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JPH07139471A - Gas pressure driven micro pump - Google Patents

Gas pressure driven micro pump

Info

Publication number
JPH07139471A
JPH07139471A JP5287190A JP28719093A JPH07139471A JP H07139471 A JPH07139471 A JP H07139471A JP 5287190 A JP5287190 A JP 5287190A JP 28719093 A JP28719093 A JP 28719093A JP H07139471 A JPH07139471 A JP H07139471A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
space
port
diaphragm
flow
working gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5287190A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Yamada
田 孝 弘 山
Shinji Ando
藤 信 二 安
Yoshihiro Naruse
瀬 好 廣 成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinsangyo Kaihatsu KK
Aisin Corp
Original Assignee
Aisin Seiki Co Ltd
Shinsangyo Kaihatsu KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aisin Seiki Co Ltd, Shinsangyo Kaihatsu KK filed Critical Aisin Seiki Co Ltd
Priority to JP5287190A priority Critical patent/JPH07139471A/en
Priority to US08/341,071 priority patent/US5499909A/en
Publication of JPH07139471A publication Critical patent/JPH07139471A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Reciprocating Pumps (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 圧力衝撃を少なくする,低流量かつ送出速度
を正確にする,送出速度の調整を容易にする。 【構成】 第1ポ−ト(11),第2ポ−ト(12)およびそれ
らを連通とする通流空間(13)を有する流路手段(10);通
流空間(13)に沿って配列された複数個のダイアフラム(2
1a〜21e);各ダイアフラムの裏面に対向する複数個の作
動気体空間(22a〜22e)を有するダイアフラム支持手段(2
0);作動気体空間(22a〜22e)のそれぞれに個別に気体圧
振動を与えるための複数個の往復運動手段;および、往
復運動手段のそれぞれを、配列方向に上死点が推移する
関係に位相差をもって往復駆動する駆動手段;を備え
る。
(57) [Summary] [Purpose] To reduce pressure shock, to make low flow rate and delivery speed accurate, and to facilitate adjustment of delivery speed. [Structure] A flow path means (10) having a first port (11), a second port (12) and a flow-through space (13) communicating therewith; along the flow-through space (13) Arrayed diaphragms (2
1a to 21e); Diaphragm supporting means (2) having a plurality of working gas spaces (22a to 22e) facing the back surface of each diaphragm.
0); a plurality of reciprocating motion means for individually applying gas pressure vibration to each of the working gas spaces (22a to 22e); and a reciprocating motion means in which the top dead center changes in the arrangement direction. Drive means for reciprocating with a phase difference;

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、流体を低い流速(流量
/時間)で送り駆動するマイクロポンプに関し、特に、
ポンピングによる圧力衝撃が少ない低流量ポンプに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a micro pump for feeding and driving a fluid at a low flow velocity (flow rate / time), and more particularly,
The present invention relates to a low flow pump that has less pressure shock due to pumping.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば人工透析中に、透析装置に供給さ
れる生体血液あるいは透析装置より生体に戻される血液
をモニタする場合、連続モニタするのが好ましく、この
場合、血液を透析流路から分流してモニタ装置に供給す
ることが必要となる。モニタ装置で試薬などを加えた血
液は廃棄するので、モニタ装置には連続モニタが出来る
ように血液を連続供給しかつ可及的に低い流速で供給す
るのが好ましい。加えて、血栓を生じないように、また
測定,検査の精度を高くするために、圧力振動、特に衝
撃圧、は出来るだけ少ないのが好ましい。また、生体に
連続的に微量の薬剤又は補助液を注入する場合にも、連
続供給,低流速および低圧力振動が必要な場合がある。
2. Description of the Related Art For example, continuous monitoring is preferable when monitoring the living blood supplied to the dialysis machine or the blood returned to the living body from the dialysis machine during artificial dialysis. In this case, the blood is separated from the dialysis flow path. It is necessary to flow it and supply it to the monitor device. Since blood to which reagents and the like have been added by the monitor device is discarded, it is preferable to continuously supply blood to the monitor device so that continuous monitoring can be performed and at a flow rate as low as possible. In addition, it is preferable that the pressure vibration, particularly the impact pressure, be as small as possible in order to prevent thrombus and to improve the accuracy of measurement and inspection. In addition, continuous injection, low flow rate and low pressure vibration may be required when continuously injecting a small amount of drug or auxiliary liquid into the living body.

【0003】この種の要望を満すため、従来は、弾力性
チュ−ブをロ−タ(3個又は4個の放射状に延びる回転
ア−ム)の先端に装着したロ−ラで加圧するロ−ラポン
プが提案されている。また、弾力性チュ−ブの延びる方
向に複数個の押し板を並べ、押し板のそれぞれを、電気
モ−タで回転駆動されるカム板で突き出し駆動し、カム
板の配列によりチュ−ブに蠕動運動を起こさせてチュ−
ブを絞るようにしてチュ−ブ内流体を送り出すフィンガ
−ポンプが提案されている。
To meet this type of demand, hitherto, a resilient tube was pressurized with a roller mounted at the tip of a rotor (three or four radially extending rotating arms). Roller pumps have been proposed. Further, a plurality of push plates are arranged in the direction in which the elastic tube extends, and each push plate is ejected and driven by a cam plate which is rotationally driven by an electric motor. The peristaltic movement is caused and the tu
There has been proposed a finger pump that delivers the fluid in the tube by squeezing the tube.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上述のロ−ラポンプお
よびフィンガ−ポンプのいずれも、弾力性チュ−ブを押
し、チュ−ブの復元力で被駆動流体の吸入を行なうの
で、その原理上、低流量化に限度がある。低流量とする
ためにチュ−ブを細径にする程チュ−ブの寸法誤差や、
ロ−ラ,押し板等の取付誤差による流量のばらつきが大
きくなり、流量調節がむつかしくなる。またチュ−ブの
弾力性の低下に伴なって送出流量が低下しかつ流量変動
を生じ易い。また、圧力衝撃はチュ−ブの弾力である程
度吸収されるがこの衝撃吸収能力が低下する。
Both the roller pump and the finger pump described above push the elastic tube and suck the driven fluid by the restoring force of the tube. Therefore, in principle, There is a limit to low flow rate. To make the flow rate low, the smaller the tube diameter, the dimensional error of the tube,
Variations in flow rate due to mounting errors of rollers, push plates, etc. become large, making flow rate adjustment difficult. Further, the delivery flow rate decreases and the flow rate fluctuation easily occurs as the tube elasticity decreases. Further, the pressure shock is absorbed to some extent by the elasticity of the tube, but this shock absorbing capacity is reduced.

【0005】本発明は、圧力衝撃を少なくすることを第
1の目的とし、低流量かつ送出量を正確にすることを第
2の目的とし、送出量の調整を容易にすることを第3の
目的とする。
A first object of the present invention is to reduce pressure shock, a second object is to make a low flow rate and a delivery amount accurate, and a third object is to facilitate adjustment of the delivery amount. To aim.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の気体圧駆動マイ
クロポンプは、第1ポ−ト(11),第2ポ−ト(12)および
それらを連通とする通流空間(13)を有する流路手段(1
0);それぞれが、前記通流空間(13)に表面が露出し該空
間に対して膨出/退避しうる、前記通流空間(13)に沿っ
て第1ポ−ト(11)から第2ポ−ト(12)の方向に配列され
た複数個のダイアフラム(21a〜21e);前記ダイアフラム
(21a〜21e)に関して前記通流空間(13)の反対側に配設さ
れ、各ダイアフラムの裏面に対向する複数個の作動気体
空間(22a〜22e)を有するダイアフラム支持手段(20);前
記作動気体空間(22a〜22e)のそれぞれに個別に気体圧振
動を与えるための複数個の往復運動手段(図1:60,73a〜7
3e/図4:53a〜53e中の55/図5:60,75a〜75e,76a〜76e);
および、前記往復運動手段のそれぞれを、第1ポ−ト(1
1)に近いものから第2ポ−ト(12)に近いものの方向に作
動気体空間(22a〜22e)に高圧ピ−クを与える上死点が推
移する関係に位相差をもって往復駆動する駆動手段(図
1:72a〜72e,90a〜90e,100/図4:72a〜72e,90a〜90e,100/
図5:96,97);を備える。なお、カッコ内には、理解を容
易にするために、図面に示し後述する実施例の対応要素
の記号を、参考までに記入した。
A gas pressure driven micropump according to the present invention has a first port (11), a second port (12) and a flow space (13) communicating with each other. Channel means (1
0); respectively, from the first port (11) to the first port (11) along the flow-through space (13), the surface of which is exposed to the flow-through space (13) and can be bulged / retracted from the space. A plurality of diaphragms (21a to 21e) arranged in the direction of two ports (12);
Diaphragm support means (20) having a plurality of working gas spaces (22a to 22e) arranged on the opposite side of the flow space (13) with respect to (21a to 21e) and facing the back surface of each diaphragm; A plurality of reciprocating means (Fig. 1: 60, 73a to 7) for individually applying gas pressure oscillation to each of the gas spaces (22a to 22e).
3e / Fig. 4: 55 in 53a to 53e / Fig. 5: 60, 75a to 75e, 76a to 76e);
Each of the reciprocating means is connected to the first port (1
Driving means for reciprocating with a phase difference in a relationship in which the top dead center gives a high pressure peak to the working gas space (22a-22e) in the direction from the one close to 1) to the second port (12) (Figure
1: 72a to 72e, 90a to 90e, 100 / Fig. 4: 72a to 72e, 90a to 90e, 100 /
5:96, 97); In addition, in order to facilitate understanding, the symbols of the corresponding elements of the examples shown in the drawings and described later are entered in parentheses for reference.

