JPH07163247A - 土壌被覆材 - Google Patents
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Landscapes
- Protection Of Plants (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 果樹の根元の土壌を覆うように展張して果実
の糖度アップ、早期熟成を目的とする被覆材であって、
特に耐候性に優れた被覆材を提供する。 【構成】 ポリオレフィン樹脂にリン酸エステルを表面
処理した充填剤と、耐候剤を混入してシートとし、延伸
して得た防水・通気性多孔フィルムを不織布等の基材と
積層したもの。
の糖度アップ、早期熟成を目的とする被覆材であって、
特に耐候性に優れた被覆材を提供する。 【構成】 ポリオレフィン樹脂にリン酸エステルを表面
処理した充填剤と、耐候剤を混入してシートとし、延伸
して得た防水・通気性多孔フィルムを不織布等の基材と
積層したもの。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば蜜柑、桃、林
檎、梨、葡萄等の果実栽培に於いて、果実の糖度アッ
プ、早期熟成度の目的で、果樹の根元の土壌を覆うよう
に展張する為の透湿性の土壌被覆材に関するものであ
り、特に耐候性に優れた土壌被覆材に関する物である。
檎、梨、葡萄等の果実栽培に於いて、果実の糖度アッ
プ、早期熟成度の目的で、果樹の根元の土壌を覆うよう
に展張する為の透湿性の土壌被覆材に関するものであ
り、特に耐候性に優れた土壌被覆材に関する物である。
【0002】
【従来の技術】従来、果実の栽培時に、果実の糖度を上
げたり、収穫時期を早めたりする目的で、果樹の根元の
土壌を遮蔽性のシートで覆う事が行われている。かかる
シートは、適切な防水性、透湿性及び通気性が無いと、
シート下面に熱がこもって、果実の糖度アップの妨げと
なったり、水気が発散されず、土壌の湿度が過多になっ
て根腐れを生じる等の不都合が起こる。
げたり、収穫時期を早めたりする目的で、果樹の根元の
土壌を遮蔽性のシートで覆う事が行われている。かかる
シートは、適切な防水性、透湿性及び通気性が無いと、
シート下面に熱がこもって、果実の糖度アップの妨げと
なったり、水気が発散されず、土壌の湿度が過多になっ
て根腐れを生じる等の不都合が起こる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】これらの問題を解消す
る手段の一つとして、不織布等の基材に熱可塑性樹脂か
らなる微孔性フィルムを貼り合わせた物を土壌被覆材と
して用いる事が挙げられるが、該フィルムは耐候性に問
題があった。
る手段の一つとして、不織布等の基材に熱可塑性樹脂か
らなる微孔性フィルムを貼り合わせた物を土壌被覆材と
して用いる事が挙げられるが、該フィルムは耐候性に問
題があった。
【0004】
【課題を解決する為の手段】そこで、本発明者らは、特
定の耐候処法を施した樹脂組成物から形成される多孔性
ポリオレフィン層を基材と積層した積層フィルム又はシ
ートが、土壌被覆材としての適切な透湿性及び通気性を
有し、長期使用での耐候性に優れ、更には、基材との貼
り合わせ工程での引っ掻き破れ等に強い、良好な強度を
有する事を見出し、本発明を完成するに至った。
定の耐候処法を施した樹脂組成物から形成される多孔性
ポリオレフィン層を基材と積層した積層フィルム又はシ
ートが、土壌被覆材としての適切な透湿性及び通気性を
有し、長期使用での耐候性に優れ、更には、基材との貼
り合わせ工程での引っ掻き破れ等に強い、良好な強度を
有する事を見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】即ち、本発明の要旨は基材上に(A)密度
0.965g/cm3 以下、メルトインデックス10g
/10min以下のポリオレフィン樹脂100重量部、
(B)リン酸エステルで表面処理した充填材25〜40
0重量部及び(C)ヒンダードアミン系光安定剤0.1
〜10重量部及び(D)ベンゾトリアゾール系又はベン
ゾフェノン系又はベンゾエート系紫外線吸収剤0.1〜
10重量部から成る樹脂組成物を形成して得られるフィ
ルム又はシートを少なくともその引き取り方向に一軸延
伸して得られる多孔性ポリオレフィン層を有する積層フ
ィルム又はシートから成る事を特徴とする土壌被覆材に
存する。
0.965g/cm3 以下、メルトインデックス10g
/10min以下のポリオレフィン樹脂100重量部、
(B)リン酸エステルで表面処理した充填材25〜40
0重量部及び(C)ヒンダードアミン系光安定剤0.1
〜10重量部及び(D)ベンゾトリアゾール系又はベン
ゾフェノン系又はベンゾエート系紫外線吸収剤0.1〜
10重量部から成る樹脂組成物を形成して得られるフィ
ルム又はシートを少なくともその引き取り方向に一軸延
伸して得られる多孔性ポリオレフィン層を有する積層フ
ィルム又はシートから成る事を特徴とする土壌被覆材に
存する。
【0006】以下に本発明を更に詳細に説明する。ポリ
オレフィン樹脂(A)はエチレンもしくはプロピレンの
ホモポリマー又はエチレンもしくはプロピレンと他のコ
モノマー(炭素数4以上の二重結合を分子内に1個以上
有する化合物)とのコポリマーからなる密度(ρ)0.
965g/cm3 以下、メルトインデックス(MI)1
0g/10min(g/10分)以下のポリオレフィン
系熱可塑性樹脂、例えば高密度ポリエチレン、分岐状低
密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、密度0.910g/cm3 以下
の超低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−
プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共
重合体、エチレン−メタアクリル酸エステルもしくはこ
れらの混合物等いずれでも良い。
オレフィン樹脂(A)はエチレンもしくはプロピレンの
ホモポリマー又はエチレンもしくはプロピレンと他のコ
モノマー(炭素数4以上の二重結合を分子内に1個以上
有する化合物)とのコポリマーからなる密度(ρ)0.
