JPH07234504A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- JPH07234504A JPH07234504A JP2504194A JP2504194A JPH07234504A JP H07234504 A JPH07234504 A JP H07234504A JP 2504194 A JP2504194 A JP 2504194A JP 2504194 A JP2504194 A JP 2504194A JP H07234504 A JPH07234504 A JP H07234504A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 感光性樹脂組成物は、下記一般式(I)で表
わされる構成単位を有する高分子化合物と分子内にカチ
オン基を有する増感剤とを含有する。 【化1】 【効果】 高感度、高解像度で経時安定性が良く、更に
製造も容易であり、例えば、スクリーン印刷版、カラー
ブラウン管のブラックマトリックスや螢光体パターン形
成、CCDやLCDのカラーフィルター、印刷のカラー
プルーフや各種エッチングレジスト等として用いて好適
となる。
わされる構成単位を有する高分子化合物と分子内にカチ
オン基を有する増感剤とを含有する。 【化1】 【効果】 高感度、高解像度で経時安定性が良く、更に
製造も容易であり、例えば、スクリーン印刷版、カラー
ブラウン管のブラックマトリックスや螢光体パターン形
成、CCDやLCDのカラーフィルター、印刷のカラー
プルーフや各種エッチングレジスト等として用いて好適
となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性樹脂組成物に関
し、更に詳しくは高感度で経時安定性が良く、製造も容
易である水溶性の感光性樹脂組成物に関する。
し、更に詳しくは高感度で経時安定性が良く、製造も容
易である水溶性の感光性樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、スクリーン印刷版用、カラー
ブラウン管のブラックマトリックスや蛍光体パターン形
成用あるいはCCDやLCDのカラーフィルター形成用
の水溶性感光性樹脂組成物としては、例えばゼラチン,
カゼイン及びグルーのような天然タンパク質に重クロム
酸塩を加えたものや、ポリ酢酸ビニルケン化物のような
水溶性ポリマーにジアゾニウム塩を組み合わせたものが
用いられてきたが、これらの感光性樹脂組成物は公害へ
の配慮が必要となる、経時安定性が悪いなどの欠点を有
している。
ブラウン管のブラックマトリックスや蛍光体パターン形
成用あるいはCCDやLCDのカラーフィルター形成用
の水溶性感光性樹脂組成物としては、例えばゼラチン,
カゼイン及びグルーのような天然タンパク質に重クロム
酸塩を加えたものや、ポリ酢酸ビニルケン化物のような
水溶性ポリマーにジアゾニウム塩を組み合わせたものが
用いられてきたが、これらの感光性樹脂組成物は公害へ
の配慮が必要となる、経時安定性が悪いなどの欠点を有
している。
【0003】また、ポリビニルピロリドンのような水溶
性ポリマーに水溶性ビスアジド化合物を配合した感光性
樹脂組成物も用いられているが、感度が低いという欠点
を有している。
性ポリマーに水溶性ビスアジド化合物を配合した感光性
樹脂組成物も用いられているが、感度が低いという欠点
を有している。
【0004】この為、高感度な感光性樹脂の開発が進め
られており、例えば、特開平4−26849号,特開平
2−204750号,特開平2−173007号,特開
平2−92905号,特開平1−302348号,特開
平5−197141号及び特開平5−11442号の各
公報などに側鎖にアジド基を含むアジドポリマーが高感
度な感光性樹脂として開示されている。
られており、例えば、特開平4−26849号,特開平
2−204750号,特開平2−173007号,特開
平2−92905号,特開平1−302348号,特開
平5−197141号及び特開平5−11442号の各
公報などに側鎖にアジド基を含むアジドポリマーが高感
度な感光性樹脂として開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】これらのアジドポリマ
ーは高感度であるが、製造が繁雑である、経時安定性が
良くないなどの問題点が残っている。また、高感度で経
時安定性が良好な水溶性感光性樹脂として、特公昭56
