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JPH0730206A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

Info

Publication number
JPH0730206A
JPH0730206A JP5169359A JP16935993A JPH0730206A JP H0730206 A JPH0730206 A JP H0730206A JP 5169359 A JP5169359 A JP 5169359A JP 16935993 A JP16935993 A JP 16935993A JP H0730206 A JPH0730206 A JP H0730206A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
photodetector
light beam
light
optical path
Prior art date
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Granted
Application number
JP5169359A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3351863B2 (en
Inventor
式雄 ▲吉▼田
Norio Yoshida
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP16935993A priority Critical patent/JP3351863B2/en
Publication of JPH0730206A publication Critical patent/JPH0730206A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3351863B2 publication Critical patent/JP3351863B2/en
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  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

PURPOSE:To downsize a semiconductor laser device, prevent errors in the alignment accuracy and shape accuracy and accurately detect a control signal and a recording information signal. CONSTITUTION:An integrated element 25 is formed by monolithically forming a semiconductor laser 11, a signal detecting photodetector 16 and a photodetector 15 for monitoring the laser beam power. A transparent block 21 is formed of a diffraction-type element 20 and a reflecting film 22. The integrated element 25 and the transparent block 21 are fixed permitting the diffraction-type element 20 to position on the optical path of the beam 13 emitted from the semiconductor laser 11, the reflecting film 22 to position on the optical path of the beam 17 which is branched by the diffraction-type element 20 and is permitted to return from the external, and the signal detecting photodetector 16 to position on the optical path of the beam reflected by the reflecting film 22. The photodetector 15 for monitoring the laser beam power is provided on the optical path of the beam emitted from other part of the semiconductor laser 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光情報読み取り用の光
ビームを照射でき、また入射した光ビームの光出力を検
出できるものであり、特に対物レンズ等と共に用いるこ
とによって光ピックアップを構成し得る半導体レーザ装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is capable of irradiating a light beam for reading optical information and detecting the light output of the incident light beam. In particular, the present invention is used with an objective lens to construct an optical pickup. To obtain a semiconductor laser device.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ピックアップは、一般に、光ディスク
等の光学記録媒体に光ビームを照射すると共に、フォー
カス/トラッキング誤差信号を検出して所定の制御を行
いつつ光学記録媒体からの信号光を検出することにより
情報の読み取りを行う。かかる光ピックアップは、半導
体レーザ、光検出器、ビームスプリッタ、対物レンズ等
の光学部品によって構成され、通常は、構成要素の各々
の光学部品を独立した部品として作製し、これらを光路
調整を行った状態で組み立てることにより製造される。
このため、多数存在する光学部品のために、光路の調整
に多大な工数を要し、コスト低減が困難になっている。
また、個別に作製した光学部品を組み立てているので、
光ピックアップ全体の小型化の面でも限界がある。
2. Description of the Related Art In general, an optical pickup irradiates an optical recording medium such as an optical disc with a light beam and detects a focus / tracking error signal to perform a predetermined control to detect a signal light from the optical recording medium. Information is read by doing so. Such an optical pickup is made up of optical components such as a semiconductor laser, a photodetector, a beam splitter, and an objective lens. Normally, each optical component is manufactured as an independent component, and the optical path of these components is adjusted. It is manufactured by assembling in the state.
Therefore, due to the large number of optical components, it takes a lot of man-hours to adjust the optical path, and it is difficult to reduce the cost.
Also, because the individually manufactured optical components are assembled,
There is also a limit to the size reduction of the entire optical pickup.

