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JPH07118692A - Cleaning agent composition - Google Patents

Cleaning agent composition

Info

Publication number
JPH07118692A
JPH07118692A JP26704093A JP26704093A JPH07118692A JP H07118692 A JPH07118692 A JP H07118692A JP 26704093 A JP26704093 A JP 26704093A JP 26704093 A JP26704093 A JP 26704093A JP H07118692 A JPH07118692 A JP H07118692A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
cleaning
glycol compound
general formula
compound represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26704093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Shiino
徹 椎野
Kenichi Shinoda
健一 信田
Tokihiko Shimizu
時彦 清水
Yoshikazu Yamagata
芳和 山縣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP26704093A priority Critical patent/JPH07118692A/en
Publication of JPH07118692A publication Critical patent/JPH07118692A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a cleaning agent composition having stably cleaning and removing power over solder flux residue of electronic parts, comprising a straight-chain type hexyl groupcontaining ethylene glycol compound or a straight-chain type alkyl group-containing propylene glycol. CONSTITUTION:30wt.% of a straight-chain type hexyl group-containing ethylene glycol compound of formula I ((k) is 1-4 integer) (e.g. diethylene glycol mono-n- hexyl ether) or a straight-chain type alkyl group-containing propylene glycol of formula I ((m) is 4-6 integer; (n) is l-4 integer) (e.g. propylene glycol mono-n- butyl ether) is mixed with 70wt.% of a 8-12C alkane such as octane, nonane, decane, undecane or dodecane and optionally additives such as a surfactant, a rust preventive, a mildew-proofing agent, a defoaming agent and an antioxidant. The resultant composition can simultaneously remove the ionic and resinous components in the solder flux residue of electronic parts.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半田付け後の電子部品
のフラックス残渣を除去するための洗浄剤組成物に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning composition for removing flux residue of electronic parts after soldering.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半田付け後の電子部品のフラック
スを洗浄するには塩素フッ素化炭化水素化合物(以下フ
ロンと略す)やトリクロロエタンを代表とする塩素系有
機溶剤が用いられてきた。
2. Description of the Related Art Conventionally, chlorine-based organic solvents represented by chlorine-fluorinated hydrocarbon compounds (hereinafter abbreviated as CFCs) and trichloroethane have been used to clean the flux of electronic parts after soldering.

【0003】これらの塩素系有機溶剤は昨今の地球環境
問題といった観点から、早急に使用を差し控える必要が
生じている。例えば、フロンはオゾン層の破壊の可能性
が明示され、他の塩素系有機溶剤も発ガン性物質であ
り、地下に浸透しやすいために地下水汚染の原因となる
といった問題点を有している。これら塩素系有機溶剤に
代わる洗浄剤として、炭化水素系、アルコール系、テル
ペン系といった非水系の洗浄剤の使用や界面活性剤等を
含んだ水溶液による洗浄が提案されている。
From the viewpoint of recent global environmental problems, it is necessary to urgently refrain from using these chlorine-based organic solvents. For example, CFCs have a problem that the ozone layer may be destroyed and other chlorine-based organic solvents are also carcinogens and easily penetrate underground to cause groundwater pollution. . As a cleaning agent that replaces these chlorine-based organic solvents, use of non-aqueous cleaning agents such as hydrocarbon-based, alcohol-based, and terpene-based cleaning agents and cleaning with an aqueous solution containing a surfactant have been proposed.

【0004】そして、水による影響が明らかな電子部品
に対しては、非水系の洗浄剤による洗浄が一般的に行わ
れている。その中でも特に炭化水素系洗浄剤はコスト、
安全性といった観点から最も良く使用されている。
[0004] Then, for electronic parts which are clearly affected by water, non-aqueous cleaning agents are generally used for cleaning. Among them, hydrocarbon-based cleaning agents are particularly costly,
It is most often used from the viewpoint of safety.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半田フ
ラックスの洗浄においては炭化水素単成分では十分な洗
浄性が得られないために、一般には半田フラックスを溶
解除去できる成分、すなわちフラックス除去のための洗
浄剤組成物の添加が必要であるという課題を有してい
た。
However, in the cleaning of solder flux, a hydrocarbon single component cannot provide sufficient cleaning performance, and therefore, in general, a component capable of dissolving and removing solder flux, that is, cleaning for flux removal. There is a problem that it is necessary to add the agent composition.

