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JPH07192375A - コーティング装置に間欠的かつ自動的にロード及びアンロードする装置と方法 - Google Patents

コーティング装置に間欠的かつ自動的にロード及びアンロードする装置と方法

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Publication number
JPH07192375A
JPH07192375A JP6286914A JP28691494A JPH07192375A JP H07192375 A JPH07192375 A JP H07192375A JP 6286914 A JP6286914 A JP 6286914A JP 28691494 A JP28691494 A JP 28691494A JP H07192375 A JPH07192375 A JP H07192375A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
station
magazine
arm
substrate
unload
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6286914A
Other languages
English (en)
Inventor
Stefan Kempf
ケンプフ シュテファン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold AG filed Critical Leybold AG
Publication of JPH07192375A publication Critical patent/JPH07192375A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00—Material or article handling
    • Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/139—Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S414/00—Material or article handling
    • Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Specific Conveyance Elements (AREA)
  • Automatic Disk Changers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 マガジン２と引き渡し装置３とが設けられ、
マガジンが定置の回転軸線を中心として間欠的に回転可
能な回転皿と、回転皿上に等間隔で円形に配置された多
数の保持心棒とを備え、保持心棒に複数のサブストレー
トが載着でき、マガジンのために定置のロードステーシ
ョンとアンロードステーションとが設けられ、引き渡し
装置が、定置の回転軸線を中心として間欠的に回転可能
な第２の回転皿１２を備え、この回転皿がサブストレー
トを受容する少なくとも３つのステーションを備え、か
つこれらのステーションと協働する少なくとも３つの搬
送アーム１９，２０，２１が設けられ、これら搬送アー
ムを制御しかつロードすべき保持心棒を決定する制御装
置が設けられている。 【効果】 スペース要求がわずかであり、種々異なるサ
ブストレートを明確に分離して処理することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は特にデータ貯蔵技術のた
めのディスク状のサブストレートを間欠的かつ自動的に
コーティング装置にロード及びアンロードする装置と方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この装置は主として第１の回転皿を備え
たマガジンから成り、この回転皿上にサブストレートを
受容するための多数の保持心棒が配置されている。
【０００３】コーティングすべきサブストレートは引き
渡し装置により個々に真空室のコーティングゾーン内に
供給され、コーティング終了後再び引き渡し装置により
マガジンの保持心棒上に戻される。
【０００４】この種の装置の作動形式は、個々の作業ス
テップ間に供給及び排出過程のための休止状態があり、