【0003】そこで、図3に示すような半導体レーザ装
置が提案されている(特願平01−270382)。こ
の半導体レーザ装置は、シリコン基板等の半導体基板5
1上に、半導体レーザ52、信号検出用光検出器45お
よびレーザ光出力モニタ用光検出器54などを、以下の
ようにして集積化した構造となっている。つまり、半導
体基板51の上表層に信号検出用光検出器45を形成
し、また、レーザビームを偏向させるための45度傾斜
ミラー面53をエッチング等により形成すると共に、そ
の傾斜ミラー面53の上表層に光出力モニタ用の光検出
器54を形成する。次に、所定の位置にチップ状の半導
体レーザ52を可能な限り高精度にボンディングする。
これによって、半導体レーザ52、信号検出用光検出器
45およびレーザ光出力モニタ用光検出器54の機能を
集積化した構造である。なお、光検出器54の上は反射
膜としてのコーティング膜56が形成され、また半導体
レーザ52の上面と、レーザビーム射出面を除く側面と
に反射膜としてのコーティング膜55が形成されてい
る。
Therefore, a semiconductor laser device as shown in FIG. 3 has been proposed (Japanese Patent Application No. 01-270382). This semiconductor laser device includes a semiconductor substrate 5 such as a silicon substrate.
A semiconductor laser 52, a photodetector 45 for signal detection, a photodetector 54 for laser light output monitoring, and the like are integrated on the structure 1 as follows. That is, the photodetector 45 for signal detection is formed on the upper surface layer of the semiconductor substrate 51, and the 45 ° inclined mirror surface 53 for deflecting the laser beam is formed by etching or the like. A photodetector 54 for monitoring the light output is formed on the surface layer. Next, the chip-shaped semiconductor laser 52 is bonded to a predetermined position with the highest possible accuracy.
Thus, the functions of the semiconductor laser 52, the signal detection photodetector 45, and the laser light output monitor photodetector 54 are integrated. A coating film 56 as a reflecting film is formed on the photodetector 54, and a coating film 55 as a reflecting film is formed on the upper surface of the semiconductor laser 52 and the side surfaces other than the laser beam emitting surface.

【0004】更に、これらとは別に、外付けで対物レン
ズ44および光分岐用の回折型素子43を配置すること
により、光ピックアップが構成されている。この光ピッ
クアップにおいては、半導体レーザ52から出射された
射出レーザビーム57がコーティング膜56で反射さ
れ、その反射された射出レーザビーム58が対物レンズ
44を経た後に光ディスク42に照射される。光ディス
ク42から反射したレーザビームは、回折型素子43に
て方向を変えて光検出器45に捉えられ、ここで記録情
報信号の検出が行われる。
In addition to these components, an optical pickup is constructed by externally disposing an objective lens 44 and a diffractive element 43 for splitting light. In this optical pickup, the emission laser beam 57 emitted from the semiconductor laser 52 is reflected by the coating film 56, and the reflected emission laser beam 58 passes through the objective lens 44 and then is irradiated onto the optical disc 42. The laser beam reflected from the optical disk 42 changes its direction by the diffractive element 43 and is captured by the photodetector 45, where the recording information signal is detected.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の半導
体レーザ装置においては、半導体レーザ52をボンディ
ングして取り付けているが、そのボンディング精度に限
界があって半導体レーザ52の形成位置に誤差が生じや
すく、また、エッチング等によって傾斜ミラー面53を
形成する技術に限界があるために傾斜ミラー面の作製位
置精度と傾斜ミラー面53そのものの形状精度とに誤差
が生じやすかった。前者の誤差が存在する場合には、半
導体レーザ52の出射点と傾斜ミラー面53の光ビーム
偏向位置(反射位置)との間の距離にばらつきが発生し
たりする。一方、後者の誤差が存在する場合には、半導
体レーザ52から発せられたビームの波面収差に劣化が
生じる。また、このようなボンディング精度誤差や距離
のばらつき、或は波面収差劣化が発生するに伴って、以
下のような問題が発生する。すなわち、光検出器54上
での集光ビームの形状に乱れが発生したり、集光ビーム
の位置にずれが発生したり、或は、光学記録媒体上での
読み取り用集光スポットの波面収差の劣化となって現
れ、フォーカス/トラッキング誤差信号に基づいた制御
用の信号や記録情報信号の検出に大きな悪影響が招来さ
れるという問題が発生する。
By the way, in the conventional semiconductor laser device, the semiconductor laser 52 is attached by bonding, but there is a limit in the bonding accuracy, and an error easily occurs in the formation position of the semiconductor laser 52. Further, since there is a limit to the technique for forming the tilted mirror surface 53 by etching or the like, an error is likely to occur between the manufacturing accuracy of the tilted mirror surface and the shape accuracy of the tilted mirror surface 53 itself. If the former error exists, the distance between the emission point of the semiconductor laser 52 and the light beam deflection position (reflection position) of the tilted mirror surface 53 varies. On the other hand, when the latter error exists, the wavefront aberration of the beam emitted from the semiconductor laser 52 deteriorates. Further, the following problems occur due to such bonding accuracy error, distance variation, or wavefront aberration deterioration. That is, the shape of the focused beam on the photodetector 54 is disturbed, the position of the focused beam is displaced, or the wavefront aberration of the focused spot for reading on the optical recording medium. Of the focus / tracking error signal, which has a serious adverse effect on the detection of the control signal and the recording information signal based on the focus / tracking error signal.

