JPH0725557B2 - 光学素子のプレス成形用金型の作製方法及び光学素子の作製方法 - Google Patents
光学素子のプレス成形用金型の作製方法及び光学素子の作製方法Info
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- JPH0725557B2 JPH0725557B2 JP1157788A JP15778889A JPH0725557B2 JP H0725557 B2 JPH0725557 B2 JP H0725557B2 JP 1157788 A JP1157788 A JP 1157788A JP 15778889 A JP15778889 A JP 15778889A JP H0725557 B2 JPH0725557 B2 JP H0725557B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高精度な光学素子を大量にかつ安価に生産する
ためのプレス成形用金型の作製方法ならびに光学素子の
作製方法に関するものである。
ためのプレス成形用金型の作製方法ならびに光学素子の
作製方法に関するものである。
従来の技術 高精度な光学素子を直接プレスして成形するためには、
型材料として高温でも安定で、耐酸化性に優れ、光学素
子材料に対して不活性であり、プレスした時に形状精度
が崩れないように機械的強度の優れたものが必要であ
る。しかし、その反面、加工性に優れ精密加工が容易に
できなくてはならない。
型材料として高温でも安定で、耐酸化性に優れ、光学素
子材料に対して不活性であり、プレスした時に形状精度
が崩れないように機械的強度の優れたものが必要であ
る。しかし、その反面、加工性に優れ精密加工が容易に
できなくてはならない。
以上のような光学素子のプレス成形用型に必要な条件を
ある程度満足する型材料として、特開昭52−45613号公
報に記載のシリコンカーバイド（SiC）、またシリコン
ナイトライド（Si3N4）が用いられている。また、特開
昭59−121126号公報に記載のTiCおよび金属の混合材料
なども型材料として検討されている。
ある程度満足する型材料として、特開昭52−45613号公
報に記載のシリコンカーバイド（SiC）、またシリコン
ナイトライド（Si3N4）が用いられている。また、特開
昭59−121126号公報に記載のTiCおよび金属の混合材料
なども型材料として検討されている。
さらに、最近では特公昭62−28091号公報に記載されて
いるWCを主成分とする超硬合金を母材に用い、該母材上
に白金系合金薄膜をコーティングして構成される光学素
子のプレス成形用金型を用いることによって、光学素子
のプレス成形による量産化が可能となった。
いるWCを主成分とする超硬合金を母材に用い、該母材上
に白金系合金薄膜をコーティングして構成される光学素
子のプレス成形用金型を用いることによって、光学素子
のプレス成形による量産化が可能となった。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、従来の型材料では前記の条件を全て満足
するものは得られていない。
するものは得られていない。
例えば、型材料としてSiCおよびSi3N4を用いた場合で
は、非常に硬く機械的強度が優れているが、加工性に劣
り、精密加工を施すことが困難である。さらには、光学
素子の構成成分である鉛（Pb）アルカリ元素と反応し易
いという欠点を有している。また、TiCおよび金属の混
合材料を用いた場合も光学素子と反応し易く、あまり多
くのプレス回数には耐えられないので、型材料としては
不適当である。
は、非常に硬く機械的強度が優れているが、加工性に劣
り、精密加工を施すことが困難である。さらには、光学
素子の構成成分である鉛（Pb）アルカリ元素と反応し易
いという欠点を有している。また、TiCおよび金属の混
合材料を用いた場合も光学素子と反応し易く、あまり多
くのプレス回数には耐えられないので、型材料としては
不適当である。
超硬合金またはサーメットを母材に用い、該プレス面に
貴金属系合金薄膜をコーティングして構成される光学素
子のプレス成形用金型も母材に用いる超硬合金またはサ
ーメットの精密加工が困難であり、特別な加工装置が必
要である。また、加工時間も長く、金型コストが非常に
高いという問題点があった。
貴金属系合金薄膜をコーティングして構成される光学素
子のプレス成形用金型も母材に用いる超硬合金またはサ
ーメットの精密加工が困難であり、特別な加工装置が必
要である。また、加工時間も長く、金型コストが非常に
高いという問題点があった。
以上のように、従来の型材料では前述の型材料としての
必要条件を全て満足するには至っていない。
必要条件を全て満足するには至っていない。