他面においてコーティング過程が定常的に行われるた
め、準連続的ということができる。
【０００５】例えばメリーゴーランドの原理に基づいて
行われるサブストレートのコーティングのための装置が
公知である（ＥＰ ０ ３１２ ６９４号特許明細
書）。この場合、真空室内に回転可能なサブストレート
保持体が配置され、このサブストレート保持体上に複数
のサブストレート受容部が設けられている。適当数のサ
ブストレートが駆動装置により間欠的にスルースステー
ションから少なくとも１つのコーティングステーション
を経てスルースステーションへ円軌道上を搬送される。
この真空室は回転可能なサブストレート保持体の周方向
で２つのスルースステーションと２つのコーティングス
テーションとをそれぞれ互いに前後して備えている。駆
動装置の間欠運動のステップ幅と、コーティングステー
ションに対応して配置されたスルースステーションに対
する、サブストレート保持体の回転軸線に関連した各コ
ーティングステーションの角度位置とは、同一のコーテ
ィングステーションが間欠運動を介してそれぞれ所定の
サブストレート受容部及びそのスルースステーションに
対応して位置するように選択されている。
【０００６】この種の装置の運転時には、いわゆるロー
ドステーションが重要であり、このロードステーション
によりこの種の装置の自動的なロード及びアンロードが
可能となる。この種のロードステーションはそれに付属
するマガジンに関連して比較的不経済であり、かつその
作業周期は、例えばコンパクトディスク（以下ＣＤと略
称）を製作するためのコーティング装置の経済的な運転
にとって極めて重要である。
【０００７】それゆえ、公知技術ではサブストレートマ
ガジンが２つの回転皿を備えるようなロード及びアンロ
ード装置が公知であるが、この構成では大きなスペース
要求が必要である。
【０００８】さらに、この公知装置では、引き渡し装置
の搬送アームが１つのサブストレートを１つのマガジン
から受け取ってコーティング装置へ引き渡し、それと同
時に第２の搬送アームが１つのサブストレートをコーテ
ィング装置から他のマガジンへ戻すという問題が生じ
る。その場合、これら両方の搬送アームはマガジンのそ
れぞれ２つのステーション、要するに１つのロードステ
ーションと、１つのアンロードステーションだけを操作
する。ロードステーションに位置している保持心棒から
すべてのサブストレートが取り出されてしまうと、ただ
ちに回転皿が通常通り１ステーションだけ回転され、そ
の結果アンロードされた保持心棒が手により取り出さ
れ、他の回転皿のアンロードステーション上に載着され
る。続いて、この保持心棒に、コーティング装置から戻
されたサブストレートが再びロードされる。
【０００９】同一のコーティング装置によりＣＤ自体だ
けでなく例えばその音楽タイトルも処理されるので、１
つのタイトルＡから別のタイトルＢへの交換時に強制的
に機械の空運転が生じる。タイトルＡを備えた最後のＣ
Ｄがマガジンの回転皿から取り出されると、ただちに通
常ではコーティング装置がまず「空運転」され、他の場
合にはコーティング装置からマガジンへ戻された、種々
のタイトルを備えたＣＤが同一の保持心棒に載着されて
しまう。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記欠点を回避するた
めの本発明の課題は、一面においては、コーティングす
べきサブストレートの高い装填量が長い機械作動時間に
わたり人員の干渉なしに保証されるとともに、他面にお
いて装置全体のスペース要求が可能な限りわずかであ
り、さらに、例えば種々異なるＣＤタイトルの連続処理
を可能ならしめるのみならず、特に投資コストが著しく
増大しないように、冒頭に記載した装置を改良すること
にある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の構成によれば、特にデータ貯蔵技術のためのディス
ク状のサブストレートをコーティング装置に間欠的かつ
自動的にロード及びアンロードするための装置であっ
て、主として定置の回転軸線を中心として間欠的に回転
可能な第１の回転皿と、この回転皿上に等間隔で円形に
配置された多数の保持心棒とを備えたマガジンが設けら
れており、各保持心棒に複数のサブストレートがスタッ
ク可能であり、かつマガジンのために定置のロードステ
ーションとアンロードステーションとが設けられてお
り、それぞれ２つの隣合うステーションの間隔が、それ
ぞれ２つの隣合う保持心棒の間隔に対応しており、定置
