JPH07304178A - Method of manufacturing ink jet device - Google Patents
Method of manufacturing ink jet deviceInfo
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- JPH07304178A JPH07304178A JP9719194A JP9719194A JPH07304178A JP H07304178 A JPH07304178 A JP H07304178A JP 9719194 A JP9719194 A JP 9719194A JP 9719194 A JP9719194 A JP 9719194A JP H07304178 A JPH07304178 A JP H07304178A
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- metal
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/10—Finger type piezoelectric elements
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 無電解メッキにより、所定の位置に、且つ均
一に電極を形成すること。
【構成】 アルミナ基板の上面に、矢印5の方向に分極
され、且つPbを含有した圧電セラミック材料基板をエ
ポキシ系接着剤にて接着し、その積層部材に溝8加工し
て隔壁11を形成する。この隔壁11は、上部11A
が、Pbを含み、且つ分極された圧電セラミックスで形
成され、下部11Bが、アルミナで形成されている。こ
のように加工されたものを無電解メッキ液に浸せきして
無電解メッキを行う。すると、前記Pbが無電解メッキ
の触媒となり、隔壁11の上部11Aのみに金属電極1
3が形成される。
(57) [Summary] [Purpose] To form electrodes uniformly at predetermined positions by electroless plating. [Structure] A piezoelectric ceramic material substrate polarized in the direction of arrow 5 and containing Pb is bonded to the upper surface of an alumina substrate with an epoxy adhesive, and grooves 8 are formed in the laminated member to form partition walls 11. . This partition wall 11 has an upper portion 11A.
Are made of polarized piezoelectric ceramics containing Pb, and the lower portion 11B is made of alumina. The thus processed product is dipped in an electroless plating solution to perform electroless plating. Then, the Pb serves as a catalyst for electroless plating, and the metal electrode 1 is provided only on the upper portion 11A of the partition wall 11.
3 is formed.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、インク噴射装置の製造
方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an ink jet device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、インク噴射装置には、特開平5ー
269993号公報に開示されたものがある。そのイン
ク噴射装置の構成及び製造方法を、図7〜図8を参照し
て説明する。2. Description of the Related Art Conventionally, there is an ink jet device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-269993. The configuration and manufacturing method of the ink ejecting apparatus will be described with reference to FIGS.
【0003】図7(a)に示すように、剛性が高く熱変
形の少ない基板101上に樹脂系の接着剤を塗布する。
この接着剤の上に分極された圧電部材102を接触さ
せ、接着剤を硬化させることで、基板101と接着剤よ
りなる下部層115と圧電部材102とが三層構造で接
合される。続いて、図7(b)に示すように、圧電部材
102の表面から下部層115の内部に達する多数の溝
103を所定の間隔を開けて平行に研削加工する。それ
ら溝103は、支柱104によって隔てられている。そ
れら支柱104は、上半分の上部支柱104aが圧電材
料で形成され、下半分の下部支柱104bが接着剤で形
成されている。As shown in FIG. 7A, a resin adhesive is applied onto a substrate 101 having high rigidity and little thermal deformation.
The polarized piezoelectric member 102 is brought into contact with the adhesive and the adhesive is cured, so that the substrate 101, the lower layer 115 made of the adhesive, and the piezoelectric member 102 are joined in a three-layer structure. Subsequently, as shown in FIG. 7B, a large number of grooves 103 that reach the inside of the lower layer 115 from the surface of the piezoelectric member 102 are ground in parallel at predetermined intervals. The grooves 103 are separated by columns 104. The upper pillars 104a of the upper half of the pillars 104 are made of a piezoelectric material, and the lower pillars 104b of the lower half are made of an adhesive.
【0004】次に、無電解メッキにより電極を形成する
前の前処理として、洗浄、キャタライジング、アクセラ
レーティング処理を行う。洗浄は、メッキ形成面の親水
化を目的とするもので、ここではエタノール液を用い
る。キャタライジング処理は、塩化パラジュウム、塩化
第1錫、濃塩酸等からなるキャタリスト液に浸し、溝1
03の表面にPd・Sn錯化物を吸着させる目的であ
る。アクセラレーティング処理は、塩酸等に浸すことで
前記錯化物から錫を除去し金属化したPdのみを残すこ
とを目的とする。この処理により、上部支柱104aに
吸着された錯化物は金属化したPdとなり、下部支柱4
bは錫の吸着量が多いため錫が十分除去されない状態の
ままとなる。Next, as pretreatment before forming electrodes by electroless plating, cleaning, catalyzing and accelerating treatments are performed. The purpose of cleaning is to make the plated surface hydrophilic, and an ethanol solution is used here. The catalyzing treatment is performed by immersing in a catalyzing solution containing palladium chloride, stannous chloride, concentrated hydrochloric acid, etc.
The purpose is to adsorb Pd.Sn complex compound on the surface of 03. The purpose of the accelerating treatment is to remove tin from the complex and leave only the metallized Pd by immersing it in hydrochloric acid or the like. By this treatment, the complex compound adsorbed on the upper support 104a becomes metallized Pd, and the lower support 4
Since b has a large amount of adsorbed tin, the tin is not sufficiently removed.
