[go: up one dir, main page]

JPH07120326A - 波長検出装置 - Google Patents

波長検出装置

Info

Publication number
JPH07120326A
JPH07120326A JP5265053A JP26505393A JPH07120326A JP H07120326 A JPH07120326 A JP H07120326A JP 5265053 A JP5265053 A JP 5265053A JP 26505393 A JP26505393 A JP 26505393A JP H07120326 A JPH07120326 A JP H07120326A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
reference light
light
detected
pressure mercury
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5265053A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Wakabayashi
理 若林
Yukio Kobayashi
諭樹夫 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP5265053A priority Critical patent/JPH07120326A/ja
Priority to PCT/JP1994/001766 priority patent/WO1995011432A1/ja
Priority to US08/637,657 priority patent/US5748316A/en
Priority to KR1019960701848A priority patent/KR100330671B1/ko
Publication of JPH07120326A publication Critical patent/JPH07120326A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J9/00Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70575Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J9/00Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
    • G01J9/02Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
    • G01J9/0246Measuring optical wavelength

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】安定な基準光が得られると共に、基準光及び被
検出光の絶対波長を高精度に測定することができるエキ
シマレーザの波長検出装置を提供することを目的とす
る。 【構成】この発明では、基準光源として低圧水銀ランプ
を用い、この低圧水銀ランプに特定の同位体水銀を純度
49%以上封入した253.7nm線を使用するように
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体露光装置用の
光源として使用される狭帯域エキシマレーザ等の波長検
出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、狭帯域エキシマレーザの波長
線幅及び波長を検出するために、モニタエタロンが用い
られている。モニタエタロンは部分反射ミラーを所定の
間隔を開けて対向配置したエアギャップエタロンを用い
て構成されるもので、このエアギャップエタロンの透過
波長λは次のように表される。
【0003】 mλ=2nd・cosθ …(1) m:整数 d:エタロンの部分反射ミラー間の間隔 n:部分反射ミラー間の屈折率 θ:エタロンの法線と入射光の成す角 この式により、n,d,mが一定とすれば、波長λが変
化すると、θが変化することが判る。モニタエタロンで
は、この性質を利用して被検出光の波長を検出してい
る。
【0004】ところで、上述したモニタエタロンにおい
て、エアギャップ内の圧力及び周囲温度が変化してしま
うと、波長が一定でも上述した角θは変化してしまう。
このため、角θに基づいて波長λを正確に検出できない
場合がある。そこで、従来モニタエタロンを用いる場
合、エアギャップ内の圧力及び周囲温度等を一定に制御
して波長検出を行うようにしていた。
【0005】しかし、エアギャップ内の圧力及び周囲温
度を高精度に制御する事は困難であり、このため満足す
る精度で絶対波長を検出する事はできなかった。
【0006】そこで、被検出光(出力レーザ光)と共
に、予め波長の判明している基準光(例えば水銀ランプ
の発光線)をモニタエタロンに入射し、この基準光に対
する被検出光の相対波長を検出することにより被検出光
の絶対波長を精度良く検出するようにした装置が提案さ
れている(例えば、特開平1−101683号公報、特
開平4−356987号公報)。
【0007】かかる装置においては、モニタエタロンの
透過光を直接CCDイメージセンサ等の光検出器上に入
射して、該光検出器の検出面上に干渉縞を形成し、干渉
縞の位置に基づき上記絶対波長を検出するようにしてい
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、これらの従
来技術においても、基準光源のスペクトル波形が歪んで
いたり、点灯の時間や基準光源の温度の変化によりスペ
クトル波形が変化した場合は(水銀ランプの253.7
nm線は自己吸収がおこり、スペクトル波形が著しく変
化する)、モニタエタロンにより発生した干渉縞の光強
度分布も歪んでしまう。したがって、このような場合は
基準光の波長が変化して高精度に被検出光の絶対波長を
特定できなかった。
【0009】このため、波長及びスペクトル波形が安定
な基準光を得るための手法や基準光の絶対波長を高精度
に測定するための手法が求められていた。
【0010】この発明はこのような実情に鑑みてなされ
たもので、安定な基準光が得られると共に、基準光及び
被検出光の絶対波長を高精度に測定することができる波
長検出装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段及び作用】第1発明では、
基準光源として低圧水銀ランプを用い、この低圧水銀ラ
ンプに特定の同位体水銀を純度49%以上封入した25
3.7nm線を使用するようにし、これによりスペクト
ル波形が綺麗でしかも線幅の狭い基準光が得られるよう
にする。
【0012】第2発明では、基準光源として低圧水銀ラ
ンプを用い、この低圧水銀ランプの表面温度を所定の温
度(例えば40゜C)以下に制御することにより、綺麗
なスペクトル波形を得るようにする。
【0013】第3発明では、基準光源として低圧水銀ラ
ンプを用い、この低圧水銀ランプを熱陰極型にするよう
にしている。、第4発明では、基準光源から発生される
基準光と被検出光とを波長検出器に入射しこの波長検出
器の検出出力に基づき発振光の絶対波長を検出する波長
検出装置において、前記基準光源の表面温度を検出する
温度検出手段と、基準光の絶対波長と前記基準光源の表
面温度との関係が予め設定される記憶手段と、前記温度
検出手段で検出した温度に対応する基準光の絶対波長を
前記記憶手段から読み出し、該読み出した基準光の絶対
波長と前記波長検出器の出力に基づいて被検出光の絶対
波長を求める被検出光波長演算手段とを具えるようにす
る。
【0014】係る発明によれば、予め基準光の絶対波長
と前記基準光源の表面温度との関係を求めてこれを記憶
しておき、この記憶データから現在の基準光源表面温度
に対応する基準光の絶対波長を得る。そして、この基準
光の絶対波長と前記波長検出器の出力から被検出光の絶
対波長を求める。
【0015】第5発明では、基準光源として低圧水銀ラ
ンプを用い、この基準光源から発生される基準光と被検
出光とを波長検出器に入射しこの波長検出器の検出出力
