JPH07170074A - Manufacture of ceramic multilayer circuit board - Google Patents
Manufacture of ceramic multilayer circuit boardInfo
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- JPH07170074A JPH07170074A JP31186893A JP31186893A JPH07170074A JP H07170074 A JPH07170074 A JP H07170074A JP 31186893 A JP31186893 A JP 31186893A JP 31186893 A JP31186893 A JP 31186893A JP H07170074 A JPH07170074 A JP H07170074A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、セラミック多層回路基
板の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic multilayer circuit board.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、半導体集積回路の飛躍的な発展に
伴って各種の電子機器の小型化、高性能化が進められて
いる。電子機器の小型化は、各種素子の小型化に加えて
回路基板上での高密度化を達成することが要求されてい
る。前記高密度化には、多層回路基板が注目されてい
る。多層回路基板は、その表面の導体回路に多くの素子
を実装することができ、さらに内部には前記導体回路と
スルーホールを通して結線するための複雑な導体回路を
施すことが可能である。2. Description of the Related Art In recent years, with the rapid development of semiconductor integrated circuits, various electronic devices have been made smaller and have higher performance. For miniaturization of electronic devices, in addition to miniaturization of various elements, high density on a circuit board is required to be achieved. A multi-layer circuit board has been attracting attention for increasing the density. In the multilayer circuit board, many elements can be mounted on the conductor circuit on the surface thereof, and further, a complicated conductor circuit for connecting to the conductor circuit through a through hole can be provided inside.
【0003】しかしながら、前記多層回路基板上に多く
の素子を実装すると、大量の熱を発生して回路基板温度
を上昇させるため、回路基板から十分な放熱がなされな
い場合にはLSI素子を初めとする実装素子に悪影響を
及し、より一層の高密度実装の妨げになっている。この
ため、熱伝導性の劣る合成樹脂やガラス製の多層回路基
板に代わって熱伝導性が良好なセラミック多層回路基板
が注目され、多数開発されている。However, when many elements are mounted on the multi-layer circuit board, a large amount of heat is generated to raise the temperature of the circuit board. Therefore, when sufficient heat is not radiated from the circuit board, the LSI element and the like are first used. This has an adverse effect on the mounting elements that are mounted, and is a hindrance to higher density mounting. For this reason, ceramic multilayer circuit boards having good thermal conductivity have been attracting attention and many have been developed in place of multilayer circuit boards made of synthetic resin or glass having poor thermal conductivity.
【0004】セラミック多層回路基板においては、熱伝
導性が良好であることに加え、導体材料の電気抵抗が低
いことも重要である。導体材料の電気抵抗が高い場合に
は、信号伝搬速度の遅延を誘発するという問題を生じる
ため、導体回路は可能な限り電気抵抗の低い材料を選択
することが重要である。電気抵抗の低い導体材料として
は、例えば金(2.4×10-6Ω・cm;20℃)、銀
(1.6×10-6Ω・cm;20℃)、銅(1.7×1
0-6Ω・cm;20℃)およびアルミニウム(2.8×
10-6Ω・cm;20℃)等が知られている。しかしな
がら、セラミック多層回路基板を製造する際には基材の
セラミックを緻密化させるために、通常、1000℃以
上の温度で焼結する工程が必要であるが、前記導体材料
はいずれも融点が1000℃前後(例えば金;1064
℃、銀;961.9℃、銅;1085℃、アルミニウ
ム;660.4℃)であるため、焼結前に導体回路を形
成しても焼結過程で前記導体材料が殆ど溶融して導体回
路の形状を保持することができない。そこで、従来では
セラミック多層回路基板の導体材料としては融点が比較
的高いタングステンやモリブデンが用いられてきた。し
かしながら、これらの材料は電気抵抗が高い(タングス
テン;5.5×10-6Ω・cm、モリブデン;5.6×
10-6Ω・cm)ため、前述した信号伝搬速遅延の問題
がある。In the ceramic multi-layer circuit board, it is important that the conductor material has low electric resistance in addition to good thermal conductivity. When the electric resistance of the conductor material is high, the problem of inducing a delay in the signal propagation speed is caused. Therefore, it is important to select a material having a low electric resistance for the conductor circuit. Examples of the conductor material having low electric resistance include gold (2.4 × 10 −6 Ω · cm; 20 ° C.), silver (1.6 × 10 −6 Ω · cm; 20 ° C.), and copper (1.7 ×). 1
0 -6 Ω · cm; 20 ° C) and aluminum (2.8 ×)
10 −6 Ω · cm; 20 ° C.) and the like are known. However, when manufacturing a ceramic multilayer circuit board, a step of sintering at a temperature of 1000 ° C. or higher is usually required in order to densify the ceramic of the base material, but all of the conductor materials have a melting point of 1000. ℃ around (eg gold; 1064
C., silver; 961.9.degree. C., copper; 1085.degree. C., aluminum; 660.4.degree. C.), so even if a conductor circuit is formed before sintering, the conductor material is almost melted during the sintering process. Cannot hold the shape of. Therefore, conventionally, tungsten or molybdenum having a relatively high melting point has been used as the conductor material of the ceramic multilayer circuit board. However, these materials have high electric resistance (tungsten; 5.5 × 10 −6 Ω · cm, molybdenum; 5.6 ×).
Since it is 10 −6 Ω · cm), there is the problem of the signal propagation speed delay described above.
【0005】前記金のような電気抵抗が低く融点の低い
導体材料を熱伝導性が良好なセラミック多層回路基板に
利用しようとする試みも多数行われている。例えば、特
開平1−219066号や特開平2−196066号お
よび特開平2−221162号には熱伝導性が良好な窒
化アルミニウムにガラス粉末や無機材料粉末を混合して
焼結温度を800〜1000℃程度まで低下させること
で前述した金のような低抵抗で融点の低い導体材料を利
用できるようすることが開示されている。しかしなが
ら、このような方法を用いて製造された多層回路基板の
基材は、熱伝導率が10〜20W/m・Kと窒化アルミ
ニウムが本来有する熱伝導率(320W/m・K)から
大きく低下する結果になる。Many attempts have been made to utilize a conductor material such as gold having a low electric resistance and a low melting point for a ceramic multilayer circuit board having a good thermal conductivity. For example, in JP-A 1-219066, JP-A-2-196066 and JP-A-2-221162, glass powder or inorganic material powder is mixed with aluminum nitride having good thermal conductivity and the sintering temperature is 800 to 1000. It is disclosed that the conductor material having low resistance and low melting point such as gold can be used by lowering the temperature to about 0 ° C. However, the base material of the multilayer circuit board manufactured by using such a method has a thermal conductivity of 10 to 20 W / m · K, which is significantly lower than the thermal conductivity (320 W / m · K) originally possessed by aluminum nitride. Will result.