【0006】さらに、本発明者らの研究により、上記添
加する洗浄剤組成物とアルカンなどの炭化水素を配合し
た洗浄剤は、洗浄剤を用いている洗浄槽近辺が多湿雰囲
気下である場合や水分の持ち込みがある場合には、炭化
水素と洗浄剤組成物が分離し、フラックス除去性が著し
く劣化するといった課題を有することが明らかとなっ
た。上記炭化水素と洗浄剤組成物の分離を解決するため
には、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル等の非イオン系界面活性剤、アニオ
ン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤を添加して、層
分離を抑制する方法が考えられるが、上記界面活性剤が
電子部品に残存した場合には、信頼性が劣るといった課
題を有することも明らかとなった。
Further, according to the research conducted by the present inventors, the cleaning composition containing the cleaning composition to be added and hydrocarbons such as alkanes is used in the case where the vicinity of the cleaning tank in which the cleaning agent is used is in a humid atmosphere. It has been clarified that when the water is brought in, the hydrocarbon and the detergent composition are separated from each other and the flux removability is significantly deteriorated. In order to solve the separation of the hydrocarbon and the detergent composition, polyoxyethylene alkylphenyl ether,
A method of suppressing layer separation by adding a nonionic surfactant such as polyoxyethylene alkyl ether or polyoxyethylene fatty acid ester, an anionic surfactant, or a cationic surfactant is conceivable. It has also been clarified that when the agent remains in the electronic component, there is a problem that the reliability is deteriorated.

【0007】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
で、半田フラックス残渣を溶解除去する能力があり、僅
かな水の存在によって炭化水素と分離することのない洗
浄剤組成物を提供することを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a cleaning composition which has the ability to dissolve and remove solder flux residues and does not separate from hydrocarbons due to the presence of a small amount of water. With the goal.

【0008】[0008]

【課題を解決しようとする手段】前記目的を達成するた
めに、本発明の洗浄剤組成物は、前記一般式(化1)ま
たは(化2)で示されるグリコール化合物を含有する洗
浄剤組成物である。
In order to achieve the above object, the detergent composition of the present invention is a detergent composition containing a glycol compound represented by the general formula (Formula 1) or (Formula 2). Is.

【0009】前記構成においては、前記一般式(化1)
または(化2)に示されるグリコール化合物を30重量
%以上含有することが好ましい。また、前記構成におい
ては、前記一般式(化1)または(化2)に示されるグ
リコール化合物を30重量%以上と70重量%以下のア
ルカンとを含有することが好ましい。
In the above structure, the general formula (Formula 1)
Alternatively, it preferably contains 30% by weight or more of the glycol compound represented by (Chemical Formula 2). Moreover, in the said structure, it is preferable to contain 30 weight% or more and 70 weight% or less alkane of the glycol compound shown by said General formula (Chemical formula 1) or (Chemical formula 2).

【0010】また、前記構成においては、前記一般式
(化1)に示されるグリコール化合物が直鎖型ヘキシル
基を有するエチレングリコール化合物であることが好ま
しい。また、前記構成においては、前記一般式(化1)
に示されるグリコール化合物がジエチレングリコールモ
ノノルマルヘキシルエーテルであることが好ましい。
Further, in the above constitution, it is preferable that the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) is an ethylene glycol compound having a linear hexyl group. In the above structure, the general formula (Formula 1)
It is preferable that the glycol compound shown in is a diethylene glycol mononormal hexyl ether.

【0011】また、前記構成においては、前記一般式
(化2)で示されるグリコール化合物が、炭素数4以上
の直鎖型アルキル基を有するプロピレングリコール化合
物であることが好ましい。
Further, in the above constitution, it is preferable that the glycol compound represented by the general formula (Formula 2) is a propylene glycol compound having a linear alkyl group having 4 or more carbon atoms.