本発明では上記問題点に鑑み、直接プレス成形法による
光学性能の良い高精度な光学素子の成形を可能にするた
めのプレス成形用型を容易にかつ安価に提供し、さら
に、この金型を用いることによって、融点の高い光学素
子を大量にかつ安価に作製することを目的としている。
光学性能の良い高精度な光学素子の成形を可能にするた
めのプレス成形用型を容易にかつ安価に提供し、さら
に、この金型を用いることによって、融点の高い光学素
子を大量にかつ安価に作製することを目的としている。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するために、本発明では金型強度を大き
くするために母材にはWCを主成分とする超硬合金または
TiN,TiC,Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメット
を用い、該プレス面は光学素子形状の反転形状に荒加工
し、密着性を良くするために第一層として金属、炭化
物、窒化物あるいは酸化物薄膜を蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法あるいはCVD法によって
形成し、精密加工を施すために第二層としてNiあるいは
Ni合金、CuあるいはCu合金、AlあるいはAl合金、Auある
いはAu合金、PtあるいはPt合金を形成し、さらに金型全
体を保護するために第三層としてPt,Pd,Ir,Rh,Os,Ru,R
e,W,Taのうち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金
薄膜をコーティングして構成される金型を作製すること
によって、前述の型材料としての必要条件を満足する金
型を提供し、該金型を用いてプレス成形することによっ
て、光学性能の良い高精度な光学素子を大量にかつ安価
に作製することを可能としたものである。
くするために母材にはWCを主成分とする超硬合金または
TiN,TiC,Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメット
を用い、該プレス面は光学素子形状の反転形状に荒加工
し、密着性を良くするために第一層として金属、炭化
物、窒化物あるいは酸化物薄膜を蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法あるいはCVD法によって
形成し、精密加工を施すために第二層としてNiあるいは
Ni合金、CuあるいはCu合金、AlあるいはAl合金、Auある
いはAu合金、PtあるいはPt合金を形成し、さらに金型全
体を保護するために第三層としてPt,Pd,Ir,Rh,Os,Ru,R
e,W,Taのうち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金
薄膜をコーティングして構成される金型を作製すること
によって、前述の型材料としての必要条件を満足する金
型を提供し、該金型を用いてプレス成形することによっ
て、光学性能の良い高精度な光学素子を大量にかつ安価
に作製することを可能としたものである。
作用 本発明は母材としてWCを主成分とする超硬合金またはTi
N,TiC,Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメットを
用いることによって、金型全体の機械的強度を大きく
し、さらには、容易に荒加工を施すことを可能にし、第
一層の膜として金属，炭化物，窒化物あるいは酸化物薄
膜を蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法あるいはCVD法によって形成することによって、母材
と第二層として用いるNiあるいはNi合金、CuあるいはCu
合金、AlあるいはAl合金、AuあるいはAu合金、Ptあるい
はPt合金薄膜との密着性を著しく向上させ、第二層の膜
としてNiあるいはNi合金、CuあるいはCu合金、Alあるい
はAl合金、AuあるいはAu合金、PtあるいはPt合金薄膜を
用いることによって、容易に精密加工を施すことを可能
にし、第三層の膜としてPt,Pd,Ir,Rh,Os,Ru,Re,W,Taの
うち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金薄膜を用
いることによって、金型の酸化を防ぎ、光学素子との反
応を抑制し、多くのプレス回数に耐えることを可能にし
たものである。
N,TiC,Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメットを
用いることによって、金型全体の機械的強度を大きく
し、さらには、容易に荒加工を施すことを可能にし、第
一層の膜として金属，炭化物，窒化物あるいは酸化物薄
