JPH07291908A - 第１級アミドアミン系化合物の製造方法 - Google Patents
第１級アミドアミン系化合物の製造方法Info
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- JPH07291908A JPH07291908A JP6114653A JP11465394A JPH07291908A JP H07291908 A JPH07291908 A JP H07291908A JP 6114653 A JP6114653 A JP 6114653A JP 11465394 A JP11465394 A JP 11465394A JP H07291908 A JPH07291908 A JP H07291908A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ２級アミンや３級アミンの副生を抑制し、高
収率で目的とする第１級アミドアミン系化合物を工業的
に有利な条件下で経済的に製造し得る新規有用な方法を
提供する。 【構成】 本発明に係る第１級アミドアミン系化合物の
製造方法は、Ｎ−シアノエチルアミド系化合物を接触水
素化して、対応する第１級アミドアミン系化合物を製造
するに際し、溶媒及び／又は水の存在下又は不存在下に
ラネーコバルト系触媒及びラネーニッケル系触媒よりな
る群から選ばれる１種若しくは２種以上の水素化触媒を
用い、５０〜１５０℃で接触水素化する。溶媒として
は、脂肪族エーテル系化合物が推奨される。
収率で目的とする第１級アミドアミン系化合物を工業的
に有利な条件下で経済的に製造し得る新規有用な方法を
提供する。 【構成】 本発明に係る第１級アミドアミン系化合物の
製造方法は、Ｎ−シアノエチルアミド系化合物を接触水
素化して、対応する第１級アミドアミン系化合物を製造
するに際し、溶媒及び／又は水の存在下又は不存在下に
ラネーコバルト系触媒及びラネーニッケル系触媒よりな
る群から選ばれる１種若しくは２種以上の水素化触媒を
用い、５０〜１５０℃で接触水素化する。溶媒として
は、脂肪族エーテル系化合物が推奨される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、第１級アミドアミン系
化合物の製造方法に関し、より詳しくは、Ｎ−シアノエ
チルアミド系化合物を接触水素化して対応する第１級ア
ミドアミン系化合物を製造する方法に関する。反応目的
物である第１級アミドアミン系化合物は、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、その他樹脂の合
成原料及び改質剤として、又、界面活性剤、繊維処理
剤、紙処理剤、印刷インキ、塗料、そして化粧品等の原
料として有用な素材である。
化合物の製造方法に関し、より詳しくは、Ｎ−シアノエ
チルアミド系化合物を接触水素化して対応する第１級ア
ミドアミン系化合物を製造する方法に関する。反応目的
物である第１級アミドアミン系化合物は、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、その他樹脂の合
成原料及び改質剤として、又、界面活性剤、繊維処理
剤、紙処理剤、印刷インキ、塗料、そして化粧品等の原
料として有用な素材である。
【０００２】
【従来の技術】シアノ化合物を接触水素化して相当する
１級アミン化合物を得る方法は知られており、通常、反
応系にアンモニア水又は液体アンモニアを共存させるこ
とにより、脱アンモニアを防止し、２級アミンや３級ア
ミンの副生を抑えている。
１級アミン化合物を得る方法は知られており、通常、反
応系にアンモニア水又は液体アンモニアを共存させるこ
とにより、脱アンモニアを防止し、２級アミンや３級ア
ミンの副生を抑えている。
【０００３】しかしながら、この方法では製造コストが
高く、廃アンモニアガスの後処理が煩雑となる。又、ア
ンモニアを使用することから装置上の制約を受け、しか
も法規制も厳しくなる。更に、その製品の用途によって
は品質に悪影響をもたらす場合もある。
高く、廃アンモニアガスの後処理が煩雑となる。又、ア
ンモニアを使用することから装置上の制約を受け、しか
も法規制も厳しくなる。更に、その製品の用途によって
は品質に悪影響をもたらす場合もある。
【０００４】一般に、溶媒の存在下にシアノ化合物を接
触水素化して対応するアミンを製造する方法において、
脱アミン反応等の副反応の度合いは、その溶媒の種類に
よって大きく影響される。これまで、良好な溶媒とし
て、アンモニア水（有機合成協会誌、32、33(1974)）、
液安−メタノール（J.Am.Chem.Soc.,68,1867(1940)）、
メタノール、エチレングリコール（特開昭50-160214
号）等が提案されている。
触水素化して対応するアミンを製造する方法において、
脱アミン反応等の副反応の度合いは、その溶媒の種類に
よって大きく影響される。これまで、良好な溶媒とし
て、アンモニア水（有機合成協会誌、32、33(1974)）、
