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JPH0712942U - 半導体圧力変換器 - Google Patents

半導体圧力変換器

Info

Publication number
JPH0712942U
JPH0712942U JP4487693U JP4487693U JPH0712942U JP H0712942 U JPH0712942 U JP H0712942U JP 4487693 U JP4487693 U JP 4487693U JP 4487693 U JP4487693 U JP 4487693U JP H0712942 U JPH0712942 U JP H0712942U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
diaphragm
differential pressure
semiconductor
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4487693U
Other languages
English (en)
Inventor
圭三 大谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Azbil Corp
Original Assignee
Azbil Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Azbil Corp filed Critical Azbil Corp
Priority to JP4487693U priority Critical patent/JPH0712942U/ja
Publication of JPH0712942U publication Critical patent/JPH0712942U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ダイヤフラム部以外の変形や温度変化による
影響を軽減防止し、高精度な測定を行い得るようにす
る。 【構成】 基板1に環状のダイヤフラム部2を設け、さ
らにその外側に環状の薄肉部21を形成する。基板1の
裏面外周部を台座4に接合し、薄肉部21より内側部分
を台座4から浮かせる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は差圧あるいは圧力を検出する半導体圧力変換器に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の半導体圧力変換器としてはSi(シリコン)半導体ダイヤフラ ムを利用したものが知られている。このSiダイヤフラム型半導体圧力変換器は 、半導体結晶からなる基板(以下半導体基板という)の表面に不純物の拡散もし くはイオン打ち込み技術によりピエゾ抵抗領域として作用するゲージを形成する と共に、Alの蒸着等によりリードを形成し、裏面の一部をエッチングによって 除去することにより厚さ20μm〜50μm程度の薄肉部、すなわちダイヤフラ ム部を形成して構成したもので、ダイヤフラム部の表裏面に測定圧力をそれぞれ 加えると、ダイヤフラム部の変形に伴いゲージの比抵抗が変化し、この時の抵抗 変化に伴う出力電圧を検出し、差圧または圧力を測定するものである。
【0003】 図4および図5はこのような半導体圧力変換器の従来例を示す平面図および断 面図で、半導体基板1は(100)面のn型単結晶Siからなり、エッチングに よりその裏面中央部を環状に除去されることにより差圧または圧力に感応する薄 肉円環状の感圧ダイヤフラム部2を備え、またこのダイヤフラム部2の表面側に はピエゾ領域として作用し差圧または圧力を検出する差圧検出用ゲージ3(3A ,3B)が設けられ、台座4上に静電接合されている。台座4は、半導体基板1 と熱膨張係数が近似したパイレックスガラス、セラミックス等によって形成され 、前記半導体基板1の裏面に形成された凹陥部5を介してダイヤフラム部2の裏 面側に測定すべき圧力P1 ,P2 のうちの一方(P2 )を導く貫通孔6が形成さ れている。
【0004】 前記差圧検出用ゲージ3は、前記感圧ダイヤフラム部2の表面で径方向中央に 拡散またはイオン打ち込み法によって4つ形成されており、ホイールストーンブ リッジに結線されることでダイヤフラム部2の表裏面に加えられた測定すべき圧 力P1 ,P2 の差圧信号を差動的に出力する。測定差圧または圧力はそれぞれ最 大140Kgf/cm2 ,420Kgf/cm2 程度である。 また、4つの差圧検出用ゲージ3のうち半径方向の2つの差圧検出用ゲージ3 Aは、折り返しゲージを形成することで、低濃度(1019 個/cm3 )で所定 のシート抵抗を有し、結晶面方位(100)においてピエゾ抵抗係数が最大とな る<110>の結晶軸方向と平行な2つのゲージ部3a,3aと、ゲージ部3a ,3aの一端を互いに連結する連結部3bと、ゲージ部3a,3aの他端にそれ ぞれ接続された2つのリードアウト部3c,3cとからなり、連結部3bとリー ドアウト部3c,3cがゲージ部3a,3aに対するこれらの影響を除くため一 般に高濃度(1021 個/cm3 )の導電型(p+ 型)半導体物質領域を形成し ている。一方、接線方向の2つの差圧検出用ゲージ3Bは、折り返しゲージを形 成せず、低濃度(1019 個/cm3 )で所定のシート抵抗を有し、結晶面方位 (100)においてピエゾ抵抗係数が最大となる<110>の結晶軸方向と平行 な1つのゲージ部3aと、ゲージ部3aの端部にそれぞれ接続され高濃度(10 21 個/cm3 )の導電型(p+ 型)半導体物質領域を形成する2つのリードア ウト部3c,3cとで構成されている。
