JPH07325322A - Thin-film transistor liquid crystal display device - Google Patents
Thin-film transistor liquid crystal display deviceInfo
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- JPH07325322A JPH07325322A JP11882894A JP11882894A JPH07325322A JP H07325322 A JPH07325322 A JP H07325322A JP 11882894 A JP11882894 A JP 11882894A JP 11882894 A JP11882894 A JP 11882894A JP H07325322 A JPH07325322 A JP H07325322A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜トランジスタ(T
FT)アレイ基板によって駆動される液晶表示装置に関
し、その視角特性を改善する構成に係る。The present invention relates to a thin film transistor (T
The present invention relates to a liquid crystal display device driven by an FT) array substrate, and to a configuration for improving the viewing angle characteristics thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】1つの画素を複数の副画素に分割し、各
副画素の液晶層に印加する電圧を変化させることによっ
て、広い視野角で良好な多階調表示をさせ、視角特性を
改善する技術(画素分割法と呼ばれる従来技術)として、
特開昭61−166590号「液晶表示素子及びその駆動方
法」,特開昭62−182717号「液晶表示装置」、または特
開平2−12号「液晶表示装置の画素および液晶表示装置
における画素のグレースケールを実現する方法」等があ
る。2. Description of the Related Art One pixel is divided into a plurality of sub-pixels, and a voltage applied to a liquid crystal layer of each sub-pixel is changed so that a good multi-gradation display can be performed with a wide viewing angle and a viewing angle characteristic can be improved. As a technology (conventional technology called pixel division method),
JP-A-61-166590 "Liquid crystal display element and driving method thereof", JP-A-62-182717 "Liquid crystal display device", or JP-A 2-12 "Pixel of liquid crystal display device and pixel of liquid crystal display device" There is a method of realizing gray scale ".
【0003】図7は、従来のノーマリーホワイトモー
ド、すなわち液晶層に電圧が印加されないとき明状態と
なり、電圧が印加されたとき暗状態となるように、液晶
表示装置の前後に配置された偏光板の偏光軸が設定され
たモードのTFT液晶表示装置における液晶表示装置の
駆動電圧に対する輝度特性を示している。図7(a)は液
晶表示装置の真正面から見たときの駆動電圧に対する輝
度特性であり、図7(b)は、液晶表示装置の下方向30゜
に視点を傾けて見たときの駆動電圧に対する輝度特性で
ある。FIG. 7 shows a conventional normally white mode, that is, polarized lights arranged in front of and behind a liquid crystal display device so as to be in a bright state when no voltage is applied to the liquid crystal layer and in a dark state when a voltage is applied. 7 shows the luminance characteristic of the TFT liquid crystal display device in a mode in which the polarization axis of the plate is set, with respect to the driving voltage of the liquid crystal display device. FIG. 7 (a) shows the luminance characteristics with respect to the driving voltage when viewed from directly in front of the liquid crystal display device, and FIG. 7 (b) shows the driving voltage when the viewpoint is tilted downward 30 ° from the liquid crystal display device. Is a luminance characteristic with respect to.
【0004】図8は液晶表示装置の視角特性を測定する
ときの視点を示す模式図であり、図7でいう下方向と
は、図8(a)に示すように液晶が2枚の透明なガラス基
板1a,1bの間に挟持され、このガラス基板1a,1bの
垂直方向から見た各ガラス基板の液晶分子10aの図8(b)
に示す配向方向21a,21bが矢印の方向としたとき、図8
(b)をa−a′面で切断して横方向から見た図8(a)(2
枚のガラス基板1a,1b間に電圧が印加され、液晶分子
10aが立ち上がったときのものを示したもの)において、
右方向に視点Eを傾けたときと定義する。また、ここで
の角度は、ガラス基板1bの垂線からの視点Eの傾き角
度θを示す。FIG. 8 is a schematic view showing a viewpoint when measuring the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device. The downward direction in FIG. 7 means that two liquid crystals are transparent as shown in FIG. 8 (a). FIG. 8B of the liquid crystal molecule 10a of each glass substrate sandwiched between the glass substrates 1a and 1b and viewed from the vertical direction of the glass substrates 1a and 1b.
When the orientation directions 21a and 21b shown in FIG.
FIG. 8 (a) (2) is a cross-sectional view of (b) taken along the line aa '.
A voltage is applied between the glass substrates 1a and 1b,
(Showing the one when 10a started up)
It is defined as when the viewpoint E is tilted to the right. Further, the angle here indicates the tilt angle θ of the viewpoint E from the perpendicular of the glass substrate 1b.
【0005】図7(a)に示すように従来の液晶表示装置
において、8階調表示をさせるとき、まず真正面(0゜)
から見て輝度を8等分割(B1,B2,………,B8)し、
各々の輝度レベルに対して電圧レベル(V1,V2,……
…,V8)を設定する。In the conventional liquid crystal display device as shown in FIG. 7 (a), when displaying 8 gradations, first of all, it is directly in front (0 °).
The brightness is divided into 8 equal parts (B1, B2, ………, B8),
Voltage level (V1, V2, ...) for each brightness level
..., V8) is set.
