JPH07258410A - Polyimide siloxane - Google Patents
Polyimide siloxaneInfo
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- JPH07258410A JPH07258410A JP4867194A JP4867194A JPH07258410A JP H07258410 A JPH07258410 A JP H07258410A JP 4867194 A JP4867194 A JP 4867194A JP 4867194 A JP4867194 A JP 4867194A JP H07258410 A JPH07258410 A JP H07258410A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機溶媒への可溶性、耐熱性及び耐薬品性を
有すると共に電気絶縁性を有するので電気・電子部品の
表面保護膜や層間絶縁膜、銅箔と基材間の接着剤成分と
して使用できる。
【構成】 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカル
ボン酸類を主成分とする芳香族テトラカルボン酸成分と
ジアミノポリシロキサン45〜85モル%及び複数の芳
香族環を有する芳香族ジアミン15〜55モル%からな
るジアミン成分とを重合及びイミド化することにより得
られる。(57) [Abstract] [Purpose] Solubility in organic solvents, heat resistance and chemical resistance as well as electrical insulation make it possible to protect surface and interlayer insulation films of electrical and electronic parts, and between copper foil and substrate. It can be used as an adhesive component. An aromatic tetracarboxylic acid component containing 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid as a main component, 45 to 85 mol% of diaminopolysiloxane, and an aromatic diamine having a plurality of aromatic rings 15 to 15 It is obtained by polymerizing and imidizing a diamine component consisting of 55 mol%.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、可溶性、耐熱性及び
耐薬品性を有すると共に電気絶縁性を有する電気・電子
部品用表面保護膜、層間絶縁膜及び銅箔と基材間の接着
剤成分として有用な特殊なポリイミドシロキサンに関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface protective film for electric / electronic parts which has solubility, heat resistance, chemical resistance and electrical insulation properties, an interlayer insulating film, and an adhesive component between a copper foil and a substrate. The present invention relates to a special polyimide siloxane useful as.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、芳香族ポリイミドなどを電気絶縁
性の保護膜及び耐熱性接着剤の主成分として利用するこ
とは 、例えば、フレキシブル配線板、半導体集積回路
などの層間絶縁膜や銅箔と基材間の接着剤組成物などの
用途において、既に種々知られている。しかしながら、
一般に芳香族ポリイミドは、有機溶媒に溶解しないの
で、芳香族ポリイミドの前駆体(芳香族ポリアミック
酸)の溶液として使用して、塗布膜を次いで、乾燥とイ
ミド化を高温で長時間、加熱処理することによって、保
護膜にする必要があり、保護すべき電気又は電子部材自
体が熱的な劣化を起こすという問題があった。一方、特
公昭57−41491号公報には有機溶媒に可溶性の芳
香族ポリイミドが開示されているが、シリコンウエハ
ー、ガラス板、フレキシブル配線基板などとの密着性が
充分でないので、予め基板などを密着促進剤で処理して
おくなどの方法が必要であった。2. Description of the Related Art Conventionally, aromatic polyimide has been used as a main component of an electrically insulating protective film and a heat resistant adhesive, for example, as an interlayer insulating film of a flexible wiring board, a semiconductor integrated circuit or a copper foil. Various applications have already been known for applications such as adhesive compositions between substrates. However,
In general, aromatic polyimide is not dissolved in an organic solvent, so it is used as a solution of a precursor of aromatic polyimide (aromatic polyamic acid), and then the coating film is dried and imidized at a high temperature for a long time. Therefore, it is necessary to form a protective film, and there is a problem that the electrical or electronic member itself to be protected is thermally deteriorated. On the other hand, Japanese Patent Publication No. 57-41491 discloses aromatic polyimide soluble in an organic solvent, but since the adhesiveness with a silicon wafer, a glass plate, a flexible wiring substrate, etc. is not sufficient, the substrate, etc. are attached in advance. A method such as treatment with an accelerator was necessary.
【0003】前述の問題点を解決するために、ジアミン
成分としてジアミノポリシロキサンを使用したポリイミ
ドシロキサンの前駆体が例えば、特開昭57−1433
28号公報、特開昭58−13631号公報に開示され
ているが、これらのポリイミドシロキサンの前駆体はイ
ミド化するためには高温で処理しなければならないとい
う欠点を有していた。In order to solve the above-mentioned problems, a precursor of polyimidesiloxane using diaminopolysiloxane as a diamine component is disclosed in, for example, JP-A-57-1433.