に基づき発振光の絶対波長を検出する波長検出装置にお
いて、前記低圧水銀ランプに封入される各水銀同位体の
スペクトル波形をそれぞれ記憶する記憶手段と、前記記
憶された各水銀同位体のスペクトル波形を各水銀同位体
の混合比に従って合成することにより前記低圧水銀ラン
プから出射される基準光のスペクトル波形を求める波形
合成手段と、この基準光のスペクトル波形から前記基準
光の絶対波長を求め、該求めた基準光の絶対波長に基づ
き被検出光の絶対波長を演算する波長演算手段と具える
ようにしている。
【0016】係る発明によれば、低圧水銀ランプに封入
される各水銀同位体のスペクトル波形およびその混合比
に従って低圧水銀ランプから出射される基準光のスペク
トル波形を求め、この合成スペクトル波形から基準光の
絶対波長を求める。
【0017】第6発明では、基準光源として低圧水銀ラ
ンプを用い、この基準光源から発生される基準光と被検
出光とを波長検出器に入射しこの波長検出器の検出出力
に基づき被検出光の絶対波長を検出する波長検出装置に
おいて、前記低圧水銀ランプとして無電極放電型または
冷陰極型を用いると共に、前記低圧水銀ランプに対し、
初めは高エネルギーで電源を作動させて前記低圧水銀ラ
ンプを点灯し、この点灯を確認すると前記電源の投入エ
ネルギーを降下させる電源制御手段を具えるようにし
て、スペクトル線幅の狭い基準光を得る。
【0018】第7発明では、基準光源として低圧水銀ラ
ンプを用い、この基準光源から発生される基準光と被検
出光とを波長選択素子を介して複数個の光検出素子が配
列された光検出素子アレイに入射し、この光検出素子ア
レイの各光検出素子の検出出力に基づき被検出光の絶対
波長を検出する波長検出装置において、前記光検出素子
アレイの各光検出素子の検出出力に所定の近似処理を加
えることにより前記基準光及び被検出光のスペクトル波
形の近似波形を演算するスペクトル波形近似演算手段
と、この近似スペクトル波形から前記基準光及び被検出
光の干渉縞の半径を演算し、該求めた各干渉縞の半径か
ら被検出光の絶対波長を演算する波長演算手段と具える
ようにしている。
【0019】
【実施例】以下、この発明を添付図面に示す実施例に従
って詳細に説明する。
【0020】図1は、エキシマレーザの波長制御装置の
一例を示したものである。
【0021】狭帯域発振エキシマレーザ1の狭帯域化さ
れたレーザ光La はその一部がビームスプリッタ2によ
って反射されてサンプリング光としてシャッタ3に入射
され、シャッタ3が開状態の時、スリガラス4を介して
波長検出器5のビームスプリッタ6に入射される。
【0022】一方、基準光Lbを発生するための低圧水
銀ランプ7は集光レンズ8の焦点位置と略一致する位置
に配置され、これにより基準光による干渉縞の光量を大
きくしている。低圧水銀ランプ7で発生した基準光Lb
は、シャッタ9が開状態の時にバンドパスフィルタ10
に入力され、このフィルタ10により波長253.7n
m線のみが選択される。該選択された基準光はコリメー
タレンズ8を透過してビームスプリッタ6に入射され
る。
【0023】波長検出器5は、ビームスプリッタ6、モ
ニタエタロン11、集光レンズ12、及び光位置検出器
13で構成されている。
【0024】モニタエタロン11は、内側の面が部分反
射ミラーの2枚の透明板11a、11bから構成され、
エタロンに対する入射光の角度に対応して透過波長を異
ならせるよう作用する。
【0025】エタロン11を透過した光は集光レンズ1
2に入射される。この集光レンズ12は、例えば被検出
光と基準光の両方の波長に対して色収差補正が施された
色消しレンズであり、これら両方の干渉縞はこの色消し
レンズの焦点の位置に一致して発生する。なお、この集
光レンズ12として凹面ミラーを用いるようにしてもよ
い。
【0026】光位置検出器13は、集光レンズ12の焦
点面上に配設された例えば1次元または2次元のイメー
ジセンサであり、集光レンズ12を経た光は光位置検出
器13に結像され、この光位置検出器13の検出面上に
被検出光Laの波長に対応した第1の干渉縞13aおよ
び基準光Lbの波長に対応した第2の干渉縞13bを形
成する。光位置検出器13からは上記第1及び第2の干
渉縞の位置に対応する信号が波長検出コントローラ20
に対して出力される。
【0027】波長検出コントローラ20では、これら干
渉縞の位置と光強度の信号から基準光Lbに対する被検
出光Laの相対波長を演算する。そして、この相対波長
と基準光の絶対波長に基づいて被検出光の絶対波長を演
算する。さらに、波長検出コントローラ20では、設定
された波長と前記検出した絶対波長との偏差を計算し、
この偏差分だけ波長選択素子の選択波長を変化させるべ
く狭帯域化素子ドライバ25を制御する。
【0028】また、この場合、前記低圧水銀ランプ7に
温度センサ14および冷却ファン15を取付け、温度コ
ントローラ30の制御によって低圧水銀ランプ7の温度
が所定の温度を維持するように制御するようにしてい
る。
【0029】かかる構成において、まず基準光源として
用いられている低圧水銀ランプ7の同位体純度について
考察する。この低圧水銀ランプ7においては、基準光と
して253.7nm線を用いるようにしている。
【0030】図2に、水銀の同位体に対応する253.
7nm線の絶対波長とその相対的な光強度を示してい
る。天然水銀Hgnatの各同位体の存在比は、10%(2
01Hg)、13%(201Hg)、30%(202Hg)、7
%(204Hg)である。したがって、天然水銀Hgnatの
253.7nm線は5本の発光線が重なり合うことにな
る。なお、201Hgとは、質量数が201の水銀を示し
ている。
【0031】図3に、低圧水銀ランプ7に202Hgのみ
を封入した場合(a)と、天然水銀Hgnatを封入した場合
(b)の干渉縞を示す。なお、この場合フリースペクトル
レンジ(FSR)=20pmのモニタエタロン11を用
いるようにしている。
【0032】これら干渉縞を比較すると、図3(b)の天
然水銀Hgnatの場合は干渉縞の幅が広く6pm程度で
あるので、基準光の絶対波長の特定は困難である。一
方、202Hgの同位体の場合は、干渉縞の形状は非常に
綺麗であり、測定された線幅は非常に狭く1.5pm程
度となり、基準光の絶対波長は図2から253.652
77nm(253.56063+0.00214)に特
定できる。
【0033】図4に、低圧水銀ランプ7に202Hgのみ
を封入した場合(a)と、天然水銀Hgnatを封入した場合
(b)の干渉縞を示す。なお、この場合フリースペクトル
レンジ(FSR)=5pmのモニタエタロン11を用い
るようにしている。
【0034】これらの干渉縞を比較すると、図4(b)の
天然水銀の場合は干渉縞のコントラストが非常に小さい
ので、基準光の絶対波長の特定は困難である。これに対
し、図4(a)に示す202Hgの同位体のみの場合は干渉縞
の形状は非常に綺麗であり、測定された線幅は非常に狭
く1.0pm程度となり、基準光202Hgの絶対波長は
図1から253.65277nmに特定することができ
る。
【0035】ここで、エタロンの分解能Rは、次式によ
って表される。
【0036】 R=FSR/F …(2) F:エタロンのフィネス FSR:フリースペクトルレンジ Fはエタロンの面精度、反射率、平行度で決定されるも
のであり、通常波長248nm付近では、最高で30程
度である。
【0037】したがって、モニタエタロンの分解能を向
上させるためには、FSRを小さくする必要があるが、
このときには、図4に示すように、低圧水銀ランプ7に
対しー種類の同位体を封入した方がよい。
【0038】図5(a)〜(d)に、低圧水銀ランプ7の同位
体水銀202Hgの純度99%、70%、61%、30%
に対する各干渉縞をそれぞれ示す。純度Pが高くなるに
つれて干渉縞のコントラストが向上している。P=61
%では、かなりコントラストが低下しているが、202H
gによる鋭いピークが検出できるため、基準光の絶対波
長を特定することができる。
【0039】図6に、同位体の純度Pと検出される基準
光(253.7nm線)の絶対波長λHg´と理想的な絶
対波長λHgの差の関係を示す。この図6によれば、P=
49%以上では、前記差は殆ど0となっている。またP
≧49%では先の図5に示したように同位体による鋭い
ピークを検出することができる。よって、低圧水銀ラン