【0006】一方、前述した金のような導体材料が窒化
アルミニウムとの濡れ性が劣ることに着目して窒化アル
ミニウムの基材に金、銀および銅のいずれかの内部導体
回路を形成した多層回路基板を製造した例も特開平2−
197189号に開示されている。しかしながら、前記
方法ではセラミック材料を1800℃前後の温度で焼結
しているため、セラミック中の成分、特に焼結助剤が導
体材料に混入する(金を用いた場合には特に顕著)た
め、結果として導体回路の電気抵抗が高くなるという問
題が生じる。On the other hand, a multi-layer circuit in which an internal conductor circuit of any one of gold, silver and copper is formed on a base material of aluminum nitride, focusing on the fact that the above-mentioned conductor material such as gold has poor wettability with aluminum nitride. An example of manufacturing a substrate is also JP-A-2-
No. 197189. However, in the above method, since the ceramic material is sintered at a temperature of around 1800 ° C., the components in the ceramic, especially the sintering aid, are mixed in the conductor material (especially remarkable when gold is used). As a result, there arises a problem that the electric resistance of the conductor circuit increases.
【0007】以上のように、セラミック材料本来の熱伝
導性を発揮するためには導体材料として融点が高いが、
電気抵抗が比較的高いものを用いる必要があり、一方導
体材料として電気抵抗の低い金のような金属を用いるた
めにはセラミック材料の熱伝導性を犠牲にしなければな
らない。したがって、熱伝導性と導体回路の低抵抗性の
両方を兼ね備えたセラミック多層回路基板を製造するこ
とは今までの技術では困難であった。As described above, the conductor material has a high melting point in order to exhibit the original thermal conductivity of the ceramic material,
It is necessary to use a material having a relatively high electric resistance, while the thermal conductivity of the ceramic material must be sacrificed in order to use a metal having a low electric resistance, such as gold, as the conductor material. Therefore, it has been difficult to manufacture a ceramic multilayer circuit board having both thermal conductivity and low resistance of a conductor circuit by the conventional techniques.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題点を解決するためになされたもので、セラミック材
料本来の高熱伝導性等を維持しつつ、導体材料として電
気抵抗が低く低融点の金属を使用することを可能にした
セラミック多層回路基板の製造方法を提供しようとする
ものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and maintains the high thermal conductivity inherent to ceramic materials while having a low electric resistance and a low melting point as a conductor material. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a ceramic multi-layer circuit board that enables the use of the above metal.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段および作用】本発明に係わ
るセラミック多層回路基板の製造方法は、セラミック粉
末を所望の溶媒に分散させてセラミックスラリーを調製
し、このスラリーをシート化し、乾燥してセラミックグ
リーンシートを作製する工程と、前記グリーンシートに
スルーホールを形成した後、前記グリーンシートのスル
ーホール内に前記グリーンシートの焼結温度で揮散する
易揮散性材料を埋め込むと共に前記シート表面に前記易
揮散性材料からなる導体回路形状のパターンを形成する
工程と、前記グリーンシートを複数枚積層した後、焼結
すると共に前記易揮散性材料を揮散除去する工程と、前
記焼結により形成された空隙に金、銀、銅またはアルミ
ニウムから選ばれる少なくとも1種の金属の融液を流し
込んで導体回路を形成すると共に、前記スルーホールに
前記金属を埋設する工程とを具備したことを特徴とする
ものである。According to the method for manufacturing a ceramic multilayer circuit board according to the present invention, ceramic powder is dispersed in a desired solvent to prepare a ceramic slurry, and the slurry is formed into a sheet and dried. A step of producing a green sheet, and after forming a through hole in the green sheet, an easily volatile material that volatilizes at the sintering temperature of the green sheet is embedded in the through hole of the green sheet, and the green sheet is easily formed on the surface of the sheet. A step of forming a conductor circuit-shaped pattern made of a volatile material; a step of stacking a plurality of the green sheets and then sintering and volatilizing and removing the easily volatile material; and a void formed by the sintering. A conductor circuit is formed by pouring a melt of at least one metal selected from gold, silver, copper or aluminum into While formed and is characterized by comprising a step of embedding said metal in said through hole.
【0010】また、本発明に係わるセラミック多層回路
基板の製造方法はセラミック粉末を所望の溶媒に分散さ
せてスラリーを調製し、このセラミックスラリーをシー
ト化し、乾燥してセラミックグリーンシートを作製する
工程と、前記グリーンシートにスルーホールを形成した
後、前記グリーンシートのスルーホール内に前記グリー
ンシートの焼結温度で揮散する易揮散性材料を埋め込む
と共に前記シート表面に前記易揮散性材料からなる導体
回路形状のパターンを形成する工程と、前記グリーンシ
ートを複数枚積層した後、焼結すると共に前記易揮散性
材料を揮散除去する工程と、前記焼結により形成された
空隙に金、銀、銅またはアルミニウムを含むスラリー、
或いは高温で熱処理することにより金、銀、銅またはア
ルミニウムに変換される物質を含むスラリーを充填した
後、高温で熱処理を行うことにより導体回路を形成する
と共に前記スルーホールに前記金属を埋設する工程とを
具備したことを特徴とするものである。The method for producing a ceramic multilayer circuit board according to the present invention comprises the steps of dispersing ceramic powder in a desired solvent to prepare a slurry, making the ceramic slurry into a sheet, and drying the slurry to produce a ceramic green sheet. After forming a through hole in the green sheet, a volatile material that volatilizes at the sintering temperature of the green sheet is embedded in the through hole of the green sheet and a conductor circuit made of the volatile material on the surface of the sheet. A step of forming a pattern of shape, a step of stacking a plurality of the green sheets, sintering and volatilizing and removing the easily volatile material, and gold, silver, copper or the voids formed by the sintering. A slurry containing aluminum,
Alternatively, a step of filling a slurry containing a substance that is converted into gold, silver, copper or aluminum by heat treatment at high temperature and then forming a conductor circuit by heat treatment at high temperature and burying the metal in the through hole And is provided.