【0005】次に、図7(c)に示すように圧電部材1
02の表面にドライフィルム105を貼り、その上に図
8(a)に示すようにレジスト用マスク106を載せて
露光及び現像処理を行う。これにより、図8(b)に示
すように、圧電部材102の配線パターン形成部及び上
部支柱104aには金属化されたPdが存在し、下部支
柱104bにはPd・Snの錯化物が存在する状態とな
る。次に、上記処理を施したものをメッキ液に浸して無
電解メッキを行うと金属化されたPdが存在するところ
のみにメッキが形成される。メッキ液に無電解ニッケル
を用いれば、上部支柱104aに形成されたニッケルは
電極108となり、圧電部材102上に形成されたニッ
ケルは配線パターン109となる。ドライフィルム10
5を除去後、図9(c)に示すように天板110、ノズ
ル111が形成されたノズル板112を圧電部材102
に固定し、インク供給管113を天板110に取り付け
ることでインク噴射装置が完成される。Next, as shown in FIG. 7C, the piezoelectric member 1
A dry film 105 is attached to the surface of No. 02, and a resist mask 106 is placed thereon as shown in FIG. As a result, as shown in FIG. 8B, metallized Pd is present in the wiring pattern forming portion of the piezoelectric member 102 and the upper support pillar 104a, and a Pd.Sn complex compound is present in the lower support pillar 104b. It becomes a state. Next, when the above-mentioned treatment is dipped in a plating solution and electroless plating is performed, the plating is formed only in the place where the metallized Pd exists. If electroless nickel is used as the plating liquid, the nickel formed on the upper support column 104a becomes the electrode 108, and the nickel formed on the piezoelectric member 102 becomes the wiring pattern 109. Dry film 10
After removing 5, the top plate 110 and the nozzle plate 112 having the nozzles 111 are mounted on the piezoelectric member 102 as shown in FIG. 9C.
And the ink supply pipe 113 is attached to the top plate 110 to complete the ink ejecting apparatus.
【0006】このようなインク噴射装置において、隣接
する二つの支柱104の電極にそれぞれ逆の電位の電圧
を印加すると、この部分の支柱104は、せん断歪を起
こし、支柱104の間の圧力室(溝103)の容積が急
激に小さくなり、その圧力室の圧力が高められてインク
が吐出口から飛翔される。In such an ink ejecting apparatus, when voltages having opposite electric potentials are applied to the electrodes of two adjacent columns 104, the columns 104 in this portion cause shear strain, and the pressure chambers between the columns 104 ( The volume of the groove 103) suddenly decreases, the pressure of the pressure chamber is increased, and ink is ejected from the ejection port.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
5ー269993号公報に開示されたインク噴射装置の
製造方法には、次の三つの問題点がある。第一の問題点
は、キャタライジング処理において、支柱104を構成
する材料の違いによる吸着錯化物の組成が、顕著に異な
らないので、処理条件の適正範囲がきわめて狭いことで
ある。よって、支柱上部104aと支柱下部104bの
境界が極めて不明確となり、支柱上部104aにのみ形
成されて果たされる電極としての機能が十分でなくな
る。However, the method of manufacturing an ink jet device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-269993 has the following three problems. The first problem is that, in the catalyzing process, the composition of the adsorbed complex compound due to the difference in the material forming the support column 104 does not significantly differ, so that the appropriate range of process conditions is extremely narrow. Therefore, the boundary between the pillar upper part 104a and the pillar lower part 104b becomes extremely unclear, and the function as an electrode formed only on the pillar upper part 104a and fulfilled becomes insufficient.
【0008】第二の問題点は、ドライフィルム105を
貼るために乾燥することである。乾燥することで、その
前に行った無電解メッキの前処理状態が変化するためで
ある。即ち、吸着している金属化したPdの表面が一部
酸化されて、無電解メッキの触媒能が低下しメッキが均
一に形成されない。The second problem is that the dry film 105 is dried in order to be attached. This is because the pretreatment state of the electroless plating performed before the drying changes. That is, the surface of the adsorbed metallized Pd is partially oxidized, the catalytic ability of the electroless plating is reduced, and the plating is not uniformly formed.
【0009】第三の問題点は、パターニング時の現像処
理において、吸着している金属化したPdがアルカリ性
の現像液に曝されることである。金属化したPdがアル
カリ液に曝されることで、Pdの表面状態が変化した
り、吸着力が悪くなり表面より脱落したりする。その結
果、無電解メッキが均一に形成されないので電極機能が
十分果たせない。The third problem is that the adsorbed metallized Pd is exposed to an alkaline developing solution in the developing process during patterning. When the metallized Pd is exposed to the alkaline liquid, the surface condition of Pd changes or the adsorption power deteriorates and the Pd falls off the surface. As a result, the electroless plating is not uniformly formed, so that the electrode function cannot be sufficiently fulfilled.
