JPH07130614A - 位置合せ装置 - Google Patents
位置合せ装置Info
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- JPH07130614A JPH07130614A JP5189181A JP18918193A JPH07130614A JP H07130614 A JPH07130614 A JP H07130614A JP 5189181 A JP5189181 A JP 5189181A JP 18918193 A JP18918193 A JP 18918193A JP H07130614 A JPH07130614 A JP H07130614A
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- Japan
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- diffraction grating
- alignment
- dimensionally
- light
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
- G03F9/7026—Focusing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】不要な反射光によって位置合せ精度が低下する
のを防止できる光ヘテロダイン干渉式の位置合せ装置を
提供する。 【構成】マスクに設けられた回折格子１７は、市松模様
の格子を有した第１領域２０ａと光を単に透過させるだ
けの第２領域２０ｂとを位置合せ方向と直交する方向に
配列して構成されている。ウェハに設けられた回折格子
１９は第１領域２０ａを透過した回折光が照射されたと
きに射出回折光を一次元分布または二次元分布させる格
子を有した第３領域２１ａと第２領域２０ｂを透過した
光が照射されたときに射出回折光を二次元分布させる市
松模様の格子を有した第４領域２１ｂとを位置合せ方向
と直交する方向に配列して構成されている。第３領域２
１ａの位置合せ方向およびこれに直交する方向の格子ピ
ッチは他の領域の格子ピッチより小に設定されている。
のを防止できる光ヘテロダイン干渉式の位置合せ装置を
提供する。 【構成】マスクに設けられた回折格子１７は、市松模様
の格子を有した第１領域２０ａと光を単に透過させるだ
けの第２領域２０ｂとを位置合せ方向と直交する方向に
配列して構成されている。ウェハに設けられた回折格子
１９は第１領域２０ａを透過した回折光が照射されたと
きに射出回折光を一次元分布または二次元分布させる格
子を有した第３領域２１ａと第２領域２０ｂを透過した
光が照射されたときに射出回折光を二次元分布させる市
松模様の格子を有した第４領域２１ｂとを位置合せ方向
と直交する方向に配列して構成されている。第３領域２
１ａの位置合せ方向およびこれに直交する方向の格子ピ
ッチは他の領域の格子ピッチより小に設定されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、対向配置された第１の
物体と第２の物体とを対向方向と直交する面内で高精度
に位置合せするときに用いられる位置合せ装置に関す
る。
物体と第２の物体とを対向方向と直交する面内で高精度
に位置合せするときに用いられる位置合せ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、超ＬＳＩの回路パターンをＸ線露
光装置を使って等倍露光で形成する試みが成されてい
る。このような装置を用いてパターン転写を行うには、
露光に先だってマスクとウェハとを高精度に位置合せす
る必要がある。この場合、0.2 μｍの微細パターンを形
成するには重ね合せ精度±0.05μｍを実現する必要があ
る。
光装置を使って等倍露光で形成する試みが成されてい
る。このような装置を用いてパターン転写を行うには、
露光に先だってマスクとウェハとを高精度に位置合せす
る必要がある。この場合、0.2 μｍの微細パターンを形
成するには重ね合せ精度±0.05μｍを実現する必要があ
る。
【０００３】ところで、対向配置されたマスクとウェハ
とを対向方向と直交する面内で高精度に位置合せする装
置としては、特願昭 63-329731号や特願平 2-25836号な
どに示されているように、回折格子を用いた光ヘテロダ
イン干渉式の位置合せ装置が考えられている。
とを対向方向と直交する面内で高精度に位置合せする装
置としては、特願昭 63-329731号や特願平 2-25836号な