【0007】[0007]

【作用】駆動手段が、往復運動手段のそれぞれを、第1
ポ−ト(11)に近いものから第2ポ−ト(12)に近いものの
方向に作動気体空間(22a〜22e)に高圧ピ−クを与える上
死点が推移する関係に位相差をもって往復駆動すると、
作動気体空間(22a〜22e)のそれぞれの圧力が、高低に振
動し、高圧ピ−クが第1ポ−ト(11)に近い作動気体空間
(22a)から第2ポ−ト(12)に近い作動気体空間(22b)に順
次に移動する。この作動気体空間(22a〜22e)の圧力振動
に対応して、ダイアフラム(21a〜21e)は高圧力では通流
空間(13)に対して膨出し低圧力では通流空間(13)より退
避し、第1ポ−ト(11)に近いダイアフラム(21a)から第
2ポ−ト(12)に近いダイアフラム(21b)に膨出が順次に
移動する。これにより通流空間(13)の流体は第1ポ−ト
(11)から第2ポ−ト(12)に向けて絞り出される。
The driving means includes the first and second reciprocating means respectively.
A high-pressure peak is applied to the working gas space (22a to 22e) in the direction from the one close to the port (11) to the one close to the second port (12). When you drive
Each pressure of the working gas space (22a-22e) oscillates high and low, and the high pressure peak is close to the first port (11)
It moves sequentially from (22a) to the working gas space (22b) near the second port (12). Corresponding to the pressure oscillation of the working gas space (22a to 22e), the diaphragm (21a to 21e) bulges with respect to the flow space (13) at high pressure and retracts from the flow space (13) at low pressure. , The bulge sequentially moves from the diaphragm (21a) near the first port (11) to the diaphragm (21b) near the second port (12). As a result, the fluid in the flow-through space (13) will flow through the first port.
It is squeezed out from (11) toward the second port (12).

【0008】往復運動体とダイアフラムの間には作動気
体空間(22a〜22e)があり、該空間内の気体(空気)は可
圧縮性(圧力が高くなると収縮し低下すると膨張する)
であるので、仮に往復運動体がパルス的(2位置的)に
往復運動しても、それによってダイアフラムに加わる圧
力は気体の収縮/膨張によりサイン波(正弦波)状に平
滑化されて、作動気体空間(22a〜22e)に対するダイアフ
ラム(21a〜21e)の膨出/退避運動は滑らかかつ柔らかで
あり、これにより送り出される流体に、ダイアフラムの
往復振動よりも高い周波数領域の圧力振動又は圧力衝撃
を実質上生ずることがない。送り出される流体はより静
流に近いものとなる。
There is a working gas space (22a to 22e) between the reciprocating body and the diaphragm, and the gas (air) in the space is compressible (contracts when the pressure increases and expands when the pressure decreases).
Therefore, even if the reciprocating body reciprocates in a pulsed (two-position) manner, the pressure applied to the diaphragm is smoothed into a sine wave (sine wave) by the contraction / expansion of the gas, and the operation is performed. The bulging / retracting movement of the diaphragms (21a to 21e) with respect to the gas space (22a to 22e) is smooth and soft, and the fluid delivered by this causes a pressure vibration or pressure shock in a frequency region higher than the reciprocating vibration of the diaphragm. Virtually never occurs. The fluid delivered will be closer to a static flow.

【0009】作動気体空間(22a〜22e)の気体が可圧縮性
であるので、ダイアフラムには尖頭的な圧力は加わら
ず、ダイアフラムが圧力衝撃で破壊する確率が低い。し
たがってダイアフラムは薄い小サイズのものとしうる。
ダイアフラムを薄く小サイズにする程、低流量となる。
にもかかわらず、流量のばらつきを実質上生じないのに
加えて、往復運動体の振動の繰返し周期の調整により流
量を調整しうる。したがって所要の低流量の、流量が可
調整のマイクロポンプを実現しうる。ダイアフラムは、
前述のロ−ラポンプのチュ−ブのような経時的な形状変
化を生じないので、送出量の経時的な低下を実質上生じ
ない。
Since the gas in the working gas space (22a-22e) is compressible, no sharp pressure is applied to the diaphragm, and the probability that the diaphragm will be broken by the pressure shock is low. Therefore, the diaphragm may be thin and small in size.
The thinner and smaller the diaphragm, the lower the flow rate.
Nevertheless, the flow rate can be adjusted by adjusting the repetitive cycle of the vibration of the reciprocating body in addition to the fact that the flow rate does not substantially fluctuate. Therefore, it is possible to realize a micropump having a required low flow rate and an adjustable flow rate. The diaphragm is
Since the shape change with time like the tube of the roller pump does not occur, the delivery amount does not substantially decrease with time.

【0010】本発明の他の目的および特徴は、図面を参
照した以下の実施例の説明より明らかになろう。
Other objects and features of the present invention will become apparent from the following description of embodiments with reference to the drawings.

【0011】[0011]

【実施例】図1に本発明の第一実施例のポンプ機構を示
す。流路部材10は、大略で、長方形の升形で、底壁内
面に長方形溝状の流体流路13を形成し、第1ポ−ト1
1と第2ポ−ト12を被駆動流体流路13の左端部およ
び右端部に連通としたものである。流体流路13の底面
には、後述するダイアフラムが対向する位置に、ダイア
フラムが膨出したときの球形頂部を受入れるための、縁
が円形で底面が球形の溝14がある。流路部材10の内
部には大略で長方形のシリコン板20が挿入されて、熱
融着性の接着フィルム41および42を介して流路部材
10の底面に圧着されている。シリコン板20には、流
体流路13に対向する位置に5個の作動気体室22a〜
22eがエッチング加工により開けられており、これら
の気体室22a〜22eの、流体流路13に対向する開
口は、それぞれダイアフラム21a〜21eで閉じられ
ている。この実施例では、気体室22a〜22eおよび
ダイアフラム21a〜21eを有するシリコン板20は
次のようにして製造されたものである。
FIG. 1 shows a pump mechanism of a first embodiment of the present invention. The flow channel member 10 is generally rectangular and has a rectangular groove-shaped fluid flow channel 13 formed on the inner surface of the bottom wall.
The first and second ports 12 communicate with the left end portion and the right end portion of the driven fluid passage 13. The bottom surface of the fluid flow path 13 has a groove 14 with a circular edge and a spherical bottom surface for receiving a spherical top portion when the diaphragm bulges, at a position where a diaphragm, which will be described later, faces each other. A roughly rectangular silicon plate 20 is inserted inside the flow path member 10 and is pressure-bonded to the bottom surface of the flow path member 10 via heat-sealable adhesive films 41 and 42. The silicon plate 20 includes five working gas chambers 22a to 22a at positions facing the fluid flow path 13.
22e is opened by etching, and the openings of these gas chambers 22a to 22e facing the fluid flow path 13 are closed by diaphragms 21a to 21e, respectively. In this embodiment, the silicon plate 20 having the gas chambers 22a-22e and the diaphragms 21a-21e is manufactured as follows.

