JPH07126781A - ハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を有するＮｉ基合金およびその合金からなる配管 - Google Patents
ハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を有するＮｉ基合金およびその合金からなる配管Info
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- JPH07126781A JPH07126781A JP29415993A JP29415993A JPH07126781A JP H07126781 A JPH07126781 A JP H07126781A JP 29415993 A JP29415993 A JP 29415993A JP 29415993 A JP29415993 A JP 29415993A JP H07126781 A JPH07126781 A JP H07126781A
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- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 35
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 title claims abstract description 30
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 26
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- -1 and further Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Rigid Pipes And Flexible Pipes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体製造プロセスに使用する含水ハロゲン
化水素ガスに対する耐食性に優れたＮｉ基合金およびそ
のＮｉ基合金からなる配管を提供する。 【構成】 重量％で、Ｃｒ：１６〜２１％、Ｍｏ：１６
〜２１％、Ｔａ：１．５〜３．５％、Ｆｅ：０．０１〜
４．０％を含有し、さらに、必要に応じて、Ｎｂ：０．
１〜０．５％、Ｃｕ：０．１〜２．０％のうち１種以上
を４Ｎｂ＋Ｃｕ≦２％となる条件を満足するように含有
し、残りがＮｉおよび不可避不純物からなるＮｉ基合
金、および上記Ｎｉ基合金からなる配管。
化水素ガスに対する耐食性に優れたＮｉ基合金およびそ
のＮｉ基合金からなる配管を提供する。 【構成】 重量％で、Ｃｒ：１６〜２１％、Ｍｏ：１６
〜２１％、Ｔａ：１．５〜３．５％、Ｆｅ：０．０１〜
４．０％を含有し、さらに、必要に応じて、Ｎｂ：０．
１〜０．５％、Ｃｕ：０．１〜２．０％のうち１種以上
を４Ｎｂ＋Ｃｕ≦２％となる条件を満足するように含有
し、残りがＮｉおよび不可避不純物からなるＮｉ基合
金、および上記Ｎｉ基合金からなる配管。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ＨＣｌ，ＨＢｒなど
のハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を有するＮ
ｉ基合金、およびこのＮｉ基合金からなる配管に関する
ものであり、この配管は主として半導体製造プロセス用
ガス配管として用いられるものである。
のハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を有するＮ
ｉ基合金、およびこのＮｉ基合金からなる配管に関する
ものであり、この配管は主として半導体製造プロセス用
ガス配管として用いられるものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体製造プロセスにおけるＨＣ
ｌ，ＨＢｒ等のハロゲン化水素ガスの利用が進んでい
る。半導体製造技術は、既にデザインルールのサブミク
ロン時代を迎えており、現在なお更なる超高集積度をめ
ざした微細化技術の開発が進められている。
ｌ，ＨＢｒ等のハロゲン化水素ガスの利用が進んでい
る。半導体製造技術は、既にデザインルールのサブミク
ロン時代を迎えており、現在なお更なる超高集積度をめ