【0012】また、前記構成においては、前記一般式
(化2)に示されるグリコール化合物が、プロピレング
リコールモノノルマルブチルエーテルであることが好ま
しい。また、前記構成においては、アルカンがオクタ
ン、ノナン、デカン、ウンデカン及びドデカンから選ば
れる少なくとも1種のアルカンであることが好ましい。
In the above structure, it is preferable that the glycol compound represented by the general formula (Formula 2) is propylene glycol mono-n-butyl ether. Further, in the above structure, the alkane is preferably at least one alkane selected from octane, nonane, decane, undecane, and dodecane.

【0013】[0013]

【作用】前記本発明の構成によれば、前記一般式(化
1)または(化2)で示されるグリコール化合物を含有
することにより、電子部品に使用される半田フラックス
残渣を溶解除去する能力があるとともに、水分の存在に
よって混合している炭化水素と分離することのない洗浄
剤を達成できる。
According to the structure of the present invention, by containing the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) or (Formula 2), the ability to dissolve and remove the solder flux residue used in electronic parts is improved. In addition, it is possible to achieve a cleaning agent that does not separate from mixed hydrocarbons due to the presence of water.

【0014】また、前記一般式(化1)または(化2)
に示されるグリコール化合物を30重量%以上含有する
という本発明の好ましい構成によれば、より洗浄力の高
い洗浄剤を達成できる。
Further, the above general formula (Formula 1) or (Formula 2)
According to the preferable constitution of the present invention containing 30% by weight or more of the glycol compound shown in (3), a detergent having a higher detergency can be achieved.

【0015】また、前記一般式(化1)または(化2)
に示されるグリコール化合物を30重量%以上と70重
量%以下のアルカンとを含有するという本発明の好まし
い構成によれば、安全性の高い洗浄剤を達成できる。
Further, the above general formula (Formula 1) or (Formula 2)
According to the preferred constitution of the present invention in which the glycol compound represented by the formula (3) contains 30% by weight or more and 70% by weight or less of an alkane, a highly safe detergent can be achieved.

【0016】また、前記一般式(化1)に示されるグリ
コール化合物が直鎖型ヘキシル基を有するエチレングリ
コール化合物であるという本発明の好ましい構成によれ
ば、優れた洗浄力をもつ洗浄剤を達成できる。
According to the preferred constitution of the present invention in which the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) is an ethylene glycol compound having a linear hexyl group, a detergent having excellent detergency is achieved. it can.

【0017】また、前記一般式(化1)に示されるグリ
コール化合物がジエチレングリコールモノノルマルヘキ
シルエーテルであるという本発明の好ましい構成によれ
ば、半田フラックス残渣を溶解除去する能力が特に高い
洗浄剤を達成できる。
Further, according to the preferred constitution of the present invention in which the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) is diethylene glycol mononormal hexyl ether, a cleaning agent having a particularly high ability to dissolve and remove solder flux residue is achieved. it can.

【0018】また、前記一般式(化2)で示されるグリ
コール化合物が、炭素数4以上の直鎖型アルキル基を有
するプロピレングリコール化合物であるという本発明の
好ましい構成によれば、より優れた洗浄力を持つ洗浄剤
を達成できる。
Further, according to the preferable constitution of the present invention in which the glycol compound represented by the general formula (Formula 2) is a propylene glycol compound having a linear alkyl group having 4 or more carbon atoms, more excellent cleaning is achieved. A powerful cleaner can be achieved.

【0019】また、前記一般式(化2)に示されるグリ
コール化合物がプロピレングリコールモノノルマルブチ
ルエーテルであるという本発明の好ましい構成によれ
ば、半田フラックス残渣を溶解除去する能力が特に高い
洗浄剤を達成できる。
According to the preferred constitution of the present invention in which the glycol compound represented by the general formula (Formula 2) is propylene glycol mononormal butyl ether, a cleaning agent having a particularly high ability to dissolve and remove solder flux residue is achieved. it can.