No. 28 and JP-A No. 58-13631, the precursors of these polyimidesiloxanes have the drawback that they must be treated at high temperature for imidization.
【0004】又、特開昭61−118424号公報、特
開昭61−207438号公報、特開昭63−2256
29号公報、特開平1−121325号公報には可溶性
ポリイミドシロキサンが開示されている。しかし、これ
らのポリイミドシロキサンは、その製造工程が数段階に
及び、製造に長時間を要するという問題があったり、ジ
アミン成分として芳香族ジアミンを全く含んでおらず、
耐熱性が低いという問題、種々の有機溶媒に対する溶解
性が必ずしも充分でないという問題、フレキシブル配線
基板などに塗布して乾燥した場合に、その基板が大きく
カールするという問題などがあった。Further, JP-A-61-118424, JP-A-61-207438 and JP-A-63-2256.
No. 29 and JP-A-1-121325 disclose soluble polyimide siloxanes. However, these polyimidesiloxanes have a problem that the manufacturing process involves several steps, and that it takes a long time to manufacture, or does not include an aromatic diamine as a diamine component at all,
There are problems that the heat resistance is low, that the solubility in various organic solvents is not always sufficient, and that when the flexible wiring substrate is applied and dried, the substrate largely curls.
【0005】更に、特開平4−23833号公報、特開
平4−36321号公報の可溶性ポリイミドシロキサン
は、フレキシブル配線基板、半導体集積回路などの層間
絶縁膜や銅箔と基材間の接着剤組成物などの用途に使用
した場合に、製造工程でのアセトンを使用した洗浄工程
で溶解するという問題があった。Further, the soluble polyimide siloxane disclosed in JP-A-4-23833 and JP-A-4-36321 is an adhesive composition between an interlayer insulating film of a flexible wiring substrate, a semiconductor integrated circuit or the like, or a copper foil and a substrate. When used for such purposes, there was a problem that it was dissolved in the washing process using acetone in the manufacturing process.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、特
定の低沸点溶媒に対して高い溶解性、耐熱性を有すると
共に、耐薬品性も良好で、その製造工程が容易なポリイ
ミドシロキサンを提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a polyimide siloxane which has high solubility and heat resistance in a specific low boiling point solvent, good chemical resistance, and easy manufacturing process. It is to be.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】この発明者らは、上記の
課題を改良することを目的として鋭意研究を行って、3,
3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸類を主成分とする
芳香族テトラカルボン酸成分とジアミノポリシロキサン
45〜85モル%及び複数の芳香族環を有する芳香族ジ
アミン15〜55モル%からなるジアミン成分とを重合
及びイミド化することにより得られるポリイミドシロキ
サンが、特定の低沸点溶媒に対して高い溶解性、耐熱性
を有すると共に、耐薬品性も良好で、その製造工程が容
易なことを知り、この発明に至った。[Means for Solving the Problems] The inventors of the present invention have conducted diligent research for the purpose of improving the above problems, and
Aromatic tetracarboxylic acid component containing 3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid as a main component, diaminopolysiloxane 45 to 85 mol% and aromatic diamine having a plurality of aromatic rings 15 to 55 mol% Polyimide siloxane obtained by polymerizing and imidizing a diamine component has high solubility and heat resistance in a specific low boiling point solvent, and also has good chemical resistance, and its manufacturing process is easy. I came to this invention.
【0008】この発明は、(a)3,3',4,4'-ビフェニル
テトラカルボン酸類を主成分とする芳香族テトラカルボ
ン酸成分と一般式(1)This invention relates to (a) an aromatic tetracarboxylic acid component containing 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid as a main component and a general formula (1).
【0009】[0009]
【化2】 [Chemical 2]
【0010】(但し、式中のRは2価の炭化水素残基を
示し、R1 、R2 、R3 及びR4 は低級アルキル基又は
フェニル基を示し、nが3〜40の整数を示す)で示さ
れるジアミノポリシロキサン45〜85モル%及び複数
の芳香族環を有する芳香族ジアミン15〜55モル%か
らなるジアミン成分とを(b)重合及びイミド化するこ
とにより、得られることを特徴とするポリイミドシロキ
サン。(Wherein R represents a divalent hydrocarbon residue, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent a lower alkyl group or a phenyl group, and n represents an integer of 3 to 40). (B) polymerizing and imidizing a diamine component consisting of 45 to 85 mol% of diaminopolysiloxane represented by the formula) and 15 to 55 mol% of aromatic diamine having a plurality of aromatic rings. Characteristic polyimide siloxane.