【0010】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、無電解メッキにより、所定の位
置に、且つ均一に電極を形成することができるインク噴
射装置の製造方法を提示することを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and presents a method of manufacturing an ink ejecting apparatus capable of uniformly forming electrodes at predetermined positions by electroless plating. The purpose is to do.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の請求項1では、複数の材料からなる隔壁と、
前記隔壁によって隔てられるインク室とを有し、前記隔
壁の変形によって、前記インク室内のインクに圧力が与
えられ、インクが噴射されるインク噴射装置の製造方法
において、無電解メッキの触媒となる金属を含み、且つ
分極された圧電部材と、金属を含まない非金属部材とを
積層する工程と、前記積層部材に溝加工を行なって前記
隔壁を形成する工程と、無電解メッキにより、前記隔壁
の圧電部材に金属電極を形成する工程と、前記積層部材
の溝加工側の面に、カバー部材を接合する工程とからな
ることを特徴とする。In order to achieve this object, in claim 1 of the present invention, a partition wall made of a plurality of materials,
In a method for manufacturing an ink ejecting apparatus, the ink chamber having an ink chamber separated by the partition wall, the pressure being applied to the ink in the ink chamber by the deformation of the partition wall, and the ink serving as a catalyst for electroless plating. Including a polarized piezoelectric member and a non-metal member containing no metal, a step of forming a partition wall by performing a groove processing on the stacked member, and a step of forming the partition wall by electroless plating. It is characterized in that it comprises a step of forming a metal electrode on the piezoelectric member and a step of joining a cover member to the groove processing side surface of the laminated member.
【0012】請求項2では、前記金属は、パラジウムま
たは銀であることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, the metal is palladium or silver.
【0013】請求項3では、前記隔壁を形成した後、前
記圧電部の表面の金属を、活性化する活性化処理を行な
うことを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, after the partition wall is formed, an activation treatment for activating the metal on the surface of the piezoelectric portion is performed.
【0014】請求項4では、前記活性化処理に、塩酸水
溶液を用いることを特徴とする。According to a fourth aspect, an aqueous hydrochloric acid solution is used for the activation treatment.
【0015】請求項5では、前記金属電極の不要部分を
除去することを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, an unnecessary portion of the metal electrode is removed.
【0016】[0016]
【作用】上記の構成を有する本発明では、無電解メッキ
の触媒となる金属を含み、且つ分極された圧電部材と、
金属を含まない非金属部材とが積層され、前記積層部材
に溝加工が行なわれて前記隔壁が形成され、前記圧電部
材に含まれる金属が、無電解メッキの触媒となり、前記
隔壁の圧電部材の部分に金属電極が形成される。そし
て、前記積層部材の溝加工側の面に、カバー部材が接合
されてインク噴射装置が製造される。In the present invention having the above structure, a polarized piezoelectric member containing a metal serving as a catalyst for electroless plating,
A non-metal member containing no metal is laminated, and grooves are formed in the laminated member to form the partition wall, and the metal contained in the piezoelectric member serves as a catalyst for electroless plating, and thus the piezoelectric member of the partition wall is formed. A metal electrode is formed on the portion. Then, the cover member is joined to the groove-processed surface of the laminated member to manufacture the ink ejecting apparatus.
【0017】[0017]
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。図3に示すように、インク噴射装置
1は、アクチュエータプレート2とカバープレート3と
ノズルプレート31と基板41とから構成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 3, the ink ejecting apparatus 1 is composed of an actuator plate 2, a cover plate 3, a nozzle plate 31, and a substrate 41.
【0018】このアクチュエータプレート2は、隔壁1
1に隔てられた溝8及び浅溝9が形成されており、溝8
の側面の上半分の領域には、金属電極13が形成されて
おり、浅溝9の内面には、金属電極16が形成されてい
る。この金属電極16によって、溝8の両側面の金属電
極13が電気的に接続される。The actuator plate 2 includes a partition wall 1.
1 has a groove 8 and a shallow groove 9 which are separated from each other.
A metal electrode 13 is formed in the upper half region of the side surface of the above, and a metal electrode 16 is formed on the inner surface of the shallow groove 9. The metal electrodes 16 electrically connect the metal electrodes 13 on both side surfaces of the groove 8 to each other.
【0019】次に、アクチュエータプレート2の製造方
法を説明する。まず、図2に示すパラジウム粉末(Pd
粉末)を含む圧電セラミック材料基板133を用意す
る。この圧電セラミック材料基板133は、通常の圧電
材料粉末にPd粉末を混合し、焼成、成形したものであ
る。そして、アルミナ基板134の上面に、矢印5の方
向に分極された圧電セラミック材料基板133をエポキ
シ系接着剤にて接着し、更に圧電セラミック材料基板1
33上にフィルム150を熱圧着にて張り付ける。Next, a method of manufacturing the actuator plate 2 will be described. First, the palladium powder (Pd
A piezoelectric ceramic material substrate 133 containing powder) is prepared. The piezoelectric ceramic material substrate 133 is obtained by mixing Pd powder with ordinary piezoelectric material powder, firing and molding. Then, the piezoelectric ceramic material substrate 133 polarized in the direction of arrow 5 is bonded to the upper surface of the alumina substrate 134 with an epoxy adhesive, and the piezoelectric ceramic material substrate 1 is further bonded.