【0020】また、アルカンがオクタン、ノナン、デカ
ン、ウンデカン及びドデカンから選ばれる少なくとも1
種のアルカンである本発明の好ましい構成によれば、安
全性の高い、より優れた洗浄力をもつ洗浄剤を達成でき
る。
Further, the alkane is at least one selected from octane, nonane, decane, undecane and dodecane.
According to the preferable constitution of the present invention which is a kind of alkane, it is possible to achieve a cleaning agent having high safety and more excellent cleaning power.

【0021】[0021]

【実施例】前記一般式(化1)においてkの値は1〜4
であることが望ましく、この範囲外の値では、フラック
ス除去性の低下を引き起こすことや引火点の低下による
安全面の問題、及び工業製品上安価でないといったこと
などから、産業用洗浄剤として好ましくない組成物とな
る。
EXAMPLES In the above general formula (Formula 1), the value of k is 1 to 4
A value outside this range is not preferable as an industrial cleaning agent because it causes a decrease in flux removability, a safety problem due to a decrease in the flash point, and is not cheap for industrial products. It becomes a composition.

【0022】また、前記一般式(化1)で示されるエチ
レングリコール化合物のヘキシル基が、ヘキシル基より
も少ない炭素数を持つメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル基であると吸湿性を有し、一方、ヘキシル
基より炭素数が多いと工業上生産量が少ないことや融点
が高くなるためにいずれも工業用洗浄剤として望ましく
ない。それに対して前記一般式(化2)で示されるプロ
ピレングリコール化合物では、ヘキシル基の部分がブチ
ル基、ペンチル基であってもよい。
Further, when the hexyl group of the ethylene glycol compound represented by the general formula (Formula 1) is a methyl, ethyl, propyl, butyl or pentyl group having a carbon number smaller than that of the hexyl group, it has hygroscopicity. On the other hand, when the number of carbon atoms is larger than that of the hexyl group, the industrial production amount is small and the melting point is high, which is not desirable as an industrial detergent. On the other hand, in the propylene glycol compound represented by the general formula (Formula 2), the hexyl group may be a butyl group or a pentyl group.

【0023】本発明のグリコール化合物の具体例として
は、例えばエチレングリコールモノノルマルヘキシルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノノルマルヘキシルエ
ーテル、トリエチレングリコールモノノルマルヘキシル
エーテル、テトラエチレングリコールモノノルマルヘキ
シルエーテル、プロピレングリコールノルマルヘキシル
エーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルヘキシ
ルエーテル、トリプロピレングリコールモノノルマルヘ
キシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノノル
マルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノノル
マルブチルエーテル、プロピレングリコールモノノルマ
ルペンチルエーテル、プロピレングリコールモノイソペ
ンチルエーテル、プロピレングリコールイソヘキシルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルブチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルペンチル
エーテル、ジプロピレングリコールイソヘキシルエーテ
ル等のグリコールエーテル系化合物等がある。
Specific examples of the glycol compound of the present invention include ethylene glycol mononormal hexyl ether, diethylene glycol mononormal hexyl ether, triethylene glycol mononormal hexyl ether, tetraethylene glycol mononormal hexyl ether, propylene glycol normal hexyl ether, Dipropylene glycol mono-normal hexyl ether, tripropylene glycol mono-normal hexyl ether, tetrapropylene glycol mono-normal hexyl ether, propylene glycol mono-normal butyl ether, propylene glycol mono-normal pentyl ether, propylene glycol mono-isopentyl ether, propylene glycol isohexyl ether, Zipropi Glycol monobutyl n-butyl ether, dipropylene glycol mono-n-pentyl ether, there is a glycol ether-based compounds such as dipropylene glycol iso-hexyl ether.