【0012】(a)250μm厚程度のシリコン板(シリコ
ン板20を複数個形成するための1つのシリコン板;以
下単にシリコン板と称す)の表,裏面にSiO2層を形
成する。このとき、シリコン板は、後に生成するダイア
フラムにたるみを持たせるために、1200°C程度にベ−
キングし、5000Å厚程度のSiO2層(表面のこの層
が、後にダイアフラムの下層となる)を形成する; (b)シリコン板の表面のSiO2層上に、スパッタ技
術により2000Å厚程度のNiCrSi層を形成する。この
NiCrSi層の一部は、後にダイアフラムの上層とな
る。このNiCrSi層の形成を終わるまで、ダイアフラ
ムにたるみを持たせるために、シリコン板を1200°C程
度に維持する; (c)シリコン板が常温程度まで冷えた後、NiCrSi
層の上にレジスト膜を形成し、これを露光しエッチング
してダイアフラム(21a〜21e)領域のみにレジスト膜を
残す; (d) ドライエッチング(逆スパッタ)により、レジ
スト膜の直下以外のNiCrSi層を除去する。このよう
にして残ったNiCrSi層とその直下のSiO2層がダイ
アフラム(2層構造)である。これら2層は、温度が下
がったことにより収縮しようとして比較的に大きな内部
応力(熱膨張係数が異なるので、SiO2層は圧縮応
力、NiCrSi層は引張応力)を生じているが、この段
階ではシリコン板の基体部に一体であるので、たるみを
生じない; (e) NiCrSi層上に残したレジスト膜を除去して
NiCrSiを露出させて、表,裏面に再度、作動気体室
22a〜22eを形成するためのレジスト膜を形成す
る; (f) 露光およびエッチングにより、シリコン板の裏
面の、NiCrSi層22対向部に、作動気体室22a〜
22e用の開口を形成し、更にエッチング(フッ酸処
理)により、該開口部(シリコン板20の裏面)のSiO2
層も除去し、次に表,裏面のレジスト膜を除去する; (g) 裏面のSiO2層の開口をエッチングして、表
面のSiO2層(ダイアフラムの下層)に達する穴すなわ
ち作動気体室22a〜22eを開ける。ダイアフラムの
SiO2層までエッチングすると、ダイアフラム(Si
2層+NiCrSi層)の拘束がなくなるので、SiO2
に作用する圧縮応力が解放されてダイアフラムにたわみ
が生ずる; (h) 表,裏面のSiO2層を除去し、シリコン板
を、長方形の一単位毎(複数個)に切断分離する。分離
された1個が図1に示すシリコン板20である。再度図
1を参照すると、シリコン板20の下面には、熱融着性
の接着フィルム43を介して上中継板30が圧着されて
いる。上中継板30には作動気体室22a〜22eに連
通する気体通路31a〜31eが開けられており、中継
板30の下面には、気体通路31a〜31eの中心を通
る微細溝32が刻まれている。この微細溝32は、ピン
先で引掻いた程度の、Oリングによっては閉塞されない
細幅,浅底のものである。
(A) SiO 2 layers are formed on the front and back surfaces of a silicon plate having a thickness of about 250 μm (one silicon plate for forming a plurality of silicon plates 20; hereinafter simply referred to as a silicon plate). At this time, the silicon plate has a base of about 1200 ° C. in order to have a slack in the diaphragm to be generated later.
And King, 5000 Å thickness of about SiO 2 layer (the layer of surface, the lower layer of the diaphragm after) to form a; (b) the SiO 2 layer on the surface of the silicon plate, NiCrSi of about 2000Å thick by a sputtering technique Form the layers. A portion of this NiCrSi layer will later become the upper layer of the diaphragm. Until the formation of this NiCrSi layer is completed, the silicon plate is maintained at about 1200 ° C. in order to allow the diaphragm to have slack; (c) After the silicon plate has cooled to about room temperature, NiCrSi
A resist film is formed on the layer, and the resist film is exposed and etched to leave the resist film only in the diaphragm (21a to 21e) region; (d) By dry etching (reverse sputtering), the NiCrSi layer other than directly under the resist film is formed. To remove. The NiCrSi layer remaining in this manner and the SiO 2 layer immediately below it are the diaphragm (two-layer structure). These two layers generate relatively large internal stress (compressive stress in the SiO 2 layer and tensile stress in the NiCrSi layer because of different thermal expansion coefficients) in an attempt to shrink due to a decrease in temperature. Since it is integrated with the base portion of the silicon plate, it does not cause slack; A resist film for forming is formed; (f) The working gas chambers 22a to 22a are formed on the rear surface of the silicon plate facing the NiCrSi layer 22 by exposure and etching.
By forming an opening for 22e and further etching (hydrofluoric acid treatment), SiO 2 in the opening (the back surface of the silicon plate 20) is formed.
Layers are also removed, then removed the table, the back surface of the resist film; (g) the opening of the back surface of the SiO 2 layer is etched, the SiO 2 layer surface holes or working gas chamber 22a reaches the (lower layer of the diaphragm) Open ~ 22e. When the SiO 2 layer of the diaphragm is etched, the diaphragm (Si
Since the constraint of (O 2 layer + NiCrSi layer) is removed, the compressive stress acting on the SiO 2 layer is released and the diaphragm is bent; (h) The SiO 2 layers on the front and back surfaces are removed, and the silicon plate is formed into a rectangular Cut and separate each unit (plurality). The separated one is the silicon plate 20 shown in FIG. Referring again to FIG. 1, the upper relay plate 30 is pressure-bonded to the lower surface of the silicon plate 20 via the heat-fusible adhesive film 43. Gas passages 31a to 31e communicating with the working gas chambers 22a to 22e are opened in the upper relay plate 30, and fine grooves 32 passing through the centers of the gas passages 31a to 31e are engraved on the lower surface of the relay plate 30. There is. The fine groove 32 has a narrow width and a shallow depth that is not blocked by an O-ring and is scratched by a pin tip.

【0013】以上のように、流路部材10の内部には、
シリコン板20および上中継板30がこの順に挿入され
て、これら3部材10,20および30が一体に固着さ
れている。
As described above, inside the flow path member 10,
The silicon plate 20 and the upper relay plate 30 are inserted in this order, and these three members 10, 20 and 30 are integrally fixed.

【0014】下ケ−ス80は上が開いた大略で升形のも
のであり、底壁にはプランジャ73a〜73eの上下動
を許す抜穴がある。これらの抜穴を基準にソレノイド7
0a〜70eが下ケ−ス80に収納されている。ソレノ
イド70aは、コア71a,それを周回する電気コイル
72aおよびプランジャ73aで構成されており、プラ
ンジャ73aの細径部がコア71aを貫通し、コア71
aの外方に円板状の当て頭がありこれが該細径部と共に
プランジャ73aと一体である。他のソレノイド70b
〜70eも、70aの構造および寸法が同一である。ソ
レノイド70a〜70eの上述の当て頭には、シリコン
ゴム製の薄膜60が載せられ、この薄膜60上に下中継
板50が載っている。下中継板50には、ソレノイド7
0b〜70eの当て頭による薄膜60の突上げを許す気
体室51a〜51e,これらの気体室51a〜51eを
気体通路31a〜31eに連通とするための気体通路、
および、上中継板30の気体通路31a〜31eと下中
継板50の気体通路31a〜31eとを実質上気密に結
合するためのOリング収納穴が開けられている。Oリン
グ収納穴にはOリングがはめ込まれている。
The lower case 80 is of a generally box-like shape having an open upper side, and a bottom wall has a hole for allowing the plungers 73a to 73e to move up and down. Solenoid 7 based on these holes
0a to 70e are stored in the lower case 80. The solenoid 70a is composed of a core 71a, an electric coil 72a that circulates the core 71a, and a plunger 73a. The small diameter portion of the plunger 73a penetrates the core 71a.
A disk-shaped pad head is provided on the outer side of a and is integrated with the plunger 73a together with the small diameter portion. Other solenoid 70b
.About.70e have the same structure and dimensions as 70a. A thin film 60 made of silicon rubber is placed on the above-mentioned contact heads of the solenoids 70a to 70e, and the lower relay plate 50 is placed on the thin film 60. The lower relay plate 50 has a solenoid 7
Gas chambers 51a to 51e that allow the thin film 60 to be pushed up by the head of 0b to 70e, and gas passages for connecting these gas chambers 51a to 51e to the gas passages 31a to 31e,
In addition, O-ring housing holes for substantially airtightly coupling the gas passages 31a to 31e of the upper relay plate 30 and the gas passages 31a to 31e of the lower relay plate 50 are formed. An O-ring is fitted in the O-ring storage hole.

【0015】以上のように、下ケ−ス80の内部には、
5個のソレノイド70a〜70e,薄膜60および下中
継板50が、下からこの順に収納されている。この下ケ
−ス80の上開口に、上述のようにシリコン板20およ
び中継板30を組込んだ流路部材10を押し込むことに
より、上中継板30がOリングを介して下中継板50を
押し下げて薄膜60を押しそしてソレノイド70a〜7
0eを下ケ−ス80の内底面に押す。この押し状態で流
路部材10の爪欠溝15,16内に下ケ−ス80の爪8
1,82が進入して、流路部材10と下ケ−ス80とが
一体となる。
As described above, inside the lower case 80,
The five solenoids 70a to 70e, the thin film 60, and the lower relay plate 50 are housed in this order from the bottom. By pushing the flow path member 10 incorporating the silicon plate 20 and the relay plate 30 as described above into the upper opening of the lower case 80, the upper relay plate 30 moves the lower relay plate 50 through the O-ring. Press down to push membrane 60 and solenoids 70a-7
0e is pushed on the inner bottom surface of the lower case 80. In this pressed state, the claws 8 of the lower case 80 are inserted into the claw notch grooves 15 and 16 of the flow path member 10.
1, 82 enter and the flow path member 10 and the lower case 80 are integrated.

【0016】なお、下ケ−ス80に対して流路部材10
をやや強い力で引き上げると、爪81,82が爪欠溝1
5,16から外れて、流路部材10は下ケ−ス80から
外れる。このように両者を脱着可能な結合としているの
は、医療用の輸液ポンプとして松用する場合に、感染防
止のためディスポ(使い捨て)にするためである。
The lower case 80 is connected to the flow path member 10
When pulling up with a slightly strong force, the claws 81 and 82 will move into the claw groove 1.
The flow path member 10 is disengaged from the lower case 80 by being disengaged from the parts 5 and 16. In this way, the both are made detachable so as to make them disposable (disposable) to prevent infection when used as a medical infusion pump.