膜を蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法あるいはCVD法によって形成することによって、母材
と第二層として用いるNiあるいはNi合金、CuあるいはCu
合金、AlあるいはAl合金、AuあるいはAu合金、Ptあるい
はPt合金薄膜との密着性を著しく向上させ、第二層の膜
としてNiあるいはNi合金、CuあるいはCu合金、Alあるい
はAl合金、AuあるいはAu合金、PtあるいはPt合金薄膜を
用いることによって、容易に精密加工を施すことを可能
にし、第三層の膜としてPt,Pd,Ir,Rh,Os,Ru,Re,W,Taの
うち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金薄膜を用
いることによって、金型の酸化を防ぎ、光学素子との反
応を抑制し、多くのプレス回数に耐えることを可能にし
たものである。
すなわち、本発明は上記した作製方法によって、前述の
光学素子のプレス成形用金型材料としての必要条件を全
て満足する光学素子のプレス成形用金型を容易にかつ安
価に提供し、さらに、該金型を用いてプレス成形するこ
とによって、光学性能の良い高精度な光学素子を大量に
かつ安価に作製することを可能としたものである。
光学素子のプレス成形用金型材料としての必要条件を全
て満足する光学素子のプレス成形用金型を容易にかつ安
価に提供し、さらに、該金型を用いてプレス成形するこ
とによって、光学性能の良い高精度な光学素子を大量に
かつ安価に作製することを可能としたものである。
実施例 以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら説明す
る。
る。
まず、直径20mm,厚さ6mmのTiNを主成分とするサーメッ
トを曲率半径がそれぞれ46mmおよび200mmの凹面形状の
プレス面を有する上下の型からなる一対の光学素子のプ
レス成形用型に成形し、これらの型のプレス面をダイヤ
モンド砥粒を用いて、光学素子の反転形状に荒加工し
た。
トを曲率半径がそれぞれ46mmおよび200mmの凹面形状の
プレス面を有する上下の型からなる一対の光学素子のプ
レス成形用型に成形し、これらの型のプレス面をダイヤ
モンド砥粒を用いて、光学素子の反転形状に荒加工し
た。
次に、第一層の膜としてニッケル−コバルト（Ni−Co）
合金薄膜を密着性良く成膜するために、母材表面を清浄
にして、スパッタリング法により約１μｍの厚みで均一
に成膜した。
合金薄膜を密着性良く成膜するために、母材表面を清浄
にして、スパッタリング法により約１μｍの厚みで均一
に成膜した。
次に、第二層の膜としてニッケル−リン（Ni−Ｐ）合金
薄膜を無電解鍍金法により約５μｍの厚みで成膜した。
もし、ここで、第一層のNi−Co合金薄膜がなければ、第
二層のNi−Ｐ合金薄膜と母材の密着性があまり良くない
ために、融点の高い光学素子をプレスするとNi−Ｐ合金
薄膜が剥離してしまう。
薄膜を無電解鍍金法により約５μｍの厚みで成膜した。
もし、ここで、第一層のNi−Co合金薄膜がなければ、第
二層のNi−Ｐ合金薄膜と母材の密着性があまり良くない
ために、融点の高い光学素子をプレスするとNi−Ｐ合金
薄膜が剥離してしまう。
また、この時の第二層の膜の表面は荒加工したままの精
度である。そこで、この第二層のNi−Ｐ合金薄膜を研削
加工によって非常に高精度な面に仕上げた。このように
第二層のNi−Ｐ合金薄膜を研削加工することによって、
母材を精密加工するよりも容易に高精度な面が得られる
ようになった。本実施例の型の場合では、母材を精密加
工するよりも、第二層のNi−Ｐ合金薄膜を加工した方が
加工時間は約10分の１に短縮することができた。
度である。そこで、この第二層のNi−Ｐ合金薄膜を研削
加工によって非常に高精度な面に仕上げた。このように
第二層のNi−Ｐ合金薄膜を研削加工することによって、
母材を精密加工するよりも容易に高精度な面が得られる
ようになった。本実施例の型の場合では、母材を精密加
工するよりも、第二層のNi−Ｐ合金薄膜を加工した方が
加工時間は約10分の１に短縮することができた。
以上のようにして、母材に密着性よく、高精度な面を有
するNi−Ｐ合金薄膜をコーティングした金型を作製する
ことができたが、この段階で融点の高い光学素子をプレ
スすると、Ni−Ｐ合金薄膜の剥離は起らないが、薄膜自
体の粒成長を起し、表面粗度が著しく悪化する。従っ
て、融点の高い光学素子をプレスするためには、耐熱性
が良く、光学素子に対して不活性であり、さらに、高強
度で耐久性の良い保護膜の形成が必要となる。
するNi−Ｐ合金薄膜をコーティングした金型を作製する
ことができたが、この段階で融点の高い光学素子をプレ
スすると、Ni−Ｐ合金薄膜の剥離は起らないが、薄膜自
