluminum, tungsten, molybdenum, etc. in the case of the active metal method and the metallizing method. , Copper is common.
Usually, the metal circuit and / or the metal plate for forming the metal circuit is bonded to one surface of the ceramic substrate and the metal heat radiating plate is bonded to the other surface, but there is a structure in which the metal heat radiating plate is not provided. The above-mentioned materials are also used as the material of the metal radiator plate.

【0011】活性金属法におけるろう材の金属成分は、
銀と銅を主成分とし、溶融時のセラミックス基板との濡
れ性を確保するために活性金属を副成分とする。この活
性金属成分の具体例をあげれば、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム及びこ
れらを成分とする化合物、合金である。これらの金属成
分の割合としては、銀69〜75重量部と銅25〜31
重量部の合計量100重量部あたり活性金属3〜35重
量部である。
The metal component of the brazing filler metal in the active metal method is
It contains silver and copper as main components, and an active metal as a sub-component in order to ensure wettability with the ceramic substrate during melting. Specific examples of the active metal component include titanium, zirconium, hafnium, niobium, tantalum, vanadium and compounds and alloys containing these components. The ratio of these metal components is 69 to 75 parts by weight of silver and 25 to 31 of copper.
3 to 35 parts by weight of the active metal per 100 parts by weight of the total weight part.

【0012】活性金属法又はメタライズ法で使用される
ろう材は、通常、ペーストとして用いられ、それはろう
材の金属成分に有機溶剤及び必要に応じて有機結合剤を
加え、ロール、ニーダ、バンバリミキサー、万能混合
機、らいかい機等で混合することによって調製すること
ができる。有機溶剤としては、メチルセルソルブ、エチ
ルセルソルブ、テレピネオール、イソホロン、トルエン
等、また有機結合剤としては、メチルセルロース、エチ
ルセルロース、ポリメチルメタクリレート等が使用され
る。
The brazing filler metal used in the active metal method or the metallizing method is usually used as a paste, which is prepared by adding an organic solvent and, if necessary, an organic binder to the metal component of the brazing filler metal, and using a roll, kneader or Banbury mixer. It can be prepared by mixing with a universal mixer, a ladle mixer or the like. As the organic solvent, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, terpineol, isophorone, toluene, etc., and as the organic binder, methyl cellulose, ethyl cellulose, polymethyl methacrylate, etc. are used.

【0013】活性金属法又はメタライズ法の場合には、
ろう材ペーストは、スクリーン印刷、ロールコーター
法、刷毛塗り等によってセラミックス基板の表裏両面に
塗布され、次いでその一方の面に金属回路及び/又は金
属回路形成用金属板が、また他方の面には金属放熱板が
通常は積層されて積層体の1ユニットが形成される。D
BC法の場合には、ろう材ペーストを用いることなく直
接銅回路及び/又は銅回路形成用銅板とセラミックス基
板とが積層されて積層体の1ユニットが形成される。
In the case of the active metal method or metallization method,
The brazing material paste is applied to both the front and back surfaces of the ceramic substrate by screen printing, roll coater method, brush coating, etc., and then the metal circuit and / or metal circuit forming metal plate is formed on one surface of the ceramic substrate and the other surface is formed on the other surface. Metal heat sinks are typically stacked to form one unit of a stack. D
In the case of the BC method, a copper circuit and / or a copper plate for forming a copper circuit and a ceramics substrate are directly laminated without using a brazing paste to form one unit of a laminated body.

【0014】本発明は、活性金属法又はメタライズ法で
形成された積層体を1ユニットとする2以上のユニット
同士又はDBC法で形成された積層体を1ユニットとす
る2以上のユニット同士を非酸化物層を表面に持つ金属
からなるスペーサーを介して積層し、それを加熱処理し
て接合するものである。加熱処理条件は、活性金属法又
はメタライズ法によるユニットの積層体の場合には、1
×10-5Torrの高真空下、温度800〜950℃、
0.1〜1時間であり、一方、DBC法によるユニット
の積層体の場合には、N2 等の非酸化性雰囲気中、10
63〜1083℃である。
According to the present invention, two or more units each having a laminated body formed by the active metal method or the metallization method as one unit or two or more units each having a laminated body formed by the DBC method as one unit are not included. This is to laminate by interposing a spacer made of a metal having an oxide layer on the surface and heat-treating it. The heat treatment condition is 1 in the case of a unit laminate by the active metal method or the metallization method.
At a temperature of 800 to 950 ° C. under high vacuum of 10 −5 Torr
0.1 to 1 hour. On the other hand, in the case of a laminated body of units by the DBC method, 10 in a non-oxidizing atmosphere such as N 2
It is 63-1083 degreeC.