【0006】本発明は、このような従来の技術の課題を
解決すべくなされたものであり、小型化できることはも
ちろんのこと、作製位置精度と形状精度とに誤差が生じ
にくく、これにより制御用の信号や記録情報信号の検出
を正確に行うことができる半導体レーザ装置を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the conventional technique, and of course, it is possible to reduce the size, and it is difficult for an error to occur between the manufacturing position accuracy and the shape accuracy, which makes it possible to control. It is an object of the present invention to provide a semiconductor laser device capable of accurately detecting the above signal and recorded information signal.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体レーザ装
置は、半導体レーザから射出された光ビームを回折型素
子を透過させて外部に出射し、該光ビームの外部から戻
ってきた戻光ビームを該回折型素子にて該半導体レーザ
から発せられた光ビームと分岐させて信号検出用光検出
器に入射させる一方、該半導体レーザの別の箇所から射
出された光ビームをレーザ光出力モニタ用光検出器にて
捉えてモニタする半導体レーザ装置であって、該半導体
レーザ、該信号検出用光検出器および該レーザ光出力モ
ニタ用光検出器がモノリシックに形成された集積素子
と、該回折型素子、および該回折型素子にて分岐された
該戻光ビームを該信号検出用光検出器に向けて反射させ
る反射膜が形成された透明ブロックとを具備し、該集積
素子と該透明ブロックとが、半導体レーザから射出され
た光ビームの光路上に回折型素子を位置させ、回折型素
子にて分岐され外部から戻ってきた光ビームの光路上に
該反射膜を位置させ、該反射膜にて反射した光ビームの
光路上に信号検出用光検出器を位置させた状態に、固設
されているので、そのことにより上記目的が達成され
る。
A semiconductor laser device of the present invention is a return light beam that returns the light beam emitted from the semiconductor laser from the outside through the diffractive element. Is branched by the diffractive element with the light beam emitted from the semiconductor laser to be incident on the photodetector for signal detection, while the light beam emitted from another portion of the semiconductor laser is used for laser light output monitoring. A semiconductor laser device for capturing and monitoring with a photodetector, wherein the semiconductor laser, the signal detection photodetector, and an integrated element in which the laser light output monitoring photodetector is monolithically formed, and the diffraction type The integrated element and the transparent block, the element and a transparent block having a reflective film for reflecting the returning light beam branched by the diffractive element toward the photodetector for signal detection. And the diffractive element is positioned on the optical path of the light beam emitted from the semiconductor laser, and the reflective film is positioned on the optical path of the light beam branched from the diffractive element and returned from the outside. Since the signal detecting photodetector is fixedly placed on the optical path of the light beam reflected by, the above object is achieved by that.