【0017】流路部材10を下ケ−ス80に装着すると
き、上中継板30がOリングに密着した後の更なる下方
への押しにより、気体室51a〜51eから作動気体室
22a〜22eの気体(この実施例では空気)空間の圧
力が上昇してダイアフラム21a〜21eが膨出したま
まとなるとか、あるいはその時膨出しなくても、その後
の温度上昇により前記空間の圧力が上昇してダイアフラ
ム21a〜21eが膨出する。このように膨出した状態
でプランジャ73aを上駆動すると前記空間の圧力が更
に上昇してダイアフラム21aが破裂することがあり得
る。破裂しない場合は、プランジャ73aの往復動に対
してダイアフラム21aの膨出/退避ストロ−クが小さ
く、ポンピング能力が著しく低下する。このような現象
を防ぐために、上中継板30には微細溝32が刻まれて
いる。流路部材10を下ケ−ス80に装着するとき、上
中継板30がOリングに密着した後の更なる下方への押
しにより、気体室51a〜51eから作動気体室22a
〜22eに至る空間の気圧が大気圧より高くなるときに
は微細溝32−上中継板30/下中継板50間のギャッ
プ−流路部材10/下ケ−ス80間ギャップを通して前
記空間の空気がケ−ス外に逃げる。流路部材10を下ケ
−ス80に装着した後の、温度上昇,低下により前記空
間の圧力が上昇又は低下するときにも同様な経路で、前
記空間と外気の間に通流を生ずる。したがって、非使用
時にはダイアフラム21a〜21eは常時所定のたわみ
形状(図1)を維持する。
When the flow path member 10 is mounted on the lower case 80, the upper relay plate 30 is pushed further downward after the upper relay plate 30 is brought into close contact with the O-ring, so that the working gas chambers 22a to 22e are moved from the gas chambers 51a to 51e. Or the diaphragms 21a to 21e remain expanded, or even if the diaphragms 21a to 21e do not expand at that time, the pressure in the space increases due to the subsequent temperature increase. The diaphragms 21a-21e swell. When the plunger 73a is driven upward in such a bulged state, the pressure in the space may further increase and the diaphragm 21a may burst. If the diaphragm 73a does not burst, the bulging / retracting stroke of the diaphragm 21a with respect to the reciprocating movement of the plunger 73a is small, and the pumping ability is significantly reduced. In order to prevent such a phenomenon, fine grooves 32 are carved in the upper relay plate 30. When the flow path member 10 is attached to the lower case 80, the upper relay plate 30 is pushed further downward after the upper relay plate 30 is brought into close contact with the O-ring, so that the working gas chambers 22a to 22a are moved from the gas chambers 51a to 51e.
When the air pressure in the space reaching to 22e becomes higher than the atmospheric pressure, the air in the space passes through the gap between the fine groove 32, the upper relay plate 30 and the lower relay plate 50, the flow path member 10 and the lower case 80. -Escape outside the room. When the pressure in the space rises or falls due to temperature rise or fall after the passage member 10 is attached to the lower case 80, a flow is generated between the space and the outside air through a similar path. Therefore, when not in use, the diaphragms 21a to 21e always maintain a predetermined flexible shape (FIG. 1).

【0018】ダイアフラム21a〜21eは、非使用状
態において、上述のSiO2層形成時のシリコン板のベ−
キングにより、常温では図1に示すようにたわみを持つ
形状となっている。この状態で気体室22a〜22eの
圧力が上昇するとダイアフラムは流体流路13に進入す
る方向に膨出するが、その頂部は溝14内に入り、頂部
が流体流路13の底面に当ることはない。仮にダイアフ
ラムの膨出頂部が流体流路13の平面状の底面に当ると
そこで球形から平面形にダイアフラム頂部が変形するの
で折り曲げ歪が繰返し加わってダイアフラム寿命が短
く、またポンピング効率(ダイアフラムの振動に対する
被駆動流体送出量)が低いが、溝14があることにより
ダイアフラムは底面に当らず、しかも上死点まで球形で
膨出するので、このような弊害を生じない。
The diaphragms 21a to 21e are the bases of the silicon plate when the above-mentioned SiO 2 layer is formed in the unused state.
Due to the king, it has a shape with a bend at room temperature as shown in FIG. When the pressure of the gas chambers 22a to 22e rises in this state, the diaphragm bulges in the direction of entering the fluid flow path 13, but the top part thereof enters the groove 14 and the top part does not hit the bottom surface of the fluid flow path 13. Absent. If the bulging top portion of the diaphragm hits the flat bottom surface of the fluid flow path 13, the top portion of the diaphragm is deformed from a spherical shape to a flat shape, and bending strain is repeatedly applied to shorten the diaphragm life and reduce the pumping efficiency (with respect to the vibration of the diaphragm). Although the driven fluid delivery amount is low, the diaphragm 14 does not contact the bottom surface due to the presence of the groove 14, and further, the diaphragm bulges to the top dead center in a spherical shape, so that such an adverse effect does not occur.

【0019】図2に、上述のソレノイド70a〜70e
の電気コイル72a〜72eに、ダイアフラム21a〜
21eを振動させるための通電を行なう電気回路を示
す。通電制御装置100のパルス発生器94は、ポテン
ショメ−タ95の抵抗値に対応する周期の電気パルスA
を発生する。通電制御装置100の回路要素が発生する
電気信号を図3に示すので、図3をも参照されたい。5
進カウンタ93がこの電気パルスAをカウントする。カ
ウンタ93は、初期状態(カウント値0)から、パルス
Aが1個到来する毎にカウント値1,2,3,4とカウ
ントアップしカウント値5になると自動的にカウント値
0に戻り、そしてまた1,2,・・とカウントアップす
る循環カウンタであり、カウント値0〜5を示すカウン
トデ−タがデコ−ダ92に与えられる。デコ−ダ92
は、カウントデ−タが0の間はその出力信号B0を高レ
ベルHに、他の出力信号B1〜B4は低レベルLに維持
する。カウントデ−タが1〜4のそれぞれのときは、出
力信号B1〜B4のそれぞれをHに、他の出力信号はL
に維持する。オアゲ−ト91a〜91eには、出力信号
B0〜B4の内の、H発生順で隣り合うものが与えら
れ、それらの出力は図3に示す信号C1〜C5となり、
これらの信号C1〜C5が、それぞれソレノイドドライ
バ90a〜90eに印加される。ソレノイドドライバ9
0a〜90eはそれぞれ信号C1〜C5のそれぞれがH
の間、電気コイル72a〜72eのそれぞれに通電す
る。
FIG. 2 shows the solenoids 70a to 70e described above.
To the electric coils 72a to 72e of the diaphragm 21a to
21e shows an electric circuit for energizing to vibrate 21e. The pulse generator 94 of the energization control device 100 has an electric pulse A having a cycle corresponding to the resistance value of the potentiometer 95.
To occur. Please refer to FIG. 3 for the electric signals generated by the circuit elements of the energization control device 100. 5
The advance counter 93 counts this electric pulse A. The counter 93 counts up from the initial state (count value 0) to count values 1, 2, 3, and 4 each time one pulse A arrives, and automatically returns to count value 0 when the count value becomes 5, and Further, it is a circulation counter which counts up to 1, 2, ..., And count data showing count values 0 to 5 is given to the decoder 92. Decorator 92
Keeps its output signal B0 at a high level H and the other output signals B1 to B4 at a low level L while the count data is 0. When the count data is 1 to 4, the output signals B1 to B4 are set to H, and the other output signals are set to L.
To maintain. Among the output signals B0 to B4, those adjacent to each other in the H generation order are given to the augments 91a to 91e, and their outputs become the signals C1 to C5 shown in FIG.
These signals C1 to C5 are applied to the solenoid drivers 90a to 90e, respectively. Solenoid driver 9
0a to 90e are signals H1 to C5, respectively.
During that time, each of the electric coils 72a to 72e is energized.

【0020】例えば、図3に示す時刻t1に電気コイル
72aに通電がある(C1=H)と、プランジャ73a
がコア71aに吸引されて、プランジャ73aの上端の
当て頭が薄膜60を気体室51aの内方に突上げる。こ
れにより気体通路31aを通して作動気体室22aの圧
力が上昇してダイアフラム21aが、たわみ形状(図
1)から、被駆動流体流路13の内方に突出する膨み形
状となる。すなわちダイアフラム21aが流体流路13
に膨出する。これによりダイアフラム21aの上側にあ
った被駆動流体は、一部は第1ポ−ト11の方向に、一
部はダイアフラム21bの方向に押される。
For example, when the electric coil 72a is energized (C1 = H) at the time t1 shown in FIG. 3, the plunger 73a is activated.
Is sucked by the core 71a, and the contact head at the upper end of the plunger 73a pushes up the thin film 60 inward of the gas chamber 51a. As a result, the pressure of the working gas chamber 22a rises through the gas passage 31a, and the diaphragm 21a has a bulging shape that projects from the flexible shape (FIG. 1) to the inside of the driven fluid flow path 13. That is, the diaphragm 21a is the fluid flow path 13
Swell to. As a result, the driven fluid on the upper side of the diaphragm 21a is partially pushed in the direction of the first port 11 and partially pushed in the direction of the diaphragm 21b.