プ7において、特定の同位体の純度Pを49%以上にす
れば、基準光の検出波長が理論値からずれることなく理
論的な値をそのまま使用することができるようになる。
【0040】このように、特定(ー種類)の水銀の同位
体を特定の純度以上でランプに封入する事により、スペ
クトル波形が綺麗で、しかも線幅の狭い基準光が得られ
るため、FSRが小さな高分解能のモニタエタロンに対
しても基準光として使用することができる。このため、
非常に高精度に被検出光の絶対波長を検出することがで
きようになる。
【0041】次に、低圧水銀ランプの温度について考察
する。
【0042】図7に、202Hgの場合で、低圧水銀ラン
プ7のガラス表面の温度Tが25゜Cと60゜C(点灯
して時間が経過)の場合の干渉縞を示す。温度T=25
゜Cのときは非常に綺麗な波形をしているが、T=60
゜Cの場合は自己吸収が起こり、干渉縞の中央部が凹ん
だ状態になる。このような干渉縞の波形は温度Tに再現
性良く依存し、各温度Tに応じた形状となる。別言すれ
ば、温度が一定であれ干渉縞の形状は一定となる。
【0043】図8に、低圧水銀ランプ7の表面温度Tと
検出される基準光(253.7nm線)の絶対波長λHg
´と理想的な絶対波長λHgの差ΔλHgの関係を示す。こ
の図によれば、自己吸収が発生しない状態、すなわち低
圧水銀ランプの温度が40゜C以下のときには、前記差
ΔλHgは殆ど0となっている。低圧水銀ランプ7におい
て、表面温度が40゜C以下になるように制御すれば、
基準光の検出波長が理論値からずれることなく、理論的
な値をそのまま使用することができるようになり、これ
により基準光波長の各種補正演算を省略することができ
る。
【0044】次に、低圧水銀ランプの型式について考察
する。
【0045】図9に低圧水銀ランプ7の構造を示す。
【0046】図9(a)は熱陰極タイプの場合であり、基
準光である253.7nm線を透過するガラス(バイコ
ールガラス、石英ガラスなど)管31内には、アルゴン
のようなキャリアガスと、ー種類の純度の高い同位体水
銀が封入されている。また、このガラス管31内には、
熱電子を放射させるために電子放射性酸化物(Ba0又
はSrO等)をコーティングしたフィラメント32が内
設され、このフィラメント32に電流が流れると、フィ
ラメント32が加熱されて熱電子が放出され、同位体水
銀が励起されて発光する。安定器33はフィラメント3
2に流れる電流を一定にする為のものである。
【0047】この熱陰極タイプの同位体ランプには、以
下のような利点を有している。
【0048】1.小さな電圧(30V程度)で発光し、特別
な電源は入らない 2.電流を流せば点灯は瞬時に行われ、また発光及びスペ
クトル波形は瞬時に安定する 3.発光温度が低いためスペクトル波形が綺麗で、線幅
(1pm以下)が狭い 4.安価である 、5.点灯/消灯による劣化はない。
【0049】図9(b)は無電極放電管の場合であり、基
準光である253.7nm線を透過するガラス(バイコ
ールガラス、石英ガラスなど)管34内には、前記同様
アルゴンのようなキャリアガスと、ー種類の純度の高い
同位体水銀が封入されている。このランプの励起は高周
波コイル35および高周波電源36によって行われる。
このランプの場合は、点灯するために最初大きなエネル
ギーを投入して、点灯させた後、投入エネルギーを絞る
事によってスペクトル線幅の狭い253.7nm線の基
準光を得るようにしている。なお、この無電極同位体ラ
ンプでは、点灯して放電状態を安定させるまでに時間が
かかる、励起するために大きな電源電圧を必要とする欠
点がある。なお、この例では高周波により放電を行って
いるが、マイクロ波励起により行ってもよい。マイクロ
波励起強度の制御は上記と同様にして行なう。
【0050】図9(c)は冷陰極タイプの場合であり、基
準光である253.7nm線を透過するガラス(バイコ
ールガラス、石英ガラスなど)管37内には、前記同様
アルゴンのようなキャリアガスと、ー種類の純度の高い
同位体水銀が封入されている。このガラス管37内に
は、2つの電極が封入されており、交流電源39、昇圧
トランス38により高電圧化(数KV)して両電極間に
高電圧をかけて放電させる。この場合も無電極放電間の
場合と同様に、点灯して安定化するためにある程度の時
間を要する。また、この冷陰極タイプの場合も点灯した
後入力エネルギーを絞ることにより、ある程度スペクト
ル線幅の狭い253.7nm線の基準光を得ることがで
きる。
【0051】図10は、上記図9(b)(c)に示した無電極
放電または冷陰極タイプの低圧水銀ランプ7に好適な点
灯制御の一例を示すもので、まず、低圧水銀ランプ7の
電源をオンにし(ステップ101)、次に所定の投入エ
ネルギーAで電源(図9(b)の場合は電源36、図9(c)
の場合は電源39)を作動させる(ステップ102)。
次のステップ103ではランプ7が発光したか否かを確
認し、確認後、電源の投入エネルギーをB(<A)まで
降下させる(ステップ104)。最後に、基準光が安定
したか否かを確認して(ステップ105)、次の手順に
移行する。なお、ステップ105では、所定時間が経過
するのを待つようにしてもよい。なお、この制御を熱陰
極タイプのものに適用してもよい。
【0052】すなわち、この図10に示す基準光点灯制
御によれば、点灯するために最初大きなエネルギーを投
入して、点灯させた後、投入エネルギーを絞る事によっ
てスペクトル線幅の狭い253.7nm線の基準光を得
るようにしている。
【0053】ところで、基準ランプとして低圧水銀の同
位体ランプで熱陰極タイプのものを使用した場合、前述
したように、電流を流せば点灯は瞬時に行われ、瞬時に
発光は安定する。また、先の図8に示したように、ラン
プの温度は40゜C以下であれば、基準光の絶対波長は
一定である。したがって、水銀ランプを冷却するか、ま
たは点灯した直後に基準光を検出することにより、基準
光ランプの温度を検出しなくても高精度に基準光の絶対
波長を得ることができる。
【0054】したがって、図1に示す構成において、温
度センサ14、冷却ファン15、温度コントローラ30
を省略し、一定周期で基準光を点灯し、直ちに(0.1
〜2秒程度)基準光の干渉縞を検出して基準光を消灯す
るようにしてもよい。なお、この際にはランプの温度は
検出する必要はない。
【0055】また、冷却ファン15のみを取付け、温度
センサ14、温度コントローラ30を省略し、一定周期
でファンのオン、基準光の点灯、基準光の干渉縞の検出
処理を実行させるようにしてもよい。また、この制御に
おいて、ファン15のみは常時オンしても良い。
【0056】さらに、冷却ファン15および基準光7を
常にオンし、定期的に基準光の干渉縞の検出を行うよう
にしても良い。
【0057】次に、基準光の絶対波長及び被検出光の絶
対波長を求める手法について考察する。
【0058】図11は、ファブリペロ干渉計(モニタエ
タロン11)の原理を示したもので、同図(a)に示す
ように、光Lがミラー間隔dのエタロン11に入射角度
θをもって入射し、エタロン11、集光レンズ12を透
過すると、集光レンズ12から焦点距離fだけ離れた光
検出器13の検出面上に光Lの干渉縞13cが形成され
る。
【0059】ここで、エタロンの基本式は前述したよう
に、 mλ=2nd・cosθ …(1) m:整数 d:エタロンと部分反射ミラーの間隔 n:部分反射ミラーの屈折率 θ:エタロンの法線と入射光の成す角 であり、上式で角度θ=0のときのmをm0、波長をλ0
とすると、 2nd=m0・λ0 …(3) となる。上記(3)式から(1)式を減算し、これに半
角公式(cosθ=1-2sin^2))を適用すると、 2sin^2(θ/2)=(λ/2nd)(m0−m) …(4) が得られる。なお、^2は2乗を示す。
【0060】角度θが比較的小さな角度の場合は、sin
(θ/2)=θ/2と近似でき、これを上記(4)式に代入し
て整理すると、 θ^2=(λ/nd)(m0−m) …(5) となる。
【0061】ここで、同図(b)に示すように、干渉縞
13cの中心からの距離をrとすれば、集光レンズ12
の焦点距離はfであるから、 r=fθ=f(λ/nd)^1/2(m0−m)^1/2 …(6) となる。なお、^1/2は1/2乗、即ちルートを示す。