どに示されているように、回折格子を用いた光ヘテロダ
イン干渉式の位置合せ装置が考えられている。
【０００４】図３には光ヘテロダイン干渉式の代表的な
位置合せ装置の要部が模式的に示されている。
位置合せ装置の要部が模式的に示されている。
【０００５】この位置合せ装置では、図示しないマスク
に回折格子１を設けるとともに、この回折格子１に対向
する関係に図示しないウェハに回折格子２を設けてい
る。
に回折格子１を設けるとともに、この回折格子１に対向
する関係に図示しないウェハに回折格子２を設けてい
る。
【０００６】今、図に示す直角座標上のＸ軸方向が位置
合せ方向であるとする。回折格子１はＹ軸方向に配置さ
れた第１領域３ａと第２領域３ｂとで構成される。同様
に、回折格子２もＹ軸方向に配置された第３領域４ａと
第４領域４ｂとで構成される。すなわち、この位置合せ
装置では、回折格子１の第１領域３ａと回折格子２の第
３領域４ａとをペアにし、回折格子１の第２領域３ｂと
回折格子２の第４領域４ｂとをペアにしている。
合せ方向であるとする。回折格子１はＹ軸方向に配置さ
れた第１領域３ａと第２領域３ｂとで構成される。同様
に、回折格子２もＹ軸方向に配置された第３領域４ａと
第４領域４ｂとで構成される。すなわち、この位置合せ
装置では、回折格子１の第１領域３ａと回折格子２の第
３領域４ａとをペアにし、回折格子１の第２領域３ｂと
回折格子２の第４領域４ｂとをペアにしている。
【０００７】回折格子１を構成している第１領域３ａは
市松模様のパターンをＸ軸方向にＰx のピッチで設けた
ものとなっており、第２領域３ｂは透明のウインドウに
構成されている。また、回折格子２を構成している第３
領域４ａはウェハの表面をそのまま使った反射面に形成
されており、第４領域４ｂは市松模様のパターンをＸ軸
方向にはＰx のピッチで設けたものとなっている。
市松模様のパターンをＸ軸方向にＰx のピッチで設けた
ものとなっており、第２領域３ｂは透明のウインドウに
構成されている。また、回折格子２を構成している第３
領域４ａはウェハの表面をそのまま使った反射面に形成
されており、第４領域４ｂは市松模様のパターンをＸ軸
方向にはＰx のピッチで設けたものとなっている。
【０００８】この位置合せ装置では、回折格子１を構成
している第１領域３ａおよび第２領域３ｂの上面に向
け、かつ位置合せ方向と直交する面を境にして左右対称
に、具体的には格子のＸ方向ピッチの±１次の方向から
異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 の２本の光ビーム５，６を照射
する。これら光ビーム５，６は、レーザ発信器から放射
されたビームをハーフミラー等で２分割した後、２台の
音響光学素子（ＡＯＭ）で異なった周波数ｆ1 ，ｆ2 に
変調して得られたものである。
している第１領域３ａおよび第２領域３ｂの上面に向
け、かつ位置合せ方向と直交する面を境にして左右対称
に、具体的には格子のＸ方向ピッチの±１次の方向から
異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 の２本の光ビーム５，６を照射
する。これら光ビーム５，６は、レーザ発信器から放射
されたビームをハーフミラー等で２分割した後、２台の
音響光学素子（ＡＯＭ）で異なった周波数ｆ1 ，ｆ2 に
変調して得られたものである。
【０００９】このように光ビーム５，６を照射すると、
回折格子１の第１領域３ａで反射回折された回折干渉光
ＩM が二次元分布して回折格子１から射出される。同時
に第２領域３ｂを透過し、回折格子２の第４領域４ｂで
反射回折して干渉し、再度、第２領域３ｂを透過した干
渉回折光ＩW が二次元分布して射出される。
回折格子１の第１領域３ａで反射回折された回折干渉光
ＩM が二次元分布して回折格子１から射出される。同時
に第２領域３ｂを透過し、回折格子２の第４領域４ｂで
反射回折して干渉し、再度、第２領域３ｂを透過した干
渉回折光ＩW が二次元分布して射出される。
【００１０】干渉回折光ＩM のうちの特定次数の光を、
たとえば位置合せ方向には０次、Ｙ軸方向には１次の位
置で検出し、マスクの位置ずれに対応する位相ずれφM
を含んだ周波数Δｆ＝｜ｆ1 −ｆ2 ｜なる第１のビート
信号を得る。一方、干渉回折光ＩW のうちの特定次数の
光を、たとえば位置合せ方向には０次、Ｙ軸方向には１
次の位置で検出し、ウェハの位置ずれに対応する位相ず
れφW を含んだ周波数Δｆ＝｜ｆ1 −ｆ2 ｜なる第２の
ビート信号を得る。
たとえば位置合せ方向には０次、Ｙ軸方向には１次の位
置で検出し、マスクの位置ずれに対応する位相ずれφM