ざした微細化技術の開発が進められている。
【０００３】このため、半導体に使用されるガスには、
より厳しい高清浄化と高純度化が求められるとともに微
細パターンを実現する特殊ガスには、フロン規制に伴い
ＣＦ4 の仕様が減少しＨＣｌやＨＢｒなどのラジカルな
ハロゲン化水素系の反応性ガスが採用されるようになっ
た。そして、安定した長期操業と安全性確保のため、こ
れらのガスに対して、充分な耐食性を有する配管や装置
構成部材の要請が高まってきた。
より厳しい高清浄化と高純度化が求められるとともに微
細パターンを実現する特殊ガスには、フロン規制に伴い
ＣＦ4 の仕様が減少しＨＣｌやＨＢｒなどのラジカルな
ハロゲン化水素系の反応性ガスが採用されるようになっ
た。そして、安定した長期操業と安全性確保のため、こ
れらのガスに対して、充分な耐食性を有する配管や装置
構成部材の要請が高まってきた。
【０００４】これらのハロゲン化水素ガスは完全にドラ
イであれば、腐食の問題は発生しない。しかし、ボンベ
交換などによって、わずかながらもＨ2 Ｏがプロセス内
に入り込むと、ハロゲン化水素が電離、イオン化して局
所的に濃縮し酸を生じて、配管材料等の表面を腐食さ
せ、この腐食生成物が、微細粒子（パーティクル）とな
って浮遊発散する。
イであれば、腐食の問題は発生しない。しかし、ボンベ
交換などによって、わずかながらもＨ2 Ｏがプロセス内
に入り込むと、ハロゲン化水素が電離、イオン化して局
所的に濃縮し酸を生じて、配管材料等の表面を腐食さ
せ、この腐食生成物が、微細粒子（パーティクル）とな
って浮遊発散する。
【０００５】従来、半導体製造プロセス用配管として、
内面を光輝焼鈍したり電解研摩したＳＵＳ３１６Ｌから
なる配管が使用されていたが、十分な耐食性が得られな
いところから、水分を含むＨＣｌやＨＢｒなどのハロゲ
ン化水素ガスに対してＳＵＳ３１６Ｌをはるかに凌ぐ耐
食性を示すハステロイＣ−２２（公称組成：２１％Ｃｒ
−１３％Ｍｏ−４％Ｆｅ−３％Ｗ−Ｂａｌ．Ｎｉ）など
のＮｉ基合金製配管が用いられるようになってきた。
内面を光輝焼鈍したり電解研摩したＳＵＳ３１６Ｌから
なる配管が使用されていたが、十分な耐食性が得られな
いところから、水分を含むＨＣｌやＨＢｒなどのハロゲ
ン化水素ガスに対してＳＵＳ３１６Ｌをはるかに凌ぐ耐
食性を示すハステロイＣ−２２（公称組成：２１％Ｃｒ
−１３％Ｍｏ−４％Ｆｅ−３％Ｗ−Ｂａｌ．Ｎｉ）など
のＮｉ基合金製配管が用いられるようになってきた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年、半導体
製造プロセスで使用する配管として、含水ハロゲン化水
素ガスに対する耐食性の一層すぐれた配管が求められて
おり、この配管を製造するためのＮｉ基合金が研究され
ているが、含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性を一
層向上させると一般に機械的特性が低下し、配管に加工
することが困難であったり、曲げ加工が出来ないなどの
課題があった。
製造プロセスで使用する配管として、含水ハロゲン化水
素ガスに対する耐食性の一層すぐれた配管が求められて
おり、この配管を製造するためのＮｉ基合金が研究され
ているが、含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性を一
層向上させると一般に機械的特性が低下し、配管に加工
することが困難であったり、曲げ加工が出来ないなどの
課題があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は、
機械的特性を劣化せしめることなく従来より含水ハロゲ
ン化水素ガスに対する耐食性の優れたＮｉ基合金からな
る配管を得るべく研究を行った結果、重量％で、Ｃｒ：
１６〜２１％、Ｍｏ：１６〜２１％、Ｔａ：１．５〜
３．５％、Ｆｅ：０．０１〜４％を含有し、さらに、必
要に応じて、Ｎｂ：０．１〜０．５％、Ｃｕ：０．１〜
２．０％のうち１種以上を４Ｎｂ＋Ｃｕ≦２％となる条
件を満足するように含有し、残りがＮｉおよび不可避不
純物からなるＮｉ基合金は、従来のハステロイＣ−２２
などのＮｉ基合金よりも含水ハロゲン化水素ガスに対す
る耐食性に優れ、機械的特性は劣ることはないという研
究結果が得られたのである。
機械的特性を劣化せしめることなく従来より含水ハロゲ
ン化水素ガスに対する耐食性の優れたＮｉ基合金からな
る配管を得るべく研究を行った結果、重量％で、Ｃｒ：