965g/cm3 以下、メルトインデックス(MI)1
0g/10min(g/10分)以下のポリオレフィン
系熱可塑性樹脂、例えば高密度ポリエチレン、分岐状低
密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、密度0.910g/cm3 以下
の超低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−
プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共
重合体、エチレン−メタアクリル酸エステルもしくはこ
れらの混合物等いずれでも良い。
【0007】線状低密度ポリエチレンとは、エチレンと
他のα−オレフィンとの共重合物であり、従来の高圧法
により製造される分岐状低密度ポリエチレンとは相違す
る。線状低密度ポリエチレンは、例えばエチレンと、そ
の4〜17重量%程度、好ましくは5〜15重量%程度
のブテン・ヘキセン、オクテン、デセン、4−メチルペ
ンテン−1等の他のα−オレフィンとを、中低圧法高密
度ポリエチレン製造に用いられるチーグラー型触媒又は
フィリップス型触媒を用いて共重合することにより製造
される。このものは、従来の高密度ポリエチレンを共重
合成分により短い枝分れ構造とし、密度もこの短鎖枝分
れを利用して適当に低下させて0.91〜0.95g/
cm3 程度としたものであり、従来の分岐状低密度ポリ
エチレンよりも直鎖性があり、高密度ポリエチレンより
も枝分れが多い構造のポリエチレンである。分岐状低密
度ポリエチレンは、エチレンホモポリマー及びエチレン
と他の共重合成分との共重合体を包含する。共重合成分
としては酢酸ビニル、エチルアクリレート、メチルアク
リレート等のビニル化合物、プロピレン、4−メチルペ
ンテン−1、ヘキセン、オクテン等の炭素数3以上のオ
レフィン類が挙げられる。共重合成分の共重合量として
は、0.5〜18重量%、好ましくは2〜10重量%程
度である。これらの分岐状低密度ポリエチレンは通常の
高圧法(1000〜3000kg/cm2 )により、酸
素、有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いてラジカル
重合させることにより得られたものであるのが望まし
い。
他のα−オレフィンとの共重合物であり、従来の高圧法
により製造される分岐状低密度ポリエチレンとは相違す
る。線状低密度ポリエチレンは、例えばエチレンと、そ
の4〜17重量%程度、好ましくは5〜15重量%程度
のブテン・ヘキセン、オクテン、デセン、4−メチルペ
ンテン−1等の他のα−オレフィンとを、中低圧法高密
度ポリエチレン製造に用いられるチーグラー型触媒又は
フィリップス型触媒を用いて共重合することにより製造
される。このものは、従来の高密度ポリエチレンを共重
合成分により短い枝分れ構造とし、密度もこの短鎖枝分
れを利用して適当に低下させて0.91〜0.95g/
cm3 程度としたものであり、従来の分岐状低密度ポリ
エチレンよりも直鎖性があり、高密度ポリエチレンより
も枝分れが多い構造のポリエチレンである。分岐状低密
度ポリエチレンは、エチレンホモポリマー及びエチレン
と他の共重合成分との共重合体を包含する。共重合成分
としては酢酸ビニル、エチルアクリレート、メチルアク
リレート等のビニル化合物、プロピレン、4−メチルペ
ンテン−1、ヘキセン、オクテン等の炭素数3以上のオ
レフィン類が挙げられる。共重合成分の共重合量として
は、0.5〜18重量%、好ましくは2〜10重量%程
度である。これらの分岐状低密度ポリエチレンは通常の
高圧法(1000〜3000kg/cm2 )により、酸
素、有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いてラジカル
重合させることにより得られたものであるのが望まし
い。
【0008】本発明においてメルトインデックス(M
I)とはJIS K 6760の引用規格であるJIS
K 7210の表1の条件4に準拠して測定した値で
ある。尚、ポリオレフィン樹脂には、常法に従い、熱安
定剤、顔料、帯電防止剤、蛍光剤等を添加しても差し支
えない。次に成分(B)の充填剤としては、無機及び有
機の充填剤が用いられる。無機充填剤としては、炭酸カ
ルシウム、タルク、クレー、カオリン、シリカ、珪藻
土、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸マグネシウ
ム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛、水酸化マグネシウム、酸化カルシウム、
酸化マグネシウム、酸化チタン、アルミナ、マイカ、ア
スベスト粉、ガラス粉、シラスバルーン、ゼオライト、
珪酸白土等が使用され、特に炭酸カルシウム、タルク、
クレー、シリカ、珪藻土、硫酸バリウム等が好適であ
る。
I)とはJIS K 6760の引用規格であるJIS
K 7210の表1の条件4に準拠して測定した値で
ある。尚、ポリオレフィン樹脂には、常法に従い、熱安
定剤、顔料、帯電防止剤、蛍光剤等を添加しても差し支
えない。次に成分(B)の充填剤としては、無機及び有
機の充填剤が用いられる。無機充填剤としては、炭酸カ
ルシウム、タルク、クレー、カオリン、シリカ、珪藻
土、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸マグネシウ
ム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛、水酸化マグネシウム、酸化カルシウム、
酸化マグネシウム、酸化チタン、アルミナ、マイカ、ア
スベスト粉、ガラス粉、シラスバルーン、ゼオライト、
珪酸白土等が使用され、特に炭酸カルシウム、タルク、
クレー、シリカ、珪藻土、硫酸バリウム等が好適であ
る。
【0009】有機充填剤としては、木粉、パルプ粉等の
セルロース系粉末等が使用される。これらは単独で又は
混合して用いられる。充填剤の平均粒径としては、30
μm以下の物が好ましく、10μm以下の物が更に好ま
しく、0.2〜5μmのものが最も好ましい。今回の発
明の特徴は、充填剤の表面をリン酸エステルで処理す
る。かかるリン酸エステルとしては、例えば、(1)式
に表わすようなものが好適である。
セルロース系粉末等が使用される。これらは単独で又は
混合して用いられる。充填剤の平均粒径としては、30
μm以下の物が好ましく、10μm以下の物が更に好ま
しく、0.2〜5μmのものが最も好ましい。今回の発
明の特徴は、充填剤の表面をリン酸エステルで処理す
る。かかるリン酸エステルとしては、例えば、(1)式
に表わすようなものが好適である。
【0010】
【化1】 R :アルキル又はアルキルアリル基(C数は1〜3
0) n :エチレンオキサイド付加モル数(モル数は1〜3
0) R′:H又はR(CH2 CH2 O)n 基
0) n :エチレンオキサイド付加モル数(モル数は1〜3
0) R′:H又はR(CH2 CH2 O)n 基
【0011】充填剤の表面処理は、樹脂への分散性、延
伸性更に耐候性の向上、劣化の要因である紫外線を反射
する目的で実施されている。処理量は充填剤100重量
部に対し0.5〜10重量部、好ましくは0.5〜5重
量部、更に好ましくは1〜3重量部が良い。
伸性更に耐候性の向上、劣化の要因である紫外線を反射
する目的で実施されている。処理量は充填剤100重量
部に対し0.5〜10重量部、好ましくは0.5〜5重
量部、更に好ましくは1〜3重量部が良い。
【0012】成分(C)ヒンダードアミン系光安定剤、
(D)ベンゾトリアゾール系又はベンゾフェノン系又は
ベンゾエート系紫外線吸収剤、(E)酸性燐酸エステル
の金属塩類としては、各々種々の物が挙げられる。具体
的には、例えば、(C)ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、Sanol LS−770、同LS−262
6、同LS−765(商品名、いずれも三共社製)、T
inuvin 144、同622、同622LD、同7