液安−メタノール（J.Am.Chem.Soc.,68,1867(1940)）、
メタノール、エチレングリコール（特開昭50-160214
号）等が提案されている。
【０００５】しかし、本発明者らの検討によれば、これ
らの溶媒をＮ−シアノエチルアミド系化合物に適用する
と、著しく２級アミンや３級アミンが副生し、更に原料
のアミド結合がこれら溶媒と反応する結果、目的物の収
率が著しく低下する。
らの溶媒をＮ−シアノエチルアミド系化合物に適用する
と、著しく２級アミンや３級アミンが副生し、更に原料
のアミド結合がこれら溶媒と反応する結果、目的物の収
率が著しく低下する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、２級アミン
や３級アミンの副生を抑制し、高収率で目的とする第１
級アミドアミン系化合物を工業的に有利な条件下で経済
的に製造し得る新規有用な方法を提供することを目的と
する。
や３級アミンの副生を抑制し、高収率で目的とする第１
級アミドアミン系化合物を工業的に有利な条件下で経済
的に製造し得る新規有用な方法を提供することを目的と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、特定の水素化触媒と特
定の反応温度範囲を選択することにより、所定の効果が
得られ、しかも後処理が簡略化されることを見いだし、
かかる知見に基づいて本発明を完成するに至った。以下
の事実を見いだした。
を解決すべく鋭意検討した結果、特定の水素化触媒と特
定の反応温度範囲を選択することにより、所定の効果が
得られ、しかも後処理が簡略化されることを見いだし、
かかる知見に基づいて本発明を完成するに至った。以下
の事実を見いだした。
【０００８】即ち、本発明に係る第１級アミドアミン系
化合物の製造方法は、一般式（１）又は一般式（２）で
表されるＮ−シアノエチルアミド系化合物を接触水素化
して、対応する一般式（３）又は一般式（４）で表され
る第１級アミドアミン系化合物を製造するに際し、溶媒
の存在下又は不存在下にラネーコバルト系触媒を用い、
５０〜１５０℃で接触水素化することを特徴とする。
化合物の製造方法は、一般式（１）又は一般式（２）で
表されるＮ−シアノエチルアミド系化合物を接触水素化
して、対応する一般式（３）又は一般式（４）で表され
る第１級アミドアミン系化合物を製造するに際し、溶媒
の存在下又は不存在下にラネーコバルト系触媒を用い、
５０〜１５０℃で接触水素化することを特徴とする。
【０００９】 Ｒ1ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＮ （１） ［式中、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基
又は炭素数３〜１３の環状アルキル基を表す。］
又は炭素数３〜１３の環状アルキル基を表す。］
【００１０】 Ｒ2（ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＮ）2 （２） ［式中、Ｒ2は単結合、炭素数１〜２１のアルキレン基
又は炭素数３〜１４の環状アルキレン基を表す。］
又は炭素数３〜１４の環状アルキレン基を表す。］
【００１１】 Ｒ1ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2 （３） ［式中、Ｒ1は一般式１と同義である。］
【００１２】 Ｒ2（ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2）2 （４） ［式中、Ｒ2は一般式２と同義である。］
【００１３】一般式（３）で示される第１級アミドアミ
ン系化合物は、一般式（１）で表されるモノシアノアミ
ド化合物を本発明に係る方法に基づいて接触水素化する
ことにより製造される。
ン系化合物は、一般式（１）で表されるモノシアノアミ
ド化合物を本発明に係る方法に基づいて接触水素化する
ことにより製造される。
【００１４】当該モノシアノアミド化合物としては、Ｎ
−シアノホルムアミド、Ｎ−シアノエチルアセトアミ
ド、Ｎ−シアノエチルプロピオン酸アミド、Ｎ−シアノ
エチル酪酸アミド、Ｎ−シアノエチルラウリン酸アミ
ド、Ｎ−シアノエチルミリスチン酸アミド、Ｎ−シアノ
エチルパルミチン酸アミド、Ｎ−シアノエチルステアリ
ン酸アミド、Ｎ−シアノエチルシクロヘキサンカルボン
酸アミド等が例示される。
−シアノホルムアミド、Ｎ−シアノエチルアセトアミ
ド、Ｎ−シアノエチルプロピオン酸アミド、Ｎ−シアノ
エチル酪酸アミド、Ｎ−シアノエチルラウリン酸アミ
ド、Ｎ−シアノエチルミリスチン酸アミド、Ｎ−シアノ
エチルパルミチン酸アミド、Ｎ−シアノエチルステアリ
ン酸アミド、Ｎ−シアノエチルシクロヘキサンカルボン
酸アミド等が例示される。
【００１５】一般式（４）で示される第１級アミドアミ
ン系化合物は、一般式（２）で表されるジシアノジアミ
ド化合物を本発明に係る方法に基づいて接触水素化する
ことにより製造される。