【0006】一方、図7(b)に示すように視点を下方向
に30゜傾けた場合、駆動電圧−輝度特性は、図7(a)の
真正面(0゜)に比べて低電圧側にシフトするとともに、
高電圧側に新たなピークが現れる。この状態で各電圧レ
ベルに対する輝度レベル(B1′,B2′,………,B
8′)を見てみると、高輝度部分(B1′とB2′間等)で
は、輝度レベル間の差が大きくなり、一方、低輝度部分
では輝度レベル間の差が小さくなる。On the other hand, when the viewpoint is tilted downward by 30 ° as shown in FIG. 7 (b), the driving voltage-luminance characteristic is on the low voltage side as compared with the direct front (0 °) of FIG. 7 (a). With the shift
A new peak appears on the high voltage side. In this state, the brightness level (B1 ', B2', ..., B for each voltage level
Looking at 8 '), the difference between the brightness levels becomes large in the high brightness part (between B1' and B2 ', etc.), while the difference between the brightness levels becomes small in the low brightness part.
【0007】これは目視では、真正面から見た画像に比
べて非常に暗い画像として見える(黒つぶれ現象と呼
ぶ)。さらに、B6′とB7′の輝度レベルは、新たなピ
ークによって逆転している。これは階調反転現象と呼ば
れ、目視では写真のネガのような画像として見える。以
上のように、従来の液晶表示装置では、視点を下方向に
傾けると、階調表示がかなり悪化するという課題があっ
た。This is visually seen as a very dark image as compared with an image viewed from the front (called a blackout phenomenon). Furthermore, the brightness levels of B6 'and B7' are reversed by the new peak. This is called a gradation inversion phenomenon, and it looks like a negative image of a photograph by visual observation. As described above, in the conventional liquid crystal display device, there is a problem that gradation display is considerably deteriorated when the viewpoint is tilted downward.
【0008】次に、図9は画素分割法による液晶表示装
置の駆動電圧に対する輝度特性を示し、図11は画素分割
構成した図10に示すTFT液晶表示装置の断面構成図の
等価回路である。図11に示すように、画素が2つの副画
素11a,11bに分割され、副画素(Clc1)11aには直接、
TFT14のドレイン電極(D)が接続されている。一方、
副画素(Clc2)11bには、制御容量(Cc)12が直列にドレ
イン電極(D)と接続されている。また、付加容量(Cst)
13もドレイン電極(D)と接続されている。これによっ
て、TFT14から供給された駆動電圧(Vd)は、副画素1
1aには同じ電圧値が供給されるが、副画素11bにおいて
は、駆動電圧の一部が制御容量(Cc)12に分割される。
つまり、副画素11aおよび副画素11bに供給される駆動電
圧Vlc1およびVlc2は、Next, FIG. 9 shows a luminance characteristic with respect to a driving voltage of a liquid crystal display device by the pixel division method, and FIG. 11 is an equivalent circuit of a sectional configuration diagram of the TFT liquid crystal display device shown in FIG. As shown in FIG. 11, the pixel is divided into two sub-pixels 11a and 11b, and the sub-pixel (Clc1) 11a is directly
The drain electrode (D) of the TFT 14 is connected. on the other hand,
A control capacitor (Cc) 12 is connected to the drain electrode (D) in series with the sub-pixel (Clc2) 11b. Also, additional capacity (Cst)
13 is also connected to the drain electrode (D). As a result, the driving voltage (Vd) supplied from the TFT 14 is
The same voltage value is supplied to 1a, but in the sub-pixel 11b, part of the drive voltage is divided into the control capacitor (Cc) 12.
That is, the drive voltages Vlc1 and Vlc2 supplied to the sub-pixels 11a and 11b are
【0009】[0009]
【数1】Vlc1=Vd[Formula 1] Vlc1 = Vd
【0010】[0010]
【数2】Vlc2=Vd×Cc/(Clc2+Cc) 結果、Vlc1>Vlc2となる。## EQU2 ## Vlc2 = Vd × Cc / (Clc2 + Cc) As a result, Vlc1> Vlc2.
【0011】これによって、駆動電圧−輝度特性は、図
9(a)に示す視点を真正面から見たときは、副画素11aに
おいては前記図7(a)と同じ特性となるが、副画素11bの
駆動電圧−輝度特性は、副画素11aに比較して高電圧側
にシフトする。その結果、全画素11cの駆動電圧−輝度
特性は2つが合成された特性となり、その傾きは図7
(a)に比べて緩くなる。As a result, the drive voltage-luminance characteristic is the same as that of FIG. 7A in the sub-pixel 11a when the viewpoint shown in FIG. The driving voltage-luminance characteristic of the above shifts to the high voltage side as compared with the sub-pixel 11a. As a result, the driving voltage-luminance characteristics of all the pixels 11c are characteristics in which the two are combined, and the inclination is as shown in FIG.
Looser compared to (a).
【0012】一方、図9(b)に示す視点を下方向30゜に
傾けたときは、副画素11aは前記図7(b)と同じ特性であ
るが、副画素11bは高電圧側にシフトする。そして、い
ずれの副画素11a,11bにおいても、高電圧側に新たなピ
ークが現れる。その結果、合成された全画素11cの駆動
電圧−輝度特性は、図7(b)に比べて傾きが緩くなる。On the other hand, when the viewpoint shown in FIG. 9 (b) is tilted downward by 30 °, the sub-pixel 11a has the same characteristics as in FIG. 7 (b), but the sub-pixel 11b shifts to the high voltage side. To do. Then, in any of the sub-pixels 11a and 11b, a new peak appears on the high voltage side. As a result, the combined driving voltage-luminance characteristics of all the pixels 11c have a gentler slope than that of FIG. 7B.