−5761号公報に示されるスチリルピリジウム基ペン
ダントポリビニルアルコール(SbQ−PVAと略称す
る)が知られているが、この感光性樹脂は耐水性が悪
く、現像時に膨潤するため充分な解像度が得られないと
いう欠点がある。
ーは高感度であるが、製造が繁雑である、経時安定性が
良くないなどの問題点が残っている。また、高感度で経
時安定性が良好な水溶性感光性樹脂として、特公昭56
−5761号公報に示されるスチリルピリジウム基ペン
ダントポリビニルアルコール(SbQ−PVAと略称す
る)が知られているが、この感光性樹脂は耐水性が悪
く、現像時に膨潤するため充分な解像度が得られないと
いう欠点がある。
【0006】本発明は上記従来の問題点を解決しようと
するものであり、その目的とするところは、高感度、高
解像度で経時安定性が良く、更に製造も容易である水溶
性の感光性樹脂組成物を提供することにある。
するものであり、その目的とするところは、高感度、高
解像度で経時安定性が良く、更に製造も容易である水溶
性の感光性樹脂組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記一般式
(I)で表わされる構成単位を有する高分子化合物と分
子内にカチオン基を有する増感剤とを含有して成る感光
性樹脂組成物がその目的を達成しうることを知見し、こ
れに基づいて本発明を完成するに至った。かかる知見に
基づく本発明の構成は、下記一般式(I)で表わされる
構成単位を有する高分子化合物と分子内にカチオン基を
有する増感剤とを含有することを特徴とする。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記一般式
(I)で表わされる構成単位を有する高分子化合物と分
子内にカチオン基を有する増感剤とを含有して成る感光
性樹脂組成物がその目的を達成しうることを知見し、こ
れに基づいて本発明を完成するに至った。かかる知見に
基づく本発明の構成は、下記一般式(I)で表わされる
構成単位を有する高分子化合物と分子内にカチオン基を
有する増感剤とを含有することを特徴とする。
【化2】
【0008】また、上記記載の感光性樹脂組成物におい
て、前記一般式(I)のnが、0であることを特徴とす
る。
て、前記一般式(I)のnが、0であることを特徴とす
る。
【0009】さらに、上記記載の感光性樹脂組成物にお
いて、前記分子内にカチオン基を有する増感剤のカチオ
ン基が、4級アンモニウム基であることを特徴とする。
いて、前記分子内にカチオン基を有する増感剤のカチオ
ン基が、4級アンモニウム基であることを特徴とする。
【0010】以下、本発明を詳細に説明する。
【0011】本発明の組成物に使用される前記一般式
(I)で表わされる構成単位を有する高分子化合物は、
ポリ酢酸ビニルケン化物あるいはビニルアルコールと他
のビニル化合物との水溶性共重合体に、下記(II)で表
わされるアルデヒドもしくは、
(I)で表わされる構成単位を有する高分子化合物は、
ポリ酢酸ビニルケン化物あるいはビニルアルコールと他
のビニル化合物との水溶性共重合体に、下記(II)で表
わされるアルデヒドもしくは、
【化3】 下記一般式(III)で表わされるアセタールを、酸触媒下
で反応させることにより容易に得られる。
で反応させることにより容易に得られる。
【化4】
【0012】前記の反応に用いられるポリ酢酸ビニルケ
ン化物としては、例えば平均重合度200から5,00
0、ケン化度60〜100%のものが好適に用いられ
る。ここで、平均重合度を200から5,000とした
のは、重合度が200より小さい場合、十分な感度を得
られず、また一方、5,000より大きい場合には感光
性組成物の溶液の粘度が高くなり、塗布性が悪くなる、
これを避けるために組成物溶液の濃度を低くして使用す
ると、所望の塗布膜厚を得るのが困難になり、共に好ま
しくないからである。また、、ケン化度を60〜100
%と規定したのは、ケン化度が60%より低いと十分な
水溶性及び水現像性が得られないためである。前記ポリ
酢酸ビニルケン化物は、例えば親水基変性,親油基変
性,アニオン変性,カチオン変性あるいはアセトアセチ
ル基のような反応性基変性などの変性ポリ酢酸ビニルケ
ン化物も用いることができる。
ン化物としては、例えば平均重合度200から5,00
0、ケン化度60〜100%のものが好適に用いられ
る。ここで、平均重合度を200から5,000とした
のは、重合度が200より小さい場合、十分な感度を得
られず、また一方、5,000より大きい場合には感光