の回転軸線を中心として間欠的に回転可能な第２の回転
皿と、それぞれ１つのサブストレートを受容する少なく
とも３つのステーション、即ちロードステーション、引
き渡しステーション及びアンロードステーションとを備
えた引き渡し装置が設けられており、３つのステーショ
ンが少なくとも３つの搬送アーム即ちロードアーム、引
き渡しアーム及びアンロードアームを備えており、これ
らの３つのアームが第２の回転皿のそれぞれ１つのステ
ーションと協働しており、ロードアームが、マガジンの
ロードステーションに位置している保持心棒からそれぞ
れ１つのサブストレートを受け取り、このサブストレー
トを引き渡し装置のロードステーションにもたらし、そ
れと同時にアンロードアームが引き渡し装置のアンロー
ドステーションからサブストレートを受け取り、マガジ
ンの両方のアンロードステーションに位置している２つ
の可能な保持心棒のうちのいずれか一方の保持心棒へこ
のサブストレートを戻すようになっており、特にセンサ
と、計数器と、アンロードアームを駆動する調整モータ
とから成る制御装置が設けられており、マガジンのロー
ドすべき保持心棒がこの制御装置により予め規定可能で
あるようになっている。
【００１２】
【発明の効果】本発明の利点は２つの回転皿から成る１
つのマガジンを有する従来装置に比してスペース要求が
著しくわずかであることにある。しかし、さらに本発明
の利点とするところは、種々異なるサブストレート、例
えばタイトルＡ及びＢを備えたＣＤを装置にロードする
ことができ、かつこのサブストレートが、機械の空運転
を要することなく連続的にコーティング装置により処理
されて再びマガジンへもどされると共に、空の保持心棒
が自動的にロードステーションからアンロードステーシ
ョンへ搬送されることにある。
【００１３】その他の詳細及び特徴が請求項２以下に記
載されている。
【００１４】
【実施例】本発明は種々の実施例で実施可能であり、そ
の１つを図面に即して以下に詳しく説明する。
【００１５】本発明に基づく装置（図１）は３つの主要
な構成群、即ちコーテイング装置１、マガジン２及び引
き渡し装置３に分割可能である。マガジン２は円板状の
回転皿４から成り、この回転皿は回転軸線８を中心とし
て矢印５で示す回転方向に運動可能である。この回転皿
４上には複数の保持心棒６，６′，．．．が設けられて
いる。この保持心棒は互いに等間隔で円形を成して配置
されている。この保持心棒６，６′，．．．の軸線は回
転皿４の表面に垂直に向けられている。処理すべきディ
スク状のサブストレート７，７′，．．．は中央穴を備
えており、これによリ、群ごとにそれぞれ複数のサブス
トレートが保持心棒６，６′，．．．上にスタックされ
る。
【００１６】マガジン２が引き渡し装置３に最も近くで
対向している箇所に、マガジン２のために定置のステー
ションが向けられている。このステーションとはロード
ステーション９、第１のアンロードステーション１０及
び第２のアンロードステーション１１である。２つの隣
合うステーションの間隔は隣合う保持心棒６，
６′，．．．の間隔に対応している。回転皿４の間欠的
な回転運動により、各保持心棒６，６′，．．は３つの
定置のステーションを越えて運動可能である。
【００１７】引き渡し装置３は主として回転皿１２から
成り、この回転皿１２は回転軸線１３を中心として矢印
１４で示す回転方向に回転させられる。この回転皿１２
上にはマガジン２の回転皿４と違って３つの等間隔の凹
設部が設けられており、これらの凹設部は回転皿１２と
一緒に回転軸線１３を中心として運動する。これらの凹
設部はロードステーション１５、引き渡しステーション
１６及びアンロードステーション１７を形成している。
ここにロード、アンロードという概念はそれぞれコーテ
イング装置１に関連している。
【００１８】マガジン２からコーテイング装置１への、
又はその逆へのサブストレート７，７′，．．．の通過
経路は次ぎの通りである。即ち、サブストレートは搬送
アーム１９によりマガジン２のロードステーション９か
ら取り出されて、引き渡し装置３へ搬送され、この場所
でロードステーション１５上に載着される。回転皿１２
の回転によりサブストレート１８が引き渡しステーショ
ン１６へさらに搬送される。その場所から搬送アーム２
０がサブストレート１８′を受け取ってコーテイング装
置１へ載着する。次いで、図面簡単のため図示されてい
ないがコーテイング装置１の内部の複数のステーション
を経てサブストレート２８がさらに搬送される。次い