【0005】 差圧検出用ゲージ3のピエゾ抵抗係数はp型,n型共に半導体基板1への不純 物のドーピング量が多くなるにつれて低下する。このため、差圧検出用ゲージ3 の比抵抗の変化率を大きくして、圧力に対する感度を上げ大きな出力電圧を得る には不純物濃度を低く設定する。また、ピエゾ抵抗係数は、p型とn型で異なり 、p型の方がより大きく、このためn型半導体上にp型抵抗層を設けるのが一般 的である。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
上記した従来の半導体圧力変換器において、ダイヤフラム部2は差圧(P1 − P2 )(圧力測定は片側の圧力が0)に比例して変形する。この時、ダイヤフラ ム部2にのみ圧力が加わるものであれば差圧(または圧力)を正確に測定するこ とができるが、実際には変換器全体に圧力P1 ,P2 が作用しているため、ダイ ヤフラム部2以外の部分もこの圧力差(P1 −P2 )によって変形する。そして 、この変形は当然のことながら圧力差が大きいほど大きく、ダイヤフラム部2に 応力(変形)を生じさせる。つまり、ダイヤフラム部2は、その表裏面に直接働 く圧力P1 ,P2 の差圧によって変形すると同時に、ダイヤフラム部2以外の部 分の変形を受けて変形する。したがって、差圧(または圧力)を正確には測定す ることができないという問題があった。 また、このような問題は温度変化によっても同様なことが言える。すなわち、 温度変化によって変換器が伸縮すると、変換器全体に応力が生じ、この応力がダ イヤフラム部2に加わると出力がシフトし、測定誤差を生じる。
【0007】 本考案は上記したような従来の問題点に鑑みてなされたもので、その目的とす るところは、差圧または圧力によるダイヤフラム部以外の部分の変形や温度変化 による影響を軽減防止し、高精度な測定を行い得るようにした半導体圧力変換器 を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を解決するため本考案に係る半導体圧力変換器は、半導体結晶からな る基板の一方の面に凹陥部を形成することにより薄肉部を形成し、前記基板の他 方の面の前記薄肉部上にピエゾ抵抗領域として作用するゲージを設け、前記基板 の一方の面の外周部を台座に固着した半導体圧力変換器において、前記基板の薄 肉部と周囲固着部との間に変形容易な環状の薄肉部を形成したものである。
【0009】
【作用】
本考案において、ダイヤフラム部を形成する薄肉部は差圧または圧力によって 変形する。この時、薄肉部の外側に形成された変形容易な環状の薄肉部も変形す る。また、周囲固着部も差圧もしくは圧力によって変形すると、環状薄肉部に応 力(変形)を生じさせる。しかし、この環状薄肉部の応力(変形)は厚肉部の存 在によって遮断されているため、薄肉部は環状薄肉部に生じる応力(変形)の影 響を受けることがなく、薄肉部に加えられる差圧または圧力によってのみ変形す る。 また、温度変化によって環状薄肉部および周囲固着部が変形した場合も、薄肉 部は同様に影響を受けることがない。
【0010】
【実施例】
以下、本考案を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明する。 図1は本考案に係る半導体圧力変換器の一実施例を示す断面図である。なお、 図4および図5と同一構成部材のものに対しては同一符号をもって示し、その説 明を省略する。本実施例は半導体基板1の裏面外周寄りに凹陥部20を形成する ことによりゲージ3が埋め込み形成されたダイヤフラム部(薄肉部)2の外側に 変形容易な環状の薄肉部21を設けたものである。ダイヤフラム部2と環状薄肉 部21とは、環状の厚肉部22によって仕切られており、この厚肉部22の裏面 22aとダイヤフラム部2の内側に設けられている円板状の厚肉部23の裏面2 3aは台座4の表面から離間している。 その他の構成は上記した従来の変換器と同様である。