１６〜２１％、Ｍｏ：１６〜２１％、Ｔａ：１．５〜
３．５％、Ｆｅ：０．０１〜４％を含有し、さらに、必
要に応じて、Ｎｂ：０．１〜０．５％、Ｃｕ：０．１〜
２．０％のうち１種以上を４Ｎｂ＋Ｃｕ≦２％となる条
件を満足するように含有し、残りがＮｉおよび不可避不
純物からなるＮｉ基合金は、従来のハステロイＣ−２２
などのＮｉ基合金よりも含水ハロゲン化水素ガスに対す
る耐食性に優れ、機械的特性は劣ることはないという研
究結果が得られたのである。
【０００８】この発明は、かかる研究結果に基づいてな
されたものであって、重量％で、Ｃｒ：１６〜２１％、
Ｍｏ：１６〜２１％、Ｔａ：１．５〜３．５％、Ｆｅ：
０．０１〜４％を含有し、さらに、必要に応じて、Ｎ
ｂ：０．１〜０．５％、Ｃｕ：０．１〜２．０％のうち
１種以上を４Ｎｂ＋Ｃｕ≦２％の条件を満足するように
含有し、残りがＮｉおよび不可避不純物からなるＮｉ基
合金およびこのＮｉ基合金からなる配管に特徴を有する
ものである。
されたものであって、重量％で、Ｃｒ：１６〜２１％、
Ｍｏ：１６〜２１％、Ｔａ：１．５〜３．５％、Ｆｅ：
０．０１〜４％を含有し、さらに、必要に応じて、Ｎ
ｂ：０．１〜０．５％、Ｃｕ：０．１〜２．０％のうち
１種以上を４Ｎｂ＋Ｃｕ≦２％の条件を満足するように
含有し、残りがＮｉおよび不可避不純物からなるＮｉ基
合金およびこのＮｉ基合金からなる配管に特徴を有する
ものである。
【０００９】この発明のＮｉ基合金およびこのＮｉ基合
金からなる配管の成分組成を上述の如く限定した理由は
下記の理由によるものである。
金からなる配管の成分組成を上述の如く限定した理由は
下記の理由によるものである。
【００１０】（ａ） Ｃｒ Ｃｒは、配管表面に保護皮膜を形成するに必要な成分で
あり、あらかじめ配管に不働態化処理を施して皮膜を形
成しておくと一層耐食性を高めることができる成分であ
るが、１６％未満では皮膜は形成しづらく、一方２１％
を越えるとＣｒとＭｏのバランスを崩し、含水ハロゲン
化水素ガスに対する耐食性が低下し、さらに機械的特性
も低下するので好ましくない。
あり、あらかじめ配管に不働態化処理を施して皮膜を形
成しておくと一層耐食性を高めることができる成分であ
るが、１６％未満では皮膜は形成しづらく、一方２１％
を越えるとＣｒとＭｏのバランスを崩し、含水ハロゲン
化水素ガスに対する耐食性が低下し、さらに機械的特性
も低下するので好ましくない。
【００１１】したがって、Ｃｒ含有量は１６〜２１％に
定めた。
定めた。
【００１２】（ｂ） Ｍｏ Ｍｏは、ハロゲン化水素ガスに対して最も有効に耐食性
を向上させる成分であるが、その含有量が１６％未満で
は十分な耐食性を得ることができず、一方、２１％を越
えて含有しても硬さが増し、塑性加工性が低下するので
好ましくない。
を向上させる成分であるが、その含有量が１６％未満で
は十分な耐食性を得ることができず、一方、２１％を越
えて含有しても硬さが増し、塑性加工性が低下するので
好ましくない。
【００１３】したがって、Ｍｏの含有量は１６〜２１％
に定めた。
に定めた。
【００１４】（ｃ） Ｔａ Ｔａは、Ｍｏの耐食効果を助長すると同時に、不働態化
による皮膜形成を促進させる作用を有するが、その含有
量が１．５％未満では十分な効果が得られず、一方、
３．５％を越えて含有すると有害相の析出を誘発し、含
水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性の低下と共に機械
的特性も低下するので好ましくない。したがって、Ｔａ
の含有量は１．５〜３．５％に定めた。
による皮膜形成を促進させる作用を有するが、その含有
量が１．５％未満では十分な効果が得られず、一方、
３．５％を越えて含有すると有害相の析出を誘発し、含
水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性の低下と共に機械
的特性も低下するので好ましくない。したがって、Ｔａ
の含有量は１．５〜３．５％に定めた。
【００１５】（ｄ） Ｆｅ Ｆｅは、加工性、特に曲げ加工性を向上させるために必
須な成分であるが、その含有量が０．０１％未満では加
工性向上効果が認められず、一方、４．０％を越えて含
有すると含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性が低下
するところから、Ｆｅ含有量は０．０１〜４．０％に定
めた。
須な成分であるが、その含有量が０．０１％未満では加