【0011】以下、本発明を詳細に説明する。 (第1工程)まず、セラミック粉末に必要に応じて焼結
助剤を添加し、十分に混合し、さらにバインダを添加し
た後、所定の溶媒中に混練、分散させて所望の粘度を有
するセラミックスラリーを調製する。つづいて、前記ス
ラリーを例えばドクターブレード法によりシート化して
セラミックグリーンシートを作製する。The present invention will be described in detail below. (First Step) First, if necessary, a sintering aid is added to the ceramic powder, sufficiently mixed, and a binder is further added, followed by kneading and dispersing in a predetermined solvent to obtain a ceramic having a desired viscosity. Prepare the rally. Subsequently, the slurry is formed into a sheet by, for example, a doctor blade method to produce a ceramic green sheet.
【0012】前記セラミック粉末としては、例えば窒化
アルミニウム、アルミナ、ムライト、窒化珪素、ジルコ
ニア、マグネシア等を挙げることができる。前記バイン
ダとしては、例えばアクリル系バインダを用いることが
できる。Examples of the ceramic powder include aluminum nitride, alumina, mullite, silicon nitride, zirconia, magnesia and the like. As the binder, for example, an acrylic binder can be used.
【0013】前記分散溶媒としては、例えばアルコール
系溶媒を用いることができる。 (第2工程)前記第1工程で作製したセラミックグリー
シートにスルーホールを例えばポンチおよびダイによる
機械的な加工により形成する。前記スルーホールは、後
述する金属の融液等の充填工程を容易にするために最小
100μm前後の径を有することが好ましい。つづい
て、前記グリーンシートにそのグリーンシートの焼結温
度で揮散する易揮散性材料をスクリーン印刷等を行って
形成すべき導体回路と同様なパターンを形成し、同時に
前記スルーホールに前記易揮発性材料を埋め込む。As the dispersion solvent, for example, an alcohol solvent can be used. (Second Step) Through holes are formed in the ceramic green sheet produced in the first step by mechanical processing using, for example, a punch and a die. It is preferable that the through hole has a minimum diameter of about 100 μm in order to facilitate a process of filling a metal melt or the like described later. Next, a volatile material that volatilizes at the sintering temperature of the green sheet is screen-printed on the green sheet to form a pattern similar to the conductor circuit to be formed, and at the same time, the volatile material is formed in the through hole. Embed the material.
【0014】前記易揮散性材料からなるパターンは、後
述する金属の融液等の充填工程を容易にするために幅を
40μm以上、好ましくは70μm以上、実用的には1
00μm以上にすることが望ましい。The pattern made of the easily fugitive material has a width of 40 μm or more, preferably 70 μm or more, and practically 1 in order to facilitate the step of filling a metal melt or the like described later.
It is desirable that the thickness is 00 μm or more.
【0015】前記易揮散性材料としては、例えばアクリ
ル系バインダ、エチルセルロース系バインダのようなバ
インダおよび溶媒からなる組成の粘稠物を用いることが
できる。前記粘稠物は、約1×104 〜1×106 cp
sの粘度を有することが好ましく、前記粘度調整は前記
バインダ量および溶媒量を制御することにより容易に行
うことができる。As the easily volatile material, for example, a viscous material having a composition consisting of a binder such as an acrylic binder and an ethyl cellulose binder and a solvent can be used. The viscous material is approximately 1 × 10 4 to 1 × 10 6 cp.
It preferably has a viscosity of s, and the viscosity can be easily adjusted by controlling the amount of the binder and the amount of the solvent.
【0016】前記スクリーン印刷後のパターンは、その
ままでも十分に所望の幅、厚さを保持しているが、一部
だれが発生する場合がある。このような場合には、電子
線硬化型、紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂が添加された
易揮散性材料を調製し、スクリーン印刷した後に乾燥前
に紫外線、電子線を照射するか、もしくは熱をゆっくり
加えて形成されたパターンの硬化を促進することにより
前記パターンを所望の幅、厚さに保持することができ
る。The pattern after the screen printing retains a desired width and thickness as it is, but some sagging may occur. In such a case, an easily volatile material to which an electron beam curable type, an ultraviolet ray curable type, or a thermosetting type resin is added, is irradiated with ultraviolet ray or an electron beam before being dried after screen printing, or The pattern can be held in a desired width and thickness by slowly applying heat to accelerate the hardening of the formed pattern.
【0017】(第3工程)前記第2工程の処理がなされ
たセラミックグリーンシートを所望枚数積層し、熱圧着
して積層体を作製する。つづいて、この積層体を所望の
温度および雰囲気中で熱処理して前記積層体のグリーシ
ート間に埋設された前記易揮散性材料からなるパターン
および前記スルーホールに埋設された易揮散性材料を揮
散除去する。その結果、前記積層体内部に前記パターン
に相当する形状の空隙が形成されると共に前記スルーホ
ールが空洞化される。前記空隙の形成およびスルーホー
ルの空洞化に際し、それらの内部に前記易揮散性材料中
のバインダが分解して生じる炭素が残留すると製造され
た多層回路基板の絶縁特性が低下する等の問題が生じ
る。したがって、前記バインダを完全に除去する目的で
真空中で脱脂を行うことが好ましい。このようにして得
られた積層体をさらに高温で熱処理することによってセ
ラミックグリーンシートを焼結させる。焼結中に前記空
隙およびスルーホールが前記セラミック材料の粒成長に
より一部狭くなることも見られるが、完全に塞がること
はない。むしろ、前記空隙の一部で前記粒が柱のように
成長することにより前記積層体の機械的強度を高めるこ
とが可能になる。(Third Step) A desired number of the ceramic green sheets subjected to the second step are laminated and thermocompression bonded to produce a laminated body. Subsequently, this laminate is heat-treated at a desired temperature and atmosphere to evaporate the pattern made of the fusible material embedded between the green sheets of the laminate and the fusible material embedded in the through hole. Remove. As a result, a void having a shape corresponding to the pattern is formed inside the laminated body, and the through hole is hollowed. When the voids are formed and the through holes are hollowed, if carbon generated by the decomposition of the binder in the fugitive material remains inside the voids, the insulating characteristics of the manufactured multilayer circuit board may deteriorate. . Therefore, it is preferable to perform degreasing in vacuum for the purpose of completely removing the binder. The ceramic green sheet is sintered by further heat-treating the thus obtained laminate at a higher temperature. It can be seen that the voids and the through holes are partially narrowed during sintering due to grain growth of the ceramic material, but they are not completely closed. Rather, the grains grow like pillars in a part of the voids, so that the mechanical strength of the laminate can be increased.