【0013】ここで、視点を0゜から下方向30゜に傾け
たことによる駆動電圧−輝度特性の低電圧側へのシフト
する電圧値は図7の場合と変わらないため、8階調の各
輝度レベル間の差は、画素分割構成でない液晶表示装置
の構成の視点30゜の輝度レベル間の差に比べて均一にな
っているのがわかる。これによって、従来、観測された
黒つぶれ現象は緩和される。また、下方向30゜における
高電圧側のピークは、各々の副画素のピークが互いに打
ち消し合うため、全画素の特性は単調減少する滑らかな
特性となる。これによって、従来、観測された階調反転
現象はなくなる。以上、画素分割構成では、この2つの
効果で下方向の視点において、画素分割構成でない液晶
表示装置に比べてかなり階調表示が改善される。Here, since the voltage value for shifting the driving voltage-luminance characteristic to the low voltage side by tilting the viewpoint from 0 ° to 30 ° downward is the same as that in the case of FIG. It can be seen that the difference between the brightness levels is more uniform than the difference between the brightness levels at the viewpoint of 30 ° in the configuration of the liquid crystal display device without the pixel division configuration. As a result, the conventionally observed blackout phenomenon is mitigated. Further, the peak on the high voltage side in the downward direction of 30 ° is a smooth characteristic in which the peaks of the respective sub-pixels cancel each other, and the characteristics of all pixels monotonically decrease. This eliminates the conventionally observed gradation inversion phenomenon. As described above, in the pixel division structure, the gradation effect is considerably improved in the downward viewpoint by these two effects as compared with the liquid crystal display device which is not the pixel division structure.
【0014】次に、薄膜トランジスタで駆動される液晶
表示装置について説明する。図12は従来のTFT液晶表
示装置の平面構成図、図13は図12のa−a′線で切断し
たTFT液晶表示装置の1画素の断面図、図14は図13の
TFT液晶表示装置の1画素の等価回路である。Next, a liquid crystal display device driven by thin film transistors will be described. 12 is a plan view of a conventional TFT liquid crystal display device, FIG. 13 is a sectional view of one pixel of the TFT liquid crystal display device taken along the line aa 'in FIG. 12, and FIG. 14 is a schematic view of the TFT liquid crystal display device of FIG. It is an equivalent circuit of one pixel.
【0015】図12に示すX方向にゲート配線群、Y方向
にソース配線群が延在する。そして、ゲート配線とソー
ス配線の各交点には、TFT14と、TFT14に接続する
形で透明電極2が存在する。TFT14は、スイッチ素子
として働き、透明電極2はその上の液晶分子を駆動する
画素電極として働く。A gate wiring group extends in the X direction and a source wiring group extends in the Y direction shown in FIG. The TFT 14 and the transparent electrode 2 connected to the TFT 14 exist at each intersection of the gate wiring and the source wiring. The TFT 14 functions as a switch element, and the transparent electrode 2 functions as a pixel electrode that drives liquid crystal molecules on the transparent electrode 2.
【0016】図14に示すゲート配線端(Gn)に接続され
た駆動ICより各ゲート配線に時間的に順次与えられた
パルス信号によって、そのゲート配線上のTFT14がオ
ン状態となる。そして、ゲート配線端(Gn)に接続され
た駆動ICからソース配線端(S)を通じて供給された映
像信号が、そのオン状態のTFT14を通じて、各透明電
極(画素電極)2に供給される。また、画素11と並列に付
加容量13が接続されている。この付加容量13は、画素11
に供給された映像信号の保持特性を向上させるためのも
のである。A TFT 14 on the gate wiring is turned on by a pulse signal sequentially applied to each gate wiring from the driving IC connected to the gate wiring end (Gn) shown in FIG. Then, the video signal supplied from the driving IC connected to the gate line end (Gn) through the source line end (S) is supplied to each transparent electrode (pixel electrode) 2 through the TFT 14 in the ON state. Further, the additional capacitor 13 is connected in parallel with the pixel 11. This additional capacitance 13 is
It is for improving the holding characteristic of the video signal supplied to the.
【0017】次に、図12ないし図14を用いて、逆スタガ
ー構成のTFTアレイ基板の製作工程の概要を説明す
る。まず、図13に示す透明なガラス基板1a上に、画素1
1の液晶を駆動する透明電極(画素電極)2を形成する。
次に、絶縁体としてシリコン酸化膜3を堆積させる。そ
して、クロム等の金属でゲート電極4を形成する。そし
て、TFT14のゲート絶縁膜として働くシリコン窒化膜
5をその上に堆積させる。次に、TFT14を構成する半
導体層6を形成する。この半導体層6は、ゲート電極4
に印加される電圧によってその抵抗値が変化し、スイッ
チ素子としての機能を与える。Next, an outline of the manufacturing process of the TFT array substrate having the inverted stagger structure will be described with reference to FIGS. First, the pixel 1 is placed on the transparent glass substrate 1a shown in FIG.
A transparent electrode (pixel electrode) 2 for driving the liquid crystal 1 is formed.
Next, a silicon oxide film 3 is deposited as an insulator. Then, the gate electrode 4 is formed of a metal such as chromium. Then, a silicon nitride film 5 which functions as a gate insulating film of the TFT 14 is deposited thereon. Next, the semiconductor layer 6 that constitutes the TFT 14 is formed. The semiconductor layer 6 is the gate electrode 4
The resistance value changes depending on the voltage applied to the element, and the function as a switching element is given.
