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JPH07130003A - Optical disk forming substrate - Google Patents

Optical disk forming substrate

Info

Publication number
JPH07130003A
JPH07130003A JP5279507A JP27950793A JPH07130003A JP H07130003 A JPH07130003 A JP H07130003A JP 5279507 A JP5279507 A JP 5279507A JP 27950793 A JP27950793 A JP 27950793A JP H07130003 A JPH07130003 A JP H07130003A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical disk
injection
substrate
molding
forming substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5279507A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Masuda
誠司 増田
Hideki Hasegawa
秀樹 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority to JP5279507A priority Critical patent/JPH07130003A/en
Publication of JPH07130003A publication Critical patent/JPH07130003A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an optical disk forming substrate having low double refraction and small warpage with superior mass productivity by molding a transparent thermoplastic resin by injection molding or injection-compression molding. CONSTITUTION:A transparent thermoplastic resin is molded by injection molding or injection-compression molding to produce the objective optical disk forming substrate having <=1.0mm thickness, <=¦20¦nm double refraction in a double-path state and <=200mum warpage. At this time, acrylic resin or polycarbonate resin capable of injection molding or injection-compression molding may be used as the transparent thermoplastic resin. A polymer of a methacrylic ester monomer or an acrylic ester monomer may be used as the acrylic resin and the polycarbonate resin may be produced from bisphenol A and phosgene or bisphenol A and diphenyl carbonate. The optical disk forming substrate capable of high density input of images is obtd. with superior mass productivity at a low cost.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、透明な熱可塑性樹脂で
射出成形又は射出圧縮成形された光ディスク成形基板に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk molding substrate injection-molded or injection-compression molded with a transparent thermoplastic resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】1980年代初頭にコンパクトディスク
(CD)とレーザーディスク(LD)が市販されて以
来、光ディスクは急速に普及してきているが、現在で
は、更に、CDサイズの光ディスクにLD並の動画をデ
ジタルで記録することが望まれており、薄型で高密度化
されたものの開発が種々検討されている。(1992年
秋の「応用物理学会」における講演17p−T−11、
17p−T−13、1993年春の「応用物理学会」に
おける講演29a−B−8、29a−B−5等)従来、
薄型高密度ディスクの製造方法としては、転写法の1つ
である2P法によって、ガラス基板や樹脂板上に硬化性
樹脂を塗布又は注入し、ピット又は溝を形成させた原盤
を重ね合わせた後に硬化性樹脂を硬化させる方法、又
は、エッチング法によって基板上にピット又は溝を形成
していた。しかしながら、これらの方法は量産性とコス
ト面では優れているとは言えない。
2. Description of the Related Art Optical discs have been rapidly spreading since the market of compact discs (CDs) and laser discs (LDs) in the early 1980's. Nowadays, however, optical discs of CD size are comparable to those of LDs. Is desired to be recorded digitally, and various studies have been made on development of a thin and high-density one. (Lecture 17p-T-11 at "The Society of Applied Physics", Autumn 1992,
17p-T-13, Lecture 29a-B-8, 29a-B-5, etc. at the "Applied Physics Society" in the spring of 1993)
As a method for manufacturing a thin high-density disk, a 2P method, which is one of the transfer methods, is used to apply or inject a curable resin onto a glass substrate or a resin plate, and then stack the masters having pits or grooves formed thereon. Pits or grooves are formed on the substrate by a method of curing a curable resin or an etching method. However, these methods cannot be said to be excellent in terms of mass productivity and cost.

【0003】このような状況において、量産性とコスト
面で優れている製造方法として、透明な熱可塑性樹脂を
射出成形法又は射出圧縮成形法によって薄型高密度ディ
スク成形基板を得る方法の開発が強く望まれている。
Under such circumstances, as a manufacturing method excellent in mass productivity and cost, a method of obtaining a thin high-density disk molded substrate by injection molding or injection compression molding of a transparent thermoplastic resin has been strongly developed. Is desired.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、従来得られなかった、透明な熱可塑性樹脂を用
いて射出成形法又は射出圧縮成形法により成形された、
複屈折が低く、反りの小さな光ディスク成形基板を提供
することにある。
The object of the present invention is to form a transparent thermoplastic resin which has hitherto not been obtained, by an injection molding method or an injection compression molding method.
An object is to provide an optical disk molded substrate having low birefringence and small warpage.