【0008】この半導体レーザ装置において、レーザ光
出力モニタ用光検出器は、半導体レーザの別の箇所から
射出された光ビームの光路上に設けるのが好ましい。ま
た、透明ブロック上の回折型素子にて分岐させる際に生
じた回折光のうちの1又は複数の光を反射膜で反射さ
せ、その反射光を信号検出用光検出器に導光するように
することができる。
In this semiconductor laser device, the laser light output monitor photodetector is preferably provided on the optical path of the light beam emitted from another portion of the semiconductor laser. In addition, one or more of the diffracted light generated when the light is split by the diffractive element on the transparent block is reflected by the reflective film, and the reflected light is guided to the photodetector for signal detection. can do.

【0009】[0009]

【作用】本発明にあっては、半導体レーザ、信号検出用
光検出器およびレーザ光出力モニタ用光検出器がモノリ
シックに形成された集積素子と、回折型素子および反射
膜が形成された透明ブロックとが、半導体レーザから射
出された光ビームの光路上に回折型素子を、回折型素子
にて分岐され外部から戻ってきた光ビームの光路上に該
反射膜を、該反射膜にて反射した光ビームの光路上に信
号検出用光検出器を各々位置させた状態に固設されてい
る。この構成において、レーザ光出力モニタ用光検出器
は、半導体レーザの別の箇所から射出された光ビームの
光路上に設けられる。
According to the present invention, an integrated element in which a semiconductor laser, a photodetector for signal detection and a photodetector for laser light output monitor are monolithically formed, and a transparent block on which a diffractive element and a reflection film are formed Is a diffraction element on the optical path of the light beam emitted from the semiconductor laser, the reflection film is reflected on the reflection film on the optical path of the light beam branched from the semiconductor element and returned from the outside. The photodetectors for signal detection are fixedly mounted on the optical path of the light beam. In this configuration, the laser light output monitor photodetector is provided on the optical path of the light beam emitted from another portion of the semiconductor laser.

【0010】このため、半導体レーザ、信号検出用光検
出器およびレーザ光出力モニタ用光検出器がモノリシッ
クに形成されているので、小型化できる。また、集積素
子上に設けられた半導体レーザ、信号検出用光検出器お
よびレーザ光出力モニタ用光検出器における相互の位置
関係は、半導体製造プロセスと同様の高精度で決定でき
る。また、透明ブロックについては、例えばプリズム等
の光学部品の作製技術を利用することにより、透明ブロ
ックの回折型素子を形成する回折型素子形成面と、透明
ブロックの反射膜を形成する反射膜形成面との角度精度
を高精度に出し、その後、回折型素子形成面に半導体製
造技術にて回折型素子を作製することにより、アライメ
ント精度の向上が図れる。このアライメント精度の向上
により、反射面により反射した光ビームを信号検出用光
検出器に位置精度よく入射させることができる
Therefore, the semiconductor laser, the photodetector for signal detection, and the photodetector for laser light output monitoring are monolithically formed, so that the size can be reduced. Further, the mutual positional relationship among the semiconductor laser, the photodetector for signal detection, and the photodetector for laser light output monitoring provided on the integrated element can be determined with the same high precision as in the semiconductor manufacturing process. As for the transparent block, a diffraction element forming surface for forming the diffraction element of the transparent block and a reflection film forming surface for forming the reflection film of the transparent block are formed by using a technique for producing an optical component such as a prism. The alignment accuracy can be improved by producing the angle accuracy with respect to and with high accuracy and then manufacturing the diffractive element on the surface on which the diffractive element is formed by the semiconductor manufacturing technique. Due to this improvement in alignment accuracy, the light beam reflected by the reflecting surface can be incident on the photodetector for signal detection with high positional accuracy.