で、コーテイングされたサブストレートは再び搬送アー
ム２０によって受け取られて引き渡しステーション１６
へ戻される。矢印１４で示す回転方向で回転皿１２が間
欠的に回転することにより、サブストレートは引き渡し
装置３のアンロードステーション１７へ搬送される。こ
の場所で、アンロードアーム２１がサブストレート１
８″を引き渡し、次いでマガジン２のアンロードステー
ション１０若しくは１１に位置している両方の保持心棒
のいずれかに載着する。マガジン２のアンロードはロー
ドとまったく同様に、別の装置又は作業員により実施さ
れる。
【００１９】ロードアーム１９はその一端で旋回軸２２
を中心として回転可能に支承されており、かつ円弧状に
二重矢印２５で示す範囲内で旋回運動を行う。引き渡し
アーム２０はその中間部で旋回軸２３に支承されてお
り、かつ円弧状の二重矢印２６で示すように１８０度の
旋回運動を行う。アンロードアーム２１はその一端に旋
回軸２４を備えており、この旋回軸を中心としてアンロ
ードアーム２１は円弧状の二重矢印２７で示す範囲内で
旋回運動を行う。
【００２０】制御装置３３は、例えば光学センサ２９か
ら成り、この光学センサはロードステーション９の保持
心棒へ向けられている。この光学センサはこの保持心棒
からすべてのサブストレート６，６′，．．．が取り出
された際に、又はサブストレート７，７′，．．．をロ
ードされた保持心棒がロードステーションへ到来した際
に記録する。この光学センサ２９の信号は計数器３０へ
導入され、ここから制御ケーブル３２を介して調整モー
タ３０へ伝達される。この調整モータ３０は引き渡し装
置３のアンロードアーム２１の駆動のために設けられて
いる。
【００２１】アンロードアーム２１（図２）はその一端
で旋回軸２４を中心として回転可能に支承されている。
アンロードアーム２１の他端部のために３つの定置の保
持点が設けられている。この保持点とは一方では引き渡
し装置３の回転皿１２上のアンロードステーション１７
であり、他面ではマガジン２のアンロードステーション
１０及び１１である。旋回軸２４とそれぞれの保持点１
７，１０，１１を結ぶと、３つの互いに放射状に配置さ
れた線が得られる。これにより、保持点１７と１０との
間に旋回角αが生じ、この旋回角αはまったく偶然にほ
ぼ直角である。保持点１７と１１との間には旋回角βが
規定され、この旋回角βは旋回角αに比して大きい。
【００２２】タイプＡ及びＢの互いに異なるサブストレ
ートがロード及びアンロード装置を通過する経路並びに
その際に必要な搬送アーム１９，２１の運動が図３から
図１１までに作業ステップの順に示されている。この場
合、サブストレートの記号は図１及び図２の記号と異な
り、装置内でのタイプＡのサブストレートからタイプＢ
のサブストレートへの交換を明確に示すためにアルファ
ベットで示されている。その場合、記号の後に付された
インデックスはそれぞれのタイプのサブストレートの計
数番号を表し、この計数番号は１，２，３．．．で始ま
り、ｘ，ｘ＋１，．．と続き、ｎ−１，ｎで終わる。矢
印ＢＬ及びＥＬはコーティング装置のそれぞれロード方
向及びアンロード方向を表す。
【００２３】タイプＡの最後のサブストレートＡｎ（図
３）は回転皿４のロードステーション９上に位置し、ひ
とつ前のサブストレートＡｎ−１は回転皿１２のロード
ステーション１５上に位置する。サブストレートの運動
方向で互いに続くその他のすべてのステーション１６，
１０，１１上にも同様にタイプＡのサブストレートが位
置している。回転方向でみてマガジン２のロードステー
ション９の手前に位置する保持心棒上にはタイプＢのサ
ブストレートがスタックされている。
【００２４】タイプＡの最後のサブストレートＡｎがマ
ガジン２から取り出された後に（図４）、両方の回転皿
４，１２は間欠的に１ポジションだけさらに回転され
る。タイプＡの最後のサブストレートＡｎを取り出した
保持心棒はその時点でマガジン２のアンロードステーシ
ョン１０に位置する。タイプＢ１，Ｂ２，．．．の第１
のサブストレートのスタックはその時点でマガジン２の
ロードステーション９上に到来している。タイプＡの最
後のサブストレートＡｎはその時点で引き渡し装置３の
ロードステーション１５上に位置する。アンロードアー
ム２１はこれまでにすべてのサブストレートを旋回角α
にわたって運動させて、これまでマガジン２のアンロー
ドステーション１０上に位置していた保持心棒上に載着
している。この保持心棒はこの時点でアンロードステー
ション１１に位置している。