工性向上効果が認められず、一方、４．０％を越えて含
有すると含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性が低下
するところから、Ｆｅ含有量は０．０１〜４．０％に定
めた。
【００１６】（ｅ） Ｎｂ，Ｃｕ ＮｂおよびＣｕは共に含水ハロゲン化水素ガスに対する
耐食性を向上させる成分であるが、Ｎｂ：０．１％未
満、Ｃｕ：０．１％未満であると十分な耐食性が得られ
ず、一方、Ｎｂが０．５％を越えると有害相の析出を促
進させて含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性および
機械的性質を低下させ、さらにＣｕが２．０％を越えて
含有しても含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性およ
び機械的性質が低下するようになって好ましくない。
耐食性を向上させる成分であるが、Ｎｂ：０．１％未
満、Ｃｕ：０．１％未満であると十分な耐食性が得られ
ず、一方、Ｎｂが０．５％を越えると有害相の析出を促
進させて含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性および
機械的性質を低下させ、さらにＣｕが２．０％を越えて
含有しても含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性およ
び機械的性質が低下するようになって好ましくない。
【００１７】従って、ＮｂおよびＣｕの含有量は、それ
ぞれＮｂ：０．１〜０．５％、Ｃｕ：０．１〜２．０％
の範囲内にあることが必要であるが、ＮｂおよびＣｕ
は、さらに、４Ｎｂ＋Ｃｕが２％を越えると含水ハロゲ
ン化水素ガスに対する耐食性および機械的性質が低下す
るので好ましくない。
ぞれＮｂ：０．１〜０．５％、Ｃｕ：０．１〜２．０％
の範囲内にあることが必要であるが、ＮｂおよびＣｕ
は、さらに、４Ｎｂ＋Ｃｕが２％を越えると含水ハロゲ
ン化水素ガスに対する耐食性および機械的性質が低下す
るので好ましくない。
【００１８】（ｆ） 不可避不純物 なお、非金属介在物の主成分となる不可避不純物もパー
ティクルの発生源となるために、できるだけ少ない方が
よく、したがって、不可避不純物の範囲は下記の如く限
定した。
ティクルの発生源となるために、できるだけ少ない方が
よく、したがって、不可避不純物の範囲は下記の如く限
定した。
【００１９】Ｍｎ：０．０５％以下、Ｍｇ：０．０４％
以下、Ｃ：０．０１％以下、Ｓｉ：０．０３％以下、
Ｐ：０．０２％以下、Ｓ：０．０２％以下、Ｖ：０．１
０％以下。
以下、Ｃ：０．０１％以下、Ｓｉ：０．０３％以下、
Ｐ：０．０２％以下、Ｓ：０．０２％以下、Ｖ：０．１
０％以下。
【００２０】
【実施例】表１〜表２に示される成分組成の本発明Ｎｉ
基合金１〜１１、比較Ｎｉ基合金１〜１０およびハステ
ロイＣ−２２からなる従来Ｎｉ基合金を用意し、これら
Ｎｉ基合金からなる幅：６mm、長さ：１００mm、厚さ：
１mmの寸法を有する合金板を作製し、この合金板の表面
を通常の条件で電解研摩し、試験片を作製した。
基合金１〜１１、比較Ｎｉ基合金１〜１０およびハステ
ロイＣ−２２からなる従来Ｎｉ基合金を用意し、これら
Ｎｉ基合金からなる幅：６mm、長さ：１００mm、厚さ：
１mmの寸法を有する合金板を作製し、この合金板の表面
を通常の条件で電解研摩し、試験片を作製した。
【００２１】これら試験片を石英チャンバーに装入し、
まず石英チャンバー内の水分を除去するために石英チャ
ンバーを１５０℃に加熱し、その石英チャンバーにＮ2
ガスを２４時間流した後、Ｎ2 ガスを流しながら常温ま
で徐冷した。次いで、ＨＢｒガス：９０cc／min と１０
００ppm Ｈ2 Ｏ＋Ｎ2 ガス：１０cc／min を同時に流す
ことにより、水分を含んだＨＢｒガス（９０％ＨＢｒ＋
１００ppm Ｈ2 Ｏ＋Ｎ2 ）に置換し、この水分を含んだ
ＨＢｒガスを２４０時間流し続けた。
まず石英チャンバー内の水分を除去するために石英チャ
ンバーを１５０℃に加熱し、その石英チャンバーにＮ2
ガスを２４時間流した後、Ｎ2 ガスを流しながら常温ま
で徐冷した。次いで、ＨＢｒガス：９０cc／min と１０
００ppm Ｈ2 Ｏ＋Ｎ2 ガス：１０cc／min を同時に流す
ことにより、水分を含んだＨＢｒガス（９０％ＨＢｒ＋
１００ppm Ｈ2 Ｏ＋Ｎ2 ）に置換し、この水分を含んだ
ＨＢｒガスを２４０時間流し続けた。