ン系化合物は、一般式（２）で表されるジシアノジアミ
ド化合物を本発明に係る方法に基づいて接触水素化する
ことにより製造される。
【００１６】当該ジシアノジアミド化合物としては、
Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルシュウ酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’
−ジシアノエチルマロン酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシア
ノエチルコハク酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチル
グルタル酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルアジピ
ン酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルアゼライン酸
ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルアゼライン酸ジア
ミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルセバシン酸ジアミド、
Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルシクロヘキサンジカルボン酸
ジアミド等が例示される。
Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルシュウ酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’
−ジシアノエチルマロン酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシア
ノエチルコハク酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチル
グルタル酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルアジピ
ン酸ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルアゼライン酸
ジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルアゼライン酸ジア
ミド、Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルセバシン酸ジアミド、
Ｎ，Ｎ’−ジシアノエチルシクロヘキサンジカルボン酸
ジアミド等が例示される。
【００１７】本発明に係る水素化触媒としては、ラネー
コバルト及びラネーコバルト・マンガン等のラネーコバ
ルト系触媒やラネーニッケル及びラネーニッケル・マン
ガン等のラネーニッケル系触媒が例示され、特にラネー
コバルト系触媒が推奨される。これらは、夫々アルミニ
ウムとの合金をアルカリにて常法で展開したものであ
る。
コバルト及びラネーコバルト・マンガン等のラネーコバ
ルト系触媒やラネーニッケル及びラネーニッケル・マン
ガン等のラネーニッケル系触媒が例示され、特にラネー
コバルト系触媒が推奨される。これらは、夫々アルミニ
ウムとの合金をアルカリにて常法で展開したものであ
る。
【００１８】合金組成として、ラネーコバルトの場合、
コバルトが２０〜６０％、アルミニウムが８０〜４０％
の範囲の組成が適当である。又、ラネーコバルト・マン
ガンの場合、前者合金に１〜５０％、好ましくは２〜２
０％のマンガンを含有する合金が好ましい。
コバルトが２０〜６０％、アルミニウムが８０〜４０％
の範囲の組成が適当である。又、ラネーコバルト・マン
ガンの場合、前者合金に１〜５０％、好ましくは２〜２
０％のマンガンを含有する合金が好ましい。
【００１９】又、ラネーニッケルの場合、ニッケルが２
０〜６０％、アルミニウムが８０〜４０％の範囲の組成
が適当である。又、ラネーコバルト・マンガンの場合、
前者合金に１〜５０％、好ましくは２〜２０％のマンガ
ンを含有する合金が好ましい。
０〜６０％、アルミニウムが８０〜４０％の範囲の組成
が適当である。又、ラネーコバルト・マンガンの場合、
前者合金に１〜５０％、好ましくは２〜２０％のマンガ
ンを含有する合金が好ましい。
【００２０】水素化触媒の使用量は、合金換算でＮ−シ
アノエチルアミド系化合物に対して０．１〜３０重量
％、好ましくは１〜２０重量％である。０．１重量％以
下では実用的な反応速度が得られにくく、３０重量％以
上になると経済的に不利である。
アノエチルアミド系化合物に対して０．１〜３０重量
％、好ましくは１〜２０重量％である。０．１重量％以
下では実用的な反応速度が得られにくく、３０重量％以
上になると経済的に不利である。
【００２１】当該水素化触媒は、繰り返し使用も可能で
ある。
ある。
【００２２】本反応は、溶媒を用いなくても可能である