を含んだ周波数Δｆ＝｜ｆ1 −ｆ2 ｜なる第１のビート
信号を得る。一方、干渉回折光ＩW のうちの特定次数の
光を、たとえば位置合せ方向には０次、Ｙ軸方向には１
次の位置で検出し、ウェハの位置ずれに対応する位相ず
れφW を含んだ周波数Δｆ＝｜ｆ1 −ｆ2 ｜なる第２の
ビート信号を得る。
【００１１】この位置合せ装置では、第１のビート信号
と第２のビート信号との位相差、つまり｜ＸM −ＸW ｜
を計算し、マスクとウェハとの位置ずれを演算して求め
る。そして、この値に基いてアクチュエータを制御して
位置合せするようにしている。
と第２のビート信号との位相差、つまり｜ＸM −ＸW ｜
を計算し、マスクとウェハとの位置ずれを演算して求め
る。そして、この値に基いてアクチュエータを制御して
位置合せするようにしている。
【００１２】しかしながら、上記のように構成された従
来の位置合せ装置にあっても次のような問題があった。
来の位置合せ装置にあっても次のような問題があった。
【００１３】すなわち、Ｘ線等倍露光の場合には、マス
クとウェハとが30μｍ程度の微小ギャップで対向してい
るため、マスク側の回折格子１を透過した光がウェハ側
の回折格子２で反射し、再び回折格子１側に戻ると、こ
の戻った光が本来の回折光と干渉し、位置ずれ信号の外
乱となって現れる問題があった。
クとウェハとが30μｍ程度の微小ギャップで対向してい
るため、マスク側の回折格子１を透過した光がウェハ側
の回折格子２で反射し、再び回折格子１側に戻ると、こ
の戻った光が本来の回折光と干渉し、位置ずれ信号の外
乱となって現れる問題があった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の光
ヘテロダイン干渉式の位置合せ装置にあっては、位置合
せ精度を確保することが困難であった。
ヘテロダイン干渉式の位置合せ装置にあっては、位置合
せ精度を確保することが困難であった。
【００１５】そこで本発明は、上述した不具合を解消で
きる位置合せ装置を提供することを目的としている。
きる位置合せ装置を提供することを目的としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、対向配置された第１の物体と第２の物体
とを対向方向と直交する面内で位置合せするために、上
記第１の物体と上記第２の物体とに対向関係に回折格子
を設けるとともに、周波数の異なる２本の光ビームを上
記第１の物体に設けられた回折格子に対して上記位置合
せ方向と直交する面を境にして左右対称に照射し、この
照射によって得られた回折光のうちの特定次数の回折光
を位置情報として用いるようにした光ヘテロダイン干渉
式の位置合せ装置において、前記第１の物体に設けられ
た回折格子は出射回折光を一次元分布または二次元分布
させる格子を有した第１領域と光を単に透過させる部分
で構成された第２領域とを位置合せ方向と直交する方向
に配列して構成され、前記第２の物体に設けられた回折
格子は上記第１の物体に設けられた第１領域を透過した
回折光が照射されたときに射出回折光を一次元分布また
は二次元分布させる格子を有した第３領域と上記第１の
物体に設けられた第２領域を透過した光が照射されたと
きに射出回折光を一次元分布または二次元分布させる格
子を有した第４領域とを位置合せ方向と直交する方向に
配列して構成されており、かつ上記第３領域の位置合せ
方向およびこれに直交する方向の格子ピッチが他の領域
の格子ピッチより小に設定されていることを特徴として
いる。
に、本発明は、対向配置された第１の物体と第２の物体
とを対向方向と直交する面内で位置合せするために、上
記第１の物体と上記第２の物体とに対向関係に回折格子
を設けるとともに、周波数の異なる２本の光ビームを上
記第１の物体に設けられた回折格子に対して上記位置合
せ方向と直交する面を境にして左右対称に照射し、この
照射によって得られた回折光のうちの特定次数の回折光
を位置情報として用いるようにした光ヘテロダイン干渉
式の位置合せ装置において、前記第１の物体に設けられ
た回折格子は出射回折光を一次元分布または二次元分布
させる格子を有した第１領域と光を単に透過させる部分
で構成された第２領域とを位置合せ方向と直交する方向
に配列して構成され、前記第２の物体に設けられた回折
格子は上記第１の物体に設けられた第１領域を透過した
回折光が照射されたときに射出回折光を一次元分布また
は二次元分布させる格子を有した第３領域と上記第１の
物体に設けられた第２領域を透過した光が照射されたと
きに射出回折光を一次元分布または二次元分布させる格
子を有した第４領域とを位置合せ方向と直交する方向に