性組成物の溶液の粘度が高くなり、塗布性が悪くなる、
これを避けるために組成物溶液の濃度を低くして使用す
ると、所望の塗布膜厚を得るのが困難になり、共に好ま
しくないからである。また、、ケン化度を60〜100
%と規定したのは、ケン化度が60%より低いと十分な
水溶性及び水現像性が得られないためである。前記ポリ
酢酸ビニルケン化物は、例えば親水基変性,親油基変
性,アニオン変性,カチオン変性あるいはアセトアセチ
ル基のような反応性基変性などの変性ポリ酢酸ビニルケ
ン化物も用いることができる。
【0013】ビニルアルコールと共重合され得るビニル
モノマーとしては、例えばN−ビニルピロリドン,アク
リルアミドなどを挙げることができる。
モノマーとしては、例えばN−ビニルピロリドン,アク
リルアミドなどを挙げることができる。
【0014】このようなポリ酢酸ビニルケン化物類と一
般式(II)又は(III)の化合物とを酸触媒の存在下に反
応させる際には、例えばホルムアルデヒド,アセトアル
デヒド,プロピオンアルデヒド,ブチルアルデヒド,ベ
ンズアルデヒドなどのアルデヒド類もしくはこれらのア
セタール類を同時に反応させることもできる。
般式(II)又は(III)の化合物とを酸触媒の存在下に反
応させる際には、例えばホルムアルデヒド,アセトアル
デヒド,プロピオンアルデヒド,ブチルアルデヒド,ベ
ンズアルデヒドなどのアルデヒド類もしくはこれらのア
セタール類を同時に反応させることもできる。
【0015】ポリ酢酸ビニルケン化物類に対する一般式
(I)又は(II)のアジド化合物の導入率はモノマー単
位あたり0.1 〜5.0 モル%程度が好ましい。ここで、導
入率をモノマー単位あたり0.1 〜5.0 モル%程度とした
のは、0.1モル%より少ない場合は十分な硬化膜を得る
ことが出来ず、また5.0 モル%より多いと、アジドの分
解による窒素ガスの発生が多くなり、感光膜の基板への
接着性が低下するからである。
(I)又は(II)のアジド化合物の導入率はモノマー単
位あたり0.1 〜5.0 モル%程度が好ましい。ここで、導
入率をモノマー単位あたり0.1 〜5.0 モル%程度とした
のは、0.1モル%より少ない場合は十分な硬化膜を得る
ことが出来ず、また5.0 モル%より多いと、アジドの分
解による窒素ガスの発生が多くなり、感光膜の基板への
接着性が低下するからである。
【0016】一般式(II)及び(III)におけるnは、0.
1 又は2であるが、これらをそれぞれ単独でも混合して
用いても良いが、n=0のアルデヒドとアセトアルデヒ
ドの反応混合物をそのまま用いても良い。特に、n=0
のアルデヒドとアセトアルデヒドの反応混合物を用いた
場合は、その製造が容易となる。また、n=1,2のも
のは、n=0のアジド化合物より吸収波長が長波になる
ため、光反応性が更に向上する点で好ましい。
1 又は2であるが、これらをそれぞれ単独でも混合して
用いても良いが、n=0のアルデヒドとアセトアルデヒ
ドの反応混合物をそのまま用いても良い。特に、n=0
のアルデヒドとアセトアルデヒドの反応混合物を用いた
場合は、その製造が容易となる。また、n=1,2のも
のは、n=0のアジド化合物より吸収波長が長波になる
ため、光反応性が更に向上する点で好ましい。
【0017】一般式(I)に於けるXは、カチオン種を
表わすが、例えばLi,Na,K,アンモニウムなどを
挙げることができる。
表わすが、例えばLi,Na,K,アンモニウムなどを
挙げることができる。
【0018】本発明組成物で使用される増感剤は、例え
ばアンモニウム基,フォスホニウム基,スルホニウム基
およびオキソニウム基のようなカチオン基を分子内に少
なくとも1個有する増感剤であるが、製造が容易な点で
アンモニウム基が好ましい。このような増感剤の好適な
具体例(S−1〜S−25)を、以下に挙げる。
ばアンモニウム基,フォスホニウム基,スルホニウム基
およびオキソニウム基のようなカチオン基を分子内に少
なくとも1個有する増感剤であるが、製造が容易な点で
アンモニウム基が好ましい。このような増感剤の好適な
具体例(S−1〜S−25)を、以下に挙げる。
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】
【化8】
【0023】
【化9】
【0024】
【化10】
【0025】
【化11】
【0026】本発明組成物において、一般式(I)で表
わされる構成単位に対する分子内にカチオン基を有する