【0005】[0005]

【発明を解決するための手段】本発明の要旨とするとこ
ろは、厚さが1.0mm以下であり、複屈折がダブルパ
スで|20|nm以下で、基板の反りが200μm以下
であることを特徴とする、透明な熱可塑性樹脂で射出成
形又は射出圧縮成形された光ディスク成形基板にある。
The gist of the present invention is that the thickness is 1.0 mm or less, the birefringence is double pass | 20 | nm or less, and the warp of the substrate is 200 μm or less. A characteristic is an optical disk molded substrate injection-molded or injection-compressed with a transparent thermoplastic resin.

【0006】本発明に用いられる透明な熱可塑性樹脂と
しては、従来より光ディスクに使用されているアクリル
系樹脂やポリカーボネート樹脂等の射出成形又は射出圧
縮成形可能なものが使用される。
As the transparent thermoplastic resin used in the present invention, those which can be injection-molded or injection-compression-molded, such as acrylic resins and polycarbonate resins which have been conventionally used for optical disks, are used.

【0007】アクリル系樹脂の具体例としては、例え
ば、メタクリル酸エステル単量体及びアクリル酸エステ
ル単量体、必要に応じて更にN−置換マレイミド類、無
水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物類等の他の
共重合可能な単量体、からなる共重合体が挙げられる。
Specific examples of acrylic resins include, for example, methacrylic acid ester monomers and acrylic acid ester monomers, and if necessary, N-substituted maleimides, maleic anhydride, itaconic anhydride, and other acid anhydrides. Examples of the copolymer include other copolymerizable monomers such as substances.

【0008】上記メタクリル酸エステル単量体として
は、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタク
リル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フルオロフェニル、メタクリル酸クロ
ロフェニル、メタクリル酸ブロモフェニル、メタクリル
酸ベンジル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル
酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メ
タクリル酸イソボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタ
クリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリ
ル酸アダマンチル、メタクリル酸ヂメチルアダマンチ
ル、メタクリル酸トリシクロ[5,2,1,02,6]デ
カ−8−イル、メタクリル酸トリシクロ[5,2,1,
2,6]デカー4ーメチル、メタクリル酸トリシクロデ
シル、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル等
の単独またはそれらの混合物が挙げられる。
Examples of the methacrylic acid ester monomer include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, trimethyl cyclohexyl methacrylate, phenyl methacrylate, fluorophenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, bromomethacrylate. Phenyl, benzyl methacrylate, cyclopentyl methacrylate, norbornyl methacrylate, norbornyl methyl methacrylate, isobornyl methacrylate, bornyl methacrylate, menthyl methacrylate, fentyl methacrylate, adamantyl methacrylate, dimethyl adamantyl methacrylate, tricyclomethacrylate. [5,2,1,0 2,6 ] deca-8-yl, tricyclomethacrylate [5,2,1,
[0 2,6 ] deca-4-methyl, tricyclodecyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, etc., or a mixture thereof.

【0009】また、アクリル酸エステル単量体として
は、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸トリ
メチルシクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル
酸フルオロフェニル、アクリル酸クロロフェニル、アク
リル酸ブロモフェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル
酸シクロペンチル、アクリル酸ノルボルニル、アクリル
酸ノルボルニルメチル、アクリル酸イソボルニル、アク
リル酸ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸フェ
ンチル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸ヂメチル
アダマンチル、アクリル酸トリシクロ[5,2,1,0
2,6]デカ−8−イル、アクリル酸トリシクロ[5,
2,1,02,6]デカー4ーメチル、アクリル酸トリシ
クロデシル、アクリル酸2,2,2−トリフルオロエチ
ル等の単独またはそれらの混合物が挙げられる。
The acrylic ester monomers include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, cyclohexyl acrylate, trimethyl cyclohexyl acrylate, phenyl acrylate, fluorophenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, acrylic acid. Bromophenyl, benzyl acrylate, cyclopentyl acrylate, norbornyl acrylate, norbornyl methyl acrylate, isobornyl acrylate, bornyl acrylate, menthyl acrylate, fentyl acrylate, adamantyl acrylate, dimethyl adamantyl acrylate, acrylic acid Tricyclo [5,2,1,0
2,6 ] deca-8-yl, tricyclo acrylate [5,
2,1,0 2,6 ] deca-4-methyl, tricyclodecyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, etc., or a mixture thereof.