【0011】この発明において、ビフェニルテトラカル
ボン酸類を主成分とする芳香族テトラカルボン酸成分に
対して30モル%以下、特に25モル%以下の割合で、
3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸と共に使用する
ことができる他の芳香族テトラカルボン酸成分として
は、2,3,3',4'-ビフェニルテトラカルボン酸類、3,3',
4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸類、3,3',4,4'-
ビフェニルエーテルテトラカルボン酸類、ピロメリット
酸類などが使用される。これらの中でも特に、2,3,3',
4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が、前記ポリ
イミドシロキサンの有機極性溶媒に対する溶解性、エポ
キシ化合物との相溶性などに優れているので好適であ
る。In the present invention, the proportion of the aromatic tetracarboxylic acid component containing biphenyltetracarboxylic acids as the main component is 30 mol% or less, particularly 25 mol% or less,
Other aromatic tetracarboxylic acid components that can be used together with 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid include 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acids and 3,3 ′. ,
4,4'-Benzophenonetetracarboxylic acids, 3,3 ', 4,4'-
Biphenyl ether tetracarboxylic acids, pyromellitic acids, etc. are used. Among these, especially 2,3,3 ',
4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferable because it is excellent in solubility of the polyimidesiloxane in an organic polar solvent, compatibility with an epoxy compound, and the like.
【0012】この発明において、ビフェニルテトラカル
ボン酸類と共に使用することができる芳香族テトラカル
ボン酸成分としては、例えば、3,3',4,4'-ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸、3,3',4,4'-ジフェニルエーテルテ
トラカルボン酸、ビス(3, 4-ジカルボキシフェニル) メ
タン、2,2-ビス(3,4- ジカルボキシフェニル) プロパ
ン、ピロメリット酸、又はそれらの酸二無水物やエステ
ル化物等を好適に挙げることができる。しかし、これら
の使用量が多すぎると、前記ポリイミドシロキサンが有
機極性溶媒に対して難溶性となったり、エポキシ樹脂と
の相溶性が悪化したりするので適当ではない。In the present invention, examples of the aromatic tetracarboxylic acid component that can be used together with the biphenyl tetracarboxylic acids include, for example, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid, 3,3', 4, 4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, pyromellitic acid, or their acid dianhydrides or ester compounds And the like can be preferably mentioned. However, if the amount of these used is too large, the polyimide siloxane becomes insoluble in the organic polar solvent or the compatibility with the epoxy resin deteriorates, which is not suitable.
【0013】この発明において、一般式(1)で示され
るジアミノポリシロキサンとしては、式中のRが炭素数
2〜6個、特に3〜5個の『複数のメチレン基』、又は
フェニレン基からなる2価の炭化水素残基であり、R1
〜R4 がメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1
〜5の低級アルキル基又はフェニル基であることが好ま
しく、更に、nが4〜20の整数、特に5〜20、更に
好ましくは5〜15程度であることが好ましい。R、R
1 〜R4 の炭素数が多すぎたり、nの数が大きすぎると
反応性が低下したり耐熱性が悪くなったり、得られるポ
リイミドシロキサンの分子量が低くなったり有機溶媒に
対する溶解性が低下したり、他の有機化合物との相溶性
が悪くなったりするので前記程度のものが適当である。In the present invention, as the diaminopolysiloxane represented by the general formula (1), R in the formula is a "plurality of methylene groups" having 2 to 6 carbon atoms, particularly 3 to 5 carbon atoms, or a phenylene group. R 1 is a divalent hydrocarbon residue
~ R 4 has 1 carbon atom such as methyl group, ethyl group, propyl group, etc.
It is preferable that it is a lower alkyl group or phenyl group of 5 to 5, and n is an integer of 4 to 20, particularly 5 to 20, and more preferably 5 to 15. R, R
If the carbon number of 1 to R 4 is too large, or the number of n is too large, the reactivity and heat resistance deteriorate, the molecular weight of the resulting polyimidesiloxane decreases, and the solubility in organic solvents decreases. Or, the compatibility with other organic compounds may deteriorate, so that the above-mentioned level is suitable.