増感剤の配合割合は、10〜90モル%位が好適であ
る。これは、10モル%未満であると、多少の増感効果
は得られるが、アジド基の光反応速度が遅く、導入した
アジド基の性能が十分に発揮されない点で好ましくな
く、また90モル%を超えると、水現像性が低下した
り、基板との接着性が低下したりする点で好ましくない
からである。又、90モル%位以上添加しても、更なる
増感効果も得られないからである。
わされる構成単位に対する分子内にカチオン基を有する
増感剤の配合割合は、10〜90モル%位が好適であ
る。これは、10モル%未満であると、多少の増感効果
は得られるが、アジド基の光反応速度が遅く、導入した
アジド基の性能が十分に発揮されない点で好ましくな
く、また90モル%を超えると、水現像性が低下した
り、基板との接着性が低下したりする点で好ましくない
からである。又、90モル%位以上添加しても、更なる
増感効果も得られないからである。
【0027】本発明の組成物には上述の高分子化合物以
外の高分子化合物、特にピロリドンやアミド構造のよう
なアジド基と光反応を起こしやすい基を含む高分子化合
を配合することにより、更に感度を高めることもでき
る。この高分子化合物の一例としては、例えばポリビニ
ルピロリドン、ダイアセトンアクリルアミドとアクリル
アミドとの共重合体、ポリアクリルアミド等を挙げるこ
とが出来る。
外の高分子化合物、特にピロリドンやアミド構造のよう
なアジド基と光反応を起こしやすい基を含む高分子化合
を配合することにより、更に感度を高めることもでき
る。この高分子化合物の一例としては、例えばポリビニ
ルピロリドン、ダイアセトンアクリルアミドとアクリル
アミドとの共重合体、ポリアクリルアミド等を挙げるこ
とが出来る。
【0028】また、本発明の組成物には、塗膜の強度、
耐水性などの性質の改良するために高分子エマルジョン
を混合することができる。このような高分子エマルジョ
ンとしては、例えば、ポリ酢酸ビニルエマルジョン,酢
酸ビニル−エチレン共重合体エマルジョン,酢酸ビニル
−アクリル酸エステル共重合体エマルジョン,ポリスチ
レンエマルジョン,エチレン−ブタジエン共重合体エマ
ルジョン,スチレン−アクリル酸エステル共重合体エマ
ルジョン,アセトニトリル−ブタジエン共重合体エマル
ジョン,クロロプレン重合体エマルジョン,ポリ塩化ビ
ニルエマルジョン,シリコーン樹脂エマルジョン,ポリ
ウレタンエマルジョン等を挙げることができる。
耐水性などの性質の改良するために高分子エマルジョン
を混合することができる。このような高分子エマルジョ
ンとしては、例えば、ポリ酢酸ビニルエマルジョン,酢
酸ビニル−エチレン共重合体エマルジョン,酢酸ビニル
−アクリル酸エステル共重合体エマルジョン,ポリスチ
レンエマルジョン,エチレン−ブタジエン共重合体エマ
ルジョン,スチレン−アクリル酸エステル共重合体エマ
ルジョン,アセトニトリル−ブタジエン共重合体エマル
ジョン,クロロプレン重合体エマルジョン,ポリ塩化ビ
ニルエマルジョン,シリコーン樹脂エマルジョン,ポリ
ウレタンエマルジョン等を挙げることができる。
【0029】本発明の組成物には、その他必要に応じ、
塗布性や現像性を改良する界面活性剤、接着性を改善す
る接着助剤、ハレーションを防止する染料や顔料、さら
に保存安定剤,消泡剤等も適宜配合することができる。
塗布性や現像性を改良する界面活性剤、接着性を改善す
る接着助剤、ハレーションを防止する染料や顔料、さら
に保存安定剤,消泡剤等も適宜配合することができる。
【0030】本発明の組成物は、前述した側鎖にアジド
基を有する高分子化合物および分子内にカチオン基を有
する増感剤ならびに必要に応じた各種の配合剤を、水を
主体とする溶剤に溶解あるいは分散させることにより調
製することができる。
基を有する高分子化合物および分子内にカチオン基を有
する増感剤ならびに必要に応じた各種の配合剤を、水を
主体とする溶剤に溶解あるいは分散させることにより調
製することができる。
【0031】この際用いられる溶剤としては、一般には
水が用いられるが、これに50重量%以下の割合で水に
可溶な溶剤、例えば、メチルアルコール,エチルアルコ
ール,イソプロピルアルコール,アセトン,テトラヒド
ロフラン,ジオキサン,ジメチルホルムアミド、N−メ
チルピロリジノンなどの水可溶性剤、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル等を加えることができる。
水が用いられるが、これに50重量%以下の割合で水に