70、同120(商品名、いずれもチバガイギー社
製)、Chimasorb 944FL、同944L
D、同119FL(商品名、いずれもチバガイギー社
製)、アデカスタブ LA−57、同LA−77、同L
A−62、同LA−67、同LA−63、同LA−6
8、同LA−82、同LA−87(商品名、いずれも旭
電化社製)、Sumisorb TM−061(商品
名、住友化学工業社製)、Cyasorb UV−33
46(商品名、ACC社製)、Goodrite UV
−3034(商品名、グッドリッチ社製)などが挙げら
れる。
(D)ベンゾトリアゾール系又はベンゾフェノン系又は
ベンゾエート系紫外線吸収剤、(E)酸性燐酸エステル
の金属塩類としては、各々種々の物が挙げられる。具体
的には、例えば、(C)ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、Sanol LS−770、同LS−262
6、同LS−765(商品名、いずれも三共社製)、T
inuvin 144、同622、同622LD、同7
70、同120(商品名、いずれもチバガイギー社
製)、Chimasorb 944FL、同944L
D、同119FL(商品名、いずれもチバガイギー社
製)、アデカスタブ LA−57、同LA−77、同L
A−62、同LA−67、同LA−63、同LA−6
8、同LA−82、同LA−87(商品名、いずれも旭
電化社製)、Sumisorb TM−061(商品
名、住友化学工業社製)、Cyasorb UV−33
46(商品名、ACC社製)、Goodrite UV
−3034(商品名、グッドリッチ社製)などが挙げら
れる。
【0013】(D)ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
としては、2−(5−メチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3,
5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル〕−2
H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3,5
−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−アミ
ル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル)
ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
としては、2−(5−メチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3,
5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル〕−2
H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3,5
−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−アミ
ル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル)
ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【0014】ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、
2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、
2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、p
−t−ブチルフェニルサリシレート−2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン、2−(2−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
などが挙げられる。
2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、
2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、p
−t−ブチルフェニルサリシレート−2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン、2−(2−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
などが挙げられる。
【0015】ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、
2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。 (E)酸性燐酸エステルの金属塩類としては、ステアリ
ルアシッドホスフェイト、マグネシウムステアリルホス
フェイト、アルミニウムステアリルホスフェイト、カル
シウムステアリルホスフェイト、ジンクステアリルホス
フェイト、バリウムステアリルホスフェイトなどが挙げ
られる。
2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。 (E)酸性燐酸エステルの金属塩類としては、ステアリ
ルアシッドホスフェイト、マグネシウムステアリルホス
フェイト、アルミニウムステアリルホスフェイト、カル
シウムステアリルホスフェイト、ジンクステアリルホス
フェイト、バリウムステアリルホスフェイトなどが挙げ
られる。
【0016】中でも、ヒンダードアミン系光安定剤、特
に、Tinuvin 622同622LD(コハク酸ジ
メチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合
物)、Chimasorb 944FL、同944LD
(ポリ〔{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)、アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイ
ル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕)、ベンゾフェ
ノン系紫外線吸収剤、特に、2−ヒドロキシ−4−n−
オクトキシベンゾフェノンが好適である。酸性燐酸エス
テルの金属塩類としては、ジンクステアリルホスフェイ
トが好適である。
に、Tinuvin 622同622LD(コハク酸ジ
メチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合
物)、Chimasorb 944FL、同944LD
(ポリ〔{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)、アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイ
ル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕)、ベンゾフェ
ノン系紫外線吸収剤、特に、2−ヒドロキシ−4−n−
オクトキシベンゾフェノンが好適である。酸性燐酸エス
テルの金属塩類としては、ジンクステアリルホスフェイ
トが好適である。
【0017】ヒンダードアミン系光安定剤及びベンゾト
リアゾール系又はベンゾフェノン系又はベンゾエート系
紫外線吸収剤を用いる事により、充分な耐候性を付与す
る事が出来るが、更に酸性燐酸エステルの金属塩類を用
いる事により、より長期にわたって耐候性を維持させる
事が出来る。本発明においては、以下の可塑剤(F)や
ラジカル発生剤(G)を併用すると、多孔性フィルム又
はシートの強度が向上し、後述の基材との貼り合わせ工
程での引っ掻き破れ等が防止されるので好ましい。
リアゾール系又はベンゾフェノン系又はベンゾエート系
紫外線吸収剤を用いる事により、充分な耐候性を付与す