【００２５】アンロードアーム２１の次の旋回運動は
（図５）、旋回角βにわたって行われ、その結果、タイ
プＡのその他のすべてのサブストレートはマガジン２の
アンロードステーション１１上にスタックされる。矢印
１４で示す方向に回転皿１２がさらに間欠的に回転され
た後、最後のサブストレートＡｎは引き渡し装置３の引
き渡しステーション１６上に位置する。
【００２６】次の作業ステップ（図６）では、タイプＢ
の第１のサブストレートＢ１が引き渡し装置３のロード
ステーション１５上に載着される。
【００２７】さらに間欠的な回転が行われた後（図
７）、サブストレートＢ１は引き渡し装置３の引き渡し
ステーション１６上に位置する。タイプＡの別のサブス
トレートは引き渡し装置３のアンロードステーション１
７からマガジン２のアンロードステーション１１へ旋回
角βにわたり搬送される。
【００２８】サブストレートＢ１がコーティング装置か
ら戻された後（図８）、このサブストレートは再び回転
皿１２の引き渡しステーション１６上へ載着される。続
くサブストレートＢｘはその間にロードステーション１
５に位置し、タイプＡの最後のサブストレートＡｎは引
き渡し装置３のアンロードステーション１７上に到来し
ている。マガジン２のアンロードステーション１１上に
位置しているサブストレートのスタック上に最後からひ
とつ目のサブストレートＡｎ−１が載着される。
【００２９】最後のサブストレートＡｎ（図９）は次い
でさらに旋回角βにわたり旋回されてマガジン２１のア
ンロードステーション１１へ戻される。第１のサブスト
レートＢ１はこの時点で引き渡し装置３のアンロードス
テーション１７上に到来しており、その結果、回転皿１
２のすべてのステーション及び搬送方向でみてその手前
に位置するステーション上にはタイプＢのサブストレー
トが位置することになる。
【００３０】図１０ではマガジン２の回転皿４の位置が
図４の図示に対して依然変化しておらず、従って、アン
ロードステーション１０上に位置している保持心棒はま
だ空である。これに対して、引き渡し装置３の回転皿１
２はその間に複数のステーションを回転し終わってい
る。アンロードアーム２１がタイプＢの第１のサブスト
レートＢ１を受け取った後、調整モータ３１は計数器か
ら新たな信号を受け取る。
【００３１】ロードアーム１９が（図１１）間欠的にタ
イプＢのサブストレートを次ぎ次ぎにマガジン２のロー
ドステーション９から引き渡し装置３のロードステーシ
ョン１５へ補充する間、アンロードアーム２１はタイプ
Ｂの第１のサブストレートＢ１をマガジン２のアンロー
ドステーション１０へ戻す。この場合、アンロードアー
ム２１は再び旋回角αにわたり旋回する。これにより、
マガジン２のアンロードステーション１１並びに搬送方
向でこれに続くすべての保持心棒上にはタイプＡのサブ
ストレートが位置することになる。マガジン２のアンロ
ードステーション１０ならびに搬送方向でこのステーシ
ョンの手前に位置する総ての保持心棒上にはタイプＢの
サブストレートが位置することになる。これにより、タ
イプＡとタイプＢとの互いに異なるサブストレートのコ
ーティングの後でもマガジン２の回転皿４上でのタイプ
Ａのサブストレートと、タイプＢのサブストレートとの
明確な分離が保証される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に基づく装置の略示平面図である。
【図２】図１の部分拡大図である。
【図３】ロード及びアンロード過程の１作業ステップを
示す図である。
【図４】図３に続く作業ステップを示す図である。
【図５】図４に続く作業ステップを示す図である。
【図６】図５に続く作業ステップを示す図である。
【図７】図６に続く作業ステップを示す図である。
【図８】図７に続く作業ステップを示す図である。
【図９】図８に続く作業ステップを示す図である。
【図１０】図９に続く作業ステップを示す図である。
【図１１】図１０に続く作業ステップを示す図である。
【符号の説明】
１ コーティング装置、 ２ マガジン、 ３ 引き渡
し装置、 ４ 回転皿、 ５ 矢印、 ６，６′，
６″，．．． 保持心棒、 ７，７′，７″，．．．
サブストレート、 ８ 回転軸線、 ９ ロードステー
ション、 １０ アンロードステーション、 １１ ア
ンロードステーション、 １２ 回転皿、１３ 回転軸
線、 １４ 矢印、 １５ ロードステーション、 １
６ 引き渡しステーション、 １７ アンロードステー
ション、 １８，１８′，．．．サブストレート、 １