【0062】ここで、c=f^2・(λ/nd)として
(6)式の両辺を2乗すると、 r^2=c(m0−m) …(7) となる(図11(b)参照)。
【0063】ここで、p番目とp+1番目のピークを考
えると、(7)式より c=c(mp+1−mp)=rp^2−rp+1^2 となる。また、(3)式において、整数mを波長λで微
分すると、 −Δλ=(λ^2/2nd)・Δm =FSR・Δm …(9) となる。
【0064】ここで、(9)式に(7)式を代入する
と、 −Δλ=FSR・r^2/c …(10) となる。ここで、m=m0のときの波長をλ0とすると、
求める波長λは(10)式から λ=λ0−FSR・r^2・c …(11) として得られる。
【0065】ここで、(11)式は、波長λが干渉縞1
3cの半径rの2乗に比例していることを示している。
したがって、干渉縞の半径の2乗を正しく求めることが
できれば、被検出光の波長を正確に求めることができ
る。
【0066】すなわち、上記エタロンの基本式(1)に
おいて、mHgを基準光に対応する次数、mexを被検出光
に対応する次数、λHgを基準光の波長、λexを被検出光
の波長、nHgを基準光のエタロン11のエアギャップ内
の屈折率、nexを被検出光のエタロン11のエアギャッ
プ内の屈折率とすると、 mHg・λHg=2nHg・d・cosθ …(12) mex・λex=2nex・d・cosθ …(13) となる。
【0067】ここで、基準光の干渉縞と被検出光の干渉
縞の直径が一致する場合の波長λeは、上記(12)
(13)式からd・cosθを消去して整理すると、 λe=(nex/nHg)・(mHg/mex)・λHg …(14) となる。したがって、被検出光の干渉縞の半径をrex、
基準光の干渉縞の半径をrHgとすると、上記(10)式
から被検出光の波長λexは、 λex−λe=FSR・(rHg^2−rex^2)/c …(15) という関係から求めることができる。ここで、基準光と
被検出光とは同一のエタロンを透過したものであるか
ら、エタロンの温度などが変化したとしても、この変化
による誤差が相殺されて、絶対波長を精度良く検出する
事ができる。
【0068】ここで、干渉縞の半径の自乗rm^2の計算
は、図12に示すようにして実行する。
【0069】すなわち、図12(a)の場合は、光強度の
最大値Imaxを検出し、この半値Imax/2を計算し、該
半値Imax/2に対応する2位置A,Bからそれぞれ内
側の円の直径2r1と外側の円の直径2r2を求める。そ
して、これら各直径から両半径の自乗r1^2、r2^2を求
め、それらの平均値を下式(16)のようにして求める
ことによって干渉縞の半径の自乗rm^2を求める。
【0070】 rm^2=(r1^2+r2^2)/2 …(16) また、図12(b)の場合は、最大値Imaxの1/aに対応
する半径r1、r2を求め、これらの半径から干渉縞の半
径の自乗rm^2を求めるようにしている。
【0071】また、図12(c)の場合は、光強度の最大
値Imaxと最小値Iminを検出し、これらの平均値Iav
(=(Imax+Imin)/2)を求め、その値に対応する半
径r1、r2から干渉縞の半径の自乗rm^2を求めるよう
にしている。
【0072】なお、上記(b)(c)の手法は、同位体水銀の
純度Pが低い253.7nm線の場合に有効である。
【0073】図13に、上記干渉縞を光検出器13とし
ての1次元又は2次元のフォトダイオードアレイセンサ
(CCDなど)で検出した場合の近似計算方法を模式的
に示す。
【0074】フォトダイオードアレイセンサの場合は、
各チャネルの位置で各光量が計算される。また、その位
置分解能は高分解能のもので13ミクロン程度である。
また、1チャネル当たりの分散は0.1pm/chであるの
で、0・01pmの変化を検出するためには近似計算を行
う必要がある。
【0075】図13(a)(b)は、フォトダイオードアレイ
センサで検出した各チャネルの信号波形に近似曲線を重
ねて示したもので、近似曲線は各チャネル間の出力を直
線で結んだり、最小自乗法や多次方程式を用いて作成す
る。
【0076】そして、この近似曲線と例えば半値Imax
/2との交点を求めることにより、干渉縞の内側及び外
側の半径を求めて前記同様にして干渉縞の半径の自乗を
計算する。このような近似計算を行うことにより0.0
1pmの分解能で被検出光の絶対波長を検出することがで
きる。
【0077】図14は上記近似計算による干渉縞半径の
自乗の計算法の一例を示すもので、この場合には、まず
各チャネルの光量値間を直線で結んで近似直線を得る。
次に、各チャネルの光強度の中から最大光強度Imaxを
求め、半値Imax/2を計算する。次に、上記近似直線
と半値Imax/2との交点を求め、該求められた交点か
ら干渉縞の外側の半径r2と内側の半径r1を計算する。
そして、これらの値の平均値を求めることにより干渉縞
の半径の自乗をrm^2を先の(16)式に従って計算す
る。
【0078】図15は、上記計算法の他の手法を示すも
ので、この場合には、直線近似ではなく最小自乗法や多
次方程式を用いて近似曲線を得るようにしている。近似
曲線を求めた後の手順は先の図14に示した手法と同じ
である。
【0079】図16は、各チャネル間を直線近似した
後、光強度の最大値Imaxと最小値Iminを検出し、これ
らの平均値Iav(=(Imax+Imin)/2)を求め、該平
均値Iavと前記近似直線の交点を求め、該求められた交
点から干渉縞の外側の半径r2と内側の半径r1を計算
し、さらにこれらの値の平均値を求めることにより干渉
縞の半径の自乗をrm^2を先の(16)式に従って計算
する。
【0080】図17は、図16の手法を直線近似ではな
く最小自乗法や多次方程式を用いた近似曲線を用いて行
うようにしている。
【0081】なお、上記各手法では、各チャネルの光強
度値から近似曲線を計算し、該近似曲線と半値等の所定
値との交点を求めるようにしているが、例えばチャネル
数と光強度の関係が単調増加する領域では、所定値より
大きくなったところのチャネルとその1つ前のチャネル
の双方の光強度から直線補間をして上記交点を求めるよ
うにして、計算時間を短縮するようにしてもよい。
【0082】次に、図18のフローチャートを用いて水
銀の同位体の混合比から基準光の絶対波長を求める手法
について考察する。
【0083】最初に、各同位体のみの場合のスペクトル
波形をデータ又は関数(198Hg(λ,T)、199Hg
(λ,T)、200Hg(λ,T)、201Hg(λ,T)、
202Hg(λ,T)、204Hg(λ,T))として記憶し
ておく(ステップ200)。次に、各同位体の混合比
(198K、199K、200K、201K、202K、204K)とラン
プの温度Tを入力する(ステップ210)。
【0084】そして、これらスペクトル波形データ及び
混合比を用いて合成スペクトルHg(λ,T)を下式に
従って演算する(ステップ220)。
【0085】 Hg(λ,T)=198K・198Hg(λ,T) +199K・199Hg(λ,T)+200K・200Hg(λ,T) +201K・201Hg(λ,T)+202K・202Hg(λ,T) +204K・204Hg(λ,T) …(17) 図19は各種同位体混合比の水銀ランプのスペクトル波
形を示すもので、(a)は202Hgの純度99%、(b)は198
Hgの純度99%、(c)は202Hg51%と198Hg49
%と混合Hgである。
【0086】これらのスペクトル波形において、(a)(b)
のスペクトル波形を重ね合わせた場合、該重ね合わせた
波形は(c)の混合Hgの波形にほぼ一致した。このこと
は、先の(17)式の演算を行うことにより混合Hgの
合成スペクトル波形が得られることを示している。
【0087】つぎに、このようにして求めた合成スペク
トル波形から、この低圧水銀ランプの絶対波長λHg´を
計算する(ステップ230)。
【0088】この計算方法としては、前記図12(a)(b)
(c)に示した各種手法がある。
【0089】図12(a)に示した手法の場合は、合成ス
ペクトルの半値における2点の絶対波長λHg1,λHg2を
計算し、その平均値を絶対波長λHg´とする(λHg´=
(λHg1+λHg2)/2)。
【0090】図12(b)の場合は、a分の1(1/a)
値の2点の波長の平均値を絶対波長λHg´とする。