る事が出来るが、更に酸性燐酸エステルの金属塩類を用
いる事により、より長期にわたって耐候性を維持させる
事が出来る。本発明においては、以下の可塑剤(F)や
ラジカル発生剤(G)を併用すると、多孔性フィルム又
はシートの強度が向上し、後述の基材との貼り合わせ工
程での引っ掻き破れ等が防止されるので好ましい。
【0018】成分(F)の可塑剤としては、分子内にエ
ステル結合もしくはアミド結合を有する分子量100以
上、好ましくは350以上、特に350〜1500、常
圧での沸点が200℃以上、好ましくは250℃以上、
特に250〜700℃、且つ融点が100℃以下、好ま
しくは50℃以下、特に−100℃〜10℃の化合物で
ある。
ステル結合もしくはアミド結合を有する分子量100以
上、好ましくは350以上、特に350〜1500、常
圧での沸点が200℃以上、好ましくは250℃以上、
特に250〜700℃、且つ融点が100℃以下、好ま
しくは50℃以下、特に−100℃〜10℃の化合物で
ある。
【0019】例えば、上記物性を満たす炭素数6以上の
カルボン酸と炭素数5以上のアルコールとのエステルま
たは炭素数10〜25の脂肪族アミドが挙げられる。中
でも、芳香族カルボン酸と炭素数6以上の脂肪族アルコ
ールとのエステル、好ましくは芳香族ジカルボン酸又は
芳香族トリカルボン酸と炭素数6〜18の脂肪族アルコ
ールとのエステル、特に芳香族ジカルボン酸と炭素数8
〜15の脂肪族アルコールとのエステル、芳香族トリカ
ルボン酸と炭素数6〜18の脂肪族アルコールとのエス
テルが好適である。
カルボン酸と炭素数5以上のアルコールとのエステルま
たは炭素数10〜25の脂肪族アミドが挙げられる。中
でも、芳香族カルボン酸と炭素数6以上の脂肪族アルコ
ールとのエステル、好ましくは芳香族ジカルボン酸又は
芳香族トリカルボン酸と炭素数6〜18の脂肪族アルコ
ールとのエステル、特に芳香族ジカルボン酸と炭素数8
〜15の脂肪族アルコールとのエステル、芳香族トリカ
ルボン酸と炭素数6〜18の脂肪族アルコールとのエス
テルが好適である。
【0020】これらの化合物の具体的な例としては、例
えば、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、トリイ
ソデシルトリメリテート、トリオクチルトリメリテー
ト、ジイソデシルフタレート、ジオクチルフタレート、
ジペンタエリスリトール−2−エチル−ヘキサン酸エス
テル等が挙げられる。最も好ましくはトリオクチルトリ
メリテート、ジイソデシルフタレート、ジペンタエリス
リトール−2−エチルヘキサン酸エステルが挙げられ
る。
えば、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、トリイ
ソデシルトリメリテート、トリオクチルトリメリテー
ト、ジイソデシルフタレート、ジオクチルフタレート、
ジペンタエリスリトール−2−エチル−ヘキサン酸エス
テル等が挙げられる。最も好ましくはトリオクチルトリ
メリテート、ジイソデシルフタレート、ジペンタエリス
リトール−2−エチルヘキサン酸エステルが挙げられ
る。
【0021】融点は100℃より高いとラジカル発生剤
での変性による引裂強度向上の効果が少なく、また沸点
が200℃未満では、成形加工時の発煙、発泡により成
形・延伸性が低下する。また、分子量が小さいと、フィ
ルムから可塑剤のブリーディングが早く好ましくない。
での変性による引裂強度向上の効果が少なく、また沸点
が200℃未満では、成形加工時の発煙、発泡により成
形・延伸性が低下する。また、分子量が小さいと、フィ
ルムから可塑剤のブリーディングが早く好ましくない。
【0022】次に、必要に応じ本発明に使用される成分
(G)のラジカル発生剤としては、半減期1分となる分
解温度が130〜300℃、好ましくは160〜260
℃の範囲の物が好ましく、例えばジクミルペルオキシ
ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオ
キシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t
−ブチルペルオキシ)−3−ヘキシン、α,α′−ビス
(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、ジベ
ンゾイルペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド−
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオ
キシド等の過酸化物が挙げられる。最も好ましくは、
2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキ
シ)−3−ヘキシンが挙げられる。
(G)のラジカル発生剤としては、半減期1分となる分
解温度が130〜300℃、好ましくは160〜260
℃の範囲の物が好ましく、例えばジクミルペルオキシ
ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオ
キシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t
−ブチルペルオキシ)−3−ヘキシン、α,α′−ビス
(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、ジベ
ンゾイルペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド−
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオ
キシド等の過酸化物が挙げられる。最も好ましくは、
2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキ
シ)−3−ヘキシンが挙げられる。
【0023】本発明においては、ポリオレフィン樹脂
(A)100重量部に対して充填剤(B)25〜400
重量部、好ましくは100〜300重量部、特に130
〜250重量部、及び添加剤類(C)、(D)、(E)
0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部、特
に0.3〜3重量部配合する。充填剤(B)の割合が1
00重量部に満たないと、延伸したフィルムに気孔が充
分形成されず、多孔化度合いが低くなる。又、充填剤の
割合が400重量部を越えると混練性、分散性、フィル
ム又はシート成形性が劣り、更に延伸物の表面強度が低
下する。
(A)100重量部に対して充填剤(B)25〜400
重量部、好ましくは100〜300重量部、特に130
〜250重量部、及び添加剤類(C)、(D)、(E)
0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部、特
に0.3〜3重量部配合する。充填剤(B)の割合が1
00重量部に満たないと、延伸したフィルムに気孔が充
分形成されず、多孔化度合いが低くなる。又、充填剤の
割合が400重量部を越えると混練性、分散性、フィル
ム又はシート成形性が劣り、更に延伸物の表面強度が低
下する。
【0024】添加剤類(C)、(D)、(E)の割合が
0.1重量部に満たないと、長期使用での耐候性が不十
分となる。又、添加剤類の割合が10重量部を越える
と、フィルム又はシート成形後のブリーディングが過多
となり好ましくなく、併せて耐久性の向上効果も少な
い。尚、ヒンダードアミン系光安定剤とベンゾトリアゾ
ール系又はベンゾフェノン系又はベンゾエート系紫外線
吸収剤の使用割合は1〜50:50〜1、好ましくは1
〜10:10〜1とする。又、酸性燐酸エステルの金属
塩類を用いる場合の使用割合は、ヒンダードアミン系光
安定剤に対して1〜50:50〜1、好ましくは1〜1
0:10〜1とする。
0.1重量部に満たないと、長期使用での耐候性が不十
分となる。又、添加剤類の割合が10重量部を越える
と、フィルム又はシート成形後のブリーディングが過多
となり好ましくなく、併せて耐久性の向上効果も少な