【0010】更に、他の共重合可能な単量体としては、
基材の耐熱性向上を目的とする場合には、N−シクロヘ
キシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−クロ
ロフェニルマレイミド、N−メチルフェニルマレイミ
ド、N−ブロモフェニルマレイミド等のN−置換マレイ
ミド類、無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物
類が挙げられる。
Further, other copolymerizable monomers include
For the purpose of improving the heat resistance of the base material, N-substituted maleimides such as N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-chlorophenylmaleimide, N-methylphenylmaleimide and N-bromophenylmaleimide, maleic anhydride. Acid anhydrides and acid anhydrides such as itaconic anhydride may be mentioned.

【0011】尚、上記アクリル系樹脂において、光ディ
スク成形基板への金属膜形成方法としてスパッタリング
法を使用する場合には、メタクリル酸エステル単量体と
アクリル酸エステル単量体20モル%以上含む混合物を
重合してなる共重合体で、共重合体中のメタクリル酸エ
ステルの比率が80モル%以下であり、共重合体の25
℃クロロホルム中で測定した固有粘度が0.3〜1.5
dl/gの範囲である共重合体を使用するのが好まし
い。
When a sputtering method is used as a method for forming a metal film on an optical disk molding substrate in the acrylic resin, a mixture containing 20 mol% or more of a methacrylic acid ester monomer and an acrylic acid ester monomer is used. In the copolymer obtained by polymerization, the ratio of methacrylic acid ester in the copolymer is 80 mol% or less,
Intrinsic viscosity measured in chloroform at ℃ 0.3-1.5
It is preferred to use copolymers in the range of dl / g.

【0012】本発明に用いられるポリカーボネート樹脂
としては、ビスフェノールAとホスゲン、又はビスフェ
ノールAとジフェニルカーボネートから得られるもの等
が挙げられる。
Examples of the polycarbonate resin used in the present invention include those obtained from bisphenol A and phosgene, or bisphenol A and diphenyl carbonate.

【0013】本発明においては、光ディスク基板は射出
成形法又は射出圧縮成形法によって成形されるが、成形
条件としては、シリンダー温度、型温、型締圧、射出速
度等を使用する材料に応じて設定することにより目的と
する基板を得ることが出来る。
In the present invention, the optical disk substrate is molded by the injection molding method or the injection compression molding method. The molding conditions are cylinder temperature, mold temperature, mold clamping pressure, injection speed, etc. depending on the material to be used. The target substrate can be obtained by setting.

【0014】本発明においては、得られる光ディスク成
形基板の厚みは1.0mm以下であることが必要であ
る。「光学技術コンタクト」23,No.7,1985
の451頁の(4)式に記載されているように、傾いた
光ディスク成形基板上には板厚と開口数の3乗に比例し
た大きさのコマ収差が発生する。従って、厚みが1.0
mmを越えると、光ディスクを高密度化するために開口
数の高い対物レンズを使った場合、コマ収差が大きくな
り、その結果、ディスク基板が傾いたときにクロストー
クが大きくなると同時に、ディスクからの戻り光量が減
少するため、S/N比が劣化すると共に、ジッターが増
大し過ぎ、好ましくない。
In the present invention, the thickness of the obtained optical disk molded substrate must be 1.0 mm or less. "Optical Technology Contact" 23 , No. 7,1985
As described in the equation (4) on page 451, a coma aberration having a size proportional to the plate thickness and the cube of the numerical aperture occurs on the tilted optical disk molding substrate. Therefore, the thickness is 1.0
If it exceeds mm, when an objective lens with a high numerical aperture is used to densify the optical disc, coma aberration becomes large, and as a result, crosstalk becomes large when the disc substrate is tilted, and at the same time, the disc from the disc becomes larger. Since the amount of returning light decreases, the S / N ratio deteriorates and the jitter increases too much, which is not preferable.