【0018】次に、透明電極(画素電極)2の上のシリコ
ン酸化膜3とシリコン窒化膜5の絶縁膜層にコンタクト
ホール7を開け、透明電極(画素電極)2の一部を露出さ
せる。次に、アルミニウム等の金属を用いて、ソース電
極8a,ドレイン電極8b,付加容量電極8c(図12参照)
を同時に形成する。このとき、ドレイン電極8bは、透
明電極(画素電極)2の上に開けたコンタクトホール7を
介して、ドレイン電極8bと透明電極(画素電極)2が接
続するように形成し、また同様にコンタクトホール7を
介して、付加容量電極8cと透明電極(画素電極)2が接
続するように形成する。以上の工程によって、TFTア
レイ基板が完成する。その後、本TFTアレイ基板を、
透明電極9が一面に堆積されたもう1つのガラス基板1
bと、約5μmのギャップを形成して貼り合わせ、その間
に液晶10を注入する。Next, a contact hole 7 is opened in the insulating film layer of the silicon oxide film 3 and the silicon nitride film 5 on the transparent electrode (pixel electrode) 2 to expose a part of the transparent electrode (pixel electrode) 2. Next, using a metal such as aluminum, the source electrode 8a, the drain electrode 8b, and the additional capacitance electrode 8c (see FIG. 12)
Are formed at the same time. At this time, the drain electrode 8b is formed so that the drain electrode 8b and the transparent electrode (pixel electrode) 2 are connected to each other through the contact hole 7 formed on the transparent electrode (pixel electrode) 2, and the contact is similarly formed. The additional capacitance electrode 8c and the transparent electrode (pixel electrode) 2 are formed so as to be connected via the hole 7. Through the above steps, the TFT array substrate is completed. After that, the TFT array substrate is
Another glass substrate 1 having a transparent electrode 9 deposited on one surface
b and a gap of about 5 μm are formed and bonded together, and the liquid crystal 10 is injected therebetween.
【0019】[0019]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の画素分
割法を行った図10に示すTFT液晶表示装置の断面構成
図と、図11に示すその1画素の等価回路は、特開平4−
348323号公報より引用したものである。本構成のTFT
14は、図10に示すようにゲート電極4aが最上層にある
スタガー構成である。本スタガー構成のTFTでは、2
aがドレイン電極で、副画素11aの電極を兼用として働
き、2bが副画素11bの電極として働き、2cがソース電
極として働き、8がソース配線として働く。そして、そ
の上に半導体層6が形成され、更にその上にゲート絶縁
膜として働くシリコン窒化膜5が形成された後、ゲート
電極4aが形成される。The cross-sectional configuration diagram of the TFT liquid crystal display device shown in FIG. 10 which has been subjected to the above-described conventional pixel division method and the equivalent circuit of one pixel shown in FIG.
This is quoted from Japanese Patent No. 348323. TFT of this configuration
14 has a staggered structure in which the gate electrode 4a is in the uppermost layer as shown in FIG. With this staggered TFT, 2
a is a drain electrode, also serves as an electrode of the subpixel 11a, 2b serves as an electrode of the subpixel 11b, 2c serves as a source electrode, and 8 serves as a source wiring. Then, the semiconductor layer 6 is formed thereon, and the silicon nitride film 5 serving as a gate insulating film is further formed thereon, and then the gate electrode 4a is formed.
【0020】また図10に示すように、画素電極は、2つ
の副画素11a,11bの電極2a,2bに分割されている。2
つの副画素11a,11bの電極2a,2bの下には、第2の絶
縁膜33を介して、平面的に見てその一部が重なるように
第1の導電体32を形成する。この第1の導電体32は、第
2の絶縁膜33のコンタクトホール34を介して、第1の副
画素11aの電極2aに接続する。また、第1の導電体32と
第2の副画素11bの電極2bの間では、駆動電圧を分割す
るための制御容量12を形成する。また、第1の副画素11
aの電極2aの上には、ゲート絶縁膜としてのシリコン窒
化膜5を介して、ゲート電極4aと同時に形成された導
電体パターン4bを形成する。この導電体パターン4bと
第2の副画素11bの電極2bの間で、液晶印加電圧を保持
するための付加容量13を形成する。ここで、第1の絶縁
膜31の裏面に形成される部材30は、裏面から半導体層6
に光が当たって、TFTのオフ時の抵抗が下がることを
防ぐための不透明の遮光膜である。Further, as shown in FIG. 10, the pixel electrode is divided into the electrodes 2a and 2b of the two sub-pixels 11a and 11b. Two
The first conductor 32 is formed below the electrodes 2a and 2b of the two sub-pixels 11a and 11b, with the second insulating film 33 interposed therebetween so as to partially overlap with each other in plan view. The first conductor 32 is connected to the electrode 2a of the first subpixel 11a via the contact hole 34 of the second insulating film 33. Further, the control capacitor 12 for dividing the drive voltage is formed between the first conductor 32 and the electrode 2b of the second subpixel 11b. In addition, the first sub-pixel 11
On the electrode 2a of a, the conductor pattern 4b formed simultaneously with the gate electrode 4a is formed through the silicon nitride film 5 as the gate insulating film. Between the conductor pattern 4b and the electrode 2b of the second sub-pixel 11b, the additional capacitance 13 for holding the liquid crystal applied voltage is formed. Here, the member 30 formed on the back surface of the first insulating film 31 is the semiconductor layer 6 from the back surface.
It is an opaque light-shielding film for preventing the resistance of the TFT when it is turned off from being lowered by being exposed to light.