【0018】(第4工程)前記第3工程で作製された積
層体の空隙およびスルーホールに金、銀、銅およびアル
ミニウムから選ばれる少なくとも1種の金属の融液を充
填する。充填方法としては、加圧・減圧が可能な容器内
で前記金属をその融点以上の温度で加熱して金属融液を
作り、この融液中に前記積層体を浸漬してその空隙およ
びスルーホール内に前記金属融液を流入させる方法が採
用される。具体的には、前記積層体を前記容器内の金属
融液に浸漬した後、容器を減圧にして前記積層体の空隙
等に残留する空気を排気する。この時、前記空隙には金
属融液が容易に流入する。しかしながら、この段階では
前記空隙の隅々まで金属融液が充填されない。そこで、
排気後に加圧して空隙の未充填部にさらに金属融液を流
入させる。この時の加圧力は、空隙の幅、厚さにより一
概に規定できないが、1×105 Paの圧力を加えるこ
とによって前記空隙およびスルーホールの隅々まで金属
融液を充填することができる。充填後、前記積層体を金
属融液から引上げて冷却する。この時、前記空隙の開口
部から金属融液が漏れ出すことはない。なお、前記冷却
後に前記積層体表面に金属融液の固化物が付着するが表
面を研磨することにより容易に除去することが可能であ
る。このような金属融液の充填、冷却固化によって前記
空隙に金、銀、銅およびアルミニウムから選ばれる少な
くとも1種の金属からなる導体回路が埋設され、かつ前
記スルーホールに前記金属が埋設される。(Fourth Step) The voids and through holes of the laminate produced in the third step are filled with a melt of at least one metal selected from gold, silver, copper and aluminum. As a filling method, a metal melt is prepared by heating the metal at a temperature equal to or higher than its melting point in a container capable of pressurizing and depressurizing, and immersing the laminate in the melt to form voids and through holes. A method of introducing the metal melt into the inside is adopted. Specifically, after the laminated body is immersed in the metal melt in the container, the pressure of the container is reduced to exhaust air remaining in the voids of the laminated body. At this time, the metal melt easily flows into the voids. However, at this stage, the metal melt is not filled in all the voids. Therefore,
After evacuation, pressure is applied to allow the metal melt to further flow into the unfilled portion of the void. The pressing force at this time cannot be unconditionally specified depending on the width and thickness of the void, but by applying a pressure of 1 × 10 5 Pa, the metal melt can be filled up to every corner of the void and the through hole. After the filling, the laminate is pulled up from the metal melt and cooled. At this time, the metal melt does not leak from the opening of the void. After the cooling, the solidified material of the metal melt adheres to the surface of the laminate, but it can be easily removed by polishing the surface. By filling and cooling and solidifying the metal melt, a conductor circuit made of at least one metal selected from gold, silver, copper and aluminum is embedded in the void, and the metal is embedded in the through hole.
【0019】また、別の金属の充填方法としては、金、
銀、銅およびアルミニウムから選ばれる少なくとも1種
の金属粉末を含むスラリー、或いは高温で熱処理を行う
ことにより金、銀、銅またはアルミニウムに変換される
物質を含むスラリーを前記積層体の空隙およびスルーホ
ールに常温で充填した後、高温で熱処理する方法を採用
し得る。前記スラリーの粘度は、添加するバインダおよ
び溶媒の量により容易に制御することができる。前記ス
ラリーを前記積層体の空隙およびスルーホールに充填す
る際には、前記空隙の開口部から真空引きし、他の空隙
やスルーホールの開口部に前記スラリーを流入させるこ
とにより前記空隙およびスルーホールに充填することが
できる。前記高温で熱処理することにより金属を変換さ
れる物質としては、例えば前記金属の酸化物、ハロゲン
化物、アルコキシドまたは有機金属化合物等を用いるこ
とができる。このような方法で充填を完了した後、非酸
化性雰囲気、例えば窒素ガス気流中で加熱して前記バイ
ンダを除去した後、非酸化性雰囲気中、所定の温度で熱
処理することにより前記空隙に金、銀、銅およびアルミ
ニウムから選ばれる少なくとも1種の金属からなる導体
回路が埋設され、かつ前記スルーホールに前記金属から
なるビアフィルが形成される。As another metal filling method, gold,
A slurry containing at least one metal powder selected from silver, copper and aluminum, or a slurry containing a substance that is converted to gold, silver, copper or aluminum by heat treatment at high temperature is used as voids and through holes of the laminate. It is possible to employ a method in which the resin is filled at room temperature and then heat-treated at high temperature. The viscosity of the slurry can be easily controlled by the amounts of binder and solvent added. When filling the voids and through holes of the laminated body with the slurry, the voids and the through holes are evacuated from the openings of the voids and the slurry is caused to flow into the openings of the other voids and the through holes. Can be filled. As the substance whose metal is converted by the heat treatment at the high temperature, for example, an oxide, a halide, an alkoxide or an organometallic compound of the above metal can be used. After the filling is completed by such a method, the binder is removed by heating in a non-oxidizing atmosphere, for example, in a nitrogen gas stream, and then heat treatment is performed at a predetermined temperature in the non-oxidizing atmosphere so that the voids are filled with gold. , A conductor circuit made of at least one metal selected from silver, copper and aluminum is buried, and a via fill made of the metal is formed in the through hole.
【0020】このように金属融液を圧入するか、または
常温でスラリーを流し込んだ後、熱処理を行う場合に
は、通常1000℃前後の温度の処理を行うことができ
る。従来法により本発明で述べた金のような導体材料を
用いて同時焼結を行ってセラミック多層回路基板を製造
する場合、セラミック材料またはそれに添加した焼結助
剤と金属が反応して導体回路の電気抵抗が高くなるとい
う問題を生じる。本発明では焼結によりセラミック積層
体を形成した後は比較的低温で処理することができるた
め、セラミック材料またはそれに添加した焼結助剤と金
属(導体回路)との反応を抑制することができる。When the heat treatment is carried out after the metal melt is press-fitted or the slurry is poured at room temperature as described above, it is possible to carry out the treatment at a temperature of usually about 1000 ° C. When a ceramic multilayer circuit board is manufactured by simultaneous sintering using the conductor material such as gold described in the present invention by the conventional method, the ceramic material or the sintering aid added to the metal reacts with the conductor circuit. Causes a problem that the electric resistance of is high. In the present invention, since the ceramic laminated body can be processed at a relatively low temperature after being formed by sintering, it is possible to suppress the reaction between the ceramic material or the sintering aid added thereto and the metal (conductor circuit). .