【0015】また、本発明においては、得られる光ディ
スク成形基板の複屈折は|20|nm以下であることが
必要である。複屈折が|20|nmを越えると、読み取
り信号のデータエラー率が高くなったり、トラッキング
が不安定になるため好ましくない。
Further, in the present invention, the birefringence of the obtained optical disk molded substrate needs to be │20│nm or less. If the birefringence exceeds │20│nm, the data error rate of the read signal becomes high and the tracking becomes unstable, which is not preferable.

【0016】更に、本発明においては、得られる光ディ
スク成形基板の反りは200μm以下であることが必要
である。反りが200μmを越えると、トラッキングや
フォーカスが不安定となり、光ディスクに記録されてい
るデータの正確な読み取りが不可能となってしまうため
好ましくない。
Further, in the present invention, it is necessary that the warp of the obtained optical disk molded substrate is 200 μm or less. If the warp exceeds 200 μm, tracking and focus become unstable, which makes it impossible to accurately read the data recorded on the optical disc, which is not preferable.

【0017】また、本発明においては、光ディスク成形
基板の高密度化の点で、得られる光ディスク成形基板表
面のピット又は溝は1.0μm以下であることが好まし
い。
In the present invention, the pits or grooves on the surface of the optical disk molded substrate to be obtained are preferably 1.0 μm or less from the viewpoint of increasing the density of the optical disk molded substrate.

【0018】[0018]

【実施例】以下に、実施例により本発明を更に詳しく説
明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0019】本発明では、射出成形機(名機製作所
(株)製ダイナメルタM−70A−DM)を用い、0.
8〜1.0μmのピッチを有するピット及び溝が形成さ
れたスタンパーを装着した金型を用い、外径120m
m、厚さ0.6mmの光ディスク成形基板を射出圧縮成
形し、その基板について複屈折及び反りの状態について
評価を行った。
In the present invention, an injection molding machine (Dynamelter M-70A-DM manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.) is used.
Using a mold equipped with a stamper having pits and grooves having a pitch of 8 to 1.0 μm, an outer diameter of 120 m
An optical disk molding substrate having a thickness of m and a thickness of 0.6 mm was injection-compression-molded, and the substrate was evaluated for birefringence and warpage.

【0020】基板の複屈折測定には偏光顕微鏡を用い、
波長546nmの光線でダブルパスにおける値を測定し
た。
A polarization microscope is used for measuring the birefringence of the substrate.
The value in the double pass was measured with a light beam having a wavelength of 546 nm.

【0021】また、光ディスクの反りについては、成形
後1日以上室温放置した基板について、ディスク基板の
中心部分に対する、最外周における垂直方向の変位量を
反り量として測定した。
Regarding the warp of the optical disk, the amount of warp of the substrate, which was left at room temperature for one day or more after molding, was measured as the amount of vertical displacement at the outermost periphery with respect to the central portion of the disk substrate.

【0022】[実施例1]透明熱可塑性樹脂として、メ
タクリル酸メチル90重量部及びアクリル酸メチル10
重量部からなるアクリル系樹脂を用い、シリンダー温度
280℃、型温80℃、型締圧20トンの成形条件にて
光ディスク成形基板を成形し、基板表面にトラックピッ
チ0.8〜1.0μmのピット及び溝を有する基板を得
た。この基板の複屈折は10nmであり、反りは100
μmであった。
Example 1 As a transparent thermoplastic resin, 90 parts by weight of methyl methacrylate and 10 parts of methyl acrylate were used.
An optical disk molding substrate was molded under the molding conditions of a cylinder temperature of 280 ° C., a mold temperature of 80 ° C., and a mold clamping pressure of 20 tons using an acrylic resin composed of parts by weight, and a track pitch of 0.8 to 1.0 μm was formed on the substrate surface. A substrate having pits and grooves was obtained. The birefringence of this substrate is 10 nm and the warp is 100.
was μm.