い。尚、ヒンダードアミン系光安定剤とベンゾトリアゾ
ール系又はベンゾフェノン系又はベンゾエート系紫外線
吸収剤の使用割合は1〜50:50〜1、好ましくは1
〜10:10〜1とする。又、酸性燐酸エステルの金属
塩類を用いる場合の使用割合は、ヒンダードアミン系光
安定剤に対して1〜50:50〜1、好ましくは1〜1
0:10〜1とする。
【0025】又、可塑剤(F)及びラジカル発生剤
(G)成分を併用する場合、可塑剤(F)は1〜100
重量部、好ましくは2〜50重量部、特に2〜30重量
部、及びラジカル発生剤(G)は0.0001〜0.1
重量部、好ましくは0.0005〜0.07重量部、特
に0.005〜0.05重量部の範囲で配合する事が望
ましい。
(G)成分を併用する場合、可塑剤(F)は1〜100
重量部、好ましくは2〜50重量部、特に2〜30重量
部、及びラジカル発生剤(G)は0.0001〜0.1
重量部、好ましくは0.0005〜0.07重量部、特
に0.005〜0.05重量部の範囲で配合する事が望
ましい。
【0026】可塑剤(F)は1重量部より少ないと、引
裂強度向上の効果が無く、100重量部より多いと、混
練性、分散性が悪化し、フィルム成形性の低下、延伸性
を確保出来ない。ラジカル発生剤(G)は0.0001
〜0.1重量部の範囲から選ばれ、この範囲よりも少な
い場合は可塑剤との相乗効果による引裂強度の向上は得
られず、またこの範囲よりも多い場合はメルトインデッ
クスが低くなり過ぎて、フィルム成形時に膜切れが起こ
り易く、且つフィルム表面に肌荒れが生起するので好ま
しくない。
裂強度向上の効果が無く、100重量部より多いと、混
練性、分散性が悪化し、フィルム成形性の低下、延伸性
を確保出来ない。ラジカル発生剤(G)は0.0001
〜0.1重量部の範囲から選ばれ、この範囲よりも少な
い場合は可塑剤との相乗効果による引裂強度の向上は得
られず、またこの範囲よりも多い場合はメルトインデッ
クスが低くなり過ぎて、フィルム成形時に膜切れが起こ
り易く、且つフィルム表面に肌荒れが生起するので好ま
しくない。
【0027】本発明においては、ポリオレフィン樹脂
(A)、充填剤(B)、添加剤類(C)、(D)、
(E)、可塑剤(F)、及びラジカル発生剤(G)を、
通常は、例えば次のI又はIIの方法により前記の量比で
混合し、次いで混練してペレット化した後、インフレー
ション成形して未延伸フィルムとする。 方法I:ポリオレフィン樹脂、充填剤、添加剤類、可塑
剤、及びラジカル発生剤を混合し、押出機、バンバリー
ミキサー等の混練機を用いて混練した後、ペレット化
し、このペレットを用いてインフレーション成形する。
(A)、充填剤(B)、添加剤類(C)、(D)、
(E)、可塑剤(F)、及びラジカル発生剤(G)を、
通常は、例えば次のI又はIIの方法により前記の量比で
混合し、次いで混練してペレット化した後、インフレー
ション成形して未延伸フィルムとする。 方法I:ポリオレフィン樹脂、充填剤、添加剤類、可塑
剤、及びラジカル発生剤を混合し、押出機、バンバリー
ミキサー等の混練機を用いて混練した後、ペレット化
し、このペレットを用いてインフレーション成形する。
【0028】方法II:ポリオレフィン樹脂に、多量のラ
ジカル発生剤0.3〜2%(3000〜20000pp
m)程度を配合し、ラジカル発生剤がポリオレフィンと
殆ど反応しない温度で、しかもポリオレフィンの融点以
上の温度において溶融混練してペレット状としたマスタ
ーバッチを予め調整し、このマスターバッチを、ポリオ
レフィン樹脂、充填剤、添加剤類、及び可塑剤と混合
し、混練した後ペレット化し、このペレットを用いてイ
ンフレーション形成する。
ジカル発生剤0.3〜2%(3000〜20000pp
m)程度を配合し、ラジカル発生剤がポリオレフィンと
殆ど反応しない温度で、しかもポリオレフィンの融点以
上の温度において溶融混練してペレット状としたマスタ
ーバッチを予め調整し、このマスターバッチを、ポリオ
レフィン樹脂、充填剤、添加剤類、及び可塑剤と混合
し、混練した後ペレット化し、このペレットを用いてイ
ンフレーション形成する。
【0029】上記I又はIIに示す方法に従って、ポリオ
レフィン樹脂をラジカル発生剤と共に加熱下(好ましく
はラジカル発生剤の半減期が10分となる温度以上の温
度で)混練処理すると、ラジカル発生剤による架橋反応
が生起し、ポリオレフィンが分子間カップリングして高
分子量成分が増加し、且つメルトインデックスの低下し
た変性ポリマーが得られる。この変性ポリマーは、変性
前のポリマーに比べてインフレーション成形時に横方向
の配向がかかり易く、このようにして得られたフィルム
は、これを延伸処理した場合に、引張強度及び衝撃強度
が著しく向上する。
レフィン樹脂をラジカル発生剤と共に加熱下(好ましく
はラジカル発生剤の半減期が10分となる温度以上の温
度で)混練処理すると、ラジカル発生剤による架橋反応
が生起し、ポリオレフィンが分子間カップリングして高
分子量成分が増加し、且つメルトインデックスの低下し
た変性ポリマーが得られる。この変性ポリマーは、変性
前のポリマーに比べてインフレーション成形時に横方向
の配向がかかり易く、このようにして得られたフィルム
は、これを延伸処理した場合に、引張強度及び衝撃強度
が著しく向上する。
【0030】ポリオレフィン樹脂、添加剤類、可塑剤、
ラジカル発生剤及び充填剤を混合するには、ドラム、タ
ンブラー型混合機、リボンブレンダー、ヘンシェルミキ
サー、スーパーミキサー等が使用されるが、ヘンシェル
ミキサーの様な高速撹拌型の混合機が望ましく、ポリエ
チレンは通常10〜150メッシュ、特に20〜60メ
ッシュのパウダーの形態で供給するのが好ましい。得ら
れた混合物の混練は、例えばスクリュー押出機、二軸ス
クリュー押出機、ミキシングロール、バンバリーミキサ
ー、二軸型混練機等の周知の混練装置を用いて実施され
る。
ラジカル発生剤及び充填剤を混合するには、ドラム、タ
ンブラー型混合機、リボンブレンダー、ヘンシェルミキ
サー、スーパーミキサー等が使用されるが、ヘンシェル
ミキサーの様な高速撹拌型の混合機が望ましく、ポリエ
チレンは通常10〜150メッシュ、特に20〜60メ
ッシュのパウダーの形態で供給するのが好ましい。得ら
れた混合物の混練は、例えばスクリュー押出機、二軸ス
クリュー押出機、ミキシングロール、バンバリーミキサ
ー、二軸型混練機等の周知の混練装置を用いて実施され
る。
【0031】本発明においては、上記で得た配合物から
インフレーション法やTダイ法により通常、厚さ10〜
200μの未延伸フィルム或いは厚さ200〜400μ
の未延伸シートを成形し、次いでこの未延伸フィルム又
はシートを延伸処理する。インフレーション成形は、通
常、ブローアップ比(BUR)を2〜8で成形する。
インフレーション法やTダイ法により通常、厚さ10〜
200μの未延伸フィルム或いは厚さ200〜400μ
の未延伸シートを成形し、次いでこの未延伸フィルム又
はシートを延伸処理する。インフレーション成形は、通
常、ブローアップ比(BUR)を2〜8で成形する。
【0032】好ましくは、ブローアップ比3〜6、フロ
ストラインの高さをダイの環状スリットの直径の5〜2
0倍の範囲の条件下で行われる。ブローアップ比が上記
範囲よりも低いとフィルムの引張強度及び衝撃強度が低
下し、上記範囲よりも高いとバブルの成形安定性が低下
するので、上記範囲で行うのが良い。又、フロストライ
ンの高さが上記範囲よりも低いとフィルムの引張強度が
低下し、上記範囲よりも高いとバブルの成形安定性が低
下するので、上記範囲で行うのが良い。
ストラインの高さをダイの環状スリットの直径の5〜2
0倍の範囲の条件下で行われる。ブローアップ比が上記
範囲よりも低いとフィルムの引張強度及び衝撃強度が低
下し、上記範囲よりも高いとバブルの成形安定性が低下
するので、上記範囲で行うのが良い。又、フロストライ
ンの高さが上記範囲よりも低いとフィルムの引張強度が
低下し、上記範囲よりも高いとバブルの成形安定性が低
下するので、上記範囲で行うのが良い。
【0033】インフレーション法により成形された未延
伸フィルム又はシートは、次いで縦方向(フィルムの引