が、触媒の活性を維持し、目的とする第１級アミン化合
物の収率をより向上させるためには、溶媒の存在下で反
応することが好ましい。
が、触媒の活性を維持し、目的とする第１級アミン化合
物の収率をより向上させるためには、溶媒の存在下で反
応することが好ましい。
【００２３】又、原料であるＮ−シアノエチルアミド系
化合物の融点が高い場合、例えば、一般式（１）におい
てＲ1が炭素数７〜２１のアルキル基であるモノシアノ
アミド化合物や一般式（２）においてＲ2が炭素数４〜
２１のアルキル基であるジシアノジアミド化合物を水素
化する場合には、溶媒を使用することが好ましい。
化合物の融点が高い場合、例えば、一般式（１）におい
てＲ1が炭素数７〜２１のアルキル基であるモノシアノ
アミド化合物や一般式（２）においてＲ2が炭素数４〜
２１のアルキル基であるジシアノジアミド化合物を水素
化する場合には、溶媒を使用することが好ましい。
【００２４】本反応において推奨される溶媒としては、
一般式（５）で表される活性水素を持たない極性の大き
い脂肪族エーテル化合物が挙げられる。このものは、従
来、反応溶媒として用いられてきたメタノールやエチレ
ングリコールと比較して水素化触媒を失活化させること
が少なく、しかも２級や３級アミンの副生も少ない。
一般式（５）で表される活性水素を持たない極性の大き
い脂肪族エーテル化合物が挙げられる。このものは、従
来、反応溶媒として用いられてきたメタノールやエチレ
ングリコールと比較して水素化触媒を失活化させること
が少なく、しかも２級や３級アミンの副生も少ない。
【００２５】 Ｒ3Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｒ4 （５） ［式中、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって、炭素数１〜６の
アルキル基を表す。ｎは１〜５の整数を表す。］
アルキル基を表す。ｎは１〜５の整数を表す。］
【００２６】当該脂肪族エーテル化合物としては、エチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエー
テル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエ
ーテルエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチ
レングリコールジメチルエーテル等が例示され、特にエ
チレングリコールジメチルエーテルやエチレングリコー
ルジエチルエーテル等が推奨される。
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエー
テル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエ
ーテルエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチ
レングリコールジメチルエーテル等が例示され、特にエ
チレングリコールジメチルエーテルやエチレングリコー
ルジエチルエーテル等が推奨される。
【００２７】溶媒の適当な使用量は、Ｎ−シアノエチル
アミド系化合物に対して０．０１〜１０重量倍、好まし
くは０．１〜等重量倍程度である。０．０１重量倍未満
では触媒の活性の維持及び高融点原料の溶解性の面で不
利であり、１０重量倍を越えて使用したとしても特別に
優れた効果は認められず、経済的に不利である。
アミド系化合物に対して０．０１〜１０重量倍、好まし
くは０．１〜等重量倍程度である。０．０１重量倍未満
では触媒の活性の維持及び高融点原料の溶解性の面で不
利であり、１０重量倍を越えて使用したとしても特別に
優れた効果は認められず、経済的に不利である。
【００２８】又、本発明に係る水素化反応を所定量の水
の存在下で行うことにより、高い選択性を阻害すること
なく、しかも水素化反応速度を向上せしめることができ
る。この効果は、無溶媒系において顕著である。
の存在下で行うことにより、高い選択性を阻害すること
なく、しかも水素化反応速度を向上せしめることができ
る。この効果は、無溶媒系において顕著である。
【００２９】上記水の適当な使用量としては、反応溶媒
の使用の有無に拘らず、反応原料であるＮ−シアノエチ
ルアミド系化合物に対して、０．００５〜等重量倍が挙
げられ、特に０．０１〜０．５重量倍程度が推奨され
る。０．００５重量倍未満ではその効果が少なく、等重
量を越える量では反応目的物の収率が低下する傾向が認
められる。
の使用の有無に拘らず、反応原料であるＮ−シアノエチ
ルアミド系化合物に対して、０．００５〜等重量倍が挙
げられ、特に０．０１〜０．５重量倍程度が推奨され
る。０．００５重量倍未満ではその効果が少なく、等重
量を越える量では反応目的物の収率が低下する傾向が認
められる。
【００３０】水素化反応の反応温度は、５０〜１５０
℃、好ましくは８０〜１２０℃である。５０℃未満では
実用的な反応速度が得られず、一方、１５０℃を越える