【0023】この基板表面に、スパッタリング法によっ
て膜厚約200オングストロームの金薄膜を製膜し、走
査型トンネル顕微鏡(STM)にてピットと溝の形状を
調べてみたところ、0.8μmピッチの溝までスタンパ
ーの形状を再現していた。
A gold thin film having a film thickness of about 200 angstrom was formed on the surface of this substrate by a sputtering method, and the shape of the pits and grooves was examined by a scanning tunneling microscope (STM). Even the shape of the stamper was reproduced.

【0024】[実施例2]成形条件として、シリンダー
温度290℃、型温70℃、型締圧20トンとする以外
は実施例1と同様にしてディスク成形基板を作成した。
Example 2 A disk-molded substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the molding conditions were a cylinder temperature of 290 ° C., a mold temperature of 70 ° C., and a mold clamping pressure of 20 tons.

【0025】得られた基板の複屈折は10nmであり、
反りは100μmであった。また、実施例1と同様にし
てピットと溝の形状を調べてみたところ、0.9μmピ
ッチの溝までスタンパーの形状を再現していた。
The birefringence of the obtained substrate is 10 nm,
The warp was 100 μm. When the shapes of the pits and the grooves were examined in the same manner as in Example 1, the shape of the stamper was reproduced up to the grooves having a pitch of 0.9 μm.

【0026】[実施例3]透明熱可塑性樹脂として、帝
人化成(株)製ポリカボネート樹脂AD9000TGを
用い、成形条件として、シリンダー温度375℃、型温
140℃、型締圧10トンとする以外は実施例1と同様
にしてディスク成形基板を作成した。
[Example 3] Polycarbonate resin AD9000TG manufactured by Teijin Chemicals Ltd. was used as the transparent thermoplastic resin, and the molding conditions were cylinder temperature 375 ° C, mold temperature 140 ° C and mold clamping pressure 10 tons. A disk molded substrate was prepared in the same manner as in Example 1.

【0027】得られた基板の複屈折は−15nmであ
り、反りは180μmであった。また、実施例1と同様
にしてピットと溝の形状を調べてみたところ、1.0μ
mピッチの溝がスタンパーの形状を再現していた。
The birefringence of the obtained substrate was -15 nm and the warpage was 180 μm. Further, when the shapes of the pit and the groove were examined in the same manner as in Example 1, it was found that 1.0 μ
The groove of m pitch reproduced the shape of the stamper.

【0028】[実施例4]成形条件として、シリンダー
温度390℃、型温135℃、型締圧10トンとする以
外は実施例3と同様にしてディスク成形基板を作成し
た。
Example 4 A disk-molded substrate was prepared in the same manner as in Example 3 except that the molding conditions were a cylinder temperature of 390 ° C., a mold temperature of 135 ° C., and a mold clamping pressure of 10 tons.

【0029】得られた基板の複屈折は−10nmであ
り、反りは120μmであった。また、実施例1と同様
にしてピットと溝の形状を調べてみたところ、1.0μ
mピッチの溝がスタンパーの形状を再現していた。
The birefringence of the obtained substrate was -10 nm and the warpage was 120 μm. Further, when the shapes of the pit and the groove were examined in the same manner as in Example 1, it was found that 1.0 μ
The groove of m pitch reproduced the shape of the stamper.

【0030】[比較例1]成形条件として、シリンダー
温度270℃、型温70℃、型締圧10トンとする以外
は実施例1と同様にして光ディスク成形基板を作成し
た。
[Comparative Example 1] An optical disk molded substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the molding temperature was 270 ° C, the mold temperature was 70 ° C, and the mold clamping pressure was 10 tons.