【0015】本発明は、スペーサーとして非酸化物層を
表面にもつ金属を用いたことが大きな特徴である。具体
的には、銅、モリブデン、タングステン等の金属表面
に、黒鉛又はBNをスプレー法、化学気相熱分解法等に
よってコーティングしたものである。また、金属表面を
コーティングする前に、繰り返し使用における耐久性の
点から金属表面を粗化することが好ましい。スペーサー
の広さについては、積層体の広さと同程度でよく、あま
りにも狭いと荷重不足により周囲部分に接合不良が生
じ、またあまりにも広くなると積層体自体又は積層体間
同士にズレが生じて接合不良ができたり崩れを起こした
りする。また、厚みについては、取扱い性、繰り返し使
用における耐久性、容積効率の点から0.1〜1mmで
あることが好ましい。なお、本発明においては、荷重ム
ラを防ぐためにスペーサーを挟んで積層された複数ユニ
ットの最上面にタングステン、タンタル、モリブデン、
BN、Si3 4 等の重しを載せることが好ましい。
A major feature of the present invention is that a metal having a non-oxide layer on its surface is used as a spacer. Specifically, the surface of a metal such as copper, molybdenum, or tungsten is coated with graphite or BN by a spray method, a chemical vapor deposition method, or the like. In addition, before coating the metal surface, it is preferable to roughen the metal surface from the viewpoint of durability in repeated use. The width of the spacer may be the same as the width of the laminated body. If it is too narrow, the joint may fail due to insufficient load, and if it is too wide, a gap may occur between the laminate itself or between the laminates. Poor bonding or breakage. Further, the thickness is preferably 0.1 to 1 mm from the viewpoints of handleability, durability in repeated use, and volume efficiency. Incidentally, in the present invention, tungsten, tantalum, molybdenum, on the uppermost surface of the plurality of units stacked with a spacer interposed therebetween in order to prevent uneven load,
It is preferable to put a weight such as BN or Si 3 N 4 .

【0016】[0016]

【実施例】以下、実施例と比較例をあげて更に具体的に
説明する。
EXAMPLES Hereinafter, examples and comparative examples will be described in more detail.

【0017】実施例1 窒化アルミニウム基板(70mm×30mm×厚み0.
635mm)の表裏両面に、銀粉末72重量部、銅粉末
28重量部、ジルコニウム粉末25重量部、テレピネオ
ール15重量部および有機結合剤としてエチルセルロー
スのトルエン溶液を固形分で1重量部混合して得られた
ろう材ペーストを7mg/cm2 (乾燥後)塗布し乾燥
後、銅回路形成用銅板(70mm×30mm×厚み0.
25mm)を表裏両面に積層した。
Example 1 Aluminum nitride substrate (70 mm × 30 mm × thickness: 0.
635 mm) on both sides, silver powder 72 parts by weight, copper powder 28 parts by weight, zirconium powder 25 parts by weight, terpineol 15 parts by weight, and 1 part by weight of a toluene solution of ethyl cellulose as an organic binder in solid content. A brazing filler metal paste was applied at 7 mg / cm 2 (after drying) and dried, and then a copper plate for forming a copper circuit (70 mm × 30 mm × thickness: 0.
25 mm) was laminated on both front and back surfaces.

【0018】得られた積層体を1ユニットとする25ユ
ニットを各ユニット間にスペーサーとしてカーボンスプ
レー(日本船舶工具社製商品名「DGF」)によってコ
ーティングした銅板(70mm×30mm×厚み0.3
mm)を介在させて積層し、その最上面に8g/cm2
のタングステン重しを載せてから炉に投入し、高真空
中、900℃、30分加熱して接合体を製造した。
A copper plate (70 mm × 30 mm × thickness 0.3) coated with carbon spray (product name “DGF” manufactured by Nippon Ship Tool Co., Ltd.) as a spacer between each unit of 25 units of which the obtained laminate is one unit
mm), and 8g / cm 2 on the uppermost surface.
Then, the tungsten weight was placed in a furnace and heated in a high vacuum at 900 ° C. for 30 minutes to manufacture a joined body.