【００２２】その後、Ｎ2 ガスを５０cc／min で２４時
間流して石英チャンバー内をＮ2 雰囲気に置換し、さら
にＮ2 ガスを１０００cc／min 流しながら６０分間に渡
りパーティクルカウンターにより腐食が原因で発生した
微細粒子（パーティクル）の個数を測定し、その結果を
表３〜表４に示した。
間流して石英チャンバー内をＮ2 雰囲気に置換し、さら
にＮ2 ガスを１０００cc／min 流しながら６０分間に渡
りパーティクルカウンターにより腐食が原因で発生した
微細粒子（パーティクル）の個数を測定し、その結果を
表３〜表４に示した。
【００２３】この場合、１リットル／min のＮ2 を６０
分間流すことになるから、６０リットル中にあるパーテ
ィクル個数を測定したことになる。
分間流すことになるから、６０リットル中にあるパーテ
ィクル個数を測定したことになる。
【００２４】ＨＣｌガスについても上記ＨＢｒガスと同
様にしてパーティクルカウンターによりパーティクル個
数を測定し、その結果も表３〜表４に示した。
様にしてパーティクルカウンターによりパーティクル個
数を測定し、その結果も表３〜表４に示した。
【００２５】さらに、上記本発明Ｎｉ基合金１〜１１、
比較Ｎｉ基合金１〜１０および従来Ｎｉ基合金について
引張り強さ、０．２％耐力および伸びを測定し、その結
果も表３〜表４に示した。
比較Ｎｉ基合金１〜１０および従来Ｎｉ基合金について
引張り強さ、０．２％耐力および伸びを測定し、その結
果も表３〜表４に示した。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】
【表３】
【００２９】
【表４】
【００３０】
【発明の効果】表１〜表４に示される結果から、本発明
Ｎｉ基合金１〜１１は、従来Ｎｉ基合金に比べて、引張
り強さ、０．２％耐力および伸びなどの機械的特性は同
程度であるが、測定されたパーティクル個数が格段に少
ないところから含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性
が格段に優れており、したがって、本発明Ｎｉ基合金１
〜１１で作製した配管は、半導体製造プロセス用配管と
して用いた場合に、従来Ｎｉ基合金で作製した配管に比
べて長期間の使用に耐えることができることがわかる。
Ｎｉ基合金１〜１１は、従来Ｎｉ基合金に比べて、引張
り強さ、０．２％耐力および伸びなどの機械的特性は同
程度であるが、測定されたパーティクル個数が格段に少
ないところから含水ハロゲン化水素ガスに対する耐食性
が格段に優れており、したがって、本発明Ｎｉ基合金１
〜１１で作製した配管は、半導体製造プロセス用配管と
して用いた場合に、従来Ｎｉ基合金で作製した配管に比
べて長期間の使用に耐えることができることがわかる。
【００３１】しかし、この発明の範囲から外れた比較Ｎ
ｉ基合金１〜１０は、含水ハロゲン化水素ガスに対する
耐食性および機械的特性のうち少なくともいずれか一方
の特性が劣るところから半導体製造プロセス用配管材と
して好ましくないこともわかる。
ｉ基合金１〜１０は、含水ハロゲン化水素ガスに対する
耐食性および機械的特性のうち少なくともいずれか一方
の特性が劣るところから半導体製造プロセス用配管材と
して好ましくないこともわかる。
【００３２】上述のように、この発明のＮｉ基合金は、
特に含水ハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を示
すので、半導体製造プロセスの配管として用いた場合に
長期に渡って安定操業が可能となり、半導体製造コスト
の削減など産業上すぐれた効果をもたらすものである。
特に含水ハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を示
すので、半導体製造プロセスの配管として用いた場合に
長期に渡って安定操業が可能となり、半導体製造コスト
の削減など産業上すぐれた効果をもたらすものである。
フロントページの続き (72)発明者 豊蔵 康司 埼玉県大宮市北袋町１−297 三菱マテリ アル株式会社中央研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 重量％で、Ｃｒ：１６〜２１％、Ｍｏ：
１６〜２１％、Ｔａ：１．５〜３．５％、Ｆｅ：０．０
１〜４％を含有し、残りがＮｉおよび不可避不純物から
なることを特徴とするハロゲン化水素ガスに対して優れ
た耐食性を有するＮｉ基合金。 - 【請求項２】 重量％で、Ｃｒ：１６〜２１％、Ｍｏ：