体の粒成長を起し、表面粗度が著しく悪化する。従っ
て、融点の高い光学素子をプレスするためには、耐熱性
が良く、光学素子に対して不活性であり、さらに、高強
度で耐久性の良い保護膜の形成が必要となる。
そこで、続いて第三層の膜としてIr−Ru−Ta合金薄膜を
スパッタリング法により約３μｍの厚みで均一に成膜し
た。この第三層の膜を成膜することによって、初めて融
点の高い光学素子をプレスすることが可能となった。
スパッタリング法により約３μｍの厚みで均一に成膜し
た。この第三層の膜を成膜することによって、初めて融
点の高い光学素子をプレスすることが可能となった。
上記のようにして作製した型の断面図を第１図に示す。
第１図において、11は母材、12はプレス面上にコーティ
ングしたNi−Co合金薄膜、13はNi−Ｐ合金薄膜、14はIr
−Ru−Ta合金薄膜である。
第１図において、11は母材、12はプレス面上にコーティ
ングしたNi−Co合金薄膜、13はNi−Ｐ合金薄膜、14はIr
−Ru−Ta合金薄膜である。
この型を第２図に示したプレス成形機にセットする。第
２図において、21は上型用固定ブロック、22は上型用加
熱ヒーター、23は上型、24は球状ガラス、25は下型、26
は下型用加熱ヒーター、27は下型用固定ブロック、28は
上型用熱電対、29は下型用熱電対、210はプランジャ
ー、211は位置決め用センサー、212はストッパー、213
は覆いである。
２図において、21は上型用固定ブロック、22は上型用加
熱ヒーター、23は上型、24は球状ガラス、25は下型、26
は下型用加熱ヒーター、27は下型用固定ブロック、28は
上型用熱電対、29は下型用熱電対、210はプランジャ
ー、211は位置決め用センサー、212はストッパー、213
は覆いである。
次に、酸化鉛（PbO）70重量％、シリカ（SiO）27重量％
および残りが微量成分からなる半径10mmの球状のガラス
24を上下の型23および25の下型25の上に置き、その上に
上型23を置き、そのまま520℃まで昇温し、窒素雰囲気
で約40kg/cm2のプレス圧によりプレスして２分間保持
し、その後、そのままの状態で上下の型を300℃まで冷
却して、プレス成形されたガラスレンズを取り出して、
ガラス製レンズのプレス成形の工程を完了する。
および残りが微量成分からなる半径10mmの球状のガラス
24を上下の型23および25の下型25の上に置き、その上に
上型23を置き、そのまま520℃まで昇温し、窒素雰囲気
で約40kg/cm2のプレス圧によりプレスして２分間保持
し、その後、そのままの状態で上下の型を300℃まで冷
却して、プレス成形されたガラスレンズを取り出して、
ガラス製レンズのプレス成形の工程を完了する。
以上の工程を繰り返して10000回目のプレス終了時に、
上型23をプレス成形機より取りはずして、プレス面の状
態を光学顕微鏡で観察し、その時のプレス面の表面粗さ
（RMS値、Å）を測定して、型精度を評価した。そのプ
レス試験の結果を第１表に示した。本発明の型では1000
0回プレス後でも、表面粗さ（RMS値）で10.1Åで、プレ
ス前の表面粗さ9.8Åに比べてほとんど変化せず、プレ
スによる表面荒れは全く起っていないことがわかる。ま
た、型形状も変化せず、一組の金型で高精度なガラスレ
ンズを10000個以上作製することが可能であることがわ
かる。
上型23をプレス成形機より取りはずして、プレス面の状
態を光学顕微鏡で観察し、その時のプレス面の表面粗さ
（RMS値、Å）を測定して、型精度を評価した。そのプ
レス試験の結果を第１表に示した。本発明の型では1000
0回プレス後でも、表面粗さ（RMS値）で10.1Åで、プレ
ス前の表面粗さ9.8Åに比べてほとんど変化せず、プレ
スによる表面荒れは全く起っていないことがわかる。ま
た、型形状も変化せず、一組の金型で高精度なガラスレ
ンズを10000個以上作製することが可能であることがわ
かる。
このように、本発明によって高精度なガラス製レンズを
プレス成形により容易に、且つ、大量に作製することが
可能となった。
プレス成形により容易に、且つ、大量に作製することが
可能となった。
比較の為に従来使用されていたSiC焼結体を用いた型に
ついて、同様のプレス実験を行い、プレス面の状態を光
学顕微鏡で観察し、その時のプレス面の表面粗さ（RMS
値、Å）を測定して、型精度を評価した。その結果を第
１表に示した。
ついて、同様のプレス実験を行い、プレス面の状態を光
学顕微鏡で観察し、その時のプレス面の表面粗さ（RMS
値、Å）を測定して、型精度を評価した。その結果を第
１表に示した。
第１表より、この従来の金型では、５回ガラスをプレス
しただけで表面粗さ（RMS値）は501.4Åとなり、プレス
前の表面粗さ9.7Åに比べて著しく表面が荒れているこ