【0019】得られた接合体の銅板上に紫外線硬化型の
エッチングレジストをスクリーン印刷にて回路パターン
に塗布後、塩化第2銅溶液を用いてエッチング処理を行
って銅箔不要部分を溶解除去し、銅回路を形成した。更
に、銅回路間に残留した不要ろう材及び活性金属成分と
窒化アルミニウム基板の反応物を60℃の10%フッ化
アンモニウム溶液に10分間浸漬して除去した後、エッ
チングレジストを剥離し、銅回路を有する接合体を製造
した。
An ultraviolet-curable etching resist is applied to the circuit pattern by screen printing on the copper plate of the obtained joined body, and then an etching treatment is performed using a cupric chloride solution to dissolve and remove unnecessary portions of the copper foil. , Formed a copper circuit. Further, after removing the unnecessary brazing material and the active metal component remaining between the copper circuits and the reaction product of the aluminum nitride substrate by immersing them in a 10% ammonium fluoride solution at 60 ° C. for 10 minutes to remove the etching resist, Was produced.

【0020】得られた25枚の銅回路を有する接合体に
ついて、銅回路の表面状態、銅回路の接合状態、スペー
サーの付着状態と繰り返し使用寿命、及び積層体を積層
する際のスペーサーのズレを以下に従って測定した。そ
れらの結果を表1に示す。
Regarding the obtained joined body having 25 copper circuits, the surface condition of the copper circuit, the joined condition of the copper circuit, the adhered state of the spacer and the repeated service life, and the deviation of the spacer when laminating the laminated body It measured according to the following. The results are shown in Table 1.

【0021】(1)銅回路の表面状態:目視観察により
行い、◎;接合の前後で差はなし、○;銅回路表面に付
着物あり、×;銅回路表面に凹凸ありで評価した。 (2)銅回路の接合状態:銅回路の接合不良枚数を測定
した。 (3)スペーサーの付着状態:スペーサーの付着枚数を
測定した。 (4)スペーサーの繰り返し使用寿命:スペーサーを1
00回繰り返し使用したときの状況を目視観察し、◎;
異常なし、○;80回までに異常発生、×;10回まで
に異常発生で評価した。 (5)積層時のズレ:荷重をかけたときの積層体のズレ
の有無を目視観察した。
(1) Surface condition of copper circuit: Visual observation was conducted. ⊚: No difference was observed before and after joining, ◯: Adhesion was found on the copper circuit surface, ×: Irregularity was observed on the copper circuit surface. (2) Bonding state of copper circuit: The number of defective copper circuits was measured. (3) Spacer adhesion state: The number of spacers adhered was measured. (4) Repeated use life of spacer: 1 spacer
Visually observe the situation when repeatedly used 00 times, ◎;
There was no abnormality, ◯; abnormal occurrence occurred up to 80 times, and x; abnormal occurrence occurred up to 10 times. (5) Deviation during lamination: The presence or absence of deviation of the laminate when a load is applied was visually observed.

【0022】実施例2 スペーサーとして、モリブデン板(70mm×30mm
×厚み0.1mm)にカーボンスプレーを用いてコーテ
ィングしたものを用いたこと以外は、実施例1と同様に
して銅回路を有する接合体を製造した。
Example 2 A molybdenum plate (70 mm × 30 mm) was used as a spacer.
A joined body having a copper circuit was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a carbon spray was used to coat (thickness 0.1 mm).

【0023】実施例3 スペーサーとして、タングステン板(70mm×30m
m×厚み0.1mm)にカーボンスプレーを用いてコー
ティングしたものを用いたこと以外は、実施例1と同様
にして銅回路を有する接合体を製造した。
Example 3 A tungsten plate (70 mm × 30 m) was used as a spacer.
(m × thickness 0.1 mm) A bonded body having a copper circuit was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the carbon sprayed coating was used.

【0024】実施例4 スペーサーとして、銅板(70mm×30mm×厚み1
mm)にBNスプレー(電気化学工業社製商品名「ボロ
ンスプレー」)を用いてコーティングしたものを用いた
こと以外は、実施例1と同様にして銅回路を有する接合
体を製造した。
Example 4 As a spacer, a copper plate (70 mm × 30 mm × thickness 1
mm) was coated with BN spray (trade name “boron spray” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), and a bonded body having a copper circuit was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the coated product was used.

【0025】実施例5 窒化アルミニウム基板に回路パターンと同一形状に打ち
抜かれたタフピッチ銅回路を直接積層して得られた積層
体を用い、DBC法により接合処理したこと以外は、実
施例1と同様にして銅回路を有する接合体を製造した。
Example 5 The same as Example 1 except that a laminated body obtained by directly laminating a tough pitch copper circuit punched into the same shape as the circuit pattern on an aluminum nitride substrate was used to carry out a bonding treatment by the DBC method. To produce a joined body having a copper circuit.