【0014】一般式(1)で示されるジアミノポリシロ
キサンの具体的種類としては、ω,ω’- ビス(2- アミ
ノエチル) ポリジメチルシロキサン、ω,ω’- ビス(3
- アミノプロピル) ポリジメチルシロキサン、ω,ω’
- ビス(3- アミノブチル) ポリジメチルシロキサン、
ω,ω’- ビス(3- アミノプロピル) ポリメチルフェニ
ルシロキサン、ω,ω’- ビス(4- アミノフェニル) ポ
リジメチルシロキサン、ω,ω’- ビス(4- アミノ-3-
メチルフェニル) ポリジメチルシロキサン、ω,ω’-
ビス(3- アミノプロピル) ポリジフェニルシロキサン等
を好適に挙げることができる。Specific examples of the diaminopolysiloxane represented by the general formula (1) include ω, ω'-bis (2-aminoethyl) polydimethylsiloxane and ω, ω'-bis (3
-Aminopropyl) polydimethylsiloxane, ω, ω '
-Bis (3-aminobutyl) polydimethylsiloxane,
ω, ω'-bis (3-aminopropyl) polymethylphenylsiloxane, ω, ω'-bis (4-aminophenyl) polydimethylsiloxane, ω, ω'-bis (4-amino-3-
Methylphenyl) polydimethylsiloxane, ω, ω'-
Suitable examples include bis (3-aminopropyl) polydiphenylsiloxane and the like.
【0015】また、ジアミノポリシロキサンと共に使用
される芳香族ジアミンとしては、一般にはベンゼン環等
の芳香族環を2個以上、特に2〜5個有する芳香族ジア
ミン化合物、例えばビフェニル系ジアミン化合物、ジフ
ェニルエーテル系ジアミン化合物、ベンゾフェノン系ジ
アミン化合物、ジフェニルスルホン系ジアミン化合物、
ジフェニルメタン系ジアミン化合物、ジフェニルプロパ
ン系ジアミン化合物、ジフェニルチオエーテル系ジアミ
ン化合物、 ビス(フェノキシ)ベンゼン系ジアミン化
合物、ビス(フェノキシフェニル)スルホン系ジアミン
化合物、ビス(フェノキシ)ジフェニルスルホン系ジア
ミン化合物、ビス(フェノキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン系ジアミン化合物、ビス(フェノキシフェニ
ル)プロパン系ジアミン化合物等を挙げることができ、
それらを単独、或いは、混合物として使用することがで
きる。The aromatic diamine used together with the diaminopolysiloxane is generally an aromatic diamine compound having two or more aromatic rings such as benzene rings, especially 2 to 5 aromatic rings, such as biphenyl-based diamine compounds and diphenyl ether. Diamine compounds, benzophenone diamine compounds, diphenyl sulfone diamine compounds,
Diphenylmethane-based diamine compound, diphenylpropane-based diamine compound, diphenylthioether-based diamine compound, bis (phenoxy) benzene-based diamine compound, bis (phenoxyphenyl) sulfone-based diamine compound, bis (phenoxy) diphenylsulfone-based diamine compound, bis (phenoxyphenyl) ) Hexafluoropropane-based diamine compounds, bis (phenoxyphenyl) propane-based diamine compounds, and the like,
They can be used alone or as a mixture.
【0016】前記芳香族ジアミンの具体的種類として
は、4,4'- ジアミノジフェニルエーテル、3,3'- ジアミ
ノジフェニルエーテル等のジフェニルエーテル系ジアミ
ン化合物、1,3-ビス(3- アミノフェノキシ) ベンゼン、
1,4-ビス(4- アミノフェノキシ) ベンゼン等のビス( フ
ェノキシ) ベンゼン系ジアミン化合物、2,2-ビス[4-(4-
アミノフェノキシ) フェニル] プロパン、2,2-ビス[4-
(3-アミノフェノキシ) フェニル] プロパン等のビス(
フェノキシフェニル) プロパン系ジアミン化合物、ビス
[4-(4-アミノフェノキシ) フェニル] スルフォン、ビス
[4-(3-アミノフェノキシ) フェニル] スルフォン等のビ
ス( フェノキシフェニル) スルフォン系ジアミン化合物
等の芳香族環を2〜5個有する芳香族ジアミン化合物を
好適に挙げることができる。Specific examples of the aromatic diamine include diphenyl ether type diamine compounds such as 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,3′-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene,
Bis (phenoxy) benzene-based diamine compounds such as 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis [4- (4-
Aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4-
(3-Aminophenoxy) phenyl] propane and other bis (
(Phenoxyphenyl) propane-based diamine compound, bis
[4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis
Aromatic diamine compounds having 2 to 5 aromatic rings, such as bis (phenoxyphenyl) sulfone-based diamine compounds such as [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, can be preferably mentioned.