【0011】[0011]

【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1は、本実施例の半導体レーザ装置10
0を示す正面図である。この半導体レーザ装置100
は、GaAs基板等の基板10上に、横方向に共振器を
もつ半導体レーザ11が形成されており、一方(上側)
の共振器端面12から光ビーム13を射出するようにな
っている。半導体レーザ11のもう一方(下側)の共振
器端面14側には、この共振器端面14と隣接して基板
10上にレーザ光出力モニタ用光検出器15が形成さ
れ、更にその光検出器15に隣接して、例えば多分割フ
ォトダイオードからなる信号検出用光検出器16が形成
されている。つまり、基板10上には、半導体レーザ1
1、レーザ光出力モニタ用光検出器15および信号検出
用光検出器16がモノリシックに作製されていて、半導
体レーザ11の射出点と信号検出用光検出器16との相
対的な作製位置等の精度を高精度に出し得るように集積
化されており、これらにより集積素子25が形成されて
いる。かかる基板10とは別に、集積素子25の共振器
端面12の上側に、例えば硝子、樹脂等からなる透明ブ
ロック21が、例えば接着等により固設されている。こ
の透明ブロック21には、共振器端面12とは反対側の
端面である回折型素子形成面23に、透明ブロック21
の共振器端面12側にある端面から入射した射出光13
と、透明ブロック21の上方に設けられる光ディスク
(図示せず)から反射してきた、検出に用いる入射光
(回折光)17とを分岐するための回折型素子20が形
成されている。また、透明ブロック21には、その一つ
の側面の部分的な領域である反射膜形成面24の上に、
反射膜22が蒸着等により作製されている。この反射膜
22は、回折型素子20を透過することによって得られ
た回折光17を反射させ、その反射光を、上記集積素子
25の信号検出用光検出器16の上に集光させるように
なっている。
FIG. 1 shows a semiconductor laser device 10 of this embodiment.
It is a front view which shows 0. This semiconductor laser device 100
Is a semiconductor laser 11 having a resonator in the lateral direction formed on a substrate 10 such as a GaAs substrate.
The light beam 13 is emitted from the resonator end face 12. A laser light output monitoring photodetector 15 is formed on the substrate 10 adjacent to the other (lower) resonator end face 14 of the semiconductor laser 11 and adjacent to the resonator end face 14, and the photodetector is also provided. A photodetector 16 for signal detection, which is composed of, for example, a multi-divided photodiode, is formed adjacent to 15. That is, on the substrate 10, the semiconductor laser 1
1. The laser light output monitor photodetector 15 and the signal detection photodetector 16 are monolithically manufactured, and the relative manufacturing position of the emission point of the semiconductor laser 11 and the signal detection photodetector 16 is They are integrated so as to obtain high precision, and an integrated element 25 is formed by these. Separately from the substrate 10, a transparent block 21 made of, for example, glass, resin, or the like is fixedly provided on the resonator end face 12 of the integrated element 25 by, for example, bonding. The transparent block 21 has a diffractive element forming surface 23, which is an end surface opposite to the resonator end surface 12, and a transparent block 21.
Of the emitted light 13 incident from the end face on the cavity end face 12 side of
And a diffractive element 20 for branching the incident light (diffracted light) 17 used for detection reflected from an optical disk (not shown) provided above the transparent block 21. Further, the transparent block 21 has a reflective film formation surface 24, which is a partial region of one side surface thereof,
The reflective film 22 is formed by vapor deposition or the like. The reflective film 22 reflects the diffracted light 17 obtained by passing through the diffractive element 20, and focuses the reflected light on the signal detection photodetector 16 of the integrated element 25. Has become.