【0021】このように従来の画素分割法を行ったTF
T液晶表示装置は、従来の構成に加えて、図10に示すよ
うに新たに第1の導電体32と第2の絶縁膜33を形成する
必要があるため、従来のTFT液晶表示装置に比較して
製作コストが向上するという課題があった。In this way, the TF which has been subjected to the conventional pixel division method
Compared with the conventional TFT liquid crystal display device, the T liquid crystal display device needs to newly form a first conductor 32 and a second insulating film 33 as shown in FIG. 10 in addition to the conventional structure. Then, there was a problem that the manufacturing cost was improved.
【0022】本発明は、このような従来の課題を解決
し、広視角化が可能な画素分割構成の薄膜トランジスタ
液晶表示装置を通常の構成の液晶表示層と同様な簡単な
工程で製作可能とすることを目的とする。The present invention solves such a conventional problem and makes it possible to manufacture a thin film transistor liquid crystal display device having a pixel division structure capable of widening the viewing angle by the same simple steps as those for a liquid crystal display layer having a normal structure. The purpose is to
【0023】[0023]
【課題を解決するための手段】本発明の第1は、上記目
的を達成するため、部材である基板上に複数の逆スタガ
ー構成の薄膜トランジスタと、複数の画素電極とがマト
リクス状に配列され、前記複数の画素電極の中の一部の
数の画素電極において画素容量と直列に接続された制御
容量を有する薄膜トランジスタ液晶表示装置において、
前記制御容量を形成する電極が、前記薄膜トランジスタ
を形成するソース−ドレイン電極と同時に形成される導
電体パターンと画素電極とで構成されていることを特徴
とする。In order to achieve the above object, the first object of the present invention is to arrange a plurality of thin film transistors having an inverted stagger structure and a plurality of pixel electrodes in a matrix on a substrate which is a member. In a thin film transistor liquid crystal display device having a control capacitance connected in series with a pixel capacitance in a part of the pixel electrodes of the plurality of pixel electrodes,
It is characterized in that the electrode forming the control capacitor is composed of a conductive pattern and a pixel electrode which are formed simultaneously with the source-drain electrodes forming the thin film transistor.
【0024】本発明の実施例によれば、部材である基板
上に、2つ以上に分割された画素電極を駆動する1つの
逆スタガー構成の薄膜トランジスタがマトリクス状に配
列され、前記2つ以上に分割された画素電極の中の一
部、または全部の副画素電極において、副画素容量と直
列に接続された制御容量を有することを特徴とする。According to an embodiment of the present invention, one inverted staggered thin film transistor driving a pixel electrode divided into two or more is arranged in a matrix on a substrate which is a member. Part or all of the divided pixel electrodes have a control capacitance connected in series with the subpixel capacitance.
【0025】[0025]
【作用】本発明は、複数の逆スタガー構成のTFTと複
数の画素電極を有し、一部の数の画素電極に於て画素容
量と直列に接続された制御容量を有するTFT液晶表示
装置を製作する際、本制御容量が、前記薄膜トランジス
タを形成するソース−ドレイン電極と同時に形成される
導電体パターンと画素電極で構成することによって、制
御容量を形成するために、従来のような新たな導電体、
または新たな絶縁体を形成する必要がなく、従来と同じ
コストでTFT液晶表示装置を製作することが可能とな
る。The present invention provides a TFT liquid crystal display device having a plurality of TFTs having a reverse stagger structure and a plurality of pixel electrodes, and having a control capacitor connected in series with a pixel capacitor in some of the pixel electrodes. At the time of fabrication, the control capacitance is formed by a conductive pattern and a pixel electrode that are formed at the same time as the source-drain electrodes forming the thin film transistor. body,
Alternatively, it is not necessary to form a new insulator, and the TFT liquid crystal display device can be manufactured at the same cost as the conventional one.
【0026】[0026]
【実施例】図1は本発明の第1の実施例におけるTFT
液晶表示装置の平面構成図、図2は、図1のa−a′線
で切断した1画素の断面図、図3は図2のTFT液晶表
示装置の等価回路図である。FIG. 1 shows a TFT according to a first embodiment of the present invention.
2 is a plan configuration diagram of the liquid crystal display device, FIG. 2 is a sectional view of one pixel taken along line aa ′ in FIG. 1, and FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the TFT liquid crystal display device of FIG.
【0027】図1ないし図3において、前記従来例の図
7ないし図14と同じ構成要素には同じ符号を付してあ
る。1 to 3, the same components as those of the conventional example shown in FIGS. 7 to 14 are designated by the same reference numerals.
【0028】以下に本実施例によるTFT液晶表示装置
の構成と製作工程を、図1ないし図3により説明する。The structure and manufacturing process of the TFT liquid crystal display device according to this embodiment will be described below with reference to FIGS.
【0029】まず、図2に示す透明なガラス基板1a上
に、副画素11a,11bの液晶を駆動する透明電極2a,2b
を形成する。次に、絶縁膜としてシリコン酸化膜3を堆
積させる。そして、クロム等の金属でゲート電極4を形
成する。そして、TFT14のゲート絶縁膜として働くシ
リコン窒化膜5をその上に堆積させる。次に、TFT14
を構成する半導体層6を形成する。この半導体層6は、
ゲート電極4に印加される電圧によってその抵抗値が変
化し、スイッチ素子としての機能を与える。First, on the transparent glass substrate 1a shown in FIG. 2, transparent electrodes 2a and 2b for driving the liquid crystal of the sub-pixels 11a and 11b.
To form. Next, a silicon oxide film 3 is deposited as an insulating film. Then, the gate electrode 4 is formed of a metal such as chromium. Then, a silicon nitride film 5 which functions as a gate insulating film of the TFT 14 is deposited thereon. Next, TFT14
The semiconductor layer 6 constituting the is formed. This semiconductor layer 6 is
The resistance value changes according to the voltage applied to the gate electrode 4, and the function as a switch element is given.