【0021】次の時刻t2では、ダイアフラム21aは
まだ膨出しているが電気コイル72bの通電が開始され
て上述と同様にしてダイアフラム21bが流体流路13
に膨出する。このときダイアフラム21bの上側の被駆
動流体は、ダイアフラム21aが膨出しているので、ほ
とんどがダイアフラム21cの方向に押される。
At the next time t2, the diaphragm 21a is still bulging, but the electric coil 72b is energized and the diaphragm 21b is moved to the fluid flow path 13 in the same manner as described above.
Swell to. At this time, most of the driven fluid on the upper side of the diaphragm 21b is pushed toward the diaphragm 21c because the diaphragm 21a is bulging.

【0022】次の時刻t3では、電気コイル72aの通
電が止まるのでプランジャ73aが薄膜60の反発力で
下方に戻されこれにより室51aが負圧となって、ダイ
アフラム21aが退避するが、このとき入力ポ−ト11
の被駆動流体がダイアフラム21aによって吸入され
る。ダイアフラム21bは膨出しているので、ダイアフ
ラム21b側の被駆動流体は実質上吸引されない。ま
た、該時刻t3には電気コイル72cの通電が開始され
て上述と同様にしてダイアフラム21cが流体流路13
に膨出する。このときダイアフラム21cの上側の被駆
動流体は、ダイアフラム21bが膨出しているので、ほ
とんどがダイアフラム21dの方向に押される。
At the next time t3, since the electric coil 72a is de-energized, the plunger 73a is returned downward by the repulsive force of the thin film 60, which causes the chamber 51a to have a negative pressure and the diaphragm 21a to retreat. Input port 11
The driven fluid is sucked by the diaphragm 21a. Since the diaphragm 21b is bulged, the driven fluid on the diaphragm 21b side is not substantially sucked. At time t3, the electric coil 72c is energized, and the diaphragm 21c is moved to the fluid flow path 13 in the same manner as described above.
Swell to. At this time, most of the driven fluid on the upper side of the diaphragm 21c is pushed toward the diaphragm 21d because the diaphragm 21b is bulging.

【0023】次の時刻t4では、電気コイル72bの通
電が止まるのでプランジャ73bが薄膜60の反発力で
下方に戻されこれにより室51bが負圧となって、ダイ
アフラム21bが退避するが、このときダイアフラム2
1a上の被駆動流体がダイアフラム21bによって吸入
される。ダイアフラム21cは膨出しているので、ダイ
アフラム21c側の被駆動流体は実質上吸引されない。
また、該時刻t4には電気コイル72dの通電が開始さ
れて上述と同様にしてダイアフラム21dが流体流路1
3に膨出する。このときダイアフラム21dの上側の被
駆動流体は、ダイアフラム21cが膨出しているので、
ほとんどがダイアフラム21eの方向に押される。
At the next time t4, since the electric coil 72b is de-energized, the plunger 73b is returned downward by the repulsive force of the thin film 60, which causes the chamber 51b to have a negative pressure and the diaphragm 21b to retract. Diaphragm 2
The driven fluid on 1a is sucked by the diaphragm 21b. Since the diaphragm 21c is bulged, the driven fluid on the diaphragm 21c side is not substantially sucked.
At time t4, the electric coil 72d is energized, and the diaphragm 21d is moved to the fluid flow path 1 in the same manner as described above.
Bulge to 3. At this time, since the driven fluid above the diaphragm 21d is bulging in the diaphragm 21c,
Most are pushed in the direction of the diaphragm 21e.

【0024】次の時刻t5では、電気コイル72cの通
電が止まるのでプランジャ73cが薄膜60の反発力で
下方に戻されこれにより室51cが負圧となって、ダイ
アフラム21cが退避するが、このときダイアフラム2
1b上の被駆動流体がダイアフラム21cによって吸入
される。ダイアフラム21dは膨出しているので、ダイ
アフラム21d側の被駆動流体は実質上吸引されない。
また、該時刻t5には電気コイル72eの通電が開始さ
れて上述と同様にしてダイアフラム21eが流体流路1
3に膨出する。このときダイアフラム21eの上側の被
駆動流体は、ダイアフラム21dが膨出しているので、
ほとんどが第2ポ−ト12の方向に押される。
At the next time t5, since the electric coil 72c is de-energized, the plunger 73c is returned downward by the repulsive force of the thin film 60, which causes the chamber 51c to become a negative pressure and the diaphragm 21c to retract. Diaphragm 2
The driven fluid on 1b is sucked by the diaphragm 21c. Since the diaphragm 21d is bulged, the driven fluid on the diaphragm 21d side is not substantially sucked.
At time t5, the electric coil 72e is energized, and the diaphragm 21e moves to the fluid flow path 1 in the same manner as described above.
Bulge to 3. At this time, the driven fluid on the upper side of the diaphragm 21e has the diaphragm 21d bulging,
Most are pushed in the direction of the second port 12.

【0025】次の時刻t6は、上述の時刻t1の状態と
同様となる。このようにして、時刻t1〜t6までを一
サイクルとするダイアフラム21a〜21eの膨出/退
避振動が同様に繰返えされ、被駆動流体は第1ポ−ト1
1から吸入されて第2ポ−トに送出される。隣り合うダ
イアフラムは、時間差をもって順次に膨出駆動される
が、両者が重複して膨出している期間があって、隣り合
う3個のダイアフラムに関して説明すると、中央のダイ
アフラムが膨出しているときに被駆動流体の送り方向に
関して下流側(第2ポ−ト側)のダイアフラムを膨出に
上流側(第1ポ−ト側)のダイアフラムを退避に切換え
るので、下流側のダイアフラムの膨出による正圧(吐出
圧)は上流側には実質上伝播せず、また上流側のダイア
フラムの退避による負圧(吸引圧)は下流側には実質上
伝播せず、ダイアフラムの振動による被駆動流体の送り
効率が高い。ポテンショメ−タ95の抵抗値を変更する
とパルス発生器94が発生するパルスAの周期が長又は
短に変化し、一サイクルの時間(時刻t6−t1)が長
く又は短くなる。大略でいうと、長くなると送出速度
(流量/時間)は低く、短くなると送出速度は高くな
り、送出速度をポテンショメ−タ95で調整しうる。
The next time t6 is the same as the state at time t1 described above. In this way, the swelling / retracting vibrations of the diaphragms 21a to 21e, which repeat one cycle from the time t1 to t6, are similarly repeated, and the driven fluid is the first port 1.
1 is inhaled and delivered to the second port. The adjacent diaphragms are sequentially driven to bulge with a time difference, but there is a period in which both bulges overlap each other. Explaining three adjacent diaphragms, when the central diaphragm bulges. Since the diaphragm on the downstream side (second port side) is bulged and the diaphragm on the upstream side (first port side) is switched to evacuate with respect to the direction in which the driven fluid is fed, the bulging of the downstream diaphragm is corrected. The pressure (discharge pressure) does not substantially propagate to the upstream side, and the negative pressure (suction pressure) due to the retraction of the upstream diaphragm does not substantially propagate to the downstream side, and the driven fluid is fed by the vibration of the diaphragm. High efficiency. When the resistance value of the potentiometer 95 is changed, the period of the pulse A generated by the pulse generator 94 changes to long or short, and the time of one cycle (time t6-t1) becomes long or short. Generally speaking, the longer the delivery speed (flow rate / time), the shorter the delivery speed, and the faster the delivery speed can be adjusted with the potentiometer 95.