【0091】図12(c)の場合は、合成スペクトルHg
(λ,T)をモニタエタロン11によって発生させた場
合の干渉縞を理論的に計算し、その干渉縞の最大値Ima
xおよび最小値Iminを求め、これらの値から前記Iavを
求める。さらに、このIavと合成スペクトル波形Hg
(λ,T)との交点である2点の波長を求め、これらの
平均値を絶対波長λHg´とする。
【0092】これら求めた絶対波長λHg´と前記(1
4)式及び(15)式を用いて被検出光の絶対波長を求
めるようにする(ステップ240)。
【0093】次に、先の図8に示した基準光の検出絶対
波長λHg´および基準光の理論的絶対波長λHgの差Δλ
Hgと温度Tとの関係から基準光の検出絶対波長λHg´を
計算する手法について図20を用いて考察する。
【0094】すなわち、図8に示した関係において、理
論的絶対波長λHgは既知(253.65277nm)であるので、
図8のグラフはランプ温度Tと基準光の検出絶対波長λ
Hg´(=λHg+ΔλHg)の関係として得ることができ
る。したがって、ランプ温度Tと基準光の検出絶対波長
λHg´との関係を予め所定のメモリに例えばテーブル形
式で記憶しておく。
【0095】そして、基準光の波長を検出する際には、
まず低圧水銀ランプ7のガラス表面温度Tを温度センサ
14によって検出する(ステップ300)。
【0096】次に、先の対応テーブルから検出温度Tに
対応するλHg´を読み出し、これを基準光の絶対波長と
する。(ステップ310)。
【0097】次に、この基準光の絶対波長λHg´と光検
出器13で測定された基準光及び被検出光の干渉縞の各
半径とを先の(14)式、(15)式に代入することに
より、被検出光の絶対波長λexを求める(ステップ32
0)。
【0098】このように、基準光の温度から基準光の正
確な絶対波長を得ることができるので、基準光源の温度
制御を行なうことは必要なくなり、ランプ7の温度さえ
検出しておけば良くなる。
【0099】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
基準光源として低圧水銀ランプを用い、この低圧水銀ラ
ンプに特定の同位体水銀を純度49%以上封入した25
3.7nm線を使用するようにたので、スペクトル波形
が綺麗でしかも線幅の狭い基準光が得られる。
【0100】またこの発明では、低圧水銀ランプの表面
温度を所定の温度(例えば40゜C)以下に制御するよ
うにしたので、綺麗で測定のし易いスペクトル波形が得
られるとともに、基準光の絶対波長を常に理論値に一致
させる事ができ、これにより基準光波長の補正演算を省
略することができる。
【0101】またこの発明では、低圧水銀ランプを熱陰
極型にするようにしているので、以下のような利点があ
る。
【0102】1.小さな電圧(30V程度)で発光し、特別
な電源は入らない 2.電流を流せば点灯は瞬時に行われ、また発光及びスペ
クトル波形は瞬時に安定する 3.発光温度が低いためスプクトル波形が綺麗で、線幅
(1pm以下)が狭い 4.安価である 5.点灯/消灯による劣化はない。
【0103】またこの発明によれば、予め記憶した基準
光の絶対波長と基準光源の温度との関係から基準光の絶
対波長を得るようにしたので、基準光の温度一定制御を
行わなくても正確な基準光の絶対波長が得られるように
なる。
【0104】またこの発明では、低圧水銀ランプに封入
される各水銀同位体のスペクトル波形およびその混合比
に従って低圧水銀ランプから出射される基準光のスペク
トル波形を求め、この合成スペクトル波形から基準光の
絶対波長を求めるようにしているので、基準光の絶対波
長の測定のための構成が不要になる。
【0105】またこの発明では、低圧水銀ランプとして
無電極放電型または冷陰極型を用いると共に、前記低圧
水銀ランプに対し、初めは高エネルギーで電源を作動さ
せて前記低圧水銀ランプを点灯し、この点灯を確認する
と前記電源の投入エネルギーを降下させるようにしたの
で、スペクトル線幅の狭い基準光が得られるようにな
る。
【0106】更にこの発明では、光検出素子アレイの各
光検出素子の検出出力に所定の近似処理を加えることに
より前記基準光及びレーザ発振光のスペクトル波形の近
似波形を演算するスペクトル波形近似演算手段を具え、
この近似スペクトル波形から前記基準光及びレーザ発振
光の干渉縞の半径を演算し、該求めた各干渉縞の半径か
らレーザ発振光の絶対波長を演算するようにしたので、
高分解能のスペクトル波形が得られると共に、その際の
演算を高速化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例を示すブロック図。
【図2】各種Hg同位体の253.7nm線の波長分布図。
【図3】202Hgと天然水銀のスペクトル波形を示す
図。
【図4】202Hgと天然水銀のスペクトル波形を示す
図。
【図5】202Hgの各種混合比に応じたスペクトル波形
を示す図。
【図6】基準光の波長と特定水銀の純度との関係を示す
図。
【図7】温度に応じた202Hgのスペクトル波形を示す
図。
【図8】基準光の波長と基準光源の温度との関係を示す
図。
【図9】低圧水銀ランプの各種タイプを示す図。
【図10】低圧水銀ランプの点灯制御例を示すフローチ
ャート。
【図11】モニタエタロンの原理を示す図。
【図12】干渉縞の半径の自乗を求めるための各種手法
を示す図。
【図13】干渉縞の半径の自乗を求める際の近似計算を
示す図。
【図14】干渉縞の半径の自乗を求める手順の一例を示
すフローチャート。
【図15】干渉縞の半径の自乗を求める手順の一例を示
すフローチャート。
【図16】干渉縞の半径の自乗を求める手順の一例を示
すフローチャート。
【図17】干渉縞の半径の自乗を求める手順の一例を示
すフローチャート。
【図18】水銀同位体混合比からλeを求める手順を示
すフローチャート。
【図19】各種混合比の水銀のスペクトル波形を示す
図。
【図20】基準光の温度から被検出光の絶対波長を求め
る手順を示すフローチャート。
【符号の説明】
1…狭帯域発振エキシマレーザ 2…ビームスプリッタ 3…シャッタ 4…スリガラス 5…波長検出器 6…ビームスプリッタ 7…低圧水銀ランプ 8…コリメータレンズ 9…シャッタ 10…バンドパスフィルタ 11…モニタエタロン 12…集光レンズ 13…光位置検出器 14…温度センサ 15…冷却ファン 20…波長検出コントローラ 25…狭帯域化素子ドライバ 30…温度コントローラ

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基準光源として低圧水銀ランプを用い、こ
    の基準光源から発生される基準光と被検出光とを波長検
    出器に入射しこの波長検出器の検出出力に基づき被検出
    光の絶対波長を検出する波長検出装置において、 前記基準光として、前記低圧水銀ランプに特定の同位体
    水銀を純度49%以上封入した253.7nm線を使用
    するようにした波長検出装置。
  2. 【請求項2】基準光源として低圧水銀ランプを用い、こ
    の基準光源から発生される基準光と被検出光とを波長検
    出器に入射しこの波長検出器の検出出力に基ずき被検出
    光の絶対波長を検出する波長検出装置において、 前記低圧水銀ランプの表面温度を所定の温度以下に制御
    する温度制御手段を備えるようにした波長検出装置。
  3. 【請求項3】前記所定の温度は40゜Cである事を特徴
    とする請求項2記載の波長検出装置。
  4. 【請求項4】基準光源として低圧水銀ランプを用い、こ
    の基準光源から発生される基準光と被検出光とを波長検
    出器に入射しこの波長検出器の検出出力に基づき被検出
    光の絶対波長を検出する波長検出装置において、 前記低圧水銀ランプを熱陰極型にしたことを特徴とする
    波長検出装置。
  5. 【請求項5】基準光源から発生される基準光と被検出光
    とを波長検出器に入射しこの波長検出器の検出出力に基
    づき被検出光の絶対波長を検出する波長検出装置におい
    て、 前記基準光源の表面温度を検出する温度検出手段と、 基準光の絶対波長と前記基準光源の表面温度との関係が
    予め設定される記憶手段と、 前記温度検出手段で検出した温度に対応する基準光の絶