とがわかる。また、型とガラスが反応し、プレス面にガ
ラスが付着し、全く使用することができなくなった。
しただけで表面粗さ（RMS値）は501.4Åとなり、プレス
前の表面粗さ9.7Åに比べて著しく表面が荒れているこ
とがわかる。また、型とガラスが反応し、プレス面にガ
ラスが付着し、全く使用することができなくなった。
以上のように本発明の型、すなわち、TiNを主成分とし
たサーメットを母材とし、該プレス面には第一層の膜と
してNi−Co合金薄膜を、第二層の膜としてNi−Ｐ合金薄
膜を第三層の膜としてIr−Ru−Ta合金薄膜を成膜した金
型を用いることによって、金型コストを著しく低下さ
せ、さらに、高沸点の光学ガラスレンズを大量にかつ安
価にプレス成形することが可能となった。
たサーメットを母材とし、該プレス面には第一層の膜と
してNi−Co合金薄膜を、第二層の膜としてNi−Ｐ合金薄
膜を第三層の膜としてIr−Ru−Ta合金薄膜を成膜した金
型を用いることによって、金型コストを著しく低下さ
せ、さらに、高沸点の光学ガラスレンズを大量にかつ安
価にプレス成形することが可能となった。
なお、本発明を説明するために、実施例においてプレス
成形用型の母材としてTiNを主成分とするサーメットを
用いた型を例に挙げたが、WCを主成分とする超硬合金ま
たはTiC,Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメット
を用いても、同様に機械的強度の良好な金型ができるの
は言うまでもない。
成形用型の母材としてTiNを主成分とするサーメットを
用いた型を例に挙げたが、WCを主成分とする超硬合金ま
たはTiC,Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメット
を用いても、同様に機械的強度の良好な金型ができるの
は言うまでもない。
また、実施例では第一層の膜としてNi−Co合金薄膜を、
第二層の膜としてNi−Ｐ合金薄膜を、第三層の膜として
Ir−Ru−Ta合金薄膜を成膜した金型を用いたが、第一層
の薄膜として他の金属、炭化物、窒化物あるいは酸化物
を用い、第二層の薄膜として、Niあるいは他のNi合金、
CuあるいはCu合金、AlあるいはAl合金、AuあるいはAu合
金、PtあるいはPt合金を用い、第三層の薄膜としてPt,P
d,Ir,Rh,Os,Ru,Re,W,Taのうち、少なくとも一種類以上
の金属を含む合金薄膜を用いれば、同様に金型コストを
著しく低下させ、さらに、高融点の光学ガラスレンズを
大量にかつ安価にプレス成形することが可能となる。
第二層の膜としてNi−Ｐ合金薄膜を、第三層の膜として
Ir−Ru−Ta合金薄膜を成膜した金型を用いたが、第一層
の薄膜として他の金属、炭化物、窒化物あるいは酸化物
を用い、第二層の薄膜として、Niあるいは他のNi合金、
CuあるいはCu合金、AlあるいはAl合金、AuあるいはAu合
金、PtあるいはPt合金を用い、第三層の薄膜としてPt,P
d,Ir,Rh,Os,Ru,Re,W,Taのうち、少なくとも一種類以上
の金属を含む合金薄膜を用いれば、同様に金型コストを
著しく低下させ、さらに、高融点の光学ガラスレンズを
大量にかつ安価にプレス成形することが可能となる。
発明の効果 以上のように、本発明は光学素子のプレス成形用金型を
作製するにあたり、母材としてWCを主成分とする超硬合
金またはTiN,TiC,Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサ
ーメットを用いているので、金型全体の機械的強度が大
きくなり、さらには、容易に荒加工を施すことを可能に
した。
作製するにあたり、母材としてWCを主成分とする超硬合
金またはTiN,TiC,Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサ
ーメットを用いているので、金型全体の機械的強度が大
きくなり、さらには、容易に荒加工を施すことを可能に
した。
そして、第二層の膜としてNiあるいはNi合金、Cuあるい
はCu合金、AlあるいはAl合金、AuあるいはAu合金、Ptあ
るいはPt合金薄膜を用いることによって、精密加工が容
易になり、第一層の膜として金属、炭化物、窒化物ある
いは酸化物薄膜を蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レーティング法あるいはCVD法によって形成することに
よって、母材と第二層として用いるNiあるいはNi合金、
CuあるいはCu合金、AlあるいはAl合金、AlあるいはAu合
金、PtあるいはPt合金薄膜との密着性を著しく向上さ
せ、さらに、第三層の膜としてPt,Pd,Ir,Rh,Os,Ru,Re,
W,Taのうち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金薄