９ ロードアーム、 ２０ 引き渡しアーム、 ２１
アンロードアーム、 ２２，２３，２４ 旋回軸、 ２
５，２６，２７ 矢印、２８ サブストレート、 ２９
センサ、 ３０ 計数器、 ３１ 調整モータ、 ３
２ 制御ケーブル、 ３３ 制御装置、 α 旋回角、
β 旋回角、ＢＬ ロード方向、 ＥＬ アンロード
方向、Ａ，Ａｎ，Ａｎ−１．．． タイプＡのサブスト
レート、 Ｂ，Ｂ１，Ｂｘ，Ｂｘ＋１．．． タイプＢ
のサブストレート

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 特にデータ貯蔵技術のためのディスク状
    のサブストレートをコーティング装置（１）に間欠的か
    つ自動的にロード及びアンロードするための装置であっ
    て、主として−定置の回転軸線を中心として間欠的に回
    転可能な第１の回転皿（４）と、この回転皿（４）上に
    等間隔で円形に配置された多数の保持心棒（６，
    ６′，．．．）とを備えたマガジン（２）が設けられて
    おり、各保持心棒（６，６′，．．．）に複数のサブス
    トレート（７，７′，．．．）がスタック可能であり、
    かつマガジン（２）のために定置のロードステーション
    （９）とアンロードステーション（１０，１１）とが設
    けられており、それぞれ２つの隣合うステーション
    （９，１０，１１）の間隔が、それぞれ２つの隣合う保
    持心棒（６，６′，．．）の間隔に対応しており、−定
    置の回転軸線（１３）を中心として間欠的に回転可能な
    第２の回転皿（１２）と、それぞれ１つのサブストレー
    トを受容する少なくとも３つのステーション、即ちロー
    ドステーション（１５）、引き渡しステーション（１
    ６）及びアンロードステーション（１７）とを備えた引
    き渡し装置（３）が設けられており、３つのステーショ
    ンが少なくとも３つの搬送アーム（１９，２０，２１）
    即ちロードアーム（１９）、引き渡しアーム（２０）及
    びアンロードアーム（２１）を備えており、これらの３
    つのアームが第２の回転皿（１２）のそれぞれ１つのス
    テーションと協働しており、ロードアーム（１９）が、
    マガジン（２）のロードステーション（９）に位置して
    いる保持心棒（６，６′，．．．）からそれぞれ１つの
    サブストレート（７，７′，．．．）を受け取り、この
    サブストレート（７，７′，．．．）を引き渡し装置
    （３）のロードステーション（１５）にもたらし、それ
    と同時にアンロードアーム（２１）が引き渡し装置
    （３）のアンロードステーション（１７）からサブスト
    レート（１８，１８′，．．．）を受け取り、マガジン
    （２）の両方のアンロードステーション（１０，１１）
    に位置する２つの可能な保持心棒のうちのいずれか一方
    の保持心棒へこのサブストレートを戻すようになってお
    り、 −特にセンサ（２９）と、計数器（３０）と、アンロー
    ドアーム（２１）を駆動する調整モータ（３１）とから
    成る制御装置（３３）が設けられており、マガジン
    （２）のロードすべき保持心棒（６，６′，．．．）が
    この制御装置（３３）により予め規定可能であることを
    特徴とするコーティング装置に間欠的かつ自動的にロー
    ド及びアンロードする装置。
  2. 【請求項２】 回転皿（４，１２）が１水平面内に配置
    されている請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 保持心棒（６，６′，．．．）が回転皿
    （１２）上に垂直に配置されている請求項２記載の装
    置。
  4. 【請求項４】 サブストレート（７，７′，．．．，１
    ８，１８′，．．．）が中央の保持穴を有している請求
    項３記載の装置。
  5. 【請求項５】 回転皿（４，１２）が１回転方向（５，
    １４）でのみそれぞれ１ステーションずつ間欠的に運動
    可能である請求項１記載の装置。
  6. 【請求項６】 第１の回転皿（４）の回転運動の周期が
    第２の回転皿（１２）の回転運動の周期の複数倍である
    請求項５記載の装置。
  7. 【請求項７】 回転皿（４，１２）の回転運動の周期と
    搬送アーム（１９，２０，２１）の旋回運動とが相互規
    定されている請求項６記載の装置。