【0021】最後に必要に応じて前記積層体の表面にメ
ッキ、ピン形成などを行うことにより金、銀、銅および
アルミニウムから選ばれる少なくとも1種の金属からな
る導体回路および前記金属からなるビアフィルを有する
セラミック多層回路基板が製造される。Finally, if necessary, the surface of the laminate is subjected to plating, pin formation, etc. to form a conductor circuit made of at least one metal selected from gold, silver, copper and aluminum and a via fill made of the metal. A ceramic multilayer circuit board having the same is manufactured.
【0022】上述したように本発明によれば、セラミッ
クグリーンシートを積層し、焼結する工程と導体回路の
形成工程とを分離することによって、熱伝導性が高く、
緻密で機械的強度の高いセラミック絶縁層を有し、かつ
金、銀、銅またはアルミニウムのような低抵抗の導体回
路を備え、さらに前記導体回路内での剥離、酸化、断線
のような欠陥が少ない良好な特性を有するセラミック多
層回路基板を製造でき、ひいてはLSI等の素子の高密
度実装と高速の信号伝搬を実現できる。As described above, according to the present invention, the thermal conductivity is high by separating the step of stacking and sintering the ceramic green sheets from the step of forming the conductor circuit,
It has a dense ceramic insulating layer with high mechanical strength and has a low resistance conductor circuit such as gold, silver, copper or aluminum, and further has defects such as peeling, oxidation and disconnection in the conductor circuit. It is possible to manufacture a ceramic multilayer circuit board having a small number of good characteristics, and thus realize high-density mounting of elements such as LSI and high-speed signal propagation.
【0023】[0023]
【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。 実施例1 還元窒化法による平均粒径0.6μmのAlN粉末に焼
結助剤としてY2 O3粉末を5重量%添加し、ボールミ
ルを用いてn−ブタノール中で48時間湿式混合した。
この混合粉末をポリアクリレート系バインダと共にアル
コール系溶媒中に分散させて約4000cpsのスラリ
ーを調製した。つづいて、前記スラリーを有機フィルム
上にキャスティング成膜法により約200μm前後の厚
さを有するグリーンシートを形成した。ひきつづき、前
記各グリーンシートの所定の位置にポンチおよびダイを
用いて複数のスルーホールをそれぞれ形成した。EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below. Example 1 5% by weight of Y 2 O 3 powder was added as a sintering aid to AlN powder having an average particle size of 0.6 μm by the reduction nitriding method, and wet mixed in n-butanol for 48 hours using a ball mill.
This mixed powder was dispersed in an alcohol solvent together with a polyacrylate binder to prepare a slurry of about 4000 cps. Subsequently, a green sheet having a thickness of about 200 μm was formed on the organic film by casting the slurry on the organic film. Subsequently, a plurality of through holes were formed at predetermined positions of each green sheet by using a punch and a die.
【0024】次いで、アクリル系バインダ20重量%、
可塑剤10重量%、溶媒70重量%をボールミルで24
時間混合した後、真空脱気を行って粘稠物を調製した。
つづいて、前記粘稠物を前記各グリーンシートの表面に
スクリーン印刷によって所定の導体回路形状のパターン
を印刷すると共に、前記スルーホール内に充填した。ひ
きつづき、前記パターンが形成された複数のグリーンシ
ートを所定のスルーホールが互いに合致するように積層
し、加熱プレスを施した後、端部を切断する外形加工を
施した。Next, 20% by weight of acrylic binder,
Plasticizer 10% by weight, solvent 70% by weight in a ball mill 24
After mixing for an hour, vacuum deaeration was performed to prepare a viscous material.
Subsequently, the viscous material was screen-printed on the surface of each green sheet to form a predetermined conductor circuit pattern, and the through-hole was filled. Subsequently, a plurality of green sheets having the above pattern formed thereon were laminated so that predetermined through holes were aligned with each other, subjected to hot pressing, and then subjected to contour processing for cutting the end portions.
【0025】次いで、得られた積層体を約500℃で真
空引きして脱脂(脱バインダ)を行った。脱脂後の積層
体を窒素雰囲気中、1800℃で6時間焼結した。得ら
れた焼結体を図1に示す。図1において、1はAlN焼
結体、2は前記粘稠物が揮散除去されたスルーホール、
3は前記グリーンシート間に形成された粘稠物からなる
パターンが揮散除去されることにより形成された導体回
路形状の空隙である。なお、前記AlN焼結体1内部の
スルーホール2、空隙3の一部に狭窄部が認められた
が、ほぼ完全な形で形成されていた。Next, the obtained laminated body was vacuumed at about 500 ° C. to degrease (debinder) it. The degreased laminate was sintered at 1800 ° C. for 6 hours in a nitrogen atmosphere. The obtained sintered body is shown in FIG. In FIG. 1, 1 is an AlN sintered body, 2 is a through hole from which the viscous material has been volatilized and removed,
Reference numeral 3 is a conductor-circuit-shaped void formed by volatilizing and removing the viscous material pattern formed between the green sheets. Although a narrowed portion was found in a part of the through hole 2 and the void 3 inside the AlN sintered body 1, it was formed in a substantially complete shape.