膜を用いることによって、金型の酸化が防止され、光学
素子との反応が抑制され、多くのプレス回数に耐えるこ
とが可能となった。
はCu合金、AlあるいはAl合金、AuあるいはAu合金、Ptあ
るいはPt合金薄膜を用いることによって、精密加工が容
易になり、第一層の膜として金属、炭化物、窒化物ある
いは酸化物薄膜を蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レーティング法あるいはCVD法によって形成することに
よって、母材と第二層として用いるNiあるいはNi合金、
CuあるいはCu合金、AlあるいはAl合金、AlあるいはAu合
金、PtあるいはPt合金薄膜との密着性を著しく向上さ
せ、さらに、第三層の膜としてPt,Pd,Ir,Rh,Os,Ru,Re,
W,Taのうち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金薄
膜を用いることによって、金型の酸化が防止され、光学
素子との反応が抑制され、多くのプレス回数に耐えるこ
とが可能となった。
すなわち、本発明は上記した作製方法によって、光学素
子のプレス成形用金型材料としての必要条件を全て満足
する光学素子のプレス成形用金型を容易にかつ安価に提
供し、さらに、該金型を用いてプレス成形することによ
って、光学性能の良い高精度な光学素子を大量にかつ安
価に作製することを可能としたものである。
子のプレス成形用金型材料としての必要条件を全て満足
する光学素子のプレス成形用金型を容易にかつ安価に提
供し、さらに、該金型を用いてプレス成形することによ
って、光学性能の良い高精度な光学素子を大量にかつ安
価に作製することを可能としたものである。
第１図は本発明の光学ガラス素子のプレス成形用型の一
実施例の型の断面の概略図、第２図は実施例における光
学ガラス素子のプレス成形用型を組み込んだプレス成形
機の概略図である。 11……母材、12……第一層膜（Ni−Co合金）、13……第
二層膜（Ni−Ｐ合金）、14……第三層膜（Ir−Ru−Ta合
金）。
実施例の型の断面の概略図、第２図は実施例における光
学ガラス素子のプレス成形用型を組み込んだプレス成形
機の概略図である。 11……母材、12……第一層膜（Ni−Co合金）、13……第
二層膜（Ni−Ｐ合金）、14……第三層膜（Ir−Ru−Ta合
金）。
Claims (4)
- 【請求項１】母材にはタングステンカーバイド（WC）を
主成分とする超硬合金またはチタンナイトライド（Ti
N）、チタンカーバイド（TiC）、クロムカーバイド（Cr
3C2）あるいはアルミナ（Al2O3）を主成分とするサーメ
ットを用い、該母材のプレス面を荒加工し、該プレス面
上に第一層として、母材と密着性の良好な金属、炭化
物、窒化物あるいは酸化物からなる薄膜を蒸着法、スパ
ッタリング法、イオンプレーティング法あるいは化学蒸
着（CVD）法によって形成し、該第一層の上に第二層と
して、精密加工の容易に施すことのできるニッケル（N
i）あるいはNi合金、銅（Cu）あるいはCu合金、アルミ
ニウム（Al）あるいはAl合金または金（Au）あるいはAu
合金からなる薄膜を形成し、該第二層を精密加工し、該
第二層の上に第三層として、白金（Pt）、パラジウム
（Pd）、イリジウム（Ir）、ロジウム（Rh）、オスミウ
ム（Os）、ルテニウム（Ru）、レニウム（Re）、タング
ステン（Ｗ）、タンタル（Ta）のうち、少なくとも一種
類以上の金属を含む合金薄膜をコーティングして作製す
ることを特徴とする光学素子のプレス成形用金型の作製
方法。 - 【請求項２】母材にはWCを主成分とする超硬合金または
TiN、TiC、Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメッ
トを用い、該母材のプレス面を荒加工し、該プレス面上
に第一層として、母材と密着性の良好な金属、炭化物、
窒化物あるいは酸化物からなる薄膜を蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法あるいはCVD法によ
って形成し、該第一層の上に第二層として、精密加工の
容易に施すことのできるNiあるいはNi合金、Cuあるいは
Cu合金、AlあるいはAl合金またはAuあるいはAu合金から
なる薄膜を形成し、該第二層を精密加工し、該第二層の
上に第三層として、Pt、Pd、Ir、Rh、Os、Ru、Re、Ｗ、
Taのうち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金薄膜
をコーティングして構成される光学素子のプレス成形用
金型を用いてプレス成形することを特徴とする光学素子
の作製方法。 - 【請求項３】母材にはWCを主成分とする超硬合金または