【0017】この発明のポリイミドシロキサンにおい
て、ジアミノポリシロキサンと芳香族ジアミンは、前者
が45〜85モル%、好ましくは45〜80モル%、更
に好ましくは45〜75モル%、後者が15〜55モル
%、好ましくは20〜55モル%、更に好ましくは25
〜55モル%の割合で使用される。どちらかの成分が少
なすぎたり、多すぎたりしてこれらの範囲をはずれると
ポリイミドシロキサンの有機溶剤に対する溶解性が低下
したり、他の有機化合物との相溶性が悪くなったり、フ
レキシブル配線板上に保護膜を形成する際に大きくカー
ルしたり、又は耐熱性、機械特性などが低下するので適
当でない。In the polyimidesiloxane of the present invention, the former amount of the diaminopolysiloxane and the aromatic diamine is 45 to 85 mol%, preferably 45 to 80 mol%, more preferably 45 to 75 mol%, and the latter is 15 to 55 mol%. %, Preferably 20 to 55 mol%, more preferably 25
Used in a proportion of ˜55 mol%. If either component is too little or too much and is out of these ranges, the solubility of the polyimide siloxane in an organic solvent will decrease, the compatibility with other organic compounds will deteriorate, and on a flexible wiring board. It is not suitable because it greatly curls when a protective film is formed on it, or the heat resistance, mechanical properties, etc. decrease.
【0018】この発明において、(a)成分のポリイミ
ドシロキサンは、次の方法で製造される。 (a1) 芳
香族テトラカルボン酸成分とジアミノポリシロキサン及
び芳香族ジアミンのジアミン成分とを、略等モル使用し
て有機極性溶媒中で連続的に温度15〜250°Cで重
合及びイミド化させてポリイミドシロキサンを得る方
法。In the present invention, the component (a) polyimide siloxane is produced by the following method. (A 1 ) Aromatic tetracarboxylic acid component and diamine polysiloxane and diamine component of aromatic diamine are used in approximately equimolar amounts to continuously polymerize and imidize in an organic polar solvent at a temperature of 15 to 250 ° C. To obtain polyimide siloxane.
【0019】(a2) ジアミン成分を分けて、まず芳香
族テトラカルボン酸成分の過剰量とジアミノポリシロキ
サンとを有機極性溶媒中で温度15〜250°Cで重合
及びイミド化させて、平均重合度1〜30、好ましくは
1〜20程度の末端に酸又は酸無水物基を有するイミド
シロキサンオリゴマーを調製し、別に芳香族テトラカル
ボン酸成分と過剰量の芳香族ジアミンとを有機極性溶媒
中で温度15〜250°Cで重合、及びイミド化させ
て、平均重合度1〜30、好ましくは1〜20程度の末
端にアミノ基を有するイミドオリゴマーを調製し、次い
でこの両者を酸成分とジアミン成分とが略等モルになる
ように混合して温度15〜60°Cで反応させて、更に
温度を130〜250°Cに昇温してブロックタイプの
ポリイミドシロキサンを得る方法。(A 2 ) The diamine component is divided, and first, an excess amount of the aromatic tetracarboxylic acid component and diaminopolysiloxane are polymerized and imidized in an organic polar solvent at a temperature of 15 to 250 ° C. to obtain an average polymerization. 1-30, preferably about 1-20, an imide siloxane oligomer having an acid or acid anhydride group at the terminal is prepared, and an aromatic tetracarboxylic acid component and an excess amount of aromatic diamine are separately added in an organic polar solvent. Polymerization and imidization are carried out at a temperature of 15 to 250 ° C. to prepare an imide oligomer having an amino group at the terminal with an average degree of polymerization of 1 to 30, preferably about 1 to 20, and then both of these are acid and diamine components. And are mixed so as to be approximately equimolar and reacted at a temperature of 15 to 60 ° C, and further heated to 130 to 250 ° C to form a block type polyimide siloxane. How to get.
【0020】(a3) 芳香族テトラカルボン酸成分とジ
アミノポリシロキサン及び芳香族ジアミン成分とを略等
モル使用して、有機極性溶媒中でまず温度20〜80°
Cで重合させて一度ポリアミック酸を得た後に、イミド
化してポリイミドシロキサンを得る方法等がある。(A 3 ) Aromatic tetracarboxylic acid components, diaminopolysiloxane and aromatic diamine components are used in approximately equimolar amounts, and first in an organic polar solvent at a temperature of 20 to 80 °.
There is a method of polymerizing with C to obtain a polyamic acid once and then imidizing it to obtain a polyimidesiloxane.