The film 150 is attached onto the surface 33 by thermocompression bonding.
【0020】そして、図1に示すように、ダイモンドカ
ッターブレード30が、切削方向30A、30B、30
Cの順に移動される。複数の溝8及び浅溝9が形成され
る。この溝8の深さは、圧電セラミック材料基板133
の2倍相当である。また、この溝8及び浅溝9の加工に
よって、溝8を隔てる隔壁11が形成される。この隔壁
11は、上部11Aが、分極された圧電セラミックスで
形成され、下部11Bが、アルミナで形成されている。Then, as shown in FIG. 1, the diamond cutter blade 30 has cutting directions 30A, 30B, 30.
Moved in the order of C. A plurality of grooves 8 and shallow grooves 9 are formed. The depth of the groove 8 is equal to the piezoelectric ceramic material substrate 133.
It is equivalent to twice. Further, by processing the groove 8 and the shallow groove 9, a partition wall 11 that separates the groove 8 is formed. The partition 11 has an upper portion 11A made of polarized piezoelectric ceramics and a lower portion 11B made of alumina.
【0021】尚、このようにして形成される溝8の寸法
は、用いるダイアモンドカッターブレード30の厚み及
び設定切込み量で決定され、溝8のピッチ及び本数は、
溝8加工時の加工テーブルの送りピッチ及び溝加工回数
を制御することで決定される。The dimensions of the grooves 8 thus formed are determined by the thickness of the diamond cutter blade 30 used and the set depth of cut, and the pitch and number of the grooves 8 are
It is determined by controlling the feed pitch of the machining table and the number of times of machining the groove when machining the groove 8.
【0022】次に、無電解メッキの前処理として、洗
浄、活性化処理を行う。洗浄は、メッキ形成部の汚れと
溝加工時の切削片の除去及び、活性化処理液やメッキ液
が溝8内に入りやすくするための親水化処理を目的とし
て行われるもので、本実施例においては、加温したアル
カリ水溶液を用いた。活性化処理は、圧電セラミック材
料基板133に含まれるPd粉末表面を活性化する目的
で行われるもので、本実施例では、塩酸水溶液を用い
た。この処理を行うと、圧電セラミック材料基板133
の露出している部分、即ち溝8の側面上部及び浅溝9の
内面においてPd粉末表面が活性化され、無電解メッキ
の反応開始の触媒作用を示す。Next, as a pretreatment for electroless plating, cleaning and activation treatments are performed. The cleaning is performed for the purpose of removing stains on the plating forming portion and cutting pieces during groove processing, and hydrophilic treatment for facilitating activation treatment liquid or plating liquid to enter the groove 8. In, a heated alkaline aqueous solution was used. The activation treatment is performed for the purpose of activating the surface of the Pd powder contained in the piezoelectric ceramic material substrate 133, and in this embodiment, an aqueous hydrochloric acid solution was used. When this processing is performed, the piezoelectric ceramic material substrate 133
The Pd powder surface is activated in the exposed portion of the above, that is, the upper side surface of the groove 8 and the inner surface of the shallow groove 9, and exhibits a catalytic action for starting the reaction of electroless plating.
【0023】そして、上記処理を施したものを無電解メ
ッキ液に浸せきして無電解メッキを行う。無電解メッキ
は、無電解ニッケル、置換型無電解金、還元型無電解金
を順次連続的に行う。本実施例では、無電解ニッケル液
には奥野製薬社製のトップニコロンEを用い、置換型無
電解金液には奥野製薬社製のOPCムデンゴールドを用
い、還元型無電解金液には奥野製薬社製のOPCムデン
ゴールド25を用いた。Then, the above-mentioned treatment is dipped in an electroless plating solution to perform electroless plating. In electroless plating, electroless nickel, substitutional electroless gold, and reduction electroless gold are successively performed. In this example, Top Nicolon E manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. was used as the electroless nickel liquid, OPC Muden Gold manufactured by Okuno Pharmaceutical Co. was used as the substitution type electroless gold liquid, and the reduced electroless gold liquid was used. Used OPC Muden Gold 25 manufactured by Okuno Seiyaku.
【0024】無電解ニッケルメッキは、pHが4.5、
温度が90℃、空気攪拌にて、2〜5分浸せきして、ニ
ッケルを0.5〜1.0μm析出させる。尚、前記トップ
ニコロンEは、トップニコロンE−M(100ml/
l)とトップニコロンE−1(50ml/l)とを用い
て建浴したものであり、ニッケル濃度は5.0g/lで
ある。The electroless nickel plating has a pH of 4.5,
It is immersed in air at a temperature of 90 ° C. for 2 to 5 minutes to deposit nickel in an amount of 0.5 to 1.0 μm. The top nicolone E is the top nicolon EM (100 ml /
1) and top nicolone E-1 (50 ml / l), and the nickel concentration was 5.0 g / l.