配列して構成されており、かつ上記第３領域の位置合せ
方向およびこれに直交する方向の格子ピッチが他の領域
の格子ピッチより小に設定されていることを特徴として
いる。
【００１７】
【作用】第３領域に設けられた格子は、位置合せ方向お
よびこれに直交する方向の格子ピッチが他の領域の格子
ピッチより小に設定されているので、この第３領域に照
射された光は第３領域において散乱され、第１領域側に
戻ることがない。したがって、第３領域からの反射光の
影響を受けずに高精度な位置合せが可能となる。
よびこれに直交する方向の格子ピッチが他の領域の格子
ピッチより小に設定されているので、この第３領域に照
射された光は第３領域において散乱され、第１領域側に
戻ることがない。したがって、第３領域からの反射光の
影響を受けずに高精度な位置合せが可能となる。
【００１８】
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。
る。
【００１９】図１には本発明の一実施例に係る位置合せ
装置を使ってマスクとウェハとを位置合せしている例が
模式的に示されている。
装置を使ってマスクとウェハとを位置合せしている例が
模式的に示されている。
【００２０】図中、１１は光源である。この光源１１か
ら出た干渉性の強いレーザ−光は、ビームスプリッタ１
２で第１の光路と第２の光路とに分けられる。分けられ
た各光束は音響光学変調素子（ＡＯＭ）１３，１４でそ
れぞれ微小量異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 で変調され、折り
返しミラー１５を介してマスク１６に設けられた回折格
子１７に向けて照射される。
ら出た干渉性の強いレーザ−光は、ビームスプリッタ１
２で第１の光路と第２の光路とに分けられる。分けられ
た各光束は音響光学変調素子（ＡＯＭ）１３，１４でそ
れぞれ微小量異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 で変調され、折り
返しミラー１５を介してマスク１６に設けられた回折格
子１７に向けて照射される。
【００２１】今、マスク１６とウェハ１８とをＸ軸方向
に位置合せするものとすると、周波数ｆ1 ，ｆ2 の光ビ
ームは、位置合せ方向と直交する面を境にして左右対称
な角度、すなわち±θ＝sin -1（±λ／Ｐｘ）で回折格
子１７に向けて照射される。ここで、λは２つの光ビー
ムの基準波長、Ｐｘは次に述べる回折格子のＸ軸方向の
ピッチを示している。
に位置合せするものとすると、周波数ｆ1 ，ｆ2 の光ビ
ームは、位置合せ方向と直交する面を境にして左右対称
な角度、すなわち±θ＝sin -1（±λ／Ｐｘ）で回折格
子１７に向けて照射される。ここで、λは２つの光ビー
ムの基準波長、Ｐｘは次に述べる回折格子のＸ軸方向の
ピッチを示している。
【００２２】マスク１６およびウェハ１８には、図２に
示すように回折格子１７，１９が対向する関係に設けら
れている。回折格子１７はＹ軸方向に配置された第１領
域２０ａと第２領域２０ｂとで構成されている。同様
に、回折格子１９もＹ軸方向に配置された第３領域２１
ａと第４領域２１ｂとで構成される。すなわち、この位
置合せ装置においても、回折格子１７の第１領域２０ａ
と回折格子１９の第３領域２１ａとをペアにし、回折格
子１７の第２領域２０ｂと回折格子１９の第４領域２１
ｂとをペアにしている。
示すように回折格子１７，１９が対向する関係に設けら
れている。回折格子１７はＹ軸方向に配置された第１領
域２０ａと第２領域２０ｂとで構成されている。同様
に、回折格子１９もＹ軸方向に配置された第３領域２１
ａと第４領域２１ｂとで構成される。すなわち、この位
置合せ装置においても、回折格子１７の第１領域２０ａ
と回折格子１９の第３領域２１ａとをペアにし、回折格
子１７の第２領域２０ｂと回折格子１９の第４領域２１
ｂとをペアにしている。
【００２３】回折格子１７を構成している第１領域２０
ａは市松模様のパターンをＸ軸方向にＰx 、Ｙ軸方向に
Ｐy のピッチで設けたものとなっており、第２領域２０
ｂは透明のウインドウに構成されている。また、回折格
子１９を構成している第３領域２１ａはＹ軸方向に延び
るストライプパターンをＸ軸方向にＰo のピッチで設け
たものになっており、第４領域４ｂは市松模様のパター
ンをＸ軸方向にはＰx、Ｙ軸方向にＰy のピッチで設け
たものとなっている。ここで、Ｐo ＜Ｐx 、Ｐo ＜Ｐy
の関係に設定されている。
ａは市松模様のパターンをＸ軸方向にＰx 、Ｙ軸方向に
Ｐy のピッチで設けたものとなっており、第２領域２０