【0030】次に、透明電極2aの上のシリコン酸化膜
3とシリコン窒化膜5の絶縁膜層にコンタクトホール7
を開け、透明電極2の一部を露出させる。次に、アルミ
ニウム等の金属を用いてソース電極8a,ドレイン電極
8b,付加容量電極8c(図1参照)を同時に形成する。こ
のとき、透明電極2a上のドレイン電極8bは、透明電極
2aの上に開けたコンタクトホール7を介して、ドレイ
ン電極8bと透明電極2aが接続するように形成する。Next, a contact hole 7 is formed in the insulating film layer of the silicon oxide film 3 and the silicon nitride film 5 on the transparent electrode 2a.
Is opened to expose a part of the transparent electrode 2. Next, the source electrode 8a, the drain electrode 8b, and the additional capacitance electrode 8c (see FIG. 1) are simultaneously formed using a metal such as aluminum. At this time, the drain electrode 8b on the transparent electrode 2a is formed so that the drain electrode 8b and the transparent electrode 2a are connected via the contact hole 7 opened on the transparent electrode 2a.
【0031】一方、透明電極2b上のドレイン電極8b
は、透明電極2bとの間で制御容量12が形成される。ま
た、同様にコンタクトホール7を介して付加容量電極8
cと透明電極2aが接続するように形成し、前段のゲート
電極4と付加容量電極8cの間で付加容量13が形成され
るようにする。以上の工程によって、TFTアレイ基板
が完成する。その後、本ガラス基板1aを、透明電極9
が一面に堆積されたもう1つの透明なガラス基板1b
と、約5μmのギャップを形成して貼り合わせ、間に液
晶10を注入する。On the other hand, the drain electrode 8b on the transparent electrode 2b
The control capacitance 12 is formed between the transparent electrode 2b and the transparent electrode 2b. Similarly, the additional capacitance electrode 8 is also provided through the contact hole 7.
It is formed so that c and the transparent electrode 2a are connected to each other so that the additional capacitance 13 is formed between the gate electrode 4 and the additional capacitance electrode 8c in the preceding stage. Through the above steps, the TFT array substrate is completed. Then, the glass substrate 1a is attached to the transparent electrode 9
Another transparent glass substrate 1b on which is deposited one surface
Then, a gap of about 5 μm is formed and the substrates are bonded together, and the liquid crystal 10 is injected therebetween.
【0032】図3の等価回路に示すように、副画素11a
には、TFT14から供給される駆動電圧(Vd)がそのま
ま液晶層に供給される。一方、副画素11bは、TFT14
のドレイン電極8bと透明電極2bの間で制御容量(Cc)1
2が形成され、これが副画素11bの容量(Clc2)と直列に
接続された構成となるため、TFT14から供給された駆
動電圧は、制御容量12と副画素11bの容量(Clc2)に分
割され、副画素11bの液晶には、副画素11aの液晶に比較
して低い電圧が印加される。これを式で表すと、As shown in the equivalent circuit of FIG. 3, the sub-pixel 11a
The driving voltage (Vd) supplied from the TFT 14 is directly supplied to the liquid crystal layer. On the other hand, the sub-pixel 11b has a TFT 14
Between the drain electrode 8b and the transparent electrode 2b of the control capacitor (Cc) 1
2 is formed, and this is connected in series with the capacitance (Clc2) of the subpixel 11b. Therefore, the drive voltage supplied from the TFT 14 is divided into the control capacitance 12 and the capacitance (Clc2) of the subpixel 11b. A lower voltage is applied to the liquid crystal of the sub-pixel 11b than the liquid crystal of the sub-pixel 11a. If this is expressed by an equation,
【0033】[0033]
【数3】Vlc1=Vd[Formula 3] Vlc1 = Vd
【0034】[0034]
【数4】Vlc2=Vd×(Cc/(Clc2+Cc)) 結果、 Vlc2<Vlc1 となる。## EQU4 ## Vlc2 = Vd × (Cc / (Clc2 + Cc)) As a result, Vlc2 <Vlc1.
【0035】以上、画素分割構成が形成され、先に述べ
たように下方向の視点において良好な階調表示が得ら
れ、視角特性が改善される。As described above, the pixel division structure is formed, and as described above, good gradation display is obtained from the downward viewpoint and the viewing angle characteristic is improved.
【0036】透明電極2aと2bの面積比は、約6:4に
設定し、また制御容量12と副画素11bの容量の容量比
は、約4:6に設定すると、充分に広い視角特性が得ら
れる。When the area ratio of the transparent electrodes 2a and 2b is set to about 6: 4 and the capacity ratio of the control capacitor 12 and the sub-pixel 11b is set to about 4: 6, a sufficiently wide viewing angle characteristic is obtained. can get.
【0037】以上のような構成にすることによって、制
御容量12を形成するために、新たな導電体、または新た
な絶縁体を形成する必要がなく、従来と同じコストで広
視角の画素分割構成のTFT液晶表示装置を製作するこ
とが可能となる。With the above-described structure, it is not necessary to form a new conductor or a new insulator to form the control capacitor 12, and the pixel division structure of wide viewing angle can be obtained at the same cost as the conventional one. The TFT liquid crystal display device can be manufactured.