【0021】この発明でポリイミドシロキサンの製造に
使用される有機極性溶媒としては、例えば、N,N-ジメチ
ルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジメ
チルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N-メチ
ル−2-ピロリドン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキ
シド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエ
チルスルホン、ヘキサメチルスルホルアミド等の硫黄原
子を含有する溶媒、クレゾール、フェノール、キシレノ
ールなどのフェノール系溶媒、アセトン、メタノール、
エタノール、エチレングリコール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等の酸素原子を分子内に有する溶媒、ピリ
ジン、テトラメチル尿素等のその他の溶媒を挙げること
ができる。更に、必要に応じて、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ソルベントナフ
サ、ベンゾニトリルのような他の種類の有機溶媒を併用
することも可能である。Examples of the organic polar solvent used for producing the polyimidesiloxane in the present invention include N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, Amide solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, diethyl sulfone, solvents containing sulfur atoms such as hexamethyl sulfolamide, cresol, phenol, phenolic solvents such as xylenol, Acetone, methanol,
Examples thereof include solvents having an oxygen atom in the molecule such as ethanol, ethylene glycol, dioxane, and tetrahydrofuran, and other solvents such as pyridine and tetramethylurea. Furthermore, if necessary, benzene, toluene,
It is also possible to use together an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene, another type of organic solvent such as solvent naphtha, and benzonitrile.
【0022】この発明において、ポリイミドシロキサン
は前記(a1)〜(a3)等いずれの方法で得られたものを
使用してもよいが、できるだけ高分子量でイミド化率が
高く、有機極性溶媒に少なくとも3重量%以上、特に5
〜40重量%程度の高濃度で溶解させることができるも
のが、積層操作や積層性能のよい積層板が得られるので
好適である。In the present invention, the polyimide siloxane may be obtained by any method such as (a 1 ) to (a 3 ) described above, but it is as high molecular weight as possible and has a high imidization ratio, and is an organic polar solvent. At least 3% by weight or more, especially 5
What can be dissolved at a high concentration of about 40% by weight is preferable because a laminated plate having good laminating operation and laminating performance can be obtained.
【0023】ポリイミドシロキサンのイミド化率は、赤
外線吸収スペクトル分析法で測定してイミド化率が90
%以上、特に95%以上が好ましく赤外線吸収スペクト
ル分析においてポリマーのアミド−酸結合に係わる吸収
ピークが実質的に見出されず、イミド環結合に係わる吸
収ピークのみが見られるような高いイミド化率であるこ
とが好ましい。The imidization ratio of polyimidesiloxane is 90 as measured by infrared absorption spectroscopy.
% Or more, particularly 95% or more is preferable, and in the infrared absorption spectrum analysis, the absorption peak related to the amide-acid bond of the polymer is not substantially found and only the absorption peak related to the imide ring bond is observed, and the imidization ratio is high. It is preferable.
【0024】ポリイミドシロキサンは、分子量の目安と
しての対数粘度(測定濃度:0.5g/100ミリリッ
トル溶液、溶媒:N-メチル−2-ピロリドン、測定温度:
30°C、粘度計:キャノンフェンスケ型粘度計)が、
0.05〜3、特に0.10〜2程度であるのが適当で
ある。Polyimide siloxane has a logarithmic viscosity (measurement concentration: 0.5 g / 100 ml solution, solvent: N-methyl-2-pyrrolidone, measurement temperature:
30 ° C, viscometer: Canon Fenske type viscometer)
It is suitable to be about 0.05 to 3, especially about 0.10 to 2.
【0025】以下に実施例及び比較例を挙げ、この発明
を詳細に説明する。ポリイミドシロキサンの溶解性は、
ポリイミドシロキサン粉末0.2gを20°Cでテトラ
ヒドロフラン及びアセトン 0.8gに添加・放置し
て、その溶解状態を観察して、1時間以内に溶解した場
合を◎、1日以内に溶解した場合を○、単に溶媒中に膨
潤する場合を△、1週間でも全く不溶の場合を×、とし
て評価した。The present invention will be described in detail below with reference to Examples and Comparative Examples. The solubility of polyimide siloxane is
Add 0.2 g of polyimidesiloxane powder to 0.8 g of tetrahydrofuran and acetone at 20 ° C., and let it stand and observe the dissolution state. When dissolved within 1 hour, ◎ When dissolved within 1 day ◯, evaluation was made as Δ when simply swelling in the solvent, and x when completely insoluble even in one week.