【0026】実施例6 窒化アルミニウム基板を酸化処理してAl2 3 層を形
成させ、その表面にMo−Mn法によりメタライズ処理
を行ってから上記ろう材ペーストからジルコニウム粉末
を除いて調製されたペーストを介して銅回路を積層して
得られた積層体を用い、接合処理したこと以外は、実施
例1と同様にして銅回路を有する接合体を製造した。
Example 6 An aluminum nitride substrate was oxidized to form an Al 2 O 3 layer, the surface of which was metallized by the Mo-Mn method, and zirconium powder was removed from the brazing material paste. A joined body having a copper circuit was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the laminated body obtained by laminating the copper circuits via the paste was used for the joining treatment.

【0027】比較例1 スペーサーを用いなかったこと以外は、実施例1と同様
にして接合体を製造した。
Comparative Example 1 A bonded body was manufactured in the same manner as in Example 1 except that no spacer was used.

【0028】比較例2 スペーサーとして、アルミナ板(70mm×30mm×
厚み0.635mm)を用いたこと以外は、実施例1と
同様にして銅回路を有する接合体を製造した。
Comparative Example 2 As a spacer, an alumina plate (70 mm × 30 mm ×
A joined body having a copper circuit was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of 0.635 mm was used.

【0029】比較例3 スペーサーとして、窒化アルミニウム板(70mm×3
0mm×厚み0.635mm)を用いたこと以外は、実
施例1と同様にして銅回路を有する接合体を製造した。
Comparative Example 3 An aluminum nitride plate (70 mm × 3) was used as a spacer.
A bonded body having a copper circuit was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 0 mm × thickness 0.635 mm) was used.

【0030】比較例4 スペーサーとして、窒化アルミニウム板(70mm×3
0mm×厚み0.635mm)にカーボンスプレーを用
いてコーティングしたものを用いたこと以外は、実施例
1と同様にして銅回路を有する接合体を製造した。
Comparative Example 4 An aluminum nitride plate (70 mm × 3) was used as a spacer.
A bonded body having a copper circuit was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a carbon sprayed product having a thickness of 0 mm × a thickness of 0.635 mm) was used.

【0031】比較例5 スペーサーとして、カーボンペーパー(UCAR Ca
rbon Company製)を用いたこと以外は、実
施例1と同様にして銅回路を有する接合体を製造した。
Comparative Example 5 As a spacer, carbon paper (UCAR Ca
A bonded body having a copper circuit was manufactured in the same manner as in Example 1 except that Rbon Company) was used.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明によれば、金属の表面状態、金属
とセラミックスの接合状態を損なわせることなく生産性
を著しく高めてセラミックスと金属の接合体を製造する
ことができる。
According to the present invention, it is possible to manufacture a ceramic-metal bonded body with markedly improved productivity without deteriorating the surface condition of metal and the bonded condition of metal and ceramics.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮井 明 福岡県大牟田市新開町1 電気化学工業株 式会社大牟田工場内 (72)発明者 木下 彰 福岡県大牟田市新開町1 電気化学工業株 式会社大牟田工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Akira Miyai 1 Shinkai-cho, Omuta-shi, Fukuoka Prefecture Electric Chemical Industry Co., Ltd. Omuta Factory (72) Inventor Akira Kinoshita 1 Shinkai-cho, Omuta-shi, Fukuoka Electric-type industrial company Omuta Factory

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミックスと金属回路及び/又は金属
回路形成用金属板とを活性金属を含むろう材を介在させ
又は介在させないで積層された積層体を加熱接合するに
あたり、上記積層体を1ユニットとする2以上のユニッ
トを非酸化物層を表面にもつ金属からなるスぺーサーを
介して積層し、それを加熱接合することを特徴とするセ
ラミックスと金属からなる接合体の製造方法。
1. A unit of the above-mentioned laminated body for heating and joining a laminated body in which ceramics and a metal plate for forming a metal circuit and / or a metal circuit are laminated with or without interposing a brazing material containing an active metal. A method for producing a bonded body composed of ceramics and metal, comprising laminating two or more units having a non-oxide layer on the surface thereof with a spacer made of metal, and heat-bonding them.
JP12367494A 1994-06-06 1994-06-06 Production of joined body consisting of ceramics and metal Pending JPH07330475A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003055059A (en) * 2001-08-20 2003-02-26 Denki Kagaku Kogyo Kk Manufacturing method of bonded body
JP2004288829A (en) * 2003-03-20 2004-10-14 Mitsubishi Materials Corp Manufacturing method for circuit board and production device

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JP2003055059A (en) * 2001-08-20 2003-02-26 Denki Kagaku Kogyo Kk Manufacturing method of bonded body
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