TiN、TiC、Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメッ
トを用い、該母材のプレス面を荒加工し、該プレス面上
に第一層として、母材と密着性の良好な金属、炭化物、
窒化物あるいは酸化物からなる薄膜を蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法あるいはCVD法によ
って形成し、該第一層の上に第二層として、精密加工の
容易に施すことのできるPtあるいはPt合金薄膜を形成
し、該第二層を精密加工し、該第二層の上に第三層とし
て、Pd、Ir、Rh、Os、Ru、Re、Ｗ、Taのうち、少なくと
も一種類以上の金属を含む合金薄膜をコーティングして
作製することを特徴とする光学素子のプレス成形用金型
の作製方法。 - 【請求項４】母材にはWCを主成分とする超硬合金または
TiN、TiC、Cr3C2あるいはAl2O3を主成分とするサーメッ
トを用い、該母材のプレス面を荒加工し、該プレス面上
に第一層として、母材と密着性の良好な金属、炭化物、
窒化物あるいは酸化物からなる薄膜を蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法あるいはCVD法によ
って形成し、該第一層の上に第二層として、精密加工の
容易に施すことのできるPtあるいはPt合金薄膜を形成
し、該第二層を精密加工し、該第二層の上に第三層とし
て、Pd、Ir、Rh、Os、Ru、Re、Ｗ、Taのうち、少なくと
も一種類以上の金属を含む合金薄膜をコーティングして
構成される光学素子のプレス成形用金型を用いてプレス
成形することを特徴とする光学素子の作製方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157788A JPH0725557B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光学素子のプレス成形用金型の作製方法及び光学素子の作製方法 |
| DE1990615018 DE69015018T2 (de) | 1989-06-20 | 1990-06-18 | Pressform zum Pressen optischer Elemente. |
| EP19900306615 EP0404481B1 (en) | 1989-06-20 | 1990-06-18 | Die for press-molding optical element |
| US07/785,756 US5171348A (en) | 1989-06-20 | 1991-10-31 | Die for press-molding optical element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1157788A JPH0725557B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光学素子のプレス成形用金型の作製方法及び光学素子の作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0323230A JPH0323230A (ja) | 1991-01-31 |
| JPH0725557B2 true JPH0725557B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=15657307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1157788A Expired - Fee Related JPH0725557B2 (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 光学素子のプレス成形用金型の作製方法及び光学素子の作製方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0404481B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0725557B2 (ja) |
| DE (1) | DE69015018T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JP3206845B2 (ja) * | 1993-01-07 | 2001-09-10 | 松下電器産業株式会社 | 光学ガラス素子の製造方法およびこれに用いる光学ガラス素子のプレス成形用型 |