温度では脱アンモニアやアミド結合の開裂が顕著となり
好ましくない。
℃、好ましくは８０〜１２０℃である。５０℃未満では
実用的な反応速度が得られず、一方、１５０℃を越える
温度では脱アンモニアやアミド結合の開裂が顕著となり
好ましくない。
【００３１】反応圧力は、所定の効果が得られる限り特
に限定されるものではないが、通常、５〜２００Kg／cm
2Ｇ、好ましくは２０〜１００Kg／cm2Ｇである。５Kg／
cm2Ｇ未満では実用的な反応速度が得られにくく、２０
０Kg／cm2Ｇを越える場合には装置上の制約を受けるの
で好ましくない。
に限定されるものではないが、通常、５〜２００Kg／cm
2Ｇ、好ましくは２０〜１００Kg／cm2Ｇである。５Kg／
cm2Ｇ未満では実用的な反応速度が得られにくく、２０
０Kg／cm2Ｇを越える場合には装置上の制約を受けるの
で好ましくない。
【００３２】反応時間は、他の反応条件によって変動す
るが、通常、０．５〜８時間程度である。
るが、通常、０．５〜８時間程度である。
【００３３】
【実施例】以下に実施例を掲げて、本発明を詳しく説明
する。尚、各例において得られた生成物の分析方法は、
以下のとおりである。
する。尚、各例において得られた生成物の分析方法は、
以下のとおりである。
【００３４】（１）全アミン価 A.O.C.S Tf 1b-64に準じ、ブロムクレゾールグリーン指
示薬を用い、N／10塩酸／イソプロパノール溶液にて滴
定して求める。
示薬を用い、N／10塩酸／イソプロパノール溶液にて滴
定して求める。
【００３５】（２）２級アミン及び３級アミンに起因す
るアミン価（２・３級アミン価） A.O.C.S Tf 2b-64に準じ、50％サルチルアルデヒド／イ
ソプロパノール溶液で１級アミンを中性化合物に変換し
た後、前記方法と同様の滴定にて求める。
るアミン価（２・３級アミン価） A.O.C.S Tf 2b-64に準じ、50％サルチルアルデヒド／イ
ソプロパノール溶液で１級アミンを中性化合物に変換し
た後、前記方法と同様の滴定にて求める。
【００３６】（３）１級アミン価 全アミン価から２・３級アミン価を減じた差として算出
する。
する。
【００３７】（４）理論アミン価 Ｎ−シアノエチルアミド系化合物の分子量（Ｍｗ）から
下式に従って算出する。 モノシアノアミドの場合 理論アミン価＝56.1×1000
／Ｍｗ ジシアノジアミドの場合 理論アミン価＝56.1×1000
×2／Ｍｗ
下式に従って算出する。 モノシアノアミドの場合 理論アミン価＝56.1×1000
／Ｍｗ ジシアノジアミドの場合 理論アミン価＝56.1×1000
×2／Ｍｗ
【００３８】実施例１ 電磁攪拌機を備えた５００mlのオートクレーブにＮ−シ
アノエチルプロピオン酸アミド１５０ｇ、ジエチレング
リコールジメチルエーテル５０ｇ及び展開ラネーコバル
ト・マンガン触媒５ｇ（展開前合金組成Ｃｏ：Ｍｎ：Ａ
ｌ＝３０．２：３．９：６５．９）を仕込み、水素ガス
で加圧し、５０kg／cm2Ｇに維持しつつ、１１０℃で水
素化反応を行った。水素吸収は１２５分で完全に停止し
た。更に、３０分間、同一条件を保って反応を完結させ
た。この反応物を濾過し、減圧下で溶媒を除去して得ら
れた反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、
全アミン価は９８．５％、２・３級アミン価は２．０
％、１級アミン価は９６．５％であった。
アノエチルプロピオン酸アミド１５０ｇ、ジエチレング
リコールジメチルエーテル５０ｇ及び展開ラネーコバル
ト・マンガン触媒５ｇ（展開前合金組成Ｃｏ：Ｍｎ：Ａ
ｌ＝３０．２：３．９：６５．９）を仕込み、水素ガス
で加圧し、５０kg／cm2Ｇに維持しつつ、１１０℃で水
素化反応を行った。水素吸収は１２５分で完全に停止し
た。更に、３０分間、同一条件を保って反応を完結させ
た。この反応物を濾過し、減圧下で溶媒を除去して得ら
れた反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、
全アミン価は９８．５％、２・３級アミン価は２．０
％、１級アミン価は９６．５％であった。
【００３９】更に、回収触媒を上記と同一条件で繰り返
し１０回使用したところ、水素吸収停止時間はほぼ一定
であった。又、触媒の繰り返し使用回数が１０回目の反
応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、全アミ
ン価は９７．５％、２・３級アミン価は３．０％、１級
アミン価は９４．５％であり、１回目とほぼ同一の品質
であった。
し１０回使用したところ、水素吸収停止時間はほぼ一定
であった。又、触媒の繰り返し使用回数が１０回目の反
応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、全アミ
ン価は９７．５％、２・３級アミン価は３．０％、１級
アミン価は９４．５％であり、１回目とほぼ同一の品質
であった。