可溶な溶剤、例えば、メチルアルコール,エチルアルコ
ール,イソプロピルアルコール,アセトン,テトラヒド
ロフラン,ジオキサン,ジメチルホルムアミド、N−メ
チルピロリジノンなどの水可溶性剤、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル等を加えることができる。
【0032】上述のようにして得られた本発明の感光性
樹脂組成物は、用途に応じて、アルミニウムやステンレ
ス等の金属板、スクリーンメッシュ、紙、ガラス板、半
導体基板、その他任意の基材上に、例えば0.5〜10
00μmの乾燥厚さとなるように塗布し、乾燥して使用
される。
樹脂組成物は、用途に応じて、アルミニウムやステンレ
ス等の金属板、スクリーンメッシュ、紙、ガラス板、半
導体基板、その他任意の基材上に、例えば0.5〜10
00μmの乾燥厚さとなるように塗布し、乾燥して使用
される。
【0033】これらの塗膜には、紫外線、例えば波長3
00〜500nmのような活性光線を照射して照射部を硬
化させた後、非照射部を水等により除去すれば、パター
ン画像が得られて、例えば、スクリーン印刷版、カラー
ブラウン管のブラックマトリックスや螢光体パターン形
成、CCDやLCDのカラーフィルター、印刷のカラー
プルーフや各種エッチングレジスト等として利用でき
る。
00〜500nmのような活性光線を照射して照射部を硬
化させた後、非照射部を水等により除去すれば、パター
ン画像が得られて、例えば、スクリーン印刷版、カラー
ブラウン管のブラックマトリックスや螢光体パターン形
成、CCDやLCDのカラーフィルター、印刷のカラー
プルーフや各種エッチングレジスト等として利用でき
る。
【0034】
【実施例】次に実施例により、本発明の内容を更に詳細
に説明する。
に説明する。
【0035】(合成例) 合成例1〈アジド基を含有する高分子化合物P−1〉 ポリビニルアルコール(GH−17:日本合成化学工業
製)50gを水200mlに溶解した。p−アジドベン
ズアルデヒド−o−スルホン酸の2.4%水溶液を17
0g加え、50℃で10時間反応させた。反応後冷却さ
せ、5%NaOH水溶液19.5g添加し、中和処理を
してアセタール化を完了し、高分子化合物P−1の水溶
液を得た。上記水溶液をアセトン再沈し、UV吸収より
ポリビニルアルコールへのp−アジドベンズアルデヒド
−o−スルホン酸ナトリウムの導入率を測定したとこ
ろ、1.6モル%であった。
製)50gを水200mlに溶解した。p−アジドベン
ズアルデヒド−o−スルホン酸の2.4%水溶液を17
0g加え、50℃で10時間反応させた。反応後冷却さ
せ、5%NaOH水溶液19.5g添加し、中和処理を
してアセタール化を完了し、高分子化合物P−1の水溶
液を得た。上記水溶液をアセトン再沈し、UV吸収より
ポリビニルアルコールへのp−アジドベンズアルデヒド
−o−スルホン酸ナトリウムの導入率を測定したとこ
ろ、1.6モル%であった。
【0036】合成例2〈アジド基を含有する高分子化合
物P−2〉 ポリビニルアルコール(EG−30:日本合成化学工業
製)50gを水200mlに溶解した。p−アジドベン
ズアルデヒド−o−スルホン酸ナトリウム1.03gと
p−アジドベンズアルデヒド−o−スルホン酸の2.4
%水溶液を170g加え、30℃で24時間反応させ
た。反応後冷却させ、5%NaOH水溶液19.5g添
加し、中和処理をしてアセタール化を完了し、高分子化
合物P−2の水溶液を得た。上記水溶液をアセトン再沈
し、UV吸収よりポリビニルアルコールへのp−アジド
ベンズアルデヒド−o−スルホン酸ナトリウムの導入率
を測定したところ、2.0モル%であった。
物P−2〉 ポリビニルアルコール(EG−30:日本合成化学工業
製)50gを水200mlに溶解した。p−アジドベン
ズアルデヒド−o−スルホン酸ナトリウム1.03gと
p−アジドベンズアルデヒド−o−スルホン酸の2.4
%水溶液を170g加え、30℃で24時間反応させ
た。反応後冷却させ、5%NaOH水溶液19.5g添
加し、中和処理をしてアセタール化を完了し、高分子化
合物P−2の水溶液を得た。上記水溶液をアセトン再沈
し、UV吸収よりポリビニルアルコールへのp−アジド
ベンズアルデヒド−o−スルホン酸ナトリウムの導入率
を測定したところ、2.0モル%であった。
【0037】合成例3〈アジド基を含有する高分子化合
物P−3〉 p−アジドベンズアルデヒド−o−スルホン酸ナトリウ
ム10g(0.046モル)とアセトアルデヒド10.