【0013】上述した透明ブロック21の回折型素子形
成面23と反射膜形成面24との面間の角度精度は、プ
リズム等の光学部品を作製する場合と同様に研磨等によ
って必要精度量を確保出来ると考えられる。量産面を考
慮した場合には、複数又は多数の透明ブロック21を形
成することができるバー状のものを用い、その必要な面
のすべてに研磨等を行った後に切断する方式を採用する
ことが可能である。また、射出成型によって必要な角度
精度を出せる場合は、射出成型を採用するようにしても
よく、採用する場合は、射出成型金型に回折型素子20
を形成する手段をセットしておき、その状態で射出成型
を行うことにより、回折型素子20ともども一回の工程
(成型)で作製できる。別工程で回折型素子を作製する
場合は回折型素子20の形成位置精度は、半導体製造プ
ロセスによる位置決め精度により確保することができ
る。また、回折型素子20の作製については、量産面を
考慮した場合にはバー状のものを使用してまとめて形成
する方法、あるいは、金型で必要な精度が出れば成型に
よる作製方法でもよい。
As for the angle accuracy between the surface of the diffractive element forming surface 23 and the reflecting film forming surface 24 of the transparent block 21 described above, a required accuracy amount is secured by polishing or the like as in the case of manufacturing an optical component such as a prism. It is considered possible. In consideration of mass production, it is possible to use a bar-shaped one capable of forming a plurality of or a large number of transparent blocks 21 and adopt a method of cutting after polishing all necessary surfaces. It is possible. Further, if the required angle accuracy can be obtained by injection molding, injection molding may be adopted. If it is adopted, the diffractive element 20 is used in the injection mold.
By setting the means for forming the above and performing the injection molding in that state, both the diffractive element 20 and the diffractive element 20 can be manufactured in one step (molding). When the diffractive element is manufactured in a separate step, the accuracy of the formation position of the diffractive element 20 can be ensured by the positioning accuracy of the semiconductor manufacturing process. Further, regarding the production of the diffractive element 20, in consideration of mass production, a bar-shaped element may be used to collectively form the element, or a forming method may be performed by molding if the required accuracy of the die is obtained. .

【0014】上記集積素子25と透明ブロック21とを
固設する際には、本半導体レーザ装置100からの射出
光13が回折型素子20に入射するように、集積素子2
5と透明ブロック21との位置合わせをし、次に、検出
に用いる入射光(回折光)17が信号検出用光検出器1
6の上に所定の集光状態になるように透明ブロック21
を回転させて合わせる。これにより、回折型素子20と
半導体レーザ11の射出点との間の光路長、或は回折型
素子20と信号検出用光検出器16との間の光路長は、
半導体製造プロセスでの精度、または光学部品の作製精
度のうちの悪い方の精度の誤差範囲内(ミクロン単位の
誤差範囲内)で設計通りに収まるようになる。
When the integrated element 25 and the transparent block 21 are fixedly mounted, the integrated element 2 is so arranged that the light 13 emitted from the semiconductor laser device 100 is incident on the diffractive element 20.
5 and the transparent block 21 are aligned with each other, and then the incident light (diffracted light) 17 used for detection is the photodetector 1 for signal detection.
The transparent block 21 is placed on top of 6 so that a predetermined light-collecting state is achieved.
Rotate to match. As a result, the optical path length between the diffraction type element 20 and the emission point of the semiconductor laser 11 or the optical path length between the diffraction type element 20 and the signal detection photodetector 16 is
Within the error range of the accuracy of the accuracy in the semiconductor manufacturing process or the manufacturing accuracy of the optical component, whichever is worse (within the error range of the micron unit), the value can be set as designed.

【0015】図2は、このような構成の本半導体レーザ
素子100をパッケージングした一例の正面図(断面
図)を示す。上述した集積素子25、透明ブロック21
が固定用基板31に取り付けられ、それがパッケージ基
板30へ固定されている。更に、その全体がキャップ2
6で包まれ、回折型素子20の部分だけレーザ光が入出
射できるよう露出されている。なお、この図では、配
線、素子端子などは省略している。
FIG. 2 shows a front view (cross-sectional view) of an example of packaging the present semiconductor laser device 100 having such a structure. The integrated element 25 and the transparent block 21 described above
Are attached to the fixing substrate 31 and are fixed to the package substrate 30. Furthermore, the whole is cap 2
It is surrounded by 6 and is exposed so that the laser light can enter and exit only the portion of the diffractive element 20. Wiring, element terminals, etc. are omitted in this figure.

【0016】以上のような構成の本実施例の半導体レー
ザ装置100に対し、有限共役系の対物レンズなどを附
加することにより、光ピックアップを構成することがで
きる。
An optical pickup can be configured by adding a finite conjugate system objective lens to the semiconductor laser device 100 of the present embodiment having the above configuration.