【0026】実施例1 温度計、仕込・留出口及び攪拌機を備えた容量2リット
ルのガラス製フラスコに、N- メチル-2- ピロリドン(
NMP)1000gを入れ、次いで3,3’,4,4’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPD
A) 73.56g(250ミリモル)、ω, ω'-ビス
(3-アミノプロピル) ポリジメチルシロキサン(東レ・
ダウコーニング・シリコーン社製,BY16−853
U;DAPS) 132g(150ミリモル),2,2
−ビス[4-(4-アミノフェノキシ) フェニル] プロパン
(BAPP) 41.05g(100ミリモル)を仕込
み、窒素気流中で60°Cの温度に高め、この温度で3
時間反応した。次いで、その反応液を200°Cに昇温
して、その温度で3時間反応した。室温に下げた反応液
を10リットルの水中に添加して、ホモミキサーを使用
して30分間で析出させたポリマーを濾過して、ポリマ
ー粉末を単離して、そのポリマー粉末を5リットルの水
中でホモミキサーを使用して15分間の洗浄を2回行
い、120°Cで5時間熱風乾燥してポリイミドシロキ
サン粉末、220gを得た。得られたポリイミドシロキ
サンは、対数粘度(30°C)は0.26であり、イミ
ド化率は実質的に100%であった。Example 1 A glass flask having a capacity of 2 liters equipped with a thermometer, a charging / discharging outlet and a stirrer was charged with N-methyl-2-pyrrolidone (
NMP) 1000g, then 3,3 ', 4,4'
-Biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPD
A) 73.56 g (250 mmol), ω, ω'-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane (Toray
Dow Corning Silicone, BY16-853
U; DAPS) 132 g (150 mmol), 2,2
-Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) 41.05 g (100 mmol) was charged, and the temperature was raised to 60 ° C in a nitrogen stream, and at this temperature 3
Reacted for hours. Then, the reaction solution was heated to 200 ° C. and reacted at that temperature for 3 hours. The reaction liquid cooled to room temperature was added to 10 liters of water, and the polymer precipitated in 30 minutes using a homomixer was filtered to isolate the polymer powder, and the polymer powder was dissolved in 5 liters of water. It was washed twice for 15 minutes using a homomixer and dried in hot air at 120 ° C. for 5 hours to obtain 220 g of polyimidesiloxane powder. The obtained polyimide siloxane had an inherent viscosity (30 ° C.) of 0.26 and an imidization ratio of substantially 100%.
【0027】実施例2 容量1リットルのガラス製フラスコに、窒素雰囲気下で
NMP 500g、2,3 ,3’,4' −ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物(a−BPDA)29.25
g(100ミリモル)とBAPP 82.11g(20
0ミリモル)を添加して、60°C、2時間反応させ
た。更に温度を200°Cに昇温させて水を除去させな
がら3時間重合を行いジアミン末端イミドオリゴマー
(YO成分)を合成した。更に、容量1リットルのガラ
ス製フラスコに、NMP 500gを入れ、次いでs−
BPDA 88.27g(300ミリモル)、DAPS
176g(200ミリモル)を仕込み、窒素気流中で
60°Cの温度に高め、この温度で2時間反応した。次
いで、その反応液を200°Cに昇温して、水を除去し
ながらその温度で3時間反応して酸末端イミドオリゴマ
ー(X1成分)を合成した。次に、容量2リットルのガ
ラス製フラスコに、NMP 100g、YO成分10
7.93g(100ミリモル)とX1成分 257g
(100ミリモル)を加え、窒素下に60°C、2時
間、更に昇温して200°Cで水を除去しながら3時間
反応させた。最後にこの反応液を室温に下げて、10リ
ットルの水中に添加してホモミキサーを使用して30分
間でポリマーを析出させて、これを濾過させ、ポリマー
粉末を単離し、そのポリマー粉末を5リットルの水中で
ホモミキサーを使用して15分間の洗浄を2回行い、1
20°Cで5時間熱風乾燥してポリイミドシロキサン粉
末、340gを得た。得られたポリイミドシロキサンは
対数粘度(30°C)は0.24であり、イミド化率は
実質的に100%であった。Example 2 NMP 500 g, 2,3,3 ', 4' -biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) 29.25 in a 1 liter capacity glass flask under a nitrogen atmosphere.
g (100 mmol) and BAPP 82.11 g (20
0 mmol) was added, and the mixture was reacted at 60 ° C. for 2 hours. Further, the temperature was raised to 200 ° C. and polymerization was carried out for 3 hours while removing water to synthesize a diamine-terminated imide oligomer (YO component). Further, 500 g of NMP was placed in a glass flask having a capacity of 1 liter, and then s-
BPDA 88.27 g (300 mmol), DAPS
After charging 176 g (200 mmol), the temperature was raised to 60 ° C. in a nitrogen stream and the reaction was carried out at this temperature for 2 hours. Next, the reaction solution was heated to 200 ° C. and reacted at that temperature for 3 hours while removing water to synthesize an acid-terminated imide oligomer (X1 component). Next, in a glass flask having a capacity of 2 liters, 100 g of NMP and 10 parts of YO component were added.