14g(0.23モル)を水160mlに溶解した。こ
れを2〜3℃まで冷却してから、10%水酸化ナトリウ
ム水溶液9.2gを加え、2〜3℃で4時間、更に60
℃で1時間半攪拌し反応させた。得られた反応混合物に
食塩を加え塩析させた後、イソプロピルアルコール/水
から精製してオレンジ色の結晶を得た。この結晶を高速
液体クロマトグラフィーで分析したところ、p−アジド
アルデヒド−o−スルホン酸ナトリウム(一般式(II)
に於いて、n=0,X=Naである。)38.5%,p
−アジドシンナムアルデヒド−o−スルホン酸ナトリウ
ム(一般式(II)においてn=1,X=Naである。)
34.2%、及び一般式(II)に於いて、n=2以上
(X=Na)のアルデ0ド15.6%の混合物であるこ
とが示された。ポリビニルアルコール(EG−30:日
本合成化学工業製)50gを水200mlに溶解し、こ
れに上記のオレンジ色の結晶4.3g及びリン酸1.5
gを加え、40℃で15時間反応させた。反応混合物を
イオン交換樹脂で処理することにより、リン酸触媒を除
去し、アジド基を含有する高分子化合物P−3の水溶液
を作成した。
物P−3〉 p−アジドベンズアルデヒド−o−スルホン酸ナトリウ
ム10g(0.046モル)とアセトアルデヒド10.
14g(0.23モル)を水160mlに溶解した。こ
れを2〜3℃まで冷却してから、10%水酸化ナトリウ
ム水溶液9.2gを加え、2〜3℃で4時間、更に60
℃で1時間半攪拌し反応させた。得られた反応混合物に
食塩を加え塩析させた後、イソプロピルアルコール/水
から精製してオレンジ色の結晶を得た。この結晶を高速
液体クロマトグラフィーで分析したところ、p−アジド
アルデヒド−o−スルホン酸ナトリウム(一般式(II)
に於いて、n=0,X=Naである。)38.5%,p
−アジドシンナムアルデヒド−o−スルホン酸ナトリウ
ム(一般式(II)においてn=1,X=Naである。)
34.2%、及び一般式(II)に於いて、n=2以上
(X=Na)のアルデ0ド15.6%の混合物であるこ
とが示された。ポリビニルアルコール(EG−30:日
本合成化学工業製)50gを水200mlに溶解し、こ
れに上記のオレンジ色の結晶4.3g及びリン酸1.5
gを加え、40℃で15時間反応させた。反応混合物を
イオン交換樹脂で処理することにより、リン酸触媒を除
去し、アジド基を含有する高分子化合物P−3の水溶液
を作成した。
【0038】合成例4〈アジド基を含有する高分子化合
物P−4〉 合成例2のEG−30をアクリルアミド変性ポリビニル
アルコール(EP−240:電気化学工業製)に変更し
た以外は合成例2と全く同様に操作して、アジド基を含
有する高分子化合物P−4の水溶液を得た。
物P−4〉 合成例2のEG−30をアクリルアミド変性ポリビニル
アルコール(EP−240:電気化学工業製)に変更し
た以外は合成例2と全く同様に操作して、アジド基を含
有する高分子化合物P−4の水溶液を得た。
【0039】合成例5〈アジド基を含有する高分子化合
物P−5〉 ポリビニルアルコール(GH−17:日本合成化学工業
製)50gを水200mlに溶解した。p−アジドベン
ズラルデヒド−o−スルホン酸ナトリウムの2.4%水
溶液170g及びクロトンアルデヒド3.6gを加え、
30℃で24時間反応させた。反応後冷却させ、5%水
酸化ナトリウム水溶液19.5gで中和させることによ
り、アジド基を含有する高分子化合物P−5の水溶液を
得た。
物P−5〉 ポリビニルアルコール(GH−17:日本合成化学工業
製)50gを水200mlに溶解した。p−アジドベン
ズラルデヒド−o−スルホン酸ナトリウムの2.4%水
溶液170g及びクロトンアルデヒド3.6gを加え、
30℃で24時間反応させた。反応後冷却させ、5%水
酸化ナトリウム水溶液19.5gで中和させることによ
り、アジド基を含有する高分子化合物P−5の水溶液を
得た。
【0040】〔実施例1〜20〕次に上記合成例1〜5
で得られた高分子化合物を用いて、実施例1〜20及び
比較例1〜3を実施した。
で得られた高分子化合物を用いて、実施例1〜20及び
比較例1〜3を実施した。
【0041】感度 合成例1〜5で得られたアジド基を含む高分子化合物P
−1〜P−4の水溶液10g、表に示すカチオン基を有
する増感剤及び水7gを混合、溶解及びろ過し感光性組
成物を調製した。これらの組成物をガラス基板上にスピ
ンコートで塗布して、70℃で20分間乾燥することに