【００４０】実施例２ 溶媒を使用しなかった以外は実施例１と同様に水素化反
応を行った。１回目の水素吸収は１３５分で完全に停止
した。以下、実施例１と同様にして得られた反応粗物を
分析したところ、理論アミン価に対し、全アミン価は９
４．２％、２・３級アミン価は６．４％、１級アミン価
は８７．８％であった。
応を行った。１回目の水素吸収は１３５分で完全に停止
した。以下、実施例１と同様にして得られた反応粗物を
分析したところ、理論アミン価に対し、全アミン価は９
４．２％、２・３級アミン価は６．４％、１級アミン価
は８７．８％であった。
【００４１】実施例３ 水を１０ｇ添加した以外は実施例１と同様に水素化反応
を行った。このとき水素吸収時間は８０分であった。以
下、実施例１と同様にして得られた反応粗物を分析した
ところ、理論アミン価に対し、全アミン価は９６．５
％、２・３級アミン価は３．２％、１級アミン価は９
３．３％であった。
を行った。このとき水素吸収時間は８０分であった。以
下、実施例１と同様にして得られた反応粗物を分析した
ところ、理論アミン価に対し、全アミン価は９６．５
％、２・３級アミン価は３．２％、１級アミン価は９
３．３％であった。
【００４２】実施例４ 水を５ｇ添加した以外は実施例２と同様に水素化反応を
行った。このとき水素吸収時間は１００分であった。以
下、実施例１と同様にして得られた反応粗物を分析した
ところ、理論アミン価に対し、全アミン価は９５．１
％、２・３級アミン価は４．２％、１級アミン価は９
０．９％であった。
行った。このとき水素吸収時間は１００分であった。以
下、実施例１と同様にして得られた反応粗物を分析した
ところ、理論アミン価に対し、全アミン価は９５．１
％、２・３級アミン価は４．２％、１級アミン価は９
０．９％であった。
【００４３】実施例５ 原料としてＮ−シアノエチルステアリン酸アミドを用
い、触媒としてラネーコバルト触媒（展開前合金組成Ｃ
ｏ：Ａｌ＝４９．４：５０．６）を用いた以外は実施例
１と同様に水素化反応を実施した。水素吸収は１０５分
で完全に停止した。以下、実施例１と同様にして得られ
た反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、全
アミン価は９８．２％、２・３級アミン価は２．０％、
１級アミン価は９６．２％であった。
い、触媒としてラネーコバルト触媒（展開前合金組成Ｃ
ｏ：Ａｌ＝４９．４：５０．６）を用いた以外は実施例
１と同様に水素化反応を実施した。水素吸収は１０５分
で完全に停止した。以下、実施例１と同様にして得られ
た反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、全
アミン価は９８．２％、２・３級アミン価は２．０％、
１級アミン価は９６．２％であった。
【００４４】実施例６ 実施例１と同様のオートクレーブにＮ，Ｎ’−ジシアノ
エチルセバシン酸ジアミド１５０ｇ、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル１００ｇ及びラネーコバルト・マ
ンガン触媒１０ｇを仕込み、１２０℃、１００kg／cm2
Ｇで水素化反応を行った。水素吸収は２０５分で完全に
停止した。以下、実施例１と同様にして得られた反応粗
物を分析したところ、理論アミン価に対し、全アミン価
は９６．５％、２・３級アミン価は４．１％、１級アミ
ン価は９２．４％であった。
エチルセバシン酸ジアミド１５０ｇ、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル１００ｇ及びラネーコバルト・マ
ンガン触媒１０ｇを仕込み、１２０℃、１００kg／cm2
Ｇで水素化反応を行った。水素吸収は２０５分で完全に
停止した。以下、実施例１と同様にして得られた反応粗
物を分析したところ、理論アミン価に対し、全アミン価
は９６．５％、２・３級アミン価は４．１％、１級アミ
ン価は９２．４％であった。
【００４５】実施例７ 実施例１と同様のオートクレーブにＮ−シアノエチルス
テアリン酸アミド２００ｇ、ジエチレングリコールジブ
チルエーテルを１００ｇ及びラネーコバルト・マンガン
触媒６ｇを仕込み、９０℃、５０kg／cm2Ｇで水素化反
応を行った。水素吸収は２２５分で完全に停止した。以
下、実施例１と同様にして得られた反応粗物を分析した
ところ、理論アミン価に対し、全アミン価は９６．０
％、２・３級アミン価は２．０％、１級アミン価は９
４．０％であった。
テアリン酸アミド２００ｇ、ジエチレングリコールジブ
チルエーテルを１００ｇ及びラネーコバルト・マンガン
触媒６ｇを仕込み、９０℃、５０kg／cm2Ｇで水素化反
応を行った。水素吸収は２２５分で完全に停止した。以
下、実施例１と同様にして得られた反応粗物を分析した
ところ、理論アミン価に対し、全アミン価は９６．０
％、２・３級アミン価は２．０％、１級アミン価は９
４．０％であった。
【００４６】更に、実施例１と同様に触媒繰り返しを１
０回行った。その結果、１０回目で水素吸収時間は２５