【0017】以下に、光ピックアップとして構成した場
合の動作を説明する。
The operation of the optical pickup as an optical pickup will be described below.

【0018】本実施例の半導体レーザ装置100内の半
導体レーザ11から光ビーム13が射出されると、その
光ビーム13は透明ブロック21上の回折型素子20を
そのまま透過し、その後の光路上に配置された対物レン
ズ(図示せず)を経て光ディスク(図示せず)上に集光
する。光ディスクからの反射光は、再度対物レンズを透
過して回折型素子20に再び入射するが、回折型素子2
0が光分岐素子として働くために、フォーカス/トラッ
キング誤差信号や記録情報信号を含む光ビーム13は、
ここで回折光17として分離される。
When the light beam 13 is emitted from the semiconductor laser 11 in the semiconductor laser device 100 of the present embodiment, the light beam 13 passes through the diffractive element 20 on the transparent block 21 as it is, and then enters the optical path. The light is focused on an optical disc (not shown) through an arranged objective lens (not shown). The reflected light from the optical disk passes through the objective lens again and is incident on the diffractive element 20 again.
Since 0 acts as an optical branching element, the light beam 13 including the focus / tracking error signal and the recording information signal is
Here, the diffracted light 17 is separated.

【0019】回折光17は、透明ブロック21の側面の
一部分の領域に形成された反射膜22で反射して信号検
出用光検出器16上に、上述した理由によって設計通り
の位置に集光する。信号検出用光検出器16は、入射し
た光に基づき制御用のフォーカス/トラッキング誤差信
号、記録情報信号を検出する。また、半導体レーザ11
の光出力は、隣接して形成されたモニタ用の光検出器1
5でモニタされる。
The diffracted light 17 is reflected by the reflective film 22 formed in a partial region of the side surface of the transparent block 21, and is condensed on the signal detecting photodetector 16 at the designed position for the above-mentioned reason. . The signal detection photodetector 16 detects a control focus / tracking error signal and a recording information signal based on the incident light. In addition, the semiconductor laser 11
The optical output of the monitor is the photodetector 1 for the monitor formed adjacently.
Monitored at 5.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、半導体
レーザ、信号検出用光検出器およびレーザ光出力モニタ
用光検出器の各光学部品がモノリシックに形成されてい
るので、全体を小型化でき、かつ、各光学部品の相対的
な位置精度を向上させることができる。また、作製位置
精度や形状精度が出難いエッチング等による45度傾斜
ミラー等の素子を含まないので、作製上有利である。ま
た、透明ブロックの回折型素子形成面と反射膜形成面と
を精度よく作製することにより、本半導体レーザ装置の
組立時に光路の調整が簡単となり、また、光路の設計か
らのずれが小さくできるため、信号検出時に光検出器の
所定の位置へ結果的に高精度に集光させることが出来、
オフセット等の悪影響が生じにくくなるという効果が有
る。
As described above, according to the present invention, since the optical components of the semiconductor laser, the signal detecting photodetector and the laser light output monitor photodetector are formed monolithically, the overall size is reduced. It is possible to improve the relative positional accuracy of each optical component. Further, since it does not include an element such as a 45-degree tilt mirror by etching or the like, which is difficult to produce in manufacturing position accuracy and shape accuracy, it is advantageous in manufacturing. Further, by accurately producing the diffractive element formation surface and the reflection film formation surface of the transparent block, the optical path can be easily adjusted at the time of assembling the semiconductor laser device, and the deviation from the optical path design can be reduced. , When the signal is detected, the light can be focused on the predetermined position of the photodetector with high accuracy.
There is an effect that adverse effects such as offset are less likely to occur.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の1実施例に係る半導体レーザ装置を示
す正面図である。
FIG. 1 is a front view showing a semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体レーザ装置をパッケージングした
状態を示す正面図(断面図)である。
FIG. 2 is a front view (cross-sectional view) showing a state in which the semiconductor laser device of FIG. 1 is packaged.