【0025】置換型無電解金メッキは、pHが5.8、
温度が90℃、機械攪拌にて、10〜20分浸せきし
て、金を0.05〜0.1μm析出させる。尚、前記OP
Cムデンゴールドは、OPCムデンゴールド(100m
l/l)を用いて建浴したものであり、金濃度は3.5
g/lである。The substitution type electroless gold plating has a pH of 5.8,
Immerse at a temperature of 90 ° C. with mechanical stirring for 10 to 20 minutes to deposit gold in an amount of 0.05 to 0.1 μm. The OP
C Muden Gold is OPC Muden Gold (100m
1 / l) was used for bathing, and the gold concentration was 3.5.
g / l.
【0026】還元型無電解金メッキは、pHが13.
5、温度が73℃(間接加熱)、空気攪拌にて、7〜1
5分浸せきして、金を0.5〜1.0μm析出させる。
尚、前記OPCムデンゴールド25は、OPCムデンゴ
ールド25ーM(200ml/l)とOPCムデンゴー
ルド25ー1(200ml/l)とOPCムデンゴール
ド25ー2(150ml/l)とを用いて建浴したもの
であり、金濃度は4g/lである。The pH of reduced electroless gold plating is 13.
5, the temperature is 73 ℃ (indirect heating), 7-1 by air stirring
Immerse for 5 minutes to deposit gold in an amount of 0.5 to 1.0 μm.
The OPC muden gold 25-M (200 ml / l), OPC muden gold 25-1 (200 ml / l) and OPC muden gold 25-2 (150 ml / l) were used. It was used to make a bath, and the gold concentration was 4 g / l.
【0027】以上述べた様に形成されたメッキ膜を観察
したところ、溝8の側面上部及び浅溝9の内面には均一
なメッキ膜が形成されていた。When the plating film formed as described above was observed, a uniform plating film was formed on the upper side surface of the groove 8 and the inner surface of the shallow groove 9.
【0028】次に、圧電セラミック材料基板133上の
フィルム50を加熱したアルカリ水溶液にて浸せきして
除去する。そして、不必要なメッキ析出部分を除去すれ
ば、溝8の側面上部及び浅溝9の内面に金属電極13お
よび16が形成されたアクチュエータ2が製造される。Next, the film 50 on the piezoelectric ceramic material substrate 133 is immersed in a heated alkaline aqueous solution to remove it. Then, if unnecessary plating deposits are removed, the actuator 2 having the metal electrodes 13 and 16 formed on the upper side surface of the groove 8 and the inner surface of the shallow groove 9 is manufactured.
【0029】次に、図3に示すように、アクチュエータ
プレート2の溝8加工側の面とカバープレート3のマニ
ホールド22加工側の面とがエポキシ系等の接着剤4
(図5)によって接着される。従って、インクジェット
プリンタヘッド1には、溝8の上面が覆われて、横方向
に違いに間隔を有する複数のインク室12(図5)が構
成される。Next, as shown in FIG. 3, the surface of the actuator plate 2 on the side where the groove 8 is processed and the surface of the cover plate 3 on the side where the manifold 22 is processed are made of an epoxy adhesive 4 or the like.
(FIG. 5). Therefore, in the inkjet printer head 1, the upper surfaces of the grooves 8 are covered, and a plurality of ink chambers 12 (FIG. 5) having laterally different intervals are formed.
【0030】そして、アクチュエータプレート2及びカ
バープレート3の端面に、各インク室12に対応してノ
ズル32が設けられたノズルプレート31が接着され
る。また、アクチュエータプレート2の溝8の加工側に
対して反対側の面には、基板41が、エポキシ系接着剤
によって接着されている。その基板41には各インク室
12の位置に対応した位置に導電層のパターン42が形
成されている。その導電層のパターン42と浅溝部16
の底面の金属電極9とは、周知のワイヤボンディング等
によって導線43で接続されている。A nozzle plate 31 provided with nozzles 32 corresponding to each ink chamber 12 is adhered to the end faces of the actuator plate 2 and the cover plate 3. A substrate 41 is adhered to the surface of the actuator plate 2 opposite to the processed side of the groove 8 with an epoxy adhesive. A pattern 42 of a conductive layer is formed on the substrate 41 at positions corresponding to the positions of the ink chambers 12. The conductive layer pattern 42 and the shallow groove portion 16
It is connected to the metal electrode 9 on the bottom surface by a conductor 43 by well-known wire bonding or the like.