ｂは透明のウインドウに構成されている。また、回折格
子１９を構成している第３領域２１ａはＹ軸方向に延び
るストライプパターンをＸ軸方向にＰo のピッチで設け
たものになっており、第４領域４ｂは市松模様のパター
ンをＸ軸方向にはＰx、Ｙ軸方向にＰy のピッチで設け
たものとなっている。ここで、Ｐo ＜Ｐx 、Ｐo ＜Ｐy
の関係に設定されている。
【００２４】上述した周波数ｆ1 ，ｆ2 の光ビームの照
射によって生じた回折光のうち、この例では位置合せ方
向には０次で、位置合せ方向と直交する方向には１次の
回折光ＩM (0,1) 、ＩW (0,1) を検出光としている。
射によって生じた回折光のうち、この例では位置合せ方
向には０次で、位置合せ方向と直交する方向には１次の
回折光ＩM (0,1) 、ＩW (0,1) を検出光としている。
【００２５】この検出光ＩM (0,1) 、ＩW (0,1) は、セ
ンサ２２，２３で受光され、1000kHZ のビート信号とし
て検出される。
ンサ２２，２３で受光され、1000kHZ のビート信号とし
て検出される。
【００２６】この位置合せ装置では、２つのビート信号
を位置情報として従来の装置と同様の手法でマスク１６
とウェハ１８との位置合せを行っている。なお、図１
中、２４はミラーを示し、２５はレンズを示している。
を位置情報として従来の装置と同様の手法でマスク１６
とウェハ１８との位置合せを行っている。なお、図１
中、２４はミラーを示し、２５はレンズを示している。
【００２７】このように、本実施例に係る位置合せ装置
では、回折格子１９の第３領域２１ａに他の格子のＸ方
向およびＹ方向のピッチより小さいピッチの格子を設け
ているので、回折格子１７の第１領域２０ａを透過して
第３領域２１ａに達した光は第３領域２１ａで散乱さ
れ、回折格子１７側に戻ることはない。したがって、第
３領域２１ａからの反射回折光の影響を受けることなく
位置合せを行うことができるので、高精度な位置合せが
可能となる。
では、回折格子１９の第３領域２１ａに他の格子のＸ方
向およびＹ方向のピッチより小さいピッチの格子を設け
ているので、回折格子１７の第１領域２０ａを透過して
第３領域２１ａに達した光は第３領域２１ａで散乱さ
れ、回折格子１７側に戻ることはない。したがって、第
３領域２１ａからの反射回折光の影響を受けることなく
位置合せを行うことができるので、高精度な位置合せが
可能となる。
【００２８】なお、上述した実施例では第１領域２０ａ
および第４領域２１ｂに市松模様の格子を設けているが
一次元格子を設けてもよい。同様に第３領域２１ａに市
松模様の格子を設けることもできる。また、回折格子１
７側に設けられる格子のＹ軸方向ピッチと回折格子１９
側に設けられる格子のＹ軸方向ピッチとを異ならせても
よい。
および第４領域２１ｂに市松模様の格子を設けているが
一次元格子を設けてもよい。同様に第３領域２１ａに市
松模様の格子を設けることもできる。また、回折格子１
７側に設けられる格子のＹ軸方向ピッチと回折格子１９
側に設けられる格子のＹ軸方向ピッチとを異ならせても
よい。
【００２９】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、不要な
反射光の影響を受けることなく、高精度な位置合せが可
能となる。
反射光の影響を受けることなく、高精度な位置合せが可
能となる。
【図１】本発明の一実施例に係る位置合せ装置の要部概
略構成図
略構成図
【図２】同装置に組込まれた回折格子の構成を示す概略
図
図
【図３】光ヘテロダイン干渉式位置合せ装置の原理を説
明するための図
明するための図
１１…光源 １２…ビームスプ
リッタ １３，１４…音響光学変調素子 １５…折り返しミ
ラー １６…マスク １７，１９…回折
格子 １８…ウェハ ２０ａ…第１領域 ２０ｂ…第２領域 ２１ａ…第３領域 ２１ｂ…第４領域 ２２，２３…セン
サ
リッタ １３，１４…音響光学変調素子 １５…折り返しミ
ラー １６…マスク １７，１９…回折
格子 １８…ウェハ ２０ａ…第１領域 ２０ｂ…第２領域 ２１ａ…第３領域 ２１ｂ…第４領域 ２２，２３…セン
サ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年９月１３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２５】この検出光ＩM (0,1) 、ＩW (0,1) は、セ
ンサ２２，２３で受光され、｜ｆ1−ｆ2 ｜Hzのビート
信号として検出される。
ンサ２２，２３で受光され、｜ｆ1−ｆ2 ｜Hzのビート