7.93 g (100 mmol) and X1 component 257 g
(100 mmol) was added, and the mixture was reacted under nitrogen at 60 ° C. for 2 hours and further heated at 200 ° C. for 3 hours while removing water. Finally, the reaction solution was cooled to room temperature, added to 10 liters of water, and a polymer was precipitated using a homomixer for 30 minutes. The polymer was filtered, and the polymer powder was isolated. Perform 15 minutes of washing twice in 1 liter of water using a homomixer.
It was dried with hot air at 20 ° C. for 5 hours to obtain 340 g of polyimidesiloxane powder. The obtained polyimidesiloxane had an inherent viscosity (30 ° C.) of 0.24 and an imidization ratio of substantially 100%.
【0028】実施例3〜4及び比較例1〜6 芳香族テトラカルボン酸成分とジアミン成分として、第
1表に示す種類及び量(モル比)を使用したほかは、実
施例1と同様にして、ポリイミドシロキサン(イミド化
率は実質的に95%以上)をそれぞれ製造した。それら
のポリイミドシロキサンの溶解性を第1表に示した。Examples 3 to 4 and Comparative Examples 1 to 6 The same as Example 1 except that the types and amounts (molar ratios) shown in Table 1 were used as the aromatic tetracarboxylic acid component and the diamine component. , Polyimide siloxane (the imidization ratio is substantially 95% or more) were manufactured. The solubility of these polyimidesiloxanes is shown in Table 1.
【0029】[0029]
【表1】 [Table 1]
【0030】[0030]
【発明の効果】この発明のポリイミドシロキサンは、ジ
アミノポリシロキサンに基づく構成単位をかなり高い割
合で有している柔軟なポリマーであるので、耐熱性、電
気特性及び機械特性を保持していると共に、有機溶媒へ
の可溶性(特に、メチルジグライム、テトラヒドロフラ
ンに対する溶解性)が極めて優れており、しかも、電気
・電子部品の洗浄工程で使用されるアセトンやメタノー
ルに対しての優れた耐薬品性を示すものである。EFFECT OF THE INVENTION Since the polyimide siloxane of the present invention is a flexible polymer having a constitutional unit based on diaminopolysiloxane in a considerably high proportion, it retains heat resistance, electrical properties and mechanical properties, and It has excellent solubility in organic solvents (especially solubility in methyl diglyme and tetrahydrofuran), and also shows excellent chemical resistance to acetone and methanol used in the washing process of electric and electronic parts. It is a thing.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 園山 研二 大阪府枚方市中宮北町3番10号 宇部興産 株式会社枚方研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kenji Sonoyama 3-10 Nakamiyakitamachi, Hirakata City, Osaka Prefecture Ube Industries Ltd. Hirakata Laboratory
Claims (1)
ボン酸類を主成分とする芳香族テトラカルボン酸成分と
一般式(1) 【化1】 (但し、式中のRは2価の炭化水素残基を示し、R1 、
R2 、R3 及びR4 は低級アルキル基又はフェニル基を
示し、nが3〜40の整数を示す)で示されるジアミノ
ポリシロキサン45〜85モル%及び複数の芳香族環を
有する芳香族ジアミン15〜55モル%からなるジアミ
ン成分とを(b)重合及びイミド化することにより得ら
れることを特徴とするポリイミドシロキサン。1. An aromatic tetracarboxylic acid component comprising (a) 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid as a main component and a general formula (1): (However, R in the formula represents a divalent hydrocarbon residue, and R 1 ,
R 2, R 3 and R 4 represents a lower alkyl group or a phenyl radical, n aromatic diamine having a diamino polysiloxane 45 to 85 mol% and more aromatic ring represented by shows an integer of 3 to 40) A polyimidesiloxane obtained by (b) polymerizing and imidizing a diamine component consisting of 15 to 55 mol%.
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JP04867194A JP3810100B2 (en) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | Polyimide siloxane |
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-
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