【0024】これらのグリコール化合物は、単独または
2種以上を組み合わせて配合することができるとともに
アルカンと任意の割合で混合することができる。アルカ
ンとしては安全性、及び本発明に用いる沸点が似通って
いるといった観点から、炭素数が8〜12のオクタン、
ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカンが望ましいが、
用いるグリコール化合物と沸点が同程度であるアルカン
を選択すると配合比が変わらず望ましい。本発明のグリ
コール化合物とアルカンの配合量はフラックス除去性を
損なわない範囲でグリコール化合物が30重量%以上で
あることが必要である。
These glycol compounds can be blended alone or in combination of two or more, and can be mixed with an alkane at an arbitrary ratio. From the viewpoint of safety as alkanes and similar boiling points used in the present invention, octane having 8 to 12 carbon atoms,
Nonane, decane, undecane, dodecane are preferred,
It is desirable to select an alkane having a boiling point similar to that of the glycol compound used, because the compounding ratio does not change. The blending amount of the glycol compound of the present invention and the alkane is required to be 30% by weight or more of the glycol compound within a range not impairing flux removability.

【0025】また、グリコール化合物に混合する物質と
しては親油性成分で本発明のグリコール化合物が可溶で
あればよいので、必ずしもアルカンに限定されるもので
はなく、例えばシクロパラフィン系の炭化水素などを用
いてもよい。
The substance to be mixed with the glycol compound is not limited to alkanes, as long as it is a lipophilic component and the glycol compound of the present invention is soluble, and for example, cycloparaffin hydrocarbons and the like. You may use.

【0026】なお、本発明の洗浄剤組成物に必要に応じ
て、界面活性剤、防錆剤、防黴剤、消泡剤、酸化防止剤
などの添加剤を配合してもよいが、上記課題で示された
ように電子部品などの信頼性に影響を及ぼさない範囲で
添加することが望ましい。
If desired, the detergent composition of the present invention may contain additives such as a surfactant, a rust preventive, a fungicide, a defoaming agent and an antioxidant. As shown in the subject, it is desirable to add in a range that does not affect the reliability of electronic components.

【0027】本発明の洗浄剤組成物を用いた洗浄方法と
しては、浸漬、揺動、超音波洗浄、スプレーなどを用い
た方法があり、これらの方法を単独または併用して使用
することによって効果的に洗浄を行うことができる。
As the cleaning method using the cleaning composition of the present invention, there are methods using dipping, shaking, ultrasonic cleaning, spraying, etc., and the effect is obtained by using these methods alone or in combination. Cleaning can be performed.

【0028】また、本発明の洗浄剤組成物は半田フラッ
クスのみでなく、ワックスの溶解除去にも使用できると
ともに、アルカンなどの炭化水素のみでは溶解除去され
にくい加工油の除去にも使用できる。
The cleaning composition of the present invention can be used not only for removing solder flux but also for dissolving and removing wax, and also for removing processing oil which is difficult to be dissolved and removed only by hydrocarbon such as alkane.

【0029】以下本発明の実施例を具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 (実施例1)コンデンサを装着し、ロジン系半田フラッ
クス(半田フラックス:AGF−200−J3、アサヒ
化学株式会社製)を用いて半田フラックス処理を行い、
半田付け処理を施したプリント基板(基板表面積5cm
2)をテストピースとした。本発明の洗浄剤組成物を用
いて調整した洗浄剤によるテストピースの洗浄を行っ
た。洗浄剤の調整は、ジエチレングリコールモノノルマ
ルヘキシルエーテルとデカンを混合したものを洗浄液と
して適用した。本実施例の組成物であるジエチレングリ
コールモノノルマルヘキシルエーテルとデカンとの混合
比を(表1)に示す。また、本実施例で用いた洗浄工程
を(表2)に示す。
Examples of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited thereto. (Example 1) A capacitor was mounted and solder flux treatment was performed using rosin-based solder flux (solder flux: AGF-200-J3, manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd.),
Printed circuit board with soldering treatment (board surface area 5 cm
2 ) was used as the test piece. The test piece was washed with the detergent prepared using the detergent composition of the present invention. The cleaning agent was adjusted by applying a mixture of diethylene glycol mononormal hexyl ether and decane as a cleaning solution. The mixing ratio of diethylene glycol mononormal hexyl ether, which is the composition of this example, and decane is shown in (Table 1). The cleaning process used in this example is shown in (Table 2).