０分間となり、反応時間はほぼ一定で触媒の顕著な失活
は認められなかった。得られた粗物を分析したところ、
理論アミン価に対し、全アミン価は９６．１％、２・３
級アミン価は３．５％、１級アミン価は９２．６％であ
った。
０回行った。その結果、１０回目で水素吸収時間は２５
０分間となり、反応時間はほぼ一定で触媒の顕著な失活
は認められなかった。得られた粗物を分析したところ、
理論アミン価に対し、全アミン価は９６．１％、２・３
級アミン価は３．５％、１級アミン価は９２．６％であ
った。
【００４７】実施例８ 触媒としてラネーニッケルを使用した以外は実施例１と
同様に水素化反応を行った。１回目の水素吸収は１００
分で完全に停止した。以下、実施例１と同様にして得ら
れた反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、
全アミン価は９２．２％、２・３級アミン価は１０．３
％、１級アミン価は８１．９％であった。
同様に水素化反応を行った。１回目の水素吸収は１００
分で完全に停止した。以下、実施例１と同様にして得ら
れた反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、
全アミン価は９２．２％、２・３級アミン価は１０．３
％、１級アミン価は８１．９％であった。
【００４８】比較例１ 溶媒としてメタノールを使用した以外は実施例１と同様
に水素化反応を行った。１回目の水素吸収は１４０分で
完全に停止した。以下、実施例１と同様にして得られた
反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、全ア
ミン価は９０．１％、２・３級アミン価は９．５％、１
級アミン価は８０．６％であった。
に水素化反応を行った。１回目の水素吸収は１４０分で
完全に停止した。以下、実施例１と同様にして得られた
反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対し、全ア
ミン価は９０．１％、２・３級アミン価は９．５％、１
級アミン価は８０．６％であった。
【００４９】更に、実施例１と同様に触媒の繰り返し使
用を１０回行った。その結果、１０回目になると水素吸
収時間が２８０分と長くなり（触媒が失活したためと認
められる。）、更に得られた粗物を分析したところ、理
論アミン価に対し、全アミン価は８０．１％と低く、２
・３級アミン価は２１．１％と顕著に高くなった。その
結果、１級アミン価は５９．０％と品質の低下も顕著と
なった。
用を１０回行った。その結果、１０回目になると水素吸
収時間が２８０分と長くなり（触媒が失活したためと認
められる。）、更に得られた粗物を分析したところ、理
論アミン価に対し、全アミン価は８０．１％と低く、２
・３級アミン価は２１．１％と顕著に高くなった。その
結果、１級アミン価は５９．０％と品質の低下も顕著と
なった。
【００５０】比較例２ 溶媒としてエチレングリコールを使用した以外は実施例
１と同様に水素化反応を行った。１回目の水素吸収は１
３０分で完全に停止した。以下、実施例１と同様にして
得られた反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対
し、全アミン価は８９．２％、２・３級アミン価は１
０．４％、１級アミン価は７８．８％であった。
１と同様に水素化反応を行った。１回目の水素吸収は１
３０分で完全に停止した。以下、実施例１と同様にして
得られた反応粗物を分析したところ、理論アミン価に対
し、全アミン価は８９．２％、２・３級アミン価は１
０．４％、１級アミン価は７８．８％であった。
【００５１】更に、実施例１と同様に触媒の繰り返し使
用を１０回行った。その結果、１０回目になると水素吸
収時間が３９０分となり（触媒が失活したためと認めら
れる。）、更に得られた粗物を分析したところ、理論ア
ミン価に対し、全アミン価は６５．５％、２・３級アミ
ン価は３３．０％、１級アミン価は３２．５％と品質の
低下も顕著であった。
用を１０回行った。その結果、１０回目になると水素吸
収時間が３９０分となり（触媒が失活したためと認めら
れる。）、更に得られた粗物を分析したところ、理論ア
ミン価に対し、全アミン価は６５．５％、２・３級アミ
ン価は３３．０％、１級アミン価は３２．５％と品質の
低下も顕著であった。
【００５２】比較例３ 反応温度を１６０℃とした以外は実施例１と同様に水素
化反応を行った。１回目の水素吸収は４５分で完全に停
止した。以下、実施例１と同様にして得られた反応粗物
を分析したところ、理論アミン価に対し、全アミン価は
７１．３％、２・３級アミン価は２７．０％、１級アミ
ン価は４４．３％であった。
化反応を行った。１回目の水素吸収は４５分で完全に停
止した。以下、実施例１と同様にして得られた反応粗物
を分析したところ、理論アミン価に対し、全アミン価は
７１．３％、２・３級アミン価は２７．０％、１級アミ
ン価は４４．３％であった。
【００５３】
【発明の効果】本発明の方法によれば、一般に工業的に