き取り方向)に一軸延伸される。一軸延伸には通常ロー
ル延伸法が採用されるが、チューブラー延伸法で一軸方
向(引き取り方向)を強調させた形であってもよい。
又、延伸処理は一段でも二段以上の多段でも差し支え無
い。又、Tダイ法により成形された物は、縦一軸延伸や
二軸延伸を行う。
伸フィルム又はシートは、次いで縦方向(フィルムの引
き取り方向)に一軸延伸される。一軸延伸には通常ロー
ル延伸法が採用されるが、チューブラー延伸法で一軸方
向(引き取り方向)を強調させた形であってもよい。
又、延伸処理は一段でも二段以上の多段でも差し支え無
い。又、Tダイ法により成形された物は、縦一軸延伸や
二軸延伸を行う。
【0034】延伸処理は樹脂組成物の融点より100℃
低い温度から融点より20℃低い温度の範囲、特に樹脂
組成物の融点より90℃低い温度から融点より50℃低
い温度の範囲で実施するのが好ましく、この範囲より低
い温度ではフィルムに延伸斑が発生し、又この範囲より
高い温度ではフィルムの多孔性が低下する傾向がある。
低い温度から融点より20℃低い温度の範囲、特に樹脂
組成物の融点より90℃低い温度から融点より50℃低
い温度の範囲で実施するのが好ましく、この範囲より低
い温度ではフィルムに延伸斑が発生し、又この範囲より
高い温度ではフィルムの多孔性が低下する傾向がある。
【0035】延伸倍率は1.2〜8倍である事が好まし
い。尚、延伸後に熱処理すればフィルムの寸法精度を安
定化する事が出来、又公知のコロナ処理、フレーム処理
等の表面処理を施す事も出来る。かくして得られる本発
明の多孔性ポリオレフィン層を構成する多孔性フィルム
又はシートは、面強度及び引裂強度が高く、しかも、延
伸ムラが無いので、好適に使用出来る。特に、厚さが1
00μ以下、例えば15〜50μの多孔性フィルムの場
合、縦方向及び横方向の剛軟度が共に50mm以下、好
ましくは10〜35mmで、透湿度が1500g/m3
・24hr以上、好ましくは2500〜5000g/m
3 ・24hrで、透気度が3000sec/100cc
以下、好ましくは2000sec/100cc以下で、
面強度が下記(2)式
い。尚、延伸後に熱処理すればフィルムの寸法精度を安
定化する事が出来、又公知のコロナ処理、フレーム処理
等の表面処理を施す事も出来る。かくして得られる本発
明の多孔性ポリオレフィン層を構成する多孔性フィルム
又はシートは、面強度及び引裂強度が高く、しかも、延
伸ムラが無いので、好適に使用出来る。特に、厚さが1
00μ以下、例えば15〜50μの多孔性フィルムの場
合、縦方向及び横方向の剛軟度が共に50mm以下、好
ましくは10〜35mmで、透湿度が1500g/m3
・24hr以上、好ましくは2500〜5000g/m
3 ・24hrで、透気度が3000sec/100cc
以下、好ましくは2000sec/100cc以下で、
面強度が下記(2)式
【0036】
【数1】 面強度〔kg〕≧35×フィルム厚み〔mm〕 …(2) 好ましくは(2′)式、
【0037】
【数2】 面強度〔kg〕≧50×フィルム厚み〔mm〕 …(2′) を満足し、且つ引裂強度が下記(3)式
【0038】
【数3】 引裂強度〔g/枚〕≧1500×フィルム厚み〔mm〕 …(3) 好ましくは(3′)式、
【0039】
【数4】 引裂強度〔g/枚〕≧1800×フィルム厚み〔mm〕 …(3′) を満足する様なフィルムが得られるので好ましい。上記
の多孔性ポリオレフィン層を設ける為の基材としては、
該多孔性フィルム又はシートの物性を損なわない様な通
気性を有する物であれば良く、例えば紙、又はスプリッ
トヤーンにより作製された割布、或いは不織布、織布、
網状物で目付が10〜30g/m2 程度のものが好適に
用いられる。
の多孔性ポリオレフィン層を設ける為の基材としては、
該多孔性フィルム又はシートの物性を損なわない様な通
気性を有する物であれば良く、例えば紙、又はスプリッ
トヤーンにより作製された割布、或いは不織布、織布、
網状物で目付が10〜30g/m2 程度のものが好適に
用いられる。
【0040】多孔性ポリオレフィン層と基材は、接着層
を介して、或いは熱圧着する事等により積層させるが、
通常、接着層や熱圧着部は多孔性ポリオレフィン層と基
材との間に部分的に設けられる。具体的には、例えば、
上記多孔性フィルム又はシートと紙や不織布等の基材を
ホットメルト接着剤等で貼り合わせる方法がある。その
際、接着剤は部分的に設けられるが、それは、千鳥状の
点付けや適当な間隔での線付け等任意に行う事が出来
る。
を介して、或いは熱圧着する事等により積層させるが、
通常、接着層や熱圧着部は多孔性ポリオレフィン層と基
材との間に部分的に設けられる。具体的には、例えば、
上記多孔性フィルム又はシートと紙や不織布等の基材を
ホットメルト接着剤等で貼り合わせる方法がある。その
際、接着剤は部分的に設けられるが、それは、千鳥状の
点付けや適当な間隔での線付け等任意に行う事が出来
る。
【0041】他の貼り合わせ方法としては、多孔性フィ
ルム又はシートとポリオレフィン製の割布又は不織布を
部分的に熱圧着する方法、多孔性フィルム又はシートと
基材を低密度ポリエチレン等の層を部分的に介して押出
ラミネートする方法等もとれる。かくして得られる本発
明の積層フィルム又はシートは、機械的強度が良好であ
るので、工業的に有利に製造する事が出来る。又、防水
性があり、かつ透湿性及び通気性が良好なので、果樹の
根元の土壌にこの積層フィルム又はシートがマルチシー
トとして展張する事で、果実の糖度が増し、成長、収穫
を早める事が出来るし、シート下面の熱、水気の放出も
良好であるので、根腐れを起こす事も無い。
ルム又はシートとポリオレフィン製の割布又は不織布を
部分的に熱圧着する方法、多孔性フィルム又はシートと
基材を低密度ポリエチレン等の層を部分的に介して押出
ラミネートする方法等もとれる。かくして得られる本発
明の積層フィルム又はシートは、機械的強度が良好であ
るので、工業的に有利に製造する事が出来る。又、防水
性があり、かつ透湿性及び通気性が良好なので、果樹の
根元の土壌にこの積層フィルム又はシートがマルチシー
トとして展張する事で、果実の糖度が増し、成長、収穫
を早める事が出来るし、シート下面の熱、水気の放出も
良好であるので、根腐れを起こす事も無い。
【0042】
【実施例】以下本発明を実施例に基づいて更に詳細に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限りこれ等の実
施例に限定される物では無い。 実施例1 (1) 線状低密度ポリエチレン{メルトインデックス
(MI):1.0g/10分、流動比:19、密度
(ρ):0.921g/cm3 、共重合成分:1−ブテ
ン、共重合量:10重量%、融点:120℃}を40メ
ッシュのパウダーに粉砕した物を80重量部と高圧法の
低密度ポリエチレン(MI=2.0g/10分、密度
0.924g/cm3 )を20重量部とをヘンシェルミ
キサー中で撹拌混合してポリオレフィン系樹脂とした。
明するが、本発明はその要旨を越えない限りこれ等の実
施例に限定される物では無い。 実施例1 (1) 線状低密度ポリエチレン{メルトインデックス
(MI):1.0g/10分、流動比:19、密度
(ρ):0.921g/cm3 、共重合成分:1−ブテ
ン、共重合量:10重量%、融点:120℃}を40メ
ッシュのパウダーに粉砕した物を80重量部と高圧法の
低密度ポリエチレン(MI=2.0g/10分、密度
0.924g/cm3 )を20重量部とをヘンシェルミ
キサー中で撹拌混合してポリオレフィン系樹脂とした。
【0043】次いでこれにヒンダードアミン系光安定剤
(商品名:TINUVIN622LD、チバガイギー社
製)を2.5重量部、紫外線吸収剤(商品名:CYAO
RBUV−531、アメリカン・サイアナミッド社製)
を1.8重量部、酸性燐酸エステルの金属塩類(商品
名:LBT−1830、堺化学工業(株)製)を1.5
重量部、ジペンタエリスリトール−2−エチルヘキサン
酸エステルを10重量部、2,5−ジメチル−2,5−
ビス−(t−ブチルペルオキシ)−3−ヘキシンを0.