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】[0031]

【表2】 [Table 2]

【0032】(表2)に示される洗浄工程による洗浄後
のテストピースの洗浄性を、テストピースに残存するイ
オン量を測定することによって評価した。イオン量の測
定に用いた装置は、オメガメータ(アルファメタルズ株
式会社製モデル600SC)である。また、比較のた
め、フロン113を主成分とする洗浄剤(商品名ダイフ
ロンS3、ダイキン工業株式会社製)を用いて従来の洗
浄方法で、同じテストピースを洗浄し、同様の評価方法
と同様の方法で半田フラックスのイオン分の除去性の評
価を行った。結果を(表3)に示す。
The cleanability of the test piece after the cleaning step shown in Table 2 was evaluated by measuring the amount of ions remaining in the test piece. The device used for measuring the amount of ions is an omega meter (Model 600SC manufactured by Alpha Metals Co., Ltd.). For comparison, the same test piece was washed by a conventional washing method using a detergent containing Freon 113 as a main component (trade name: Daiflon S3, manufactured by Daikin Industries, Ltd.), and the same evaluation method was used. The ion flux removability of the solder flux was evaluated by the method. The results are shown in (Table 3).

【0033】[0033]

【表3】 [Table 3]

【0034】(表3)に示されるように、本実施例の洗
浄剤組成物であるジエチレングリコールモノノルマルヘ
キシルエーテルを30重量%以上含有する場合におい
て、従来使用されている他の洗浄剤と同等または同等以
上のイオン分の除去性を示した。したがって、本実施例
の洗浄剤が半田フラックス中のイオン分の除去能力を持
つためには、本実施例の洗浄剤組成物であるジエチレン
グリコールモノノルマルヘキシルエーテルを30重量%
以上含有させることが望ましく、特に洗浄性を要求する
場合はより多く含有させることが好ましいことがわかっ
た。
As shown in (Table 3), when the detergent composition of this example contains 30% by weight or more of diethylene glycol mono-normal hexyl ether, it is equivalent to or different from other detergents conventionally used. It showed the same or higher scavenging property of ions. Therefore, in order for the cleaning agent of this example to have the ability to remove the ion components in the solder flux, 30% by weight of diethylene glycol mono-normal hexyl ether, which is the cleaning agent composition of this example, should be used.
It has been found that it is desirable to contain more than the above, and it is preferable to contain more when especially cleaning property is required.

【0035】(実施例2)半田フラックス中の樹脂分の
除去性を評価した。テストピース及び本実施例の洗浄剤
の配合量は、実施例1と同様である。
Example 2 The removability of the resin component in the solder flux was evaluated. The compounding amounts of the test piece and the cleaning agent of this example are the same as in Example 1.

【0036】テストピースを本実施例の洗浄剤に浸漬
し、超音波を照射した。一定時間毎にテストピースを取
り出し、実体顕微鏡を用いて樹脂分の残存が目視によっ
て確認できなくなるまでの時間を測定した。洗浄剤の液
温は常温、60℃とした。結果を、(表4)に示す。比
較のため、(実施例1)と同様に、フロン113(商品
名ダイフロンS3、ダイキン工業株式会社製)を用いて
同様の方法で半田フラックス中の樹脂分の除去性を評価
した。結果を(表4)に併せて示す。
The test piece was dipped in the cleaning agent of this example and irradiated with ultrasonic waves. The test piece was taken out at regular intervals, and the time until the residual resin content could not be visually confirmed using a stereoscopic microscope was measured. The liquid temperature of the cleaning agent was room temperature and 60 ° C. The results are shown in (Table 4). For comparison, in the same manner as in (Example 1), Freon 113 (trade name: Daiflon S3, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was used to evaluate the removability of the resin component in the solder flux by the same method. The results are also shown in (Table 4).

【0037】[0037]

【表4】 [Table 4]

【0038】通常の洗浄工程は洗浄時間が10分以内で
あることがほとんどであるので、本実施例の洗浄剤組成
物が半田フラックス中の樹脂分の除去能力を持つために
は、(表4)に示されるように、ジエチレングリコール
モノノルマルヘキシルエーテルを30重量%以上含有さ
せることが望ましいことがわかる。
In the usual cleaning process, the cleaning time is usually less than 10 minutes. Therefore, in order for the cleaning composition of this example to have the ability to remove the resin component in the solder flux, (Table 4 ), It is found that it is desirable to contain diethylene glycol mononormal hexyl ether in an amount of 30% by weight or more.