１６〜２１％、Ｔａ：１．５〜３．５％、Ｆｅ：０．０
１〜４％を含有し、さらに、 Ｎｂ：０．１〜０．５％、 Ｃｕ：０．１〜２％、の
うち１種以上を４Ｎｂ＋Ｃｕ≦２％の条件を満足するよ
うに含有し、残りがＮｉおよび不可避不純物からなるこ
とを特徴とするハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食
性を有するＮｉ基合金。 - 【請求項３】 請求項１または２記載のハロゲン化水素
ガスに対して優れた耐食性を有するＮｉ基合金からなる
ことを特徴とする配管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29415993A JPH07126781A (ja) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | ハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を有するＮｉ基合金およびその合金からなる配管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29415993A JPH07126781A (ja) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | ハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を有するＮｉ基合金およびその合金からなる配管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07126781A true JPH07126781A (ja) | 1995-05-16 |
Family
ID=17804083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29415993A Withdrawn JPH07126781A (ja) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | ハロゲン化水素ガスに対して優れた耐食性を有するＮｉ基合金およびその合金からなる配管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07126781A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012578A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-15 | Asahi Glass Co Ltd | 有機ハロゲン化合物と高温高圧水との反応方法 |
| JP2007332076A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アリルクロライドの製造方法。 |
| JP2011046974A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Mitsubishi Materials Corp | Ｎｉ基合金製ハロゲン系ガス用ボンベのバルブ部材 |
-
1993
- 1993-10-29 JP JP29415993A patent/JPH07126781A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003012578A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-15 | Asahi Glass Co Ltd | 有機ハロゲン化合物と高温高圧水との反応方法 |
| JP2007332076A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アリルクロライドの製造方法。 |
| JP2011046974A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Mitsubishi Materials Corp | Ｎｉ基合金製ハロゲン系ガス用ボンベのバルブ部材 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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