【0031】得られた基板の反りは100μmであった
が、基板の複屈折は30nmと大きかった。
The warp of the obtained substrate was 100 μm, but the birefringence of the substrate was as large as 30 nm.

【0032】[比較例2]成形条件として、シリンダー
温度290℃、型温90℃、型締圧30トンとする以外
は実施例1と同様にして光ディスク成形基板を作成し
た。
[Comparative Example 2] An optical disk molded substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the molding temperature was 290 ° C, the mold temperature was 90 ° C, and the mold clamping pressure was 30 tons.

【0033】得られた基板の複屈折は5nmであった
が、反りが350μmと大きかった。
The birefringence of the obtained substrate was 5 nm, but the warpage was as large as 350 μm.

【0034】[比較例3]成形条件として、シリンダー
温度370℃、型温130℃、型締圧10トンとする以
外は実施例3と同様にして光ディスク成形基板を作成し
た。
Comparative Example 3 An optical disk molded substrate was prepared in the same manner as in Example 3 except that the molding temperature was 370 ° C., the mold temperature was 130 ° C., and the mold clamping pressure was 10 tons.

【0035】得られた基板の反りは50μmであった
が、基板の複屈折は−40nmと大きかった。
The warp of the obtained substrate was 50 μm, but the birefringence of the substrate was as large as −40 nm.

【0036】[比較例4]成形条件として、シリンダー
温度390℃、型温140℃、型締圧30トンとする以
外は実施例3と同様にして光ディスク成形基板を作成し
た。
Comparative Example 4 An optical disk molded substrate was prepared in the same manner as in Example 3 except that the molding temperature was 390 ° C., the mold temperature was 140 ° C., and the mold clamping pressure was 30 tons.

【0037】得られた基板の複屈折は−20nmであっ
たが、反りが300μmと大きかった。
The birefringence of the obtained substrate was -20 nm, but the warpage was as large as 300 μm.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明の光ディスク成形基板は、従来で
は得られなかった、透明な熱可塑性樹脂を用いて射出成
形法又は射出圧縮成形法により成形されたものであるこ
とから、量産性及びコスト面で非常に優れており、更に
得られたディスク成形基板の複屈折が低く、且つ反りが
小さいことから、画像の高密度入力が可能となり、次世
代の光ディスク基板として、その効果は極めて大きいも
のである。
The optical disk molded substrate of the present invention is molded by an injection molding method or an injection compression molding method using a transparent thermoplastic resin, which has been heretofore not obtained. It is very excellent in terms of surface, and since the obtained disk-molded substrate has low birefringence and small warpage, high-density image input is possible, and its effect is extremely large as a next-generation optical disk substrate. Is.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 厚さが1.0mm以下であり、複屈折が
ダブルパスで|20|nm以下で、基板の反りが200
μm以下であることを特徴とする、透明な熱可塑性樹脂
で射出成形又は射出圧縮成形された光ディスク成形基
板。
1. A thickness of 1.0 mm or less, birefringence of | 20 | nm or less in a double pass, and a substrate warp of 200.
An optical disk molding substrate injection-molded or injection-compression-molded with a transparent thermoplastic resin, which has a thickness of less than μm.
【請求項2】 請求項1において、1.0μm以下のピ
ッチを持つピット又は溝を基板表面に有する光ディスク
成形基板。
2. The optical disk molding substrate according to claim 1, wherein the substrate surface has pits or grooves having a pitch of 1.0 μm or less.
JP5279507A 1993-11-09 1993-11-09 Optical disk forming substrate Pending JPH07130003A (en)

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JP5279507A JPH07130003A (en) 1993-11-09 1993-11-09 Optical disk forming substrate

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JP5279507A Pending JPH07130003A (en) 1993-11-09 1993-11-09 Optical disk forming substrate

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JP (1) JPH07130003A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996006431A1 (en) * 1994-08-25 1996-02-29 Sony Corporation Substrate for optical disk

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WO1996006431A1 (en) * 1994-08-25 1996-02-29 Sony Corporation Substrate for optical disk

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