より、1.2μmの膜厚の感光層を形成した。照度5.
0mW/cm2 (オーク製作所製紫外線照度計UV−M
01でUV35センサーを使用して測定)の超高圧水銀
灯の光のもとに、富士ステップガイドを通して露光し
た。露光後1分間水洗現像し、1%メチレンブルーによ
り硬化膜を染色し、硬化ステップ段数により感度を評価
した。この結果を、「表1」に示す。
−1〜P−4の水溶液10g、表に示すカチオン基を有
する増感剤及び水7gを混合、溶解及びろ過し感光性組
成物を調製した。これらの組成物をガラス基板上にスピ
ンコートで塗布して、70℃で20分間乾燥することに
より、1.2μmの膜厚の感光層を形成した。照度5.
0mW/cm2 (オーク製作所製紫外線照度計UV−M
01でUV35センサーを使用して測定)の超高圧水銀
灯の光のもとに、富士ステップガイドを通して露光し
た。露光後1分間水洗現像し、1%メチレンブルーによ
り硬化膜を染色し、硬化ステップ段数により感度を評価
した。この結果を、「表1」に示す。
【0042】
【表1】 この表1の結果から判る様に、本発明の実施例1〜21
に係る感光性組成物はいずれも比較例1〜3の増感剤を
加えないものにくらべて高感度であることが、判明し
た。
に係る感光性組成物はいずれも比較例1〜3の増感剤を
加えないものにくらべて高感度であることが、判明し
た。
【0043】解像度 実施例1の組成物とSbQ−PVA(SPP−H−1
3:東洋合成工業製)を前述と同様にしてガラス基板上
に塗布、乾燥し、1.2μmの膜厚の感光層を形成し
た。この感光層に50μm中のパターンのクロムマスク
を密着させ露光し、水現像した。得られた50μm中の
パターンをノマルスキー微分干渉顕微鏡で観察したとこ
ろ、SbQ−PVAではパターン表面にしわが観察され
たが、実施例1の組成物ではパターン表面はきれいであ
った。また感光層とクロムマスクの間に0.15mmのギ
ャップを設けて露光し、同様に観察したところ、実施例
1の組成物ではきれいなパターンが得られたが、SbQ
−PVAでは多数のフリンジが観察された。
3:東洋合成工業製)を前述と同様にしてガラス基板上
に塗布、乾燥し、1.2μmの膜厚の感光層を形成し
た。この感光層に50μm中のパターンのクロムマスク
を密着させ露光し、水現像した。得られた50μm中の
パターンをノマルスキー微分干渉顕微鏡で観察したとこ
ろ、SbQ−PVAではパターン表面にしわが観察され
たが、実施例1の組成物ではパターン表面はきれいであ
った。また感光層とクロムマスクの間に0.15mmのギ
ャップを設けて露光し、同様に観察したところ、実施例
1の組成物ではきれいなパターンが得られたが、SbQ
−PVAでは多数のフリンジが観察された。
【0044】〔実施例21〜32〕次に上記合成例1で
得られた高分子化合物を用いて、実施例21〜32を実
施した。感度 合成例1で得られたアジド基を含む高分子化合物P−1
の水溶液10gと、表2に示す増感剤及び水7gを混
合、溶解及びろ過し、感光製組成物を調製し、上述の実
施例と全く同様に操作して、感度を評価した。この結果
を、「表2」に示す。
得られた高分子化合物を用いて、実施例21〜32を実
施した。感度 合成例1で得られたアジド基を含む高分子化合物P−1
の水溶液10gと、表2に示す増感剤及び水7gを混
合、溶解及びろ過し、感光製組成物を調製し、上述の実
施例と全く同様に操作して、感度を評価した。この結果
を、「表2」に示す。
【0045】
【表2】
【0046】この表2の結果から、本発明の実施例21
から32に係る感光性樹脂組成物は、何れも比較例1の
増感剤を加えないものに較べて、高感度であることが実
証された。
から32に係る感光性樹脂組成物は、何れも比較例1の
増感剤を加えないものに較べて、高感度であることが実
証された。
【0047】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の感光性樹
脂組成物は高感度、高解像度で経時安定性が良く、更に
製造も容易であり、例えば、スクリーン印刷版、カラー
ブラウン管のブラックマトリックスや螢光体パターン形
成、CCDやLCDのカラーフィルター、印刷のカラー
プルーフや各種エッチングレジスト等として用いて好適
である。
脂組成物は高感度、高解像度で経時安定性が良く、更に
製造も容易であり、例えば、スクリーン印刷版、カラー
ブラウン管のブラックマトリックスや螢光体パターン形