【0026】次いで、窒素雰囲気に曝らされた加圧・減
圧が可能な容器内に金属銅を入れ、1100℃に保持す
ることにより銅融液を調製した後、前記銅融液に前記焼
成体を浸漬した。真空に引いて脱泡した後、7×104
Paまで加圧し、30分間保持することにより銅融液を
前記焼結体の空隙およびスルーホールに充填した。窒素
を導入した後、焼結体を引上げ、そのまま室温まで自然
放冷した。取り出した焼結体表面には銅が付着していた
が、それぞれの面を約10μm研磨することにより除去
できた。つづいて、前記焼結体表面に厚膜法により銅の
導体回路を形成した後、電解メッキによりNi−Au層
を前記導体回路上に付着させた。Next, metallic copper is placed in a container capable of pressurizing and depressurizing, which is exposed to a nitrogen atmosphere, and a copper melt is prepared by maintaining the temperature at 1100 ° C. Then, the copper melt is baked. Was soaked. After vacuuming and degassing, 7 × 10 4
The copper melt was filled into the voids and through holes of the sintered body by pressurizing to Pa and holding for 30 minutes. After introducing nitrogen, the sintered body was pulled up and naturally cooled to room temperature. Copper adhered to the surface of the taken out sintered body, but could be removed by polishing each surface by about 10 μm. Subsequently, a copper conductor circuit was formed on the surface of the sintered body by a thick film method, and then a Ni—Au layer was deposited on the conductor circuit by electrolytic plating.
【0027】得られたAlN多層回路基板のいくつかの
箇所を切断して内部を観察したが、いずれも欠陥のない
良好な導体回路が形成されていた。また、多層回路基板
の外観の観察において、反りや変形は全く認められなか
った。When several parts of the obtained AlN multilayer circuit board were cut and the inside was observed, good conductor circuits without defects were formed. In addition, in observing the appearance of the multilayer circuit board, no warpage or deformation was observed.
【0028】さらに、得られたAlN多層回路基板のA
lN焼結体は、抵抗率が1011Ω・cm以上、比誘電率
が8.7、誘電損失が10-3以下(いずれも1MHzに
おける値)であり、熱伝導率が160W/m・Kであっ
た。また、導体回路およびビアフィルの抵抗率を測定し
たところ、3×10-6Ω・cmと極めて低い値であっ
た。Further, A of the obtained AlN multilayer circuit board
The 1N sintered body has a resistivity of 10 11 Ω · cm or more, a relative dielectric constant of 8.7, a dielectric loss of 10 −3 or less (both at 1 MHz), and a thermal conductivity of 160 W / m · K. Met. Moreover, the resistivity of the conductor circuit and the via fill was measured, and it was an extremely low value of 3 × 10 −6 Ω · cm.
【0029】実施例2 実施例1と同様の方法により内部に導体回路形状の空隙
およびスルーホールを有するAlN多層焼結体を作製し
た。この焼結体の空隙の一端開口部から真空引きを行い
ながら、他の空隙の開口部にポリビニルブチラール、フ
タル酸エステル、ブタノール、トリクロロエチレンおよ
び銀粉末からなるスラリーを流し込んだ。つづいて、前
記焼結体の空隙に前記スラリーが十分に充填されたこと
を確認した後、乾燥した。ひきつづき、前記焼結体を電
気炉中に入れ、窒素気流中、750℃、2時間の熱処理
を行った。Example 2 An AlN multilayer sintered body having conductor circuit-shaped voids and through holes therein was produced by the same method as in Example 1. While evacuating from one opening of the void of this sintered body, a slurry of polyvinyl butyral, phthalic acid ester, butanol, trichlorethylene and silver powder was poured into the opening of the other void. Subsequently, after confirming that the slurry was sufficiently filled in the voids of the sintered body, it was dried. Subsequently, the sintered body was placed in an electric furnace and heat-treated in a nitrogen stream at 750 ° C. for 2 hours.
【0030】得られたAlN多層回路基板は、外観に反
りや変形が認められず、かつ内部に欠陥のない銀導体回
路が形成されていた。さらに、前記多層回路基板の焼結
体の諸特性は実施例1と同程度であった。The obtained AlN multi-layer circuit board had no warp or deformation in its appearance and had a silver conductor circuit having no defect inside. Further, various characteristics of the sintered body of the multilayer circuit board were similar to those of Example 1.
【0031】実施例3 粘稠物としてエポキシ系電子線硬化型樹脂をアクリル系
バインダ20重量部、可塑剤10重量部および溶媒70
重量部からなる混合部に対して20重量%添加したもの
を用い、前記粘稠物をグリーンシートの表面およびスル
ーホール内に印刷した後、電子線を5分間照射するこ
と、金属融液としてアルミニウム融液を用いたこと以
外、実施例1と同様な方法によりAlN多層回路基板を
製造した。Example 3 20 parts by weight of an acrylic electron beam curable resin as a viscous material, 10 parts by weight of an acrylic binder, 10 parts by weight of a plasticizer, and a solvent 70
Using 20% by weight added to the mixed part consisting of parts by weight, the viscous material is printed on the surface of the green sheet and in the through holes, and then irradiated with an electron beam for 5 minutes. An AlN multilayer circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the melt was used.
【0032】得られたAlN多層回路基板は、外観に反
りや変形が認められず、かつ内部に欠陥のないアルミニ
ウム導体回路が形成されていた。 実施例4 平均粒径0.8μmのアルミナ粉末96重量%、残部が
シリカ粉末、マグネシア粉末およびカルシア粉末からな
る混合粉末をボールミルを用いてn−ブタノール中で4
8時間湿式混合した。この混合粉末をポリアクリレート
系バインダと共にアルコール系溶媒中に分散させて約4
000cpsのスラリーを調製した。つづいて、前記ス
ラリーを有機フィルム上にキャスティング成膜法により
約200μm前後の厚さを有するグリーンシートを形成
した。ひきつづき、前記各グリーンシートの所定の位置
にポンチおよびダイを用いて複数のスルーホールをそれ
ぞれ形成した。The obtained AlN multilayer circuit board had no warp or deformation in its appearance and had an aluminum conductor circuit formed therein without any defect. Example 4 96% by weight of an alumina powder having an average particle diameter of 0.8 μm and the balance of silica powder, magnesia powder and calcia powder were mixed in n-butanol using a ball mill.
Wet mixed for 8 hours. Disperse this mixed powder in an alcohol solvent together with a polyacrylate binder to obtain about 4
A 000 cps slurry was prepared. Subsequently, a green sheet having a thickness of about 200 μm was formed on the organic film by casting the slurry on the organic film. Subsequently, a plurality of through holes were formed at predetermined positions of each green sheet by using a punch and a die.