    対波長を前記記憶手段から読み出し、該読み出した基準
    光の絶対波長と前記波長検出器の出力に基づいて被検出
    光の絶対波長を求める被検出光波長演算手段と、 を具える波長検出装置。
  6. 【請求項6】基準光源として低圧水銀ランプを用い、こ
    の基準光源から発生される基準光と被検出光とを波長検
    出器に入射しこの波長検出器の検出出力に基づき被検出
    光の絶対波長を検出する波長検出装置において、 前記低圧水銀ランプに封入される各水銀同位体のスペク
    トル波形をそれぞれ記憶する記憶手段と、 前記記憶された各水銀同位体のスペクトル波形を各水銀
    同位体の混合比に従って合成することにより前記低圧水
    銀ランプから出射される基準光のスペクトル波形を求め
    る波形合成手段と、 この基準光のスペクトル波形から前記基準光の絶対波長
    を求め、該求めた基準光の絶対波長に基づき被検出光の
    絶対波長を演算する波長演算手段と、 具えるようにしたことを特徴とする波長検出装置。
  7. 【請求項7】基準光源として低圧水銀ランプを用い、こ
    の基準光源から発生される基準光と被検出光とを波長検
    出器に入射しこの波長検出器の検出出力に基づき被検出
    光の絶対波長を検出する波長検出装置において、 前記低圧水銀ランプとして無電極放電型または冷陰極型
    を用いると共に、 前記低圧水銀ランプに対し、初めは高エネルギーで電源
    を作動させて前記低圧水銀ランプを点灯し、この点灯を
    確認すると前記電源の投入エネルギーを降下させる電源
    制御手段を具えるようにしたことを特徴とする波長検出
    装置。
  8. 【請求項8】基準光源から発生される基準光と被検出光
    とを波長選択素子を介して複数個の光検出素子が配列さ
    れた光検出素子アレイに入射し、この光検出素子アレイ
    の各光検出素子の検出出力に基ずき被検出光の絶対波長
    を検出する波長検出装置において、 前記光検出素子アレイの各光検出素子の検出出力に所定
    の近似処理を加えることにより前記基準光及び被検出光
    のスペクトル波形の近似波形を演算するスペクトル波形
    近似演算手段と、 この近似スペクトル波形から前記基準光及び被検出光の
    干渉縞の半径を演算し、該求めた各干渉縞の半径から被
    検出光の絶対波長を演算する波長演算手段と、 具えるようにしたことを特徴とする波長検出装置。
JP5265053A 1993-10-20 1993-10-22 波長検出装置 Pending JPH07120326A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5265053A JPH07120326A (ja) 1993-10-22 1993-10-22 波長検出装置
PCT/JP1994/001766 WO1995011432A1 (fr) 1993-10-22 1994-10-20 Detecteur de longueur d'onde pour laser excimere
US08/637,657 US5748316A (en) 1993-10-20 1994-10-20 Detector for wavelength of excimer laser
KR1019960701848A KR100330671B1 (ko) 1993-10-22 1994-10-20 엑시머레이저의파장검출장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5265053A JPH07120326A (ja) 1993-10-22 1993-10-22 波長検出装置

Related Child Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001213853A Division JP3600806B2 (ja) 2001-07-13 2001-07-13 波長検出装置
JP2001213854A Division JP2002122483A (ja) 2001-07-13 2001-07-13 波長検出装置
JP2001213852A Division JP2002122482A (ja) 2001-07-13 2001-07-13 波長検出装置
JP2001213851A Division JP2002122481A (ja) 2001-07-13 2001-07-13 波長検出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07120326A true JPH07120326A (ja) 1995-05-12

Family

ID=17411932

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5265053A Pending JPH07120326A (ja) 1993-10-20 1993-10-22 波長検出装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5748316A (ja)
JP (1) JPH07120326A (ja)
KR (1) KR100330671B1 (ja)
WO (1) WO1995011432A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001255209A (ja) * 2000-02-02 2001-09-21 Samsung Electronics Co Ltd 光チャネルモニターリングモジュールの基準波長設定装置
JP2003166881A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Gigaphoton Inc 波長検出装置及びそれを用いたレーザ装置
WO2018016066A1 (ja) * 2016-07-22 2018-01-25 ギガフォトン株式会社 狭帯域化KrFエキシマレーザ装置
JPWO2017199395A1 (ja) * 2016-05-19 2019-03-22 ギガフォトン株式会社 波長検出装置
WO2024154189A1 (ja) * 2023-01-16 2024-07-25 ギガフォトン株式会社 スペクトル計測器、レーザ装置、及び基準光のピーク位置特定方法

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19603637C1 (de) 1996-02-01 1997-07-31 Lambda Physik Gmbh Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung
JP3690632B2 (ja) * 1998-03-17 2005-08-31 株式会社小松製作所 狭帯域モジュールの検査装置
US6580517B2 (en) 2000-03-01 2003-06-17 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US7006541B2 (en) * 1998-06-01 2006-02-28 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6160832A (en) 1998-06-01 2000-12-12 Lambda Physik Gmbh Method and apparatus for wavelength calibration
US6424666B1 (en) 1999-06-23 2002-07-23 Lambda Physik Ag Line-narrowing module for high power laser
US6285701B1 (en) 1998-08-06 2001-09-04 Lambda Physik Ag Laser resonator for improving narrow band emission of an excimer laser
US6476987B1 (en) 1999-08-04 2002-11-05 Lambda Physik Ag Excimer laser with line narrowing