【0026】図2に示す通電回路の場合、通電デュ−テ
ィ(1サイクル内連続通電時間×100/1サイクル時間
%)は40%(2×100/5)で、これを変更するこ
とはできない。そこで第一実施例の変形例では、通電デ
ュ−ティを変更しうる通電回路を用いて、例えば通電制
御回路100をCPUと数値入力用の入力ボ−ドを主体
とするコンピュ−タによる制御回路に代えて、通電デュ
−ティを変更しうるものとする。この場合でも、隣り合
う3つのダイアフラムの中間のものが膨出している間
に、相対的に時間差はあっても上流側のダイアフラムが
退避に下流側のダイアフラムが膨張に切換わるように、
通電デュ−ティは、2×100/n %(nは並べるダイ
アフラムの数,第一実施例ではn=5)を中心に1×10
0/n %を越え、3×100/n %未満の範囲内とする
のが、駆動効率上良く、また、例えば通電デュ−ティが
2×100/n %の時に送出速度がピ−クに、通電デュ
−ティが1×100/n %および3×100/n %で、2
×100/n %の時の略半分の送出速度になるので、1
サイクルの時間調整で送出速度を粗設定し、通電デュ−
ティの1×100/n %から2×100/n %の範囲内の
調整で送出速度を細設定する。その逆としてもよい。こ
れにより、より微細に送出速度を調整しうる。図4に本
発明の第二実施例のポンプ機構を示す。この第二実施例
の流路部材10ならびにその内部のシリコン板20およ
び上中継板30の構造は、上述の第一実施例のものと同
一である。この第二実施例では、下中継板52に、上中
継板30の気体通路31a〜31eに連通する管体53
a〜53eが立てられ、それらの管体53a〜53eの
下端が支え板54で下支持されている。支え板54は中
空であり、その空間と管体53a〜53eの内空間とは
連通しており、支え板54の内空間と管体53a〜53
eに磁性流体55が収納されている。管体53a〜53
eのそれぞれには、電気コイル72a〜72eのそれぞ
れおよびリング状永久磁石74a〜74eのそれぞれが
装着されている。すなわち例えば管体53aに関して言
えば、リング状永久磁石74aと電気コイル72aの中
心穴を管体53が貫通している。永久磁石74a〜74
eは管体53a〜53eが延びる方向に分極磁化されて
いる(半径方向の分極磁化でもよい)。
In the case of the energizing circuit shown in FIG. 2, the energizing duty (continuous energizing time in one cycle × 100/1 cycle time%) is 40% (2 × 100/5), which cannot be changed. . Therefore, in the modified example of the first embodiment, for example, the energization control circuit 100 is a control circuit using a computer mainly composed of a CPU and an input board for inputting numerical values by using an energization circuit capable of changing the energization duty. Instead, the energizing duty may be changed. Even in this case, while the intermediate one of the three adjacent diaphragms is bulging, the upstream diaphragm switches to the retreat and the downstream diaphragm switches to the expansion even if there is a relative time difference.
The energization duty is 1 × 10 5 with 2 × 100 / n% (n is the number of diaphragms arranged, n = 5 in the first embodiment) as the center.
It is preferable to set the range of more than 0 / n% to less than 3 × 100 / n% in order to improve the driving efficiency, and for example, when the energizing duty is 2 × 100 / n%, the delivery speed becomes peak. , Energizing duty is 1 × 100 / n% and 3 × 100 / n%, 2
Since the delivery speed is almost half that of × 100 / n%, 1
The delivery speed is roughly set by adjusting the cycle time, and the
Finely set the delivery speed by adjusting within the range of 1 x 100 / n% to 2 x 100 / n% of the tee. The reverse is also possible. Thereby, the delivery speed can be adjusted more finely. FIG. 4 shows the pump mechanism of the second embodiment of the present invention. The structures of the flow path member 10 of the second embodiment and the silicon plate 20 and the upper relay plate 30 inside thereof are the same as those of the first embodiment described above. In the second embodiment, the lower relay plate 52 and the tubular body 53 communicating with the gas passages 31a to 31e of the upper relay plate 30.
a to 53e are erected, and the lower ends of the tubular bodies 53a to 53e are supported by a support plate 54 below. The support plate 54 is hollow, and the space communicates with the inner spaces of the pipe bodies 53a to 53e, and the inner space of the support plate 54 and the pipe bodies 53a to 53e.
The magnetic fluid 55 is stored in e. Tubular bodies 53a to 53
Each of the electric coils 72a to 72e and each of the ring-shaped permanent magnets 74a to 74e are attached to each of e. That is, for example, with respect to the tubular body 53a, the tubular body 53 penetrates through the center holes of the ring-shaped permanent magnet 74a and the electric coil 72a. Permanent magnets 74a-74
e is polarized and magnetized in a direction in which the tubular bodies 53a to 53e extend (may be radial polarized magnetization).

【0027】電気コイル72bおよび72cに通電する
と、それらが発生する磁力により、管体53bおよび5
3cの磁性流体55が引き上げられこれによりダイアフ
ラム21bおよび21cが図4に示すように膨出する。
なお、管体53bおよび53cにおいて磁性流体の量が
増える分、他の管体の磁性流体の量は減っているが、支
え板54内と管体53a〜53e内にある磁性流体の総
和は、当然のことながら一定である。図4に示す電気コ
イル72a〜72eには、第一実施例と同様に、図2に
示す電気回路が通電する。したがってダイアフラム72
a〜72eの動作は、第一実施例の場合と同様である。
この第二実施例ではプランジャに代えて磁性流体を用い
ているので、例えば図4は図3に示す時刻t3からt4
の間の状態を示すが、時刻t4では電気コイル72bの
通電が停止し電気コイル72dの通電が開始されるの
で、管体53d内の磁性流体が引き上げられて管体53
bの磁性流体が降下するが、該引き上げと降下が相補関
係(一方が他方の助けになる)にあるので、磁性流体駆
動に要するエネルギは小さく、エネルギ損失が低い。そ
の他の作用,効果ならびに変形例は上述の第一実施例の
場合と同様である。
When the electric coils 72b and 72c are energized, the magnetic force generated by them causes the tubular bodies 53b and 5c
The magnetic fluid 55 of 3c is pulled up, whereby the diaphragms 21b and 21c swell as shown in FIG.
Although the amount of magnetic fluid in the tubes 53b and 53c increases, the amount of magnetic fluid in the other tubes decreases, but the total amount of magnetic fluid in the support plate 54 and tubes 53a to 53e is It is, of course, constant. The electric circuits shown in FIG. 2 are energized to the electric coils 72a to 72e shown in FIG. 4, as in the first embodiment. Therefore, the diaphragm 72
The operations a to 72e are the same as in the case of the first embodiment.
Since the magnetic fluid is used in place of the plunger in this second embodiment, for example, FIG. 4 shows time t3 to t4 shown in FIG.
However, since the energization of the electric coil 72b is stopped and the energization of the electric coil 72d is started at time t4, the magnetic fluid in the pipe body 53d is pulled up and the pipe body 53 is drawn.
The magnetic fluid of b falls, but since the pulling up and the fall are in a complementary relationship (one helps the other), the energy required to drive the magnetic fluid is small and the energy loss is low. The other actions, effects, and modified examples are the same as those in the above-described first embodiment.

【0028】図5に本発明の第三実施例のポンプ機構を
示す。この第三実施例の流路部材10,その内部のシリ
コン板20,上中継板30ならびに下中継板50および
薄膜60の構造は、上述の第一実施例のものと同一であ
る。この第三実施例では、ガイド板56で上下方向に移
動自在に支持された押しロッド75a〜75eの上端面
が薄膜60に当っている。押しロッド75a〜75eの
下端面には周面がおむすび形のカム76a〜76eの周
面が当っている。カム76a〜76eは回転軸に固着さ
れている。カム76a〜76eは、その周面が全く同一
形状のものであるが、隣り合うものの間で72°の角度
差を置いて回転軸96に固着されている。回転軸96は
減速歯車機構を内蔵する平形電気モ−タユニット97の
出力軸(減速歯車機構の出力軸)に連結されている。電
気モ−タユニット97側から回転軸96を見て回転軸9
6は時計方向に回転駆動される。図5に示す状態で、カ
ム76bはその山がロッド75bと一直線に整合した状
態であり、ロッド75bは上死点にある。カム76a
は、カム76bに対して前記時計方向で72°分進み回
転しており、カム76cはカム76bに対して前記時計
方向で72°分遅れ回転しており、カム76dはカム7
6cに対して前記時計方向で72°分遅れ回転してお
り、カム76dの短軸がロッド75dと一直線に整合し
た状態でありロッド75dは下死点にある。カム76e
はカム76dに対して前記時計方向で72°分遅れ回転
している。すなわち、カム75a〜75eはこの順に順
次前記時計方向で72°づつ遅れ方向に、取付け角度が
ずれている。
FIG. 5 shows the pump mechanism of the third embodiment of the present invention. The structure of the flow path member 10, the silicon plate 20, the upper relay plate 30, the lower relay plate 50, and the thin film 60 in the third embodiment is the same as that of the first embodiment. In the third embodiment, the upper end surfaces of the push rods 75a to 75e supported by the guide plate 56 so as to be movable in the vertical direction hit the thin film 60. The lower surfaces of the push rods 75a to 75e are in contact with the peripheral surfaces of cam-shaped cams 76a to 76e having peripheral surfaces. The cams 76a to 76e are fixed to the rotary shaft. The cams 76a to 76e have exactly the same peripheral surfaces, but are fixed to the rotary shaft 96 with an angular difference of 72 ° between adjacent cams. The rotary shaft 96 is connected to the output shaft of a flat electric motor unit 97 (the output shaft of the reduction gear mechanism) which incorporates the reduction gear mechanism. The rotating shaft 9 is viewed from the side of the electric motor unit 97.
6 is driven to rotate clockwise. In the state shown in FIG. 5, the cam 76b has its peak aligned with the rod 75b, and the rod 75b is at the top dead center. Cam 76a
Is rotated by 72 ° in the clockwise direction with respect to the cam 76b, the cam 76c is rotated by 72 ° in the clockwise direction with respect to the cam 76b, and the cam 76d is rotated by the cam 7d.
It is rotated by 72 ° in the clockwise direction with respect to 6c, the short axis of the cam 76d is aligned with the rod 75d, and the rod 75d is at the bottom dead center. Cam 76e
Is rotated by a delay of 72 ° in the clockwise direction with respect to the cam 76d. That is, the mounting angles of the cams 75a to 75e are sequentially shifted in this order by 72 ° in the clockwise direction.