02重量部撹拌しながら添加混合した。
(商品名:TINUVIN622LD、チバガイギー社
製)を2.5重量部、紫外線吸収剤(商品名:CYAO
RBUV−531、アメリカン・サイアナミッド社製)
を1.8重量部、酸性燐酸エステルの金属塩類(商品
名:LBT−1830、堺化学工業(株)製)を1.5
重量部、ジペンタエリスリトール−2−エチルヘキサン
酸エステルを10重量部、2,5−ジメチル−2,5−
ビス−(t−ブチルペルオキシ)−3−ヘキシンを0.
02重量部撹拌しながら添加混合した。
【0044】更に、リン酸エステル(第一工業製薬
(株)製 プライサーフA208B 2%処理)で表面
処理した炭酸カルシウムを170重量部添加し撹拌混合
した。かくして得られた混合物を、二軸混練機DSM−
65(Double Screw Mixer、日本製
鋼所(株)製)を用いて混練し、造粒した。これを40
mmφ押出機によりインフレーション成形し、厚さ70
μmのフィルムに成膜した。押出条件は下記のとおり。
(株)製 プライサーフA208B 2%処理)で表面
処理した炭酸カルシウムを170重量部添加し撹拌混合
した。かくして得られた混合物を、二軸混練機DSM−
65(Double Screw Mixer、日本製
鋼所(株)製)を用いて混練し、造粒した。これを40
mmφ押出機によりインフレーション成形し、厚さ70
μmのフィルムに成膜した。押出条件は下記のとおり。
【0045】
【表1】シリンダー温度:170−190−210−2
30℃ ヘッド、ダイス温度:200℃ ダイス直径:100mm 引取速度:8m/min ブローアップ比:3 フロストライン高さ:700mm 折り径:471mm
30℃ ヘッド、ダイス温度:200℃ ダイス直径:100mm 引取速度:8m/min ブローアップ比:3 フロストライン高さ:700mm 折り径:471mm
【0046】かくして得られたフィルムを引取方向にス
リットした物をロール延伸機により一軸延伸を行った。
延伸条件は下記のとおりとした。
リットした物をロール延伸機により一軸延伸を行った。
延伸条件は下記のとおりとした。
【表2】延伸温度:60℃ 延伸倍率:2.0倍 延伸後速度:11.0m/min 延伸後のフィルム厚み:35μm
【0047】得られたフィルムの物性評価は下記によっ
て行い結果を表1に示した。 1)透湿度:ASTM E26−66(E)に準ずる。 2)引裂強度:JIS P 8116に準じ、フィルム
の引取方向を測定し、1枚当たりの強度をgで求める。
て行い結果を表1に示した。 1)透湿度:ASTM E26−66(E)に準ずる。 2)引裂強度:JIS P 8116に準じ、フィルム
の引取方向を測定し、1枚当たりの強度をgで求める。
【0048】3)面強度:フィルムサンプルを100m
m×100mmの正方形にカットし、内径80mmの2
枚のドーナツ状押さえリングで挟んで固定する。フィル
ムの中央に太さが20mmの丸棒で、先端が半径10m
mの半球状とされたプランジャーを500mm/分の速
度で押していき、フィルムが破断した時の押し付け距離
を伸度とし、その時の強度を面強度とする。
m×100mmの正方形にカットし、内径80mmの2
枚のドーナツ状押さえリングで挟んで固定する。フィル
ムの中央に太さが20mmの丸棒で、先端が半径10m
mの半球状とされたプランジャーを500mm/分の速
度で押していき、フィルムが破断した時の押し付け距離
を伸度とし、その時の強度を面強度とする。
【0049】4)形成性:目視により次の基準により判
断した。 ◎:バブル安定、ダイライン無し ○:バブル安定、ダイライン有 △:フィルム幅変動 ×:成形不可
断した。 ◎:バブル安定、ダイライン無し ○:バブル安定、ダイライン有 △:フィルム幅変動 ×:成形不可
【0050】5)延伸性 ◎:切断無し、均一延伸、延伸ムラ無し ○:切断無し、延伸ムラ、殆ど無し △:切断無し、延伸ムラ、ややあり ×:切断又は延伸ムラ大
【0051】(2) 基材として、ナイロン系スパンボ
ンド不織布(目付け15g/m2 )を使用し、該不織布
上にホットメルト樹脂を千鳥状に塗布し、上記(1)で
得た多孔性フィルムを貼り合わせて本発明の積層フィル
ムを得た。得られた積層フィルムを、基材面を下にし
て、開花時の桃の樹木の根元を十分覆う様に展張した。
その後、約四ケ月間通常の栽培を行い、得られた果実の
糖度をBrix糖度計で測定した。又、使用後の多孔性
フィルムの引裂強度及び面強度の測定を行った。結果を
表2に示す。
ンド不織布(目付け15g/m2 )を使用し、該不織布
上にホットメルト樹脂を千鳥状に塗布し、上記(1)で
得た多孔性フィルムを貼り合わせて本発明の積層フィル
ムを得た。得られた積層フィルムを、基材面を下にし
て、開花時の桃の樹木の根元を十分覆う様に展張した。
その後、約四ケ月間通常の栽培を行い、得られた果実の
糖度をBrix糖度計で測定した。又、使用後の多孔性
フィルムの引裂強度及び面強度の測定を行った。結果を
表2に示す。
【0052】実施例2 実施例1で用いたと同じポリオレフィン系樹脂(混合
物)100重量部に対し、リン酸エステル(第一工業製
薬(株)製 プライサーフA208B 2%処理)で表
面処理した炭酸カルシウム130重量部並びに酸化亜鉛
40重量部を用いた以外は実施例1と同様な方法で積層
フィルムを得た。結果を表1及び表2に示す。
物)100重量部に対し、リン酸エステル(第一工業製
薬(株)製 プライサーフA208B 2%処理)で表
面処理した炭酸カルシウム130重量部並びに酸化亜鉛
40重量部を用いた以外は実施例1と同様な方法で積層
フィルムを得た。結果を表1及び表2に示す。
【0053】実施例3 実施例1で用いたと同じポリオレフィン系樹脂100重
量部に対し、リン酸エステル(第一工業製薬(株)製
プライサーフA212C 2.5%処理)で表面処理し
た炭酸カルシウム150重量部並びに酸化チタン20重
量部を用いた以外は実施例1と同様な方法で積層フィル
ムを得た。結果を表1及び表2に示す。
量部に対し、リン酸エステル(第一工業製薬(株)製
プライサーフA212C 2.5%処理)で表面処理し
た炭酸カルシウム150重量部並びに酸化チタン20重
量部を用いた以外は実施例1と同様な方法で積層フィル
ムを得た。結果を表1及び表2に示す。
【0054】比較例1 実施例1において、充填剤である炭酸カルシウムとして
表面処理をしていないものを用いた以外は実施例1と同
様にして積層フィルムを得た。その結果を表1及び表2
に示す。
表面処理をしていないものを用いた以外は実施例1と同
様にして積層フィルムを得た。その結果を表1及び表2
に示す。
【0055】
【表3】
【0056】
【表4】
【0057】
【発明の効果】本発明の積層フィルム又はシートは、透
湿性及び通気性が良好で、耐候性も優れているので、果
樹栽培時に土壌被覆材として使用する事により、果実の
糖度を向上させる事が出来る。
湿性及び通気性が良好で、耐候性も優れているので、果
樹栽培時に土壌被覆材として使用する事により、果実の
糖度を向上させる事が出来る。
Claims (4)
- 【請求項1】 基材上に(A)密度0.965g/cm
3 以下、メルトインデックス10g/10min以下の
ポリオレフィン樹脂100重量部、(B)リン酸エステ
ルで表面処理した充填材25〜400重量部及び(C)
ヒンダードアミン系光安定剤0.1〜10重量部及び
(D)ベンゾトリアゾール系又はベンゾフェノン系又は
ベンゾエート系紫外線吸収剤0.1〜10重量部から成
る樹脂組成物を形成して得られるフィルム又はシートを