【0011】 図2は上記構成からなる半導体圧力変換器の差圧測定時における変形を示す図 である。差圧測定時にダイヤフラム部2の表裏面に測定すべき圧力P1 ,P2 ( 図においてはP1 >P2 の場合を示す)が印加されると、ダイヤフラム部2と環 状薄肉部21はともに台座4側に変形する。また、圧力P1 ,P2 は変換器全体 に作用しているため、差圧が大きいと台座4の上面に固着されている周囲固着部 24も変形し、この変形によって環状薄肉部21を変形させる。つまり、環状薄 肉部21は、表裏面に加えられる圧力P1 ,P2 の差および周囲固着部24の変 形に伴って変形する。しかし、このような環状薄肉部21の変形は厚肉部22に よって遮断されているため、ダイヤフラム部2には何等影響を及ぼすことがない 。また、厚肉部22は温度変化による環状薄肉部21の変形を遮断する。したが って、ダイヤフラム部2は、ダイヤフラム部2に加えられる差圧(または圧力) によってのみ変形し、正確な差圧(圧力)測定を可能にする。
【0012】 図3は本考案の他の実施例を示す断面図である。この実施例は半導体基板1の 裏面中央部に設けた円形の凹陥部30のため薄肉部を形成する部分を円板状の差 圧感圧用ダイヤフラム部2としたものである。その他の構成は上記実施例と同様 である。 このような構成においても上記実施例と同様に差圧または圧力によるダイヤフ ラム部以外の部分の変形や温度変化による影響を防止することができる。
【0013】
【考案の効果】
以上説明したように本考案に係る半導体圧力変換器によれば、基板のダイヤフ ラムを形成する薄肉部の外側に厚肉部と環状薄肉部を形成したので、簡単な構成 にも拘らずダイヤフラム部を形成する薄肉部を、ダイヤフラム部自体に加えられ る差圧または圧力のみによって変形させることができて、差圧または圧力による ダイヤフラム部以外の部分の変形による影響を何等受けず、したがって、差圧ま たは圧力を高精度に測定することができ、変換器の測定精度を向上させることが できる。また、温度変化による影響をも軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係る半導体圧力変換器の一実施例を示
す断面図である。
【図2】半導体圧力変換器の差圧測定時における変形を
示す図である。
【図3】本考案の他の実施例を示す断面図である。
【図4】半導体圧力変換器の従来例を示す平面図であ
る。
【図5】同変換器の断面図である。
【符号の説明】
1 半導体基板 2 ダイヤフラム部(薄肉部) 3A 半径方向の差圧検出用ゲージ 3B 接線方向の差圧検出用ゲージ 3a ゲージ部 3b 連結部 3c リードアウト部 4 台座 5 凹陥部 20 凹陥部 21 薄肉部 22 厚肉部 23 厚肉部 24 周囲固着部

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体結晶からなる基板の一方の面に凹
    陥部を形成することにより薄肉部を形成し、前記基板の
    他方の面の前記薄肉部上にピエゾ抵抗領域として作用す
    るゲージを設け、前記基板の一方の面の外周部を台座に
    固着した半導体圧力変換器において、 前記基板の薄肉部と周囲固着部との間に変形容易な環状
    の薄肉部を形成したことを特徴とする半導体圧力変換
    器。
JP4487693U 1993-07-27 1993-07-27 半導体圧力変換器 Pending JPH0712942U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4487693U JPH0712942U (ja) 1993-07-27 1993-07-27 半導体圧力変換器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4487693U JPH0712942U (ja) 1993-07-27 1993-07-27 半導体圧力変換器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0712942U true JPH0712942U (ja) 1995-03-03

Family

ID=12703701

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4487693U Pending JPH0712942U (ja) 1993-07-27 1993-07-27 半導体圧力変換器

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JP (1) JPH0712942U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002195905A (ja) * 2000-12-27 2002-07-10 Minebea Co Ltd 高温対応サニタリー用圧力変換器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002195905A (ja) * 2000-12-27 2002-07-10 Minebea Co Ltd 高温対応サニタリー用圧力変換器

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