【0029】したがって図5に示す状態から回転軸96
が更に72°時計方向に回転すると、ロッド75aは下
死点に下がりこの過程でダイアフラム21aが退避して
第1ポ−ト11より被駆動流体を吸引し、ロッド75b
は往復ストロ−クの半分降下してこの過程でダイアフラ
ム21bが退避を始めて被駆動流体の吸引を開始し、ロ
ッド75cは上死点に達してこの過程でダイアフラム2
1cが被駆動流体を押し、ロッド75dは往復ストロ−
クの半分上昇してこの過程でダイアフラム21dが膨出
を始めて被駆動流体の押しを開始し、ロッド75eは上
死点に達しこの過程でダイアフラム21eが被駆動流体
を第2ポ−トに送り出しそしてそれが止まる。このよう
にして、電気モ−タ97による回転軸96の前記時計方
向の回転により、ロッド75a〜75eの上死点到達が
第1ポ−ト11に近いものから順次に第2ポ−ト12に
近いものに推移し、これと同じくダイアフラム21a〜
21eの膨出が推移し、第1ポ−ト11より被駆動流体
が吸入されつつ流体通路13の被駆動流体が第2ポ−ト
12に送り出される。回転軸96の1回転でロッド75
a〜75eは2回往復移動する。すなわちダイアフラム
21a〜21eは2サイクルの送り振動をする。電気モ
−タ97の回転速度を高くするとこの送り振動の繰返し
回数(回/時間)が多くなり、被駆動流体の送出速度が
上昇する。その他の作用,効果は上述の第一実施例の場
合と同様である。
Therefore, from the state shown in FIG.
Is further rotated clockwise by 72 °, the rod 75a is lowered to the bottom dead center, and in this process, the diaphragm 21a is retracted to suck the driven fluid from the first port 11 and the rod 75b.
Is lowered by half the stroke of the reciprocating stroke, and in this process the diaphragm 21b begins to retract and the suction of the driven fluid is started. The rod 75c reaches the top dead center and the diaphragm 2b is reached in this process.
1c pushes the driven fluid, and rod 75d reciprocates.
Halfway up, the diaphragm 21d starts to bulge and starts pushing the driven fluid in this process, the rod 75e reaches the top dead center, and the diaphragm 21e sends the driven fluid to the second port in this process. And it stops. In this manner, the rotation of the rotary shaft 96 in the clockwise direction by the electric motor 97 causes the rods 75a to 75e to reach the top dead center closer to the first port 11 and the second port 12 in order. , And the diaphragm 21a ~
The swelling of 21e changes, and the driven fluid in the fluid passage 13 is sent to the second port 12 while the driven fluid is sucked from the first port 11. One rotation of the rotating shaft 96 causes the rod 75
a to 75e reciprocates twice. That is, the diaphragms 21a-21e vibrate for two cycles. When the rotation speed of the electric motor 97 is increased, the number of repetitions of this feed vibration (times / hour) increases, and the delivery speed of the driven fluid increases. Other actions and effects are similar to those of the above-mentioned first embodiment.

【0030】[0030]

【発明の効果】往復運動体とダイアフラムの間には作動
気体空間(22a〜22e)があり、該空間内の気体(空気)は
可圧縮性(圧力が高くなると収縮し低下すると膨張す
る)であるので、仮に往復運動体がパルス的(2位置
的)に往復運動しても、それによってダイアフラムに加
わる圧力は気体の収縮/膨張によりサイン波(正弦波)
状に平滑化されて、作動気体空間(22a〜22e)に対するダ
イアフラム(21a〜21e)の膨出/退避運動は滑らかかつ柔
らかであり、これにより送り出される流体に、ダイアフ
ラムの往復振動よりも高い周波数領域の圧力振動又は圧
力衝撃を実質上生ずることがない。送り出される流体は
より静流に近いものとなる。
EFFECTS OF THE INVENTION There is a working gas space (22a to 22e) between the reciprocating body and the diaphragm, and the gas (air) in the space is compressible (contracts when the pressure increases and expands when the pressure decreases). Therefore, even if the reciprocating body reciprocates in a pulsed (two-positional) manner, the pressure applied to the diaphragm is sine wave (sine wave) due to contraction / expansion of gas.
The bulging / retracting motion of the diaphragm (21a-21e) with respect to the working gas space (22a-22e) is smooth and soft, and the fluid delivered by this has a higher frequency than the reciprocating vibration of the diaphragm. Virtually no pressure oscillations or pressure shocks in the area occur. The fluid delivered will be closer to a static flow.

【0031】作動気体空間(22a〜22e)の気体が可圧縮性
であるので、ダイアフラムには尖頭的な圧力は加わら
ず、ダイアフラムが圧力衝撃で破壊する確率が低い。し
たがってダイアフラムは薄い小サイズのものとしうる。
ダイアフラムを薄く小サイズにする程、低流量となる。
にもかかわらず、流量のばらつきを実質上生じないのに
加えて、往復運動体の振動の繰返し周期の調整により流
量を調整しうる。したがって所要の低流量の、流量が可
調整のマイクロポンプを実現しうる。ダイアフラムは、
従来のロ−ラポンプのチュ−ブのような経時的な形状変
化を生じないので、送出量の経時的な低下を実質上生じ
ない。
Since the gas in the working gas space (22a-22e) is compressible, no sharp pressure is applied to the diaphragm, and the probability that the diaphragm will be broken by the pressure shock is low. Therefore, the diaphragm may be thin and small in size.
The thinner and smaller the diaphragm, the lower the flow rate.
Nevertheless, the flow rate can be adjusted by adjusting the repetitive cycle of the vibration of the reciprocating body in addition to the fact that the flow rate does not substantially fluctuate. Therefore, it is possible to realize a micropump having a required low flow rate and an adjustable flow rate. The diaphragm is
Since the shape of the tube of the conventional roller pump does not change with time, the delivery amount does not substantially decrease with time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第一実施例のポンプ機構を示す縦断
面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional view showing a pump mechanism of a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1および図4に示す電気コイル72a〜7
2eに通電する電気回路を示すブロック図である。
FIG. 2 shows electric coils 72a to 7 shown in FIGS.
It is a block diagram which shows the electric circuit which energizes 2e.

【図3】 図2に示す通電制御回路100の各部の電気
信号を示すタイムチャ−トである。
3 is a time chart showing electric signals of respective parts of the energization control circuit 100 shown in FIG.

【図4】 本発明の第二実施例のポンプ機構を示す縦断
面図である。
FIG. 4 is a vertical sectional view showing a pump mechanism of a second embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の第三実施例のポンプ機構を示す縦断
面図である。
FIG. 5 is a vertical sectional view showing a pump mechanism of a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:流路部材 11:第1ポ−ト 12:第2ポ−ト 13:被駆動流体流
路 15,16:爪欠溝 20:シリコン板 21a〜21e:ダイアフラム 22a〜22e:気
体室 30:上中継板 31a〜31e:気
体通路 32:微細溝 41〜43:接着フ
ィルム 50:下中継板 51a〜51e:気
体室 52:下中継板 53a〜53e:管
体 54:支え板 55:磁性流体 56:ガイド板 60:薄膜 70a〜70e:ソレノイド 71a:コア 72a〜72e:電気コイル 73a:プランジャ 74a〜74e:永久磁石 76a〜76e:カ
ム 80:下ケ−ス 81,82:爪 96:回転軸 97:電気モ−タユ
ニット
10: Flow path member 11: First port 12: Second port 13: Driven fluid flow path 15, 16: Claw groove 20: Silicon plate 21a to 21e: Diaphragm 22a to 22e: Gas chamber 30: Upper relay plate 31a to 31e: Gas passage 32: Fine groove 41 to 43: Adhesive film 50: Lower relay plate 51a to 51e: Gas chamber 52: Lower relay plate 53a to 53e: Tubular body 54: Support plate 55: Magnetic fluid 56 : Guide plate 60: Thin film 70a to 70e: Solenoid 71a: Core 72a to 72e: Electric coil 73a: Plunger 74a to 74e: Permanent magnet 76a to 76e: Cam 80: Lower case 81, 82: Claw 96: Rotation shaft 97 : Electric motor unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 成 瀬 好 廣 愛知県刈谷市八軒町5丁目50番地 株式会 社アイシン・コスモス研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshinori Naruse 5-50, Hachikencho, Kariya city, Aichi Prefecture Aisin Cosmos Research Institute