【0039】(実施例1)と(実施例2)の結果に示さ
れるように、半田フラックス中のイオン分と樹脂分の同
時除去性を示すためには、本発明の洗浄剤組成物の一つ
であるジエチレングリコールモノノルマルヘキシルエー
テルを30重量%以上含有させることが望ましいことが
わかった。
As shown in the results of (Example 1) and (Example 2), in order to show the simultaneous removal property of the ion component and the resin component in the solder flux, one of the cleaning composition of the present invention is used. It has been found that it is desirable to contain 30% by weight or more of diethylene glycol mononormal hexyl ether, which is one of the two.

【0040】(実施例3)(実施例1)及び(実施例
2)で用いたジエチレングリコールモノノルマルヘキシ
ルエーテルのかわりにプロピレングリコールモノノルマ
ルブチルエーテルを用いたが、同様に30重量%以上含
有させることが望ましいことがわかった。
(Example 3) Propylene glycol mononormal butyl ether was used in place of the diethylene glycol mononormal hexyl ether used in (Example 1) and (Example 2). I found it desirable.

【0041】(実施例4)本発明のグリコール化合物と
アルカンの混合物を用いて、水による分離性を評価し
た。(表5)に掲げたヘキシル基を有するエチレングリ
コール化合物、またはブチル基若しくはヘキシル基を有
するプロピレングリコール化合物100ccとデカン1
00ccを混合した液をバイアルに入れ、水1ccを添
加し、激しく振って液と水を撹拌させた後に、静置して
グリコール化合物とデカンとの層分離の判定を目視評価
を行った。結果を(表5)に示す。比較のため、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基を有するエーテル
化合物についても同様の実験を行い評価を行った。結果
を(表5)に併せて示す。(表5)に示されるように本
実施例の洗浄剤組成物は、水が混入しても層分離を起こ
さないことがわかる。
Example 4 Separability with water was evaluated using a mixture of the glycol compound of the present invention and an alkane. Hexyl group-containing ethylene glycol compounds listed in (Table 5), or butyl glycol or hexyl group-containing propylene glycol compound 100 cc and decane 1
A liquid mixed with 00 cc was put in a vial, 1 cc of water was added, and the liquid and water were shaken vigorously to stir the liquid and water, and then allowed to stand to visually evaluate the layer separation of the glycol compound and decane. The results are shown in (Table 5). For comparison, the same experiment was performed and evaluated for ether compounds having a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. The results are also shown in (Table 5). As shown in (Table 5), it can be seen that the cleaning composition of this example does not cause layer separation even if water is mixed.

【0042】[0042]

【表5】 [Table 5]

【0043】(実施例5)実施例4における層分離のフ
ラックス除去性への影響を把握するために、洗浄装置で
洗浄を行ったときのイオン分及びフラックス樹脂分の除
去性の評価を行った。テストピースとしては、実施例
1、2で用いたプリント基板を用いた。本発明のグリコ
ール化合物の一つであるジエチレングリコールモノノル
マルヘキシルエーテルとデカンを1:1で配合した液2
00ccに水1ccを加えた液を洗浄剤とした。洗浄方
法は(表2)で示したのと同様で、上記洗浄剤は(表
2)aの洗浄剤として使用した。
(Embodiment 5) In order to understand the effect of the layer separation on the flux removability in Example 4, the removability of the ion component and the flux resin component when washed with a cleaning device was evaluated. . The printed circuit board used in Examples 1 and 2 was used as the test piece. Liquid 2 in which diethylene glycol mono-normal hexyl ether, which is one of the glycol compounds of the present invention, and decane were mixed in a ratio of 1: 1.
A liquid obtained by adding 1 cc of water to 00 cc was used as a cleaning agent. The cleaning method was the same as that shown in (Table 2), and the above cleaning agent was used as the cleaning agent in (Table 2) a.