【0031】次に、制御部のブロック図を示す図4によ
って、制御部の構成を説明する。基板41に形成された
導電層のパターン42は各々個々にLSIチップ51に
接続されている。また、クロックライン52、データラ
イン53、電圧ライン54及びアースライン55もLS
Iチップ51に接続されている。LSIチップ51は、
クロックライン52から供給される連続したクロックパ
ルスに基づいて、データライン53上に現れるデータに
応じて、どのノズル32からインク滴の噴射を行うべき
かを判断する。そして、LSIチップ51は、駆動する
インク室12の金属電極13に電気的に接続された導電
層のパターン42に、電圧ライン54の電圧Vを印加
し、駆動するインク室12以外の金属電極13に接続さ
れた導電層のパターン42にはアースライン55を接続
する。Next, the configuration of the control unit will be described with reference to FIG. 4, which shows a block diagram of the control unit. The conductive layer patterns 42 formed on the substrate 41 are individually connected to the LSI chip 51. The clock line 52, the data line 53, the voltage line 54, and the ground line 55 are also LS.
It is connected to the I-chip 51. The LSI chip 51 is
Based on the continuous clock pulse supplied from the clock line 52, it is determined from which nozzle 32 the ink droplet should be ejected according to the data appearing on the data line 53. Then, the LSI chip 51 applies the voltage V of the voltage line 54 to the pattern 42 of the conductive layer electrically connected to the metal electrode 13 of the ink chamber 12 to be driven, and the metal electrode 13 other than the ink chamber 12 to be driven. A ground line 55 is connected to the conductive layer pattern 42 connected to.
【0032】次に、図5、図6によって、インク噴射装
置1の動作を説明する。Next, the operation of the ink ejecting apparatus 1 will be described with reference to FIGS.
【0033】LSIチップ51が、所要のデータに従っ
て、インク噴射装置1のインク室12bからインクの噴
出を行なうと判断する。すると、そのインク室12bに
対応する導電層パターン42を介して金属電極13eと
13fとに正の駆動電圧Vが印加され、金属電極13d
と13gとが接地される。図6に示すように、隔壁11
bの上部11Aには矢印14bの方向の駆動電界が発生
し、隔壁11cの上部11Aには矢印14cの方向の駆
動電界が発生する。すると、駆動電界方向14b及び1
4cは分極方向5とが直交しているため、隔壁11b及
び11cの上部11Aは、圧電厚みすべり効果により、
この場合、インク室12bの内部方向に急速に変形しよ
うとする力が作用し、その力により、隔壁11b、11
cの下部11Bもインク室12bの内部に変形される。
この変形によってインク室12bの容積が減少してイン
ク圧力が急速に増大し、圧力波が発生して、インク室1
2bに連通するノズル32(図3)からインク滴が噴射
される。It is determined that the LSI chip 51 ejects ink from the ink chamber 12b of the ink ejecting apparatus 1 according to required data. Then, the positive drive voltage V is applied to the metal electrodes 13e and 13f through the conductive layer pattern 42 corresponding to the ink chamber 12b, and the metal electrode 13d
And 13g are grounded. As shown in FIG. 6, the partition wall 11
A driving electric field in the direction of arrow 14b is generated in the upper portion 11A of b, and a driving electric field in the direction of arrow 14c is generated in the upper portion 11A of partition wall 11c. Then, the driving electric field directions 14b and 1
Since 4c is orthogonal to the polarization direction 5, the upper portions 11A of the partition walls 11b and 11c are affected by the piezoelectric thickness sliding effect.
In this case, a force that rapidly deforms inward of the ink chamber 12b acts, and the force causes the partition walls 11b, 11 to be deformed.
The lower part 11B of c is also deformed inside the ink chamber 12b.
Due to this deformation, the volume of the ink chamber 12b is reduced, the ink pressure is rapidly increased, and a pressure wave is generated, so that the ink chamber 1
Ink droplets are ejected from the nozzle 32 (FIG. 3) communicating with 2b.
【0034】また、駆動電圧Vの印加が停止されると、
隔壁11b及び11cが変形前の位置(図5参照)に戻
るためインク室12b内のインク圧力が低下する。する
と、インク導入口21(図3)からマニホールド22
(図3)を通してインク流路12b内にインクが供給さ
れる。When the application of the driving voltage V is stopped,
Since the partition walls 11b and 11c return to the positions before deformation (see FIG. 5), the ink pressure in the ink chamber 12b decreases. Then, from the ink inlet 21 (FIG. 3) to the manifold 22.
Ink is supplied into the ink flow path 12b through (FIG. 3).
【0035】尚、前記実施例においては、まず駆動電圧
をインク室12bの容積が減少させて、インク室12b
からインク滴を噴射し、次に駆動電圧の印加を停止しイ
ンク室12bの容積を自然状態にしてインク室12bに
インクを供給していたが、まず駆動電圧をインク室12
bの容積が増大するように印加して、インク室12bに
インクを供給し、次に駆動電圧の印加を停止してインク
室12bの容積を前記増大状態から自然状態へと減少さ
せてインク室12bからインク滴を噴射させてもよい。In the above embodiment, first, the drive voltage is reduced so that the volume of the ink chamber 12b is reduced, and then the ink chamber 12b is reduced.