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1ポ−ト,第2ポ−トおよびそれらを連
通とする通流空間を有する流路手段; それぞれが、前
記通流空間に表面が露出し該空間に対して膨出/退避し
うる、前記通流空間に沿って第1ポ−トから第2ポ−ト
の方向に配列された複数個のダイアフラム;前記ダイア
フラムに関して前記通流空間の反対側に配設され、各ダ
イアフラムの裏面に対向する複数個の作動気体空間を有
するダイアフラム支持手段;前記作動気体空間のそれぞ
れに個別に気体圧振動を与えるための複数個の往復運動
手段;および、 前記往復運動手段のそれぞれを、第1ポ−トに近いもの
から第2ポ−トに近いものの方向に作動気体空間に高圧
ピ−クを与える上死点が推移する関係に位相差をもって
往復駆動する駆動手段;を備える気体圧駆動マイクロポ
ンプ。
1. A flow path means having a first port, a second port, and a flow-through space for communicating them; each surface is exposed to the flow-through space and swells with respect to the space. A plurality of diaphragms that can be retracted and that are arranged in the direction from the first port to the second port along the flow space; disposed on the opposite side of the flow space with respect to the diaphragm; A diaphragm supporting means having a plurality of working gas spaces facing the back surface of the diaphragm; a plurality of reciprocating means for individually applying gas pressure vibration to each of the working gas spaces; and each of the reciprocating means. , A drive means for reciprocatingly driving with a phase difference in a relationship in which the top dead center for giving a high pressure peak to the working gas space changes in the direction from the one close to the first port to the one close to the second port. Pressure driven micropon .
【請求項2】第1ポ−ト,第2ポ−トおよびそれらを連
通とする通流空間を有する流路手段; それぞれが、前
記通流空間に表面が露出し該空間に対して膨出/退避し
うる、前記通流空間に沿って第1ポ−トから第2ポ−ト
の方向に配列された複数個のダイアフラム;前記ダイア
フラムに関して前記通流空間の反対側に配設され、各ダ
イアフラムの裏面に対向する複数個の作動気体空間を有
するダイアフラム支持手段;前記作動気体空間のそれぞ
れに個別に気体圧振動を与えるための弾力性薄膜体;
該弾力性薄膜体に当るプランジャおよびこのプランジャ
を該気体圧振動を生起するために突き出し駆動する電気
コイルを含む、それぞれが前記作動気体空間のそれぞれ
に個別に対応付けられた、複数個のソレノイド;前記ソ
レノイドのそれぞれに個別に通電する、複数個のソレノ
イドドライバ;および、 第1ポ−トに近いものから第2ポ−トに近いものの方向
に作動気体空間に高圧ピ−クを与える上死点が推移する
関係に位相差をもって前記ソレノイドドライバに通電信
号を与える通電制御手段;を備える気体圧駆動マイクロ
ポンプ。
2. A flow path means having a first port, a second port, and a flow-through space communicating with them; each surface of the flow-path means is exposed in the flow-through space and bulges with respect to the space. A plurality of diaphragms that can be retracted and that are arranged in the direction from the first port to the second port along the flow space; disposed on the opposite side of the flow space with respect to the diaphragm; A diaphragm supporting means having a plurality of working gas spaces facing the back surface of the diaphragm; an elastic thin film body for individually applying gas pressure vibration to each of the working gas spaces;
A plurality of solenoids, each of which is individually associated with each of the working gas spaces, including a plunger that impinges on the resilient thin film body and an electrical coil that drives the plunger to eject to cause the gas pressure oscillations; A plurality of solenoid drivers for individually energizing each of the solenoids; and a top dead center for applying a high pressure peak to the working gas space in the direction from the one close to the first port to the one close to the second port. A gas pressure-driven micropump, comprising: an energization control means for applying an energization signal to the solenoid driver with a phase difference in the relationship of the transition.
【請求項3】第1ポ−ト,第2ポ−トおよびそれらを連
通とする通流空間を有する流路手段; それぞれが、前
記通流空間に表面が露出し該空間に対して膨出/退避し
うる、前記通流空間に沿って第1ポ−トから第2ポ−ト
の方向に配列された複数個のダイアフラム;前記ダイア
フラムに関して前記通流空間の反対側に配設され、各ダ
イアフラムの裏面に対向する複数個の作動気体空間を有
するダイアフラム支持手段;前記作動気体空間のそれぞ
れに連通する空間のそれぞれに、作動気体空間に近づく
方向とその逆方向に移動自在に収容された磁性体;それ
ぞれが、それぞれの作動気体空間に連通する空間の容積
を縮める方向に前記磁性体を駆動する電気コイルとその
逆方向に駆動する磁石を含む、複数個の磁気駆動手段;
前記電気コイルのそれぞれに個別に通電する、複数個の
ソレノイドドライバ;および、 第1ポ−トに近いものから第2ポ−トに近いものの方向
に作動気体空間に高圧ピ−クを与える上死点が推移する
関係に位相差をもって前記ソレノイドドライバに通電信
号を与える通電制御手段;を備える気体圧駆動マイクロ
ポンプ。
3. A flow path means having a first port, a second port, and a flow-through space for communicating them; each surface is exposed to the flow-through space and swells with respect to the space. A plurality of diaphragms that can be retracted and that are arranged in the direction from the first port to the second port along the flow space; disposed on the opposite side of the flow space with respect to the diaphragm; Diaphragm support means having a plurality of working gas spaces facing the back surface of the diaphragm; magnetism housed in each of the spaces communicating with each of the working gas spaces so as to be movable in a direction approaching the working gas space and in the opposite direction. A plurality of magnetic drive means each including an electric coil for driving the magnetic body in a direction of reducing the volume of the space communicating with the respective working gas space and a magnet for driving the electric coil in the opposite direction;
A plurality of solenoid drivers for individually energizing each of the electric coils; and top deadening for applying a high pressure peak to the working gas space in the direction from the one close to the first port to the one close to the second port. A gas pressure driven micropump, comprising: an energization control means for applying an energization signal to the solenoid driver with a phase difference in a relationship in which points change.
【請求項4】第1ポ−ト,第2ポ−トおよびそれらを連
通とする通流空間を有する流路手段; それぞれが、前
記通流空間に表面が露出し該空間に対して膨出/退避し
うる、前記通流空間に沿って第1ポ−トから第2ポ−ト
の方向に配列された複数個のダイアフラム;前記ダイア
フラムに関して前記通流空間の反対側に配設され、各ダ
イアフラムの裏面に対向する複数個の作動気体空間を有
するダイアフラム支持手段;前記作動気体空間のそれぞ
れに個別に気体圧振動を与えるための弾力性薄膜体;
該弾力性薄膜体に当るロッドおよびこのロッドを該気体
圧振動を生起するために突き出し駆動するカムを含む、
それぞれが前記作動気体空間のそれぞれに個別に対応付
けられた、複数個のカム/ロッド組体;および、 第1ポ−トに近いものから第2ポ−トに近いものの方向
に作動気体空間に高圧ピ−クを与える上死点が推移する
関係に回転角度差をもって前記カムを固着した回転軸と
この回転軸を回転駆動する電気モ−タ;を備える気体圧
駆動マイクロポンプ。
4. A flow path means having a first port, a second port, and a flow-through space for communicating them; each surface is exposed in the flow-through space and swells with respect to the space. A plurality of diaphragms that can be retracted and that are arranged in the direction from the first port to the second port along the flow space; disposed on the opposite side of the flow space with respect to the diaphragm; A diaphragm supporting means having a plurality of working gas spaces facing the back surface of the diaphragm; an elastic thin film body for individually applying gas pressure vibration to each of the working gas spaces;
A rod that strikes the resilient thin film body and a cam that drives the rod to eject to cause the gas pressure oscillations;
A plurality of cam / rod assemblies, each of which is individually associated with each of the working gas spaces; and a working gas space in the direction from the one closer to the first port to the one closer to the second port A gas pressure driven micropump comprising: a rotary shaft to which the cam is fixed with a rotation angle difference and an electric motor for rotationally driving the rotary shaft in a relationship in which a top dead center for giving a high pressure peak changes.
【請求項5】前記作動気体空間に連通する微細な気体逃
げ流路を有する、請求項1,請求項2,請求項3又は請
求項4記載の気体圧駆動マイクロポンプ。
5. A gas pressure driven micropump according to claim 1, claim 2, claim 3 or claim 4, which has a fine gas escape channel communicating with the working gas space.
【請求項6】ダイアフラム支持手段はシリコン板であ
り;ダイアフラムは、該シリコン板の熱膨張率より低い
熱膨張率のものである;請求項1,請求項2,請求項
3,請求項4又は請求項5記載の気体圧駆動マイクロポ
ンプ。
6. The diaphragm supporting means is a silicon plate; the diaphragm has a coefficient of thermal expansion lower than that of the silicon plate; claim 1, claim 2, claim 3, claim 4 or. The gas pressure driven micropump according to claim 5.
【請求項7】ダイアフラムは、高温雰囲気で生成された
SiO2層を含む、請求項6記載の気体圧駆動マイクロポ
ンプ。
7. The gas pressure driven micropump according to claim 6, wherein the diaphragm includes a SiO 2 layer produced in a high temperature atmosphere.
JP5287190A 1993-11-17 1993-11-17 Gas pressure driven micro pump Pending JPH07139471A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6273687B1 (en) 1998-11-26 2001-08-14 Aisin Seiki Kabushiki Kaisha Micromachined pump apparatus

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US6273687B1 (en) 1998-11-26 2001-08-14 Aisin Seiki Kabushiki Kaisha Micromachined pump apparatus

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