US6160831A (en) * 1998-10-26 2000-12-12 Lambda Physik Gmbh Wavelength calibration tool for narrow band excimer lasers
WO2000049689A1 (en) * 1999-02-19 2000-08-24 New Focus, Inc. Tunable laser transmitter with internal wavelength grid generators
US6298080B1 (en) 1999-03-12 2001-10-02 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser with adjustable bandwidth
US6700915B2 (en) 1999-03-12 2004-03-02 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser with a resonator containing an optical element for making wavefront corrections
JP2001007007A (ja) * 1999-06-23 2001-01-12 Ushio Sogo Gijutsu Kenkyusho:Kk 半導体露光用エキシマレーザ光のための波長モニタ装置
US6667804B1 (en) 1999-10-12 2003-12-23 Lambda Physik Ag Temperature compensation method for wavemeters
US7075963B2 (en) 2000-01-27 2006-07-11 Lambda Physik Ag Tunable laser with stabilized grating
US6597462B2 (en) * 2000-03-01 2003-07-22 Lambda Physik Ag Laser wavelength and bandwidth monitor
JP4497650B2 (ja) * 2000-04-26 2010-07-07 キヤノン株式会社 レーザ発振装置、露光装置および半導体デバイス製造方法
US6603789B1 (en) 2000-07-05 2003-08-05 Lambda Physik Ag Narrow band excimer or molecular fluorine laser with improved beam parameters
US6807205B1 (en) 2000-07-14 2004-10-19 Lambda Physik Ag Precise monitor etalon calibration technique
US6801561B2 (en) 2000-09-25 2004-10-05 Lambda Physik Ag Laser system and method for spectral narrowing through wavefront correction
US6747741B1 (en) 2000-10-12 2004-06-08 Lambda Physik Ag Multiple-pass interferometric device
AU2002232591A1 (en) 2000-12-21 2002-07-08 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Method and apparatus for stabilizing a broadband source
JP2005191503A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Canon Inc レーザ装置、露光方法及び装置
GB2414400B (en) 2004-05-28 2009-01-14 Cilag Ag Int Injection device
GB2414775B (en) 2004-05-28 2008-05-21 Cilag Ag Int Releasable coupling and injection device
GB2414402B (en) * 2004-05-28 2009-04-22 Cilag Ag Int Injection device
GB2424836B (en) 2005-04-06 2010-09-22 Cilag Ag Int Injection device (bayonet cap removal)
GB2427826B (en) 2005-04-06 2010-08-25 Cilag Ag Int Injection device comprising a locking mechanism associated with integrally formed biasing means
GB2425062B (en) 2005-04-06 2010-07-21 Cilag Ag Int Injection device
PT1759729E (pt) 2005-08-30 2010-03-04 Cilag Gmbh Int Conjunto de agulha para um sistema de seringa previamente cheia
US20110098656A1 (en) 2005-09-27 2011-04-28 Burnell Rosie L Auto-injection device with needle protecting cap having outer and inner sleeves
GB2438593B (en) 2006-06-01 2011-03-30 Cilag Gmbh Int Injection device (cap removal feature)
GB2438590B (en) * 2006-06-01 2011-02-09 Cilag Gmbh Int Injection device
GB2438591B (en) 2006-06-01 2011-07-13 Cilag Gmbh Int Injection device
US7738692B2 (en) * 2006-07-20 2010-06-15 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Methods of determining quality of a light source
GB2461086B (en) 2008-06-19 2012-12-05 Cilag Gmbh Int Injection device
GB2461089B (en) 2008-06-19 2012-09-19 Cilag Gmbh Int Injection device
GB2461084B (en) 2008-06-19 2012-09-26 Cilag Gmbh Int Fluid transfer assembly
GB2461087B (en) 2008-06-19 2012-09-26 Cilag Gmbh Int Injection device
GB2461085B (en) * 2008-06-19 2012-08-29 Cilag Gmbh Int Injection device
US9618369B2 (en) * 2008-08-26 2017-04-11 The University Court Of The University Of Glasgow Uses of electromagnetic interference patterns
US8831054B2 (en) * 2013-01-07 2014-09-09 Emcore Corporation Wavelength locking of a laser device
GB2515038A (en) 2013-06-11 2014-12-17 Cilag Gmbh Int Injection device
GB2515039B (en) 2013-06-11 2015-05-27 Cilag Gmbh Int Injection Device