【0038】図4は本発明の第2の実施例におけるTF
T液晶表示装置の平面構成図、図5は図4のa−a′線
で切断した1画素の断面図、図6は図5のTFT液晶表
示装置の等価回路図である。FIG. 4 shows the TF in the second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a plan configuration diagram of the T liquid crystal display device, FIG. 5 is a sectional view of one pixel taken along line aa ′ in FIG. 4, and FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of the TFT liquid crystal display device in FIG.
【0039】本実施例と前記第1の実施例との違いを説
明すると、本実施例の構成では第1の実施例と異なり、
ソース−ドレイン電極8a,8b並びに付加容量電極8c
を形成すると同時に制御容量電極8dを形成する。この
TFT液晶表示装置の製作工程は第1の実施例と同じで
ある。制御容量電極8dと透明電極2aおよび2bとの間
で、それぞれ制御容量12a,12bが形成されるようにす
る。Explaining the difference between this embodiment and the first embodiment, the structure of this embodiment is different from that of the first embodiment.
Source-drain electrodes 8a, 8b and additional capacitance electrode 8c
Simultaneously with the formation, the control capacitance electrode 8d is formed. The manufacturing process of this TFT liquid crystal display device is the same as that of the first embodiment. Control capacitors 12a and 12b are formed between the control capacitor electrode 8d and the transparent electrodes 2a and 2b, respectively.
【0040】図6の等価回路に示すように、副画素11a
には、TFT14から供給される駆動電圧(Vd)がそのま
ま液晶層に供給される。一方、副画素11bは、TFT14
のドレイン電極(D)と透明電極2bの間で制御容量(Cc)
が形成され、これが副画素11bの容量(Clc2)と直列に
接続された構成となるため、TFT14から供給された駆
動電圧は、制御容量12a,12bと画素容量に分割され、副
画素11bには副画素11aに比較して低い電圧が印加され
る。これを式で表すと、As shown in the equivalent circuit of FIG. 6, the sub-pixel 11a
The driving voltage (Vd) supplied from the TFT 14 is directly supplied to the liquid crystal layer. On the other hand, the sub-pixel 11b has a TFT 14
Control capacitance (Cc) between the drain electrode (D) and the transparent electrode 2b of
Is formed, and this is connected in series with the capacitance (Clc2) of the sub-pixel 11b, the drive voltage supplied from the TFT 14 is divided into the control capacitances 12a and 12b and the pixel capacitance, and the sub-pixel 11b has A voltage lower than that of the sub-pixel 11a is applied. If this is expressed by an equation,
【0041】[0041]
【数5】Vlc1=Vd[Equation 5] Vlc1 = Vd
【0042】[0042]
【数6】Vlc2=Vd×(Cc/(Clc2+Cc)) ここで、Cc=1/((1/Cc1)+(1/Cc2)) 結果、 Vlc2<Vlc1 となる。## EQU6 ## Vlc2 = Vd × (Cc / (Clc2 + Cc)) Here, Cc = 1 / ((1 / Cc1) + (1 / Cc2)) As a result, Vlc2 <Vlc1.
【0043】これによって、制御容量を形成するため
に、新たな導電体、または新たな絶縁体を形成する必要
がなく、従来と同じコストでTFT液晶表示装置を製作
することが可能となる。As a result, it is not necessary to form a new conductor or a new insulator to form the control capacitor, and it is possible to manufacture the TFT liquid crystal display device at the same cost as the conventional one.
【0044】なお、本発明の実施例では、画素を2つの
副画素に分割する場合について説明したが、本構成のみ
ならず、3つ以上に分割する構成においても採用するこ
とが可能である。In the embodiment of the present invention, the case where the pixel is divided into two sub-pixels has been described, but the present invention can be adopted not only in this configuration but also in a configuration in which it is divided into three or more.
【0045】[0045]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のTFT液
晶表示装置は、制御容量がTFTを形成するソース−ド
レイン電極と同時に形成される導電体パターンと画素電
極で構成するか、または薄膜トランジスタを形成するゲ
ート電極と同時に形成される導電体パターンと画素電極
で構成することによって、制御容量を形成するため、従
来のような新たな導電体または絶縁体を形成することな
く、同じ工程,コストで広視角のTFT液晶表示装置を
提供できる。As described above, in the TFT liquid crystal display device of the present invention, the control capacitor is composed of the conductor pattern and the pixel electrode formed at the same time as the source-drain electrodes forming the TFT, or the thin film transistor is formed. Since the control capacitance is formed by using the conductor pattern and the pixel electrode that are formed at the same time as the gate electrode to be formed, the same process and cost can be achieved without forming a new conductor or insulator as in the conventional case. It is possible to provide a TFT liquid crystal display device having a wide viewing angle.
【図1】本発明の第1の実施例におけるTFT液晶表示
装置の平面構成図である。FIG. 1 is a plan configuration diagram of a TFT liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1のa−a′線で切断した1画素の断面図で
ある。FIG. 2 is a cross-sectional view of one pixel taken along the line aa ′ in FIG.
【図3】図2のTFT液晶表示装置の1画素の等価回路
図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of one pixel of the TFT liquid crystal display device of FIG.
【図4】本発明の第2の実施例におけるTFT液晶表示
装置の平面構成図である。FIG. 4 is a plan configuration diagram of a TFT liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
【図5】図4のa−a′線で切断した1画素の断面図で
ある。5 is a cross-sectional view of one pixel taken along the line aa ′ in FIG.
【図6】図4のTFT液晶表示装置の1画素の等価回路
図である。6 is an equivalent circuit diagram of one pixel of the TFT liquid crystal display device of FIG.