【図3】 従来の半導体レーザ装置の一例を示す断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of a conventional semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 基板 11 半導体レーザ 12 半導体レーザの共振器端面 13 光ビーム(射出光) 14 半導体レーザの共振器端面 15 レーザ光出力モニタ用光検出器 16 信号検出用光検出器 17 光ビーム(回折光) 20 回折型素子 21 透明ブロック 22 反射膜 23 回折型素子形成面 24 反射膜形成面 25 集積素子 26 キャップ 30 パッケージ基板 31 固定用基板 100 半導体レーザ装置 10 Substrate 11 Semiconductor Laser 12 Resonator End Face of Semiconductor Laser 13 Light Beam (Emitting Light) 14 Resonator End Face of Semiconductor Laser 15 Laser Light Output Monitor Photo Detector 16 Signal Detection Photo Detector 17 Light Beam (Diffracted Light) 20 Diffractive element 21 Transparent block 22 Reflective film 23 Diffractive element forming surface 24 Reflective film forming surface 25 Integrated element 26 Cap 30 Package substrate 31 Fixing substrate 100 Semiconductor laser device

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体レーザから射出された光ビームを
回折型素子を透過させて外部に出射し、該光ビームの外
部から戻ってきた戻光ビームを該回折型素子にて該半導
体レーザから発せられた光ビームと分岐させて信号検出
用光検出器に入射させる一方、該半導体レーザの別の箇
所から射出された光ビームをレーザ光出力モニタ用光検
出器にて捉えてモニタする半導体レーザ装置であって、 該半導体レーザ、該信号検出用光検出器および該レーザ
光出力モニタ用光検出器がモノリシックに形成された集
積素子と、 該回折型素子、および該回折型素子にて分岐された該戻
光ビームを該信号検出用光検出器に向けて反射させる反
射膜が形成された透明ブロックとを具備し、 該集積素子と該透明ブロックとが、半導体レーザから射
出された光ビームの光路上に回折型素子を位置させ、回
折型素子にて分岐され外部から戻ってきた光ビームの光
路上に該反射膜を位置させ、該反射膜にて反射した光ビ
ームの光路上に信号検出用光検出器を位置させた状態
に、固設されている半導体レーザ装置。
1. A light beam emitted from a semiconductor laser is transmitted through a diffractive element to be emitted to the outside, and a returning light beam returning from the outside of the light beam is emitted from the semiconductor laser by the diffractive element. A semiconductor laser device in which the light beam emitted from another portion of the semiconductor laser is captured by a laser light output monitoring photodetector while being branched from the emitted light beam to be incident on the signal detection photodetector. The semiconductor laser, the photodetector for signal detection, and the photodetector for laser light output monitoring are monolithically formed into an integrated element, the diffractive element, and branched by the diffractive element. A transparent block formed with a reflective film for reflecting the returning light beam toward the signal detecting photodetector, wherein the integrated element and the transparent block are light beams emitted from a semiconductor laser. A diffractive element on the optical path of, the reflective film is positioned on the optical path of the light beam branched by the diffractive element and returned from the outside, and the signal is on the optical path of the light beam reflected by the reflective film. A semiconductor laser device fixed in a state where a photodetector for detection is positioned.
【請求項2】 前記レーザ光出力モニタ用光検出器が、
前記半導体レーザの別の箇所から射出された光ビームの
光路上に設けられている請求項1に記載の半導体レーザ
装置。
2. A photodetector for monitoring the laser light output,
The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device is provided on an optical path of a light beam emitted from another portion of the semiconductor laser.
【請求項3】 前記透明ブロック上の回折型素子にて分
岐させる際に生じた回折光のうちの1又は複数の光を前
記反射膜で反射させ、その反射光を前記信号検出用光検
出器に導光する請求項1又は2に記載の半導体レーザ装
置。
3. One or a plurality of lights among the diffracted lights generated when the light is split by the diffraction type element on the transparent block are reflected by the reflection film, and the reflected lights are detected by the photodetector for signal detection. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device guides light to.
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