少なくともその引き取り方向に一軸延伸して得られる多
孔性ポリオレフィン層を有する積層フィルム又はシート
から成る事を特徴とする土壌被覆材。 - 【請求項2】 多孔性ポリオレフィン層が、(A)密度
0.965g/cm 3 以下、メルトインデックス10g
/10min以下のポリオレフィン樹脂100重量部、
(B)リン酸エステルで表面処理した充填材25〜40
0重量部、(C)ヒンダードアミン系光安定剤0.1〜
10重量部及び(D)ベンゾトリアゾール系又はベンゾ
フェノン系又はベンゾエート系紫外線吸収剤0.1〜1
0重量部、及び(E)酸性燐酸エステルの金属塩類0.
1〜10重量部から成る樹脂組成物を成形して得られる
フィルム又はシートを少なくともその引き取り方向に一
軸延伸して得られたものである事を特徴とする請求項1
記載の土壌被覆材。 - 【請求項3】 多孔性ポリオレフィン層が、(A)密度
0.965g/cm 3 以下、メルトインデックス10g
/10min以下のポリオレフィン樹脂100重量部、
(B)リン酸エステルで表面処理した充填材25〜40
0重量部、(C)ヒンダードアミン系光安定剤0.1〜
10重量部及び(D)ベンゾトリアゾール系又はベンゾ
フェノン系又はベンゾエート系紫外線吸収剤0.1〜1
0重量部、(F)分子内にエステル結合もしくはアミド
結合を有する分子量100以上、常圧での沸点200℃
以上、融点100℃以下の可塑剤1〜100重量部及び
(G)ラジカル発生剤0.0001〜0.1重量部から
成る樹脂組成物を成形して得られるフィルム又はシート
を少なくともその引き取り方向に一軸延伸して得られた
ものである事を特徴とする請求項1記載の土壌被覆材。 - 【請求項4】 多孔性ポリオレフィン層が、(A)密度
0.965g/cm 3 以下、メルトインデックス10g
/10min以下のポリオレフィン樹脂100重量部、
(B)リン酸エステルで表面処理した充填材25〜40
0重量部、(C)ヒンダードアミン系光安定剤0.1〜
10重量部及び(D)ベンゾトリアゾール系又はベンゾ
フェノン系又はベンゾエート系紫外線吸収剤0.1〜1
0重量部、及び(E)酸性燐酸エステルの金属塩類0.
1〜10重量部、(F)分子内にエステル結合もしくは
アミド結合を有する分子量100以上、常圧での沸点2
00℃以上、融点100℃以下の可塑剤1〜100重量
部及び(G)ラジカル発生剤0.0001〜0.1重量
部から成る樹脂組成物を成形して得られるフィルム又は
シートを少なくともその引き取り方向に一軸延伸して得
られたものである事を特徴とする請求項1記載の土壌被
覆材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31352593A JPH07163247A (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | 土壌被覆材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31352593A JPH07163247A (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | 土壌被覆材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07163247A true JPH07163247A (ja) | 1995-06-27 |
Family
ID=18042365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31352593A Pending JPH07163247A (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | 土壌被覆材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07163247A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1060180A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-03 | Gurando Polymer:Kk | ポリオレフィン組成物 |
JPH1060187A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-03 | Gurando Polymer:Kk | ポリオレフィン組成物 |
JP2002331617A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-19 | Unitika Ltd | マルチ資材 |
JP2006137788A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Marui Kako Kk | 安定化されたポリオレフィン系樹脂およびポリオレフィン系樹脂の安定化方法 |
WO2007108109A1 (ja) | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Johoku Chemical Co., Ltd | 安定化されたポリオレフィン系樹脂およびポリオレフィン系樹脂の安定化方法 |
JP2016513159A (ja) * | 2013-02-22 | 2016-05-12 | オムヤ インターナショナル アーゲー | プラスチックに適用するための白色無機物質の新しい表面処理 |
-
1993
- 1993-12-14 JP JP31352593A patent/JPH07163247A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1060180A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-03 | Gurando Polymer:Kk | ポリオレフィン組成物 |
JPH1060187A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-03 | Gurando Polymer:Kk | ポリオレフィン組成物 |
JP2002331617A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-19 | Unitika Ltd | マルチ資材 |
JP4596676B2 (ja) * | 2001-05-09 | 2010-12-08 | ユニチカ株式会社 | マルチ資材 |
JP2006137788A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Marui Kako Kk | 安定化されたポリオレフィン系樹脂およびポリオレフィン系樹脂の安定化方法 |
WO2007108109A1 (ja) | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Johoku Chemical Co., Ltd | 安定化されたポリオレフィン系樹脂およびポリオレフィン系樹脂の安定化方法 |
JP2016513159A (ja) * | 2013-02-22 | 2016-05-12 | オムヤ インターナショナル アーゲー | プラスチックに適用するための白色無機物質の新しい表面処理 |
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