  8. 【請求項８】 マガジン（２）のロードステーション
    （９）に位置している保持心棒（６，６′，．．．）か
    らすべてのサブストレート（７，７′，．．．）が取り
    出されるやいなや、マガジン（２）の回転皿（４）が１
    ステーションだけ運動する請求項７記載の装置。
  9. 【請求項９】 搬送アーム（１９，２０，２１）がそれ
    ぞれ１つの定置の旋回軸（２２，２３，２４）を備えて
    いる請求項１記載の装置。
  10. 【請求項１０】 搬送アーム（１９，２０，２１）に、
    サブストレート（７，７′，．．，１８，１
    ８′，．．．，２８）をつかみ、持ち上げ、旋回又は転
    向させ、降下させかつ載着する手段が設けられている請
    求項９記載の装置。
  11. 【請求項１１】 ロードアーム（１９）及び引き渡しア
    ーム（２０）の旋回運動がそれぞれ２つの定置の終端点
    によりマークされている請求項１０記載の装置。
  12. 【請求項１２】 アンロードアーム（２１）がその可動
    の端部で両方の回転皿（４，１２）上の３つの定置の終
    端点に達することができるようにアンロードアーム（２
    １）の旋回軸が配置されている請求項１０記載の装置。
  13. 【請求項１３】 アンロードアーム（２１）が、それぞ
    れ引き渡し装置（３）のアンロードステーション（１
    ７）からマガジン（２）のアンロードステーション（１
    ０，１１）の両保持心棒（６，６′，．．．）の１つへ
    かつその逆に旋回させられる請求項１２記載の装置。
  14. 【請求項１４】 アンロードアーム（２１）が引き渡し
    装置（３）のアンロードステーション（１７）と、マガ
    ジン（２）の一方のアンロードステーション（１０）と
    の間の旋回角（α）にわたり旋回する請求項１３記載の
    装置。
  15. 【請求項１５】 アンロードアーム（２１）が、引き渡
    し装置（３）のアンロードステーション（１７）と、マ
    ガジン（２）の他方のアンロードステーション（１１）
    との間の旋回角（β）にわたり旋回し、かつ、この旋回
    角（β）が旋回角（α）に比して大きい請求項１３記載
    の装置。
  16. 【請求項１６】 マガジン（２）の保持心棒（６，
    ６′，．．．）上に同形のサブストレート（７，
    ７′，．．．）だけがスタックされる請求項１記載の装
    置。
  17. 【請求項１７】 マガジン（２）の種々の保持心棒
    （６，６′，．．．）上に種々の形状のサブストレート
    （７，７′，．．．）がスタックされる請求項１６記載
    の装置。
  18. 【請求項１８】 センサ（２９）が、マガジン（２）の
    ロードステーション（９）上に位置している保持心棒
    （６，６′，．．．）上にスタックされているサブスト
    レート（７，７′，．．．）を無接触式に記録する請求
    項１記載の装置。
  19. 【請求項１９】 ガジン（２）のロードステーション
    （９）上に位置している保持心棒（６，６′，．．．）
    からすべてのサブストレート（７，７′，．．．）が取
    り出されるやいなや、センサ（２９）が計数器（３０）
    に電気信号を供給する請求項１８記載の装置。
  20. 【請求項２０】 マガジン（２）のロードステーション
    （９）からすべてのサブストレート（７，
    ７′，．．．）が取り出された後で計数器（３０）がア
    ンロードアーム（２１）の調整モータ（３１）へ第１の
    電気信号を供給する請求項１９記載の装置。
  21. 【請求項２１】 調整モータ（３１）が旋回角（β）だ
    けアンロードアーム（２１）を運動せしめて、続くサブ
    ストレート（１８，１８′，．．．）をマガジン（２）
    の他方のアンロードステーション（１１）上に位置して
    いる保持心棒（６，６′，．．．）上に載着する請求項
    ２０記載の装置。
  22. 【請求項２２】 旋回角（β）にわたるアンロードアー
    ム（２１）の旋回運動の数を計数器（３０）内に記録可
    能である請求項２１記載の装置。
  23. 【請求項２３】 マガジン（２）のロードステーション
    （９）からコーティング装置（１）を通して引き渡し装
    置（３）のアンロードステーション（１７）までサブス
    トレート（７，７′，．．．）が通過したステーション