Ink droplets were ejected from the ink chamber, and then the application of the drive voltage was stopped to make the volume of the ink chamber 12b natural and the ink was supplied to the ink chamber 12b.
The ink is supplied to the ink chamber 12b by increasing the volume of b, and then the application of the driving voltage is stopped to decrease the volume of the ink chamber 12b from the increased state to the natural state. Ink droplets may be ejected from 12b.
【0036】上述したように、本実施例では、隔壁11
の上部11Aが、パラジウム粉末(Pd粉末)を含む圧
電セラミック材料基板133で形成され、下部11Bが
をアルミナ基板134で形成されているので、Pb粉末
が無電解メッキの触媒となって、隔壁11の上部11A
のみに金属電極が形成される。このように、無電解メッ
キによって、隔壁11の上半分の領域のみに金属電極を
形成することができる。また、従来のように無電解メッ
キの前処理状態が変化することがないので、メッキ膜を
均一に形成することができる。更に、無電解メッキの触
媒となる金属が前記圧電部材に含まれているので、従来
のようにメッキへの吸着力が悪くなることがなく、メッ
キ膜を均一に形成することができる。As described above, in this embodiment, the partition wall 11
Since the upper part 11A of the above is formed of the piezoelectric ceramic material substrate 133 containing palladium powder (Pd powder) and the lower part 11B is formed of the alumina substrate 134, the Pb powder serves as a catalyst for electroless plating, and the partition wall 11 is formed. 11A above
A metal electrode is formed only on the. In this way, the metal electrode can be formed only in the upper half region of the partition wall 11 by electroless plating. Further, unlike the conventional case, the pretreatment state of electroless plating does not change, so that the plated film can be formed uniformly. Further, since the piezoelectric member contains a metal that serves as a catalyst for electroless plating, it is possible to form a plated film uniformly without deteriorating the attraction force for plating as in the conventional case.
【0037】尚、本実施例では、全てのインク室12か
らインクを噴射する構成であったが、インクを噴射する
インク室との間に、インクを噴射しない非噴射室を設け
る構成でもよい。In this embodiment, ink is ejected from all the ink chambers 12, but a non-ejection chamber that does not eject ink may be provided between the ink chambers that eject ink.
【0038】また、本実施例では、隔壁11の上部11
Aを金属を含んだ圧電セラミックスで形成し、下部11
Bをアルミナで形成していたが、下部11Bは金属を含
まない材料でさえあればなんでもよい。Further, in this embodiment, the upper portion 11 of the partition wall 11 is
A is formed of a piezoelectric ceramic containing metal, and the lower part 11
Although B was made of alumina, the lower portion 11B may be made of any material containing no metal.
【0039】さらに、本実施例では、隔壁11の上部1
1Aを圧電セラミックスで形成し、下部11Bをアルミ
ナで形成していたが、隔壁11の上部を金属を含まない
非金属材料で形成し、下部11Bを金属を含んだ圧電セ
ラミックスで形成してもよい。Further, in this embodiment, the upper part 1 of the partition wall 11 is
Although 1A is formed of piezoelectric ceramics and lower portion 11B is formed of alumina, the upper portion of the partition wall 11 may be formed of a non-metal material containing no metal and the lower portion 11B may be formed of piezoelectric ceramics containing metal. .
【0040】[0040]
【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明のインク噴射装置の製造方法によれば、金属を含
み、且つ分極された圧電部材と非圧電部材とを積層し、
その積層部材に溝加工を行なって前記隔壁を形成した
後、無電解メッキを行なうので、前記圧電部材の前記金
属が無電解メッキの触媒となって、前記隔壁の前記圧電
部材の領域に金属電極が形成される。このように、無電
解メッキによって、隔壁の所定領域のみに金属電極を形
成することができる。また、従来のように無電解メッキ
の前処理状態が変化することがないので、メッキ膜を均
一に形成することができる。更に、無電解メッキの触媒
となる金属が前記圧電部材に含まれているので、従来の
ようにメッキへの吸着力が悪くなることがなく、メッキ
膜を均一に形成することができる。As is apparent from the above description, according to the method of manufacturing an ink ejecting apparatus of the present invention, a piezoelectric member and a non-piezoelectric member which contain a metal and are polarized are laminated,
Groove processing is performed on the laminated member to form the partition wall, and then electroless plating is performed. Therefore, the metal of the piezoelectric member serves as a catalyst for electroless plating, and a metal electrode is formed on the partition wall in the region of the piezoelectric member. Is formed. In this way, the metal electrode can be formed only in a predetermined region of the partition wall by electroless plating. Further, unlike the conventional case, the pretreatment state of electroless plating does not change, so that the plated film can be formed uniformly. Further, since the piezoelectric member contains a metal that serves as a catalyst for electroless plating, it is possible to form a plated film uniformly without deteriorating the attraction force for plating as in the conventional case.
【図1】本発明の一実施例のインク噴射装置の溝形成を
示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing groove formation of an ink ejecting apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】前記実施例のアクチュエータプレート製造を示
す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view showing manufacturing of the actuator plate of the above-mentioned embodiment.