【0033】次いで、実施例1と同様に粘稠物を前記各
グリーンシートの表面にスクリーン印刷によって所定の
導体回路形状のパターンを印刷すると共に、前記スルー
ホール内に充填した。ひきつづき、前記パターンが形成
された複数のグリーンシートを所定のスルーホールが互
いに合致するように積層し、加熱プレスを施した後、端
部を切断する外形加工を施した。Then, in the same manner as in Example 1, a viscous material was printed on the surface of each of the green sheets by screen printing to form a predetermined conductor circuit pattern, and was filled in the through holes. Subsequently, a plurality of green sheets having the above pattern formed thereon were laminated so that predetermined through holes were aligned with each other, subjected to hot pressing, and then subjected to contour processing for cutting the end portions.
【0034】次いで、得られた積層体を真空引きして脱
脂(脱バインダ)を行った後、空気中、1600℃で6
時間焼結することにより内部に空隙を有する緻密なアル
ミナ焼結体が得られた。この後、実施例1と同様な方法
で前記焼結体の空隙に金の融液を流し込んで導体回路お
よびスルーホールへの金の充填を行った。Then, the obtained laminated body is vacuumed to degrease it (de-binder), and then, in air at 1600 ° C. for 6 hours.
By sintering for a time, a dense alumina sintered body having voids inside was obtained. Then, a gold melt was poured into the voids of the sintered body in the same manner as in Example 1 to fill the conductor circuit and the through holes with gold.
【0035】得られた多層回路基板は、アルミナ焼結体
の熱伝導率が15W/m・Kであり、導体回路の抵抗率
が1011Ω・cm以上、比誘電率が10(1MHzにお
ける値)であった。In the obtained multilayer circuit board, the alumina sintered body had a thermal conductivity of 15 W / m · K, the conductor circuit had a resistivity of 10 11 Ω · cm or more, and a relative dielectric constant of 10 (value at 1 MHz. )Met.
【0036】実施例5 実施例4と同様な方法により内部に空隙を有するアルミ
ナ焼結体を作製し、前記焼結体の空隙に酸化銀を含むス
ラリーを実施例2と同様な方法により充填し、さらに窒
素気流中、750℃、2時間熱処理することによりアル
ミナ多層回路基板を製造した。Example 5 An alumina sintered body having voids inside was produced by the same method as in Example 4, and the voids of the sintered body were filled with a slurry containing silver oxide in the same manner as in Example 2. Further, an alumina multilayer circuit board was manufactured by further performing heat treatment at 750 ° C. for 2 hours in a nitrogen stream.
【0037】得られた多層回路基板を切断して内部を観
察した。その結果、空隙に充填された酸化銀が白色の銀
に変化していた。また、銀導体回路の回りに特にクラッ
クなどの欠陥が認められなかった。導体回路の抵抗率
は、約5×10-6Ω・cmであった。The obtained multilayer circuit board was cut and the inside was observed. As a result, the silver oxide filled in the voids was changed to white silver. No defects such as cracks were found around the silver conductor circuit. The resistivity of the conductor circuit was about 5 × 10 −6 Ω · cm.
【0038】実施例6 平均粒径2μmのムライト80重量%、アルミナ14重
量%、シリカ5重量%およびマグネシア1重量%からな
る混合粉末を用いて実施例1と同様な方法によりグリー
ンシートを作製し、機械加工によりスルーホールを形成
した。アクリル系バインダ20重量部、可塑剤10重量
部および溶媒70重量部からなる混合部に対してフェノ
ール系熱硬化型樹脂を15重量%添加して粘稠物を調製
し、この粘稠物を前記グリーンシートの表面に印刷法に
より導体回路形状のパターンを形成すると共に前記スル
ーホールに充填したた後、100℃、5分間保持して前
記パターンおよびスルーホールに充填した粘稠物を硬化
させた。前記グリーンシートを実施例1と同様に積層し
た後、脱脂した。つづいて、脱脂後の積層体を空気中、
1600℃、1時間焼結して内部に導体回路形状の空隙
を有するムライト系焼結体を得た。ひきつづき、前記焼
結体の空隙に実施例2と同様な方法によりアルミニウム
粉末を含むスラリーを充填した後、窒素雰囲気中、50
0℃、1時間熱処理した。Example 6 A green sheet was prepared in the same manner as in Example 1 by using a mixed powder composed of 80% by weight of mullite having an average particle diameter of 2 μm, 14% by weight of alumina, 5% by weight of silica and 1% by weight of magnesia. A through hole was formed by machining. A viscous material was prepared by adding 15% by weight of a phenolic thermosetting resin to a mixed part composed of 20 parts by weight of an acrylic binder, 10 parts by weight of a plasticizer and 70 parts by weight of a solvent, and the viscous material was prepared as described above. After forming a conductor circuit pattern on the surface of the green sheet by a printing method and filling the through hole, the viscous material filled in the pattern and the through hole was cured by holding at 100 ° C. for 5 minutes. The green sheets were laminated in the same manner as in Example 1 and then degreased. Subsequently, the laminated body after degreasing is placed in the air,
It was sintered at 1600 ° C. for 1 hour to obtain a mullite-based sintered body having voids in the shape of a conductor circuit inside. Subsequently, after the slurry containing aluminum powder was filled in the voids of the sintered body by the same method as in Example 2, 50 in a nitrogen atmosphere.
It heat-processed at 0 degreeC for 1 hour.
【0039】得られたムライト系多層回路基板は、反り
や変形が認められなかった。 実施例7 平均粒径1μmの窒化珪素に焼結助剤としてY2 O3 粉
末を10重量%、アルミナ粉末を4重量%添加した混合
粉末をを用いて実施例1と同様な方法によりグリーンシ
ートを作製し、機械加工によりスルーホールを形成し
た。ポリビニルブチラール、フタル酸エステル、ブタノ
ール、トリクロロエチレンからなる混合部に対して紫外
線感光性ポリイミド樹脂を20重量%添加して粘稠物を
調製し、この粘稠物を前記グリーンシートの表面に印刷
法により導体回路形状のパターンを形成すると共に前記
スルーホールに充填した後、紫外線を照射して前記パタ
ーンおよびスルーホールに充填した粘稠物を硬化させ
た。前記グリーンシートを実施例1と同様に積層した
後、脱脂した。つづいて、脱脂後の積層体を窒素雰囲気
中、1800℃、6時間焼結して内部に導体回路形状の
空隙を有する窒化珪素焼結体を得た。ひきつづき、前記
焼結体の空隙に実施例1と同様な方法により銅の融液を
流し込み、冷却した。No warpage or deformation was observed in the obtained mullite multilayer circuit board. Example 7 A green sheet was prepared in the same manner as in Example 1 using a mixed powder prepared by adding 10% by weight of Y 2 O 3 powder and 4% by weight of alumina powder as a sintering aid to silicon nitride having an average particle size of 1 μm. And a through hole was formed by machining. 20% by weight of an ultraviolet-sensitive polyimide resin was added to a mixed part composed of polyvinyl butyral, phthalic acid ester, butanol, and trichloroethylene to prepare a viscous material, and the viscous material was printed on the surface of the green sheet by a printing method. After forming a conductor circuit pattern and filling the through holes, ultraviolet rays were irradiated to cure the viscous material filled in the patterns and the through holes. The green sheets were laminated in the same manner as in Example 1 and then degreased. Subsequently, the degreased laminated body was sintered in a nitrogen atmosphere at 1800 ° C. for 6 hours to obtain a silicon nitride sintered body having conductor circuit-shaped voids inside. Subsequently, a copper melt was poured into the voids of the sintered body in the same manner as in Example 1 and cooled.