| US6003336A (en) * | 1993-07-28 | 1999-12-21 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Method of manufacturing a die for press-molding optical elements |
| EP0636585B1 (en) * | 1993-07-28 | 1998-11-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Die for press-molding optical elements and methods of manufacturing and using the same |
| US5702735A (en) * | 1994-06-10 | 1997-12-30 | Johnson & Johnson Vision Products, Inc. | Molding arrangement to achieve short mold cycle time |
| SG68649A1 (en) * | 1997-02-21 | 1999-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Press-molding die method for manufacturing the same and glass article molded with the same |
| JPH11236229A (ja) | 1997-12-16 | 1999-08-31 | Ngk Insulators Ltd | ガラス素子のプレス成形用金型 |
| JP4959306B2 (ja) * | 2006-02-23 | 2012-06-20 | 東海ゴム工業株式会社 | ガラス成形型 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6228093A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-06 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ溶接用加工ヘツド |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4629487A (en) * | 1984-05-17 | 1986-12-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Molding method for producing optical glass element |
| JPS61136928A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学ガラス素子のプレス成形用型 |
| US4685948A (en) * | 1985-02-08 | 1987-08-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Mold for press-molding glass optical elements and a molding method using the same |
-
1989
- 1989-06-20 JP JP1157788A patent/JPH0725557B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-06-18 DE DE1990615018 patent/DE69015018T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-18 EP EP19900306615 patent/EP0404481B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6228093A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-06 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ溶接用加工ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0404481A1 (en) | 1990-12-27 |
| JPH0323230A (ja) | 1991-01-31 |
| DE69015018T2 (de) | 1995-07-20 |
| DE69015018D1 (de) | 1995-01-26 |
| EP0404481B1 (en) | 1994-12-14 |
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