【図3】前記実施例のインク噴射装置を示す斜視図であ
る。FIG. 3 is a perspective view showing the ink ejecting apparatus of the embodiment.
【図4】前記実施例の制御部を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a control unit of the embodiment.
【図5】前記実施例のインク噴射装置を示す断面図であ
る。FIG. 5 is a cross-sectional view showing the ink ejecting apparatus of the embodiment.
【図6】前記実施例のインク噴射装置の動作を示す説明
図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing the operation of the ink ejecting apparatus of the embodiment.
【図7】従来のインク噴射装置の製造過程を示す説明図
である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of a conventional ink ejecting apparatus.
【図8】従来のインク噴射装置の製造過程を示す説明図
である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of a conventional ink ejecting apparatus.
【図9】従来のインク噴射装置の製造過程を示す説明図
である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of a conventional ink ejecting apparatus.
1 インク噴射装置 2 アクチュエータプレート 3 カバープレート 8 溝 11 隔壁 12 インク室 13 金属電極 1 Ink Ejection Device 2 Actuator Plate 3 Cover Plate 8 Groove 11 Partition Wall 12 Ink Chamber 13 Metal Electrode
Claims (5)
よって隔てられるインク室とを有し、前記隔壁の変形に
よって、前記インク室内のインクに圧力が与えられ、イ
ンクが噴射されるインク噴射装置の製造方法において、 無電解メッキの触媒となる金属を含み、且つ分極された
圧電部材と、金属を含まない非金属部材とを積層する工
程と、 前記積層部材に溝加工を行なって前記隔壁を形成する工
程と、 無電解メッキにより、前記隔壁の圧電部材に金属電極を
形成する工程と、 前記積層部材の溝加工側の面に、カバー部材を接合する
工程とからなることを特徴とするインク噴射装置の製造
方法。1. An ink ejecting apparatus having a partition wall made of a plurality of materials and an ink chamber separated by the partition wall, the deformation of the partition wall applying pressure to the ink in the ink chamber to eject the ink. In the manufacturing method of step 1, a step of stacking a polarized piezoelectric member containing a metal serving as a catalyst for electroless plating and a non-metal member containing no metal, and performing groove processing on the stacked member to form the partition wall. Ink, which comprises a forming step, a step of forming a metal electrode on the piezoelectric member of the partition wall by electroless plating, and a step of joining a cover member to the groove processing side surface of the laminated member. A method for manufacturing an injection device.
ことを特徴とする請求項1記載のインク噴射装置の製造
方法。2. The method for manufacturing an ink ejecting apparatus according to claim 1, wherein the metal is palladium or silver.
面の金属を、活性化する活性化処理を行なうことを特徴
とする請求項1記載のインク噴射装置の製造方法。3. The method for manufacturing an ink ejecting apparatus according to claim 1, wherein after the partition wall is formed, an activation treatment for activating the metal on the surface of the piezoelectric portion is performed.
ことを特徴とする請求項3記載のインク噴射装置の製造
方法。4. The method for manufacturing an ink jet device according to claim 3, wherein a hydrochloric acid aqueous solution is used for the activation treatment.
を特徴とする請求項1記載のインク噴射装置の製造方
法。5. The method of manufacturing an ink jet apparatus according to claim 1, wherein an unnecessary portion of the metal electrode is removed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9719194A JPH07304178A (en) | 1994-05-11 | 1994-05-11 | Method of manufacturing ink jet device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9719194A JPH07304178A (en) | 1994-05-11 | 1994-05-11 | Method of manufacturing ink jet device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07304178A true JPH07304178A (en) | 1995-11-21 |
Family
ID=14185697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9719194A Pending JPH07304178A (en) | 1994-05-11 | 1994-05-11 | Method of manufacturing ink jet device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07304178A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002103629A (en) * | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Konica Corp | Method for manufacturing shear mode head |
JP2002172789A (en) * | 2000-12-04 | 2002-06-18 | Konica Corp | Method of manufacturing ink jet head |
US7784913B2 (en) | 2005-01-26 | 2010-08-31 | Seiko Epson Corporation | Mounted structure, liquid droplet ejection head, liquid droplet ejection apparatus and manufacturing method |
-
1994
- 1994-05-11 JP JP9719194A patent/JPH07304178A/en active Pending
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JP4560930B2 (en) * | 2000-09-29 | 2010-10-13 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | Method for manufacturing a shear mode head |
JP2002172789A (en) * | 2000-12-04 | 2002-06-18 | Konica Corp | Method of manufacturing ink jet head |
US7784913B2 (en) | 2005-01-26 | 2010-08-31 | Seiko Epson Corporation | Mounted structure, liquid droplet ejection head, liquid droplet ejection apparatus and manufacturing method |
US8839520B2 (en) | 2005-01-26 | 2014-09-23 | Seiko Epson Corporation | Mounted structure, liquid droplet ejection head, liquid droplet ejection apparatus and manufacturing method |
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