【0040】得られた窒化珪素多層回路基板は、反りや
変形が認められなかった。また、内部の導体回路を観察
したところ、ボイド等の欠陥が認められなかった。さら
に、前記多層回路基板の窒化珪素焼結体は熱伝導率が1
5w/m・K、導体回路の抵抗率が1011Ω・cm以
上、比誘電率が10(1MHzにおける値)であった。No warpage or deformation was found in the obtained silicon nitride multilayer circuit board. In addition, when the conductor circuit inside was observed, defects such as voids were not recognized. Further, the silicon nitride sintered body of the multilayer circuit board has a thermal conductivity of 1
The conductive circuit had a resistivity of 10 11 Ω · cm or more and a relative dielectric constant of 10 (value at 1 MHz).
【0041】[0041]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればセ
ラミック材料本来の高熱伝導性等を維持した基材と、信
号伝搬遅延などの問題の少ない電気抵抗が低い導体回路
とを備え、かつ機械的強度が十分に高いセラミック多層
回路基板の製造方法を提供できるものである。As described in detail above, according to the present invention, a base material which maintains the high thermal conductivity inherent in the ceramic material and a conductor circuit having a low electric resistance with little problems such as signal propagation delay are provided. Further, it is possible to provide a method for manufacturing a ceramic multilayer circuit board having sufficiently high mechanical strength.
【図1】本発明の実施例1で作製された導体回路形成前
のAlN焼結体を示す部分切欠斜視図。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an AlN sintered body before forming a conductor circuit, which is manufactured in Example 1 of the present invention.
1…AlN焼結体、2…スルーホール、3…空隙。 1 ... AlN sintered body, 2 ... through hole, 3 ... void.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大石 克嘉 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 上野 文雄 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Katsuyoshi Oishi 1 Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Toshiba Research & Development Center (72) Inventor Fumio Ueno Komukai, Kawasaki-shi, Kanagawa Toshiba Town No. 1 Inside Toshiba Research and Development Center
Claims (2)
てセラックスラリーを調製し、このスラリーをシート化
し、乾燥してセラミックグリーンシートを作製する工程
と、 前記グリーンシートにスルーホールを形成した後、前記
グリーンシートのスルーホール内に前記グリーンシート
の焼結温度で揮散する易揮散性材料を埋め込むと共に前
記シート表面に前記易揮散性材料からなる導体回路形状
のパターンを形成する工程と、 前記グリーンシートを複数枚積層した後、焼結すると共
に前記易揮散性材料を揮散除去する工程と、 前記焼結により形成された空隙に金、銀、銅またはアル
ミニウムから選ばれる少なくとも1種の金属の融液を流
し込んで導体回路を形成すると共に前記スルーホールに
前記金属を埋設する工程とを具備したことを特徴とする
セラミック多層回路基板の製造方法。1. A step of preparing a shellac slurry by dispersing ceramic powder in a desired solvent, forming the slurry into a sheet, and drying the ceramic green sheet to form a ceramic green sheet, and after forming a through hole in the green sheet, Embedding a volatile material that volatilizes at the sintering temperature of the green sheet in the through hole of the green sheet and forming a conductor circuit-shaped pattern made of the volatile material on the surface of the sheet, and the green sheet After laminating a plurality of sheets, sintering and volatilizing and removing the volatile material, and a melt of at least one metal selected from gold, silver, copper or aluminum in the void formed by the sintering. And forming a conductor circuit by burying the metal and burying the metal in the through hole. And a method for manufacturing a ceramic multilayer circuit board.
てセラミックスラリーを調製し、このスラリーをシート
化し、乾燥してセラミックグリーンシートを作製する工
程と、 前記グリーンシートにスルーホールを形成した後、前記
グリーンシートのスルーホール内に前記グリーンシート
の焼結温度で揮散する易揮散性材料を埋め込むと共に前
記シート表面に前記易揮散性材料からなる導体回路形状
のパターンを形成する工程と、 前記グリーンシートを複数枚積層した後、焼結すると共
に前記易揮散性材料を揮散除去する工程と、 前記焼結により形成された空隙に金、銀、銅またはアル
ミニウムを含むスラリー、或いは高温で熱処理すること
により金、銀、銅またはアルミニウムに変換される物質
を含むスラリーを充填した後、高温で熱処理を行うこと
により導体回路を形成すると共に前記スルーホールに前
記金属を埋設する工程とを具備したことを特徴とするセ
ラミック多層回路基板の製造方法。2. A step of preparing a ceramic slurry by dispersing ceramic powder in a desired solvent, forming the slurry into a sheet, and drying the slurry to produce a ceramic green sheet; and after forming a through hole in the green sheet, Embedding a volatile material that volatilizes at the sintering temperature of the green sheet in the through hole of the green sheet and forming a conductor circuit-shaped pattern made of the volatile material on the surface of the sheet, and the green sheet After laminating a plurality of sheets, by sintering and volatilizing and removing the easily volatile material, by a slurry containing gold, silver, copper or aluminum in the voids formed by the sintering, or by heat treatment at a high temperature After filling a slurry containing a substance that is converted to gold, silver, copper or aluminum, heat treatment at high temperature A step of forming a conductive circuit by burying the metal and burying the metal in the through hole.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31186893A JPH07170074A (en) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | Manufacture of ceramic multilayer circuit board |
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JP (1) | JPH07170074A (en) |
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- 1993-12-13 JP JP31186893A patent/JPH07170074A/en active Pending
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