用いられているアンモニアを使用することなく安価で高
選択、高収率で第１級アミドアミン系化合物を工業的に
製造することができる。
用いられているアンモニアを使用することなく安価で高
選択、高収率で第１級アミドアミン系化合物を工業的に
製造することができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（１）又は一般式（２）で表され
るＮ−シアノエチルアミド系化合物を接触水素化して、
対応する一般式（３）又は一般式（４）で表される第１
級アミドアミン系化合物を製造するに際し、溶媒の存在
下又は不存在下にラネーコバルト系触媒及びラネーニッ
ケル系触媒よりなる群から選ばれる１種若しくは２種以
上の水素化触媒を用い、５０〜１５０℃で接触水素化す
ることを特徴とする第１級アミドアミン系化合物の製造
方法。 Ｒ1ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＮ （１） ［式中、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基
又は炭素数３〜１３の環状アルキル基を表す。］ Ｒ2（ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＮ）2 （２） ［式中、Ｒ2は単結合、炭素数１〜２１のアルキレン基
又は炭素数３〜１４の環状アルキレン基を表す。］ Ｒ1ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2 （３） ［式中、Ｒ1は一般式１と同義である。］ Ｒ2（ＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2）2 （４） ［式中、Ｒ2は一般式２と同義である。］ - 【請求項２】 反応溶媒が、一般式（５）で表される脂
肪族エーテル系化合物である請求項１に記載の第１級ア
ミドアミン系化合物の製造方法。 Ｒ3Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｒ4 （５） ［式中、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって、炭素数１〜６の
アルキル基を表す。ｎは１〜５の整数を表す。］ - 【請求項３】 Ｎ−シアノエチルアミド系化合物に対
し、０．００５〜等重量倍の水の存在下で接触水素化す
ることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の第１
級アミドアミン系化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6114653A JPH07291908A (ja) | 1994-04-27 | 1994-04-27 | 第１級アミドアミン系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6114653A JPH07291908A (ja) | 1994-04-27 | 1994-04-27 | 第１級アミドアミン系化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07291908A true JPH07291908A (ja) | 1995-11-07 |
Family
ID=14643198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6114653A Pending JPH07291908A (ja) | 1994-04-27 | 1994-04-27 | 第１級アミドアミン系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07291908A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106977407A (zh) * | 2015-11-26 | 2017-07-25 | 南亚塑胶工业股份有限公司 | 一种n,n′‑双(3‑氨基丙基)‑1,2‑乙二胺的制备方法 |
-
1994
- 1994-04-27 JP JP6114653A patent/JPH07291908A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106977407A (zh) * | 2015-11-26 | 2017-07-25 | 南亚塑胶工业股份有限公司 | 一种n,n′‑双(3‑氨基丙基)‑1,2‑乙二胺的制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040325 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040406 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040803 |