GB2515032A (en) 2013-06-11 2014-12-17 Cilag Gmbh Int Guide for an injection device
GB2517896B (en) 2013-06-11 2015-07-08 Cilag Gmbh Int Injection device

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4173422A (en) * 1978-02-13 1979-11-06 Baker Benjamin R Produce handling system
US4379252A (en) * 1978-09-05 1983-04-05 Gte Products Corporation Arc discharge device containing HG196
US4482842A (en) * 1980-10-01 1984-11-13 Hitachi, Ltd. Curved tube type ultra high pressure mercury arc discharge lamp device
US4648951A (en) * 1983-11-16 1987-03-10 Gte Products Corporation Photoionization technique to enrich mercury isotopes and apparatus therefor
JPS61269847A (ja) * 1985-05-22 1986-11-29 Nitsupo Denki Kk 高輝度短波長紫外線ランプ
US4986665A (en) * 1987-08-06 1991-01-22 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Optical density detector
JP2781987B2 (ja) * 1989-05-23 1998-07-30 株式会社小松製作所 波長検出装置
WO1991012499A1 (fr) * 1990-02-15 1991-08-22 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Detecteur de longueur d'onde
JP2658506B2 (ja) * 1990-06-06 1997-09-30 三菱電機株式会社 希ガス放電蛍光ランプ装置
JPH0479612A (ja) * 1990-07-20 1992-03-13 Fujitsu Ltd ルビジウムランプ
JPH04198822A (ja) * 1990-11-29 1992-07-20 Mitsui Petrochem Ind Ltd レーザ光の波長検出方法及び装置
JPH04301352A (ja) * 1991-03-29 1992-10-23 Toshiba Lighting & Technol Corp 低圧水銀放電灯
JPH05312646A (ja) * 1992-05-15 1993-11-22 Mitsubishi Electric Corp 波長測定装置およびこれを搭載したレーザ装置
US5381076A (en) * 1993-10-18 1995-01-10 General Electric Company Metal halide electronic ballast

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001255209A (ja) * 2000-02-02 2001-09-21 Samsung Electronics Co Ltd 光チャネルモニターリングモジュールの基準波長設定装置
US6754415B2 (en) 2000-02-02 2004-06-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Device for setting reference wavelength in optical channel monitoring module
JP2003166881A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Gigaphoton Inc 波長検出装置及びそれを用いたレーザ装置
JPWO2017199395A1 (ja) * 2016-05-19 2019-03-22 ギガフォトン株式会社 波長検出装置
US10890484B2 (en) 2016-05-19 2021-01-12 Gigaphoton Inc. Wavelength measuring device
WO2018016066A1 (ja) * 2016-07-22 2018-01-25 ギガフォトン株式会社 狭帯域化KrFエキシマレーザ装置
JPWO2018016066A1 (ja) * 2016-07-22 2019-05-09 ギガフォトン株式会社 狭帯域化KrFエキシマレーザ装置
US10502623B2 (en) 2016-07-22 2019-12-10 Gigaphoton Inc. Line-narrowed KrF excimer laser apparatus
WO2024154189A1 (ja) * 2023-01-16 2024-07-25 ギガフォトン株式会社 スペクトル計測器、レーザ装置、及び基準光のピーク位置特定方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5748316A (en) 1998-05-05
KR100330671B1 (ko) 2002-11-04
WO1995011432A1 (fr) 1995-04-27
KR960705196A (ko) 1996-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100330671B1 (ko) 엑시머레이저의파장검출장치
EP2534672B1 (en) Laser-driven light source
JP3377044B2 (ja) Ndir機器
JPH05312646A (ja) 波長測定装置およびこれを搭載したレーザ装置
JP3778996B2 (ja) Ndir測定装置に使用されるショートエタロン・ファブリー・ペロー干渉計を制御する方法
WO1989003132A1 (en) Laser device
JP2631569B2 (ja) 波長検出装置
Jackson The spherical Fabry—Perot interferometer as an instrument of high resolving power for use with external or with internal atomic beams
WO2019111315A1 (ja) エキシマレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
US10502623B2 (en) Line-narrowed KrF excimer laser apparatus
WO2014208111A1 (ja) 光ビーム計測装置、レーザ装置及び光ビーム分離装置
JP6412494B2 (ja) レーザ光の波長を制御する方法およびレーザ装置
JP3600806B2 (ja) 波長検出装置
JP2997956B2 (ja) 波長検出装置
JP2002122483A (ja) 波長検出装置
WO1988009072A1 (en) Helium-neon lasers
JP2002122481A (ja) 波長検出装置
JP2002122482A (ja) 波長検出装置
JP2003185502A (ja) レーザ装置及び波長検出方法
JP2631482B2 (ja) エキシマレーザの波長制御装置
JP2000106463A (ja) エキシマレ―ザに対する波長較正方法及びシステム
JP3982569B2 (ja) エキシマレーザの波長制御装置
JP2743234B2 (ja) 波長制御装置
JP3736796B2 (ja) 波長検出装置及びそれを用いたフッ素分子レーザ装置
JPH04199584A (ja) 狭帯域レーザ用波長安定化装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040604