【0044】(図1)に本実施例で用いた洗浄剤を用い
た洗浄時のテストピース位置の概念図を示す。本実施例
で使用した洗浄液は1:1で配合されているので、ビー
カー高さにおいて、半分よりも上部で洗浄する必要があ
る。比較のため、ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルとデカンを1:1で配合した液200ccに水1
ccを加えた液を洗浄剤とした時の洗浄液とテストピー
ス位置の概念図を(図2)に示す。
FIG. 1 shows a conceptual diagram of the test piece position at the time of cleaning using the cleaning agent used in this embodiment. Since the cleaning liquid used in this example is mixed at a ratio of 1: 1, it is necessary to clean the beaker at a height higher than half. For comparison, 200 cc of a liquid prepared by mixing dipropylene glycol monomethyl ether and decane at a ratio of 1: 1 with water 1 cc.
FIG. 2 shows a conceptual diagram of the cleaning solution and the position of the test piece when the solution containing cc is used as the cleaning agent.

【0045】イオン性残渣物量及びフラックス樹脂分の
残存実体顕微鏡を用いて評価した結果を(表6)に示
す。
The results of evaluation using the residual stereoscopic microscope of the amount of ionic residues and the flux resin content are shown in (Table 6).

【0046】[0046]

【表6】 [Table 6]

【0047】(表6)にも示されるように本実施例の洗
浄剤組成物はイオン分及びフラックス樹脂分の除去性に
優れるが、比較例として使用した洗浄剤組成物はイオン
分及びフラックス樹脂分の除去性に非常に劣った。(図
1)、(図2)を用いてこの理由を詳細に説明する。
As shown in Table 6, the cleaning composition of this example is excellent in removing ion components and flux resin components, but the cleaning composition used as a comparative example has ion components and flux resin components. The removability of the components was very poor. The reason will be described in detail with reference to (FIG. 1) and (FIG. 2).

【0048】(図1)に示されるようにグリコール化合
物4はデカンと層分離しないために洗浄性が劣らない。
一方、比較例におけるエーテル化合物による洗浄では
(図2)に示されるように、デカンの層5とジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルの層6が2層分離を起
こしているために、上層のみでテストピースを洗浄した
場合、比重の軽いデカンのみで洗浄することになり、フ
ラックスの洗浄性は極端に劣ることになる。したがっ
て、本発明におけるグリコール化合物は炭化水素に混合
するための洗浄剤組成物として効果的であった。
As shown in FIG. 1, the glycol compound 4 does not undergo layer separation from decane, and therefore has good washability.
On the other hand, in the washing with the ether compound in the comparative example, as shown in (FIG. 2), since the decane layer 5 and the dipropylene glycol monomethyl ether layer 6 were separated into two layers, the test piece was formed only by the upper layer. In the case of cleaning, only decane having a low specific gravity is used for cleaning, and the cleaning property of flux is extremely poor. Therefore, the glycol compound in the present invention was effective as a detergent composition for mixing with hydrocarbons.

【0049】(実施例6)洗浄剤が基板に残存した場合
について本発明の洗浄剤組成物による影響を評価した。
(図3)に示すような絶縁抵抗試験評価用基板を用い
た。本実施例に用いる絶縁抵抗試験評価用基板は、JI
S−Z−3197に準拠している。(表7)に本実施例
で使用した絶縁抵抗試験評価用基板の概要を示す。
Example 6 The effect of the cleaning composition of the present invention was evaluated when the cleaning agent remained on the substrate.
A substrate for insulation resistance test evaluation as shown in (FIG. 3) was used. The insulation resistance test evaluation substrate used in this example is JI
It complies with S-Z-3197. Table 7 shows an outline of the insulation resistance test evaluation substrate used in this example.

【0050】[0050]

【表7】 [Table 7]

【0051】本発明の洗浄剤組成物の一つであるジエチ
レングリコールモノノルマルヘキシルエーテルまたはプ
ロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル500
μlを上記評価用