成、CCDやLCDのカラーフィルター、印刷のカラー
プルーフや各種エッチングレジスト等として用いて好適
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菊地 英夫 千葉県船橋市米ケ崎町563番地 東洋合成 工業株式会社感光材研究所内
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表わされる構成単位
を有する高分子化合物と分子内にカチオン基を有する増
感剤とを含有することを特徴とする感光性組成物。 【化1】 - 【請求項2】 請求項1記載の感光性樹脂組成物におい
て、前記一般式(I)のnが、0であることを特徴とす
る感光性樹脂組成物。 - 【請求項3】 請求項1記載の感光性樹脂組成物におい
て、前記分子内にカチオン基を有する増感剤のカチオン
基が、4級アンモニウム基であることを特徴とする感光
性樹脂組成物。
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---|---|---|---|
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02504194A JP3428715B2 (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 感光性樹脂組成物 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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JP3428715B2 JP3428715B2 (ja) | 2003-07-22 |
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ID=12154836
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---|---|---|---|
JP02504194A Expired - Fee Related JP3428715B2 (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 感光性樹脂組成物 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3428715B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2017098299A (ja) * | 2015-11-18 | 2017-06-01 | 日本酢ビ・ポバール株式会社 | 半導体レーザーダイシング用保護剤及びそれを用いた半導体の製造方法 |
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-
1994
- 1994-02-23 JP JP02504194A patent/JP3428715B2/ja not_active Expired - Fee Related
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EP1837704A3 (en) * | 2006-03-23 | 2008-07-09 | FUJIFILM Corporation | Resist composition and pattern forming method using the same |
US7691560B2 (en) | 2006-03-23 | 2010-04-06 | Fujifilm Corporation | Resist composition and pattern forming method using the same |
JP2017098299A (ja) * | 2015-11-18 | 2017-06-01 | 日本酢ビ・ポバール株式会社 | 半導体レーザーダイシング用保護剤及びそれを用いた半導体の製造方法 |
JP2017098298A (ja) * | 2015-11-18 | 2017-06-01 | 日本酢ビ・ポバール株式会社 | 半導体レーザーダイシング用保護剤及びそれを用いた半導体の製造方法 |
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