【図7】従来のノーマリーホワイトモードのTFT液晶
表示装置におけるθ=0゜,θ=30゜の各角度で観察し
たときの駆動電圧に対する輝度特性図である。FIG. 7 is a luminance characteristic diagram with respect to a drive voltage when observed at each angle of θ = 0 ° and θ = 30 ° in a conventional normally white mode TFT liquid crystal display device.
【図8】液晶表示装置の視角特性を測定するときの視点
を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing a viewpoint when measuring a viewing angle characteristic of a liquid crystal display device.
【図9】画素分割法によるθ=0゜,θ=30゜の各角度
で観察したときの液晶表示装置の駆動電圧に対する輝度
特性図である。FIG. 9 is a luminance characteristic diagram with respect to a driving voltage of the liquid crystal display device when observed at each angle of θ = 0 ° and θ = 30 ° by the pixel division method.
【図10】従来の画素分割構成したTFT液晶表示装置
の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a conventional TFT liquid crystal display device having a pixel division structure.
【図11】図10の画素分割構成したTFT液晶表示装置
の1画素の等価回路図である。11 is an equivalent circuit diagram of one pixel of the TFT liquid crystal display device having the pixel division structure of FIG.
【図12】従来のTFT液晶表示装置の平面構成図であ
る。FIG. 12 is a plan configuration diagram of a conventional TFT liquid crystal display device.
【図13】図12のa−a′線で切断したTFT液晶表示
装置の1画素の断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of one pixel of the TFT liquid crystal display device taken along the line aa ′ in FIG.
【図14】図13のTFT液晶表示装置の1画素の等価回
路図である。14 is an equivalent circuit diagram of one pixel of the TFT liquid crystal display device of FIG.
1a,1b…ガラス基板、 2,2b,9…透明電極、
2a…透明電極(ドレイン電極)、 2c…ソース電極、
3…シリコン酸化膜、 4,4a…ゲート電極、4b…導
電体パターン、 5…シリコン窒化膜、 6…半導体
層、 7,34…コンタクトホール、 8…ソース配線、
8a…ソース電極、 8b…ドレイン電極、 8c…付
加容量電極、 8d…制御容量電極、 10…液晶、 10a
…液晶分子、 11…画素、 11a,11b…副画素、 11c
…全画素、 12…制御容量、 13…付加容量、 14…薄
膜トランジスタ(TFT)、 21a,21b…液晶分子の配向
方向、 30…遮光膜、 31…第1の絶縁膜、 32…第1
の導電体、 33…第2の絶縁膜。1a, 1b ... glass substrate, 2, 2b, 9 ... transparent electrode,
2a ... transparent electrode (drain electrode), 2c ... source electrode,
3 ... Silicon oxide film, 4, 4a ... Gate electrode, 4b ... Conductor pattern, 5 ... Silicon nitride film, 6 ... Semiconductor layer, 7, 34 ... Contact hole, 8 ... Source wiring,
8a ... Source electrode, 8b ... Drain electrode, 8c ... Additional capacitance electrode, 8d ... Control capacitance electrode, 10 ... Liquid crystal, 10a
... Liquid crystal molecule, 11 ... Pixel, 11a, 11b ... Sub-pixel, 11c
... All pixels, 12 ... Control capacitance, 13 ... Additional capacitance, 14 ... Thin film transistor (TFT), 21a, 21b ... Alignment direction of liquid crystal molecules, 30 ... Shading film, 31 ... First insulating film, 32 ... First
Conductor, 33 ... Second insulating film.
Claims (3)
成の薄膜トランジスタと、複数の画素電極とがマトリク
ス状に配列され、前記複数の画素電極の中の一部の数の
画素電極において画素容量と直列に接続された制御容量
を有する薄膜トランジスタ液晶表示装置において、前記
制御容量を形成する電極が、前記薄膜トランジスタを形
成するソース−ドレイン電極と同時に形成される導電体
パターンと画素電極とで構成されていることを特徴とす
る薄膜トランジスタ液晶表示装置。1. A plurality of thin film transistors having an inverted stagger structure and a plurality of pixel electrodes are arranged in a matrix on a substrate which is a member, and a pixel capacitance is provided in a part of the pixel electrodes of the plurality of pixel electrodes. In a thin film transistor liquid crystal display device having a control capacitor connected in series with the control capacitor, an electrode forming the control capacitor is composed of a conductor pattern and a pixel electrode formed at the same time as a source-drain electrode forming the thin film transistor. A thin film transistor liquid crystal display device characterized in that
れた画素電極を駆動する1つの逆スタガー構成の薄膜ト
ランジスタがマトリクス状に配列され、前記2つ以上に
分割された画素電極の中の一部、または全部の副画素電
極において、副画素容量と直列に接続された制御容量を
有することを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジス
タ液晶表示装置。2. A thin film transistor having an inverse stagger structure for driving pixel electrodes divided into two or more is arranged in a matrix on a substrate which is a member, and the thin film transistors among the pixel electrodes divided into two or more are arranged. 2. The thin film transistor liquid crystal display device according to claim 1, wherein some or all of the subpixel electrodes have a control capacitance connected in series with the subpixel capacitance.
ドレイン電極と同時に形成される導電体パターンが、前
記薄膜トランジスタの一部を構成するドレイン電極と接
続されていることを特徴とする請求項1記載の薄膜トラ
ンジスタ液晶表示装置。3. A source that constitutes a part of the control capacitor
2. The thin film transistor liquid crystal display device according to claim 1, wherein a conductor pattern formed at the same time as the drain electrode is connected to a drain electrode forming a part of the thin film transistor.
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