信号として検出される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２８】なお、上述した実施例では第１領域２０ａ
および第４領域２１ｂに市松模様の格子を設けているが
一次元格子あるいは二次元格子を設けてもよい。同様に
第３領域２１ａに市松模様の格子を設けることもでき
る。また、回折格子１７側に設けられる格子のＹ軸方向
ピッチと回折格子１９側に設けられる格子のＹ軸方向ピ
ッチとを異ならせてもよい。
および第４領域２１ｂに市松模様の格子を設けているが
一次元格子あるいは二次元格子を設けてもよい。同様に
第３領域２１ａに市松模様の格子を設けることもでき
る。また、回折格子１７側に設けられる格子のＹ軸方向
ピッチと回折格子１９側に設けられる格子のＹ軸方向ピ
ッチとを異ならせてもよい。
Claims (1)
- 【請求項１】対向配置された第１の物体と第２の物体と
を対向方向と直交する面内で位置合せするために、上記
第１の物体と上記第２の物体とに対向関係に回折格子を
設けるとともに、周波数の異なる２本の光ビームを上記
第１の物体に設けられた回折格子に対して上記位置合せ
方向と直交する面を境にして左右対称に照射し、この照
射によって得られた回折光のうちの特定次数の回折光を
位置情報として用いるようにした光ヘテロダイン干渉式
の位置合せ装置において、前記第１の物体に設けられた
回折格子は出射回折光を一次元分布または二次元分布さ
せる格子を有した第１領域と光を単に透過させる部分で
構成された第２領域とを位置合せ方向と直交する方向に
配列して構成され、前記第２の物体に設けられた回折格
子は上記第１の物体に設けられた第１領域を透過した回
折光が照射されたときに射出回折光を一次元分布または
二次元分布させる格子を有した第３領域と上記第１の物
体に設けられた第２領域を透過した光が照射されたとき
に射出回折光を一次元分布または二次元分布させる格子
を有した第４領域とを位置合せ方向と直交する方向に配
列して構成されており、かつ上記第３領域の位置合せ方
向およびこれに直交する方向の格子ピッチが他の領域の
格子ピッチより小に設定されていることを特徴とする位
置合せ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5189181A JPH07130614A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 位置合せ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5189181A JPH07130614A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 位置合せ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07130614A true JPH07130614A (ja) | 1995-05-19 |
Family
ID=16236858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5189181A Pending JPH07130614A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 位置合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07130614A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8922786B2 (en) | 2011-10-21 | 2014-12-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Detector, imprint apparatus, and article manufacturing method |
-
1993
- 1993-06-30 JP JP5189181A patent/JPH07130614A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8922786B2 (en) | 2011-10-21 | 2014-12-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Detector, imprint apparatus, and article manufacturing method |
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