    の数に相応する旋回運動をアンロードアーム（２１）が
    行う請求項２２記載の装置、
  24. 【請求項２４】 旋回角（β）にわたる旋回運動の所定
    の数の到達後に計数器（３０）が第２の電気信号を調整
    モータ（３１）に供給する請求項２３記載の装置。
  25. 【請求項２５】 調整モータ（３１）が第２の電気信号
    を受け取った後、アンロードアーム（２１）が旋回角
    （β）を旋回し、後続のサブストレート（１８，１
    ８′，．．．）を、マガジン（２）の一方のアンロード
    ステーション（１０）に位置している保持心棒（６，
    ６′，．．．）上に載着する請求項２４記載の装置。
  26. 【請求項２６】 アンロードアーム（２１）が第３の電
    気信号を受け取るまで旋回角（α）を旋回する請求項２
    ５記載の装置。
  27. 【請求項２７】 マガジン（２）のロードステーション
    （９）に位置している保持心棒（６，６′，．．．）か
    らすべてのサブストレート（７，７′，．．．）が取り
    出された後、調整モータ(３１)が第３の電気信号を受け
    取り、かつ、請求項２１から２６までに基づくステップ
    を繰り返す請求項２６記載の装置。
  28. 【請求項２８】 引き渡しアーム（２０）がそれぞれ１
    つのサブストレート（１８，１８′，．．．，２８）を
    引き渡し装置（３）の引き渡しステーション（１６）か
    らコーティング装置へかつその逆に搬送する請求項１記
    載の装置。
  29. 【請求項２９】 特にデータ貯蔵技術のためのディスク
    状のサブストレートを１つの装置により間欠的かつ自動
    的にコーティング装置にロード及びアンロードする方法
    であて、主として、−定置の回転軸線を中心として間欠
    的に回転可能な第１の回転皿（４）と、この回転皿
    （４）上に等間隔で円形に配置された多数の保持心棒
    （６，６′，．．．）とを備えたマガジン（２）を設
    け、各保持心棒（６，６′，．．．）に複数のサブスト
    レート（７，７′，．．．）をスタックし、かつマガジ
    ン（２）のために定置のロードステーション（９）とア
    ンロードステーション（１０，１１）とを設け、それぞ
    れ２つの隣合うステーション（９，１０，１１）の間隔
    を、それぞれ２つの隣合う保持心棒（６，６′，．．）
    の間隔に対応させ、−定置の回転軸線（１３）を中心と
    して間欠的に回転可能な第２の回転皿（１２）と、それ
    ぞれ１つのサブストレートを受容する少なくとも３つの
    ステーション、即ちロードステーション（１５）、引き
    渡しステーション（１６）及びアンロードステーション
    （１７）とを備えた引き渡し装置（３）を設け、３つの
    ステーションに少なくとも３つの搬送アーム（１９，２
    ０，２１）即ちロードアーム（１９）、引き渡しアーム
    （２０）及びアンロードアーム（２１）を備え、これら
    の３つのアームを第２の回転皿（１２）のそれぞれ１つ
    のステーションと協働せしめ、ロードアーム（１９）に
    より、マガジン（２）のロードステーション（９）に位
    置している保持心棒（６，６′，．．．）からそれぞれ
    １つのサブストレート（７，７′，．．．）を受け取
    り、このサブストレート（７，７′，．．．）を引き渡
    し装置（３）のロードステーション（１５）にもたら
    し、それと同時にアンロードアーム（２１）により引き
    渡し装置（３）のアンロードステーション（１７）から
    サブストレート（１８，１８′，．．．）を受け取り、
    マガジン（２）の両方のアンロードステーション（１
    ０，１１）に位置する２つの可能な保持心棒のうちのい
    ずれか一方の保持心棒へこのサブストレートを戻し、−
    特にセンサ（２９）と、計数器（３０）と、アンロード
    アーム（２１）を駆動する調整モータ（３１）とから成
    る制御装置（３３）を設け、マガジン（２）のロードす
    べき保持心棒（６，６′，．．．）をこの制御装置（３
    ３）により予め規定することを特徴とする間欠的かつ自
    動的にコーティング装置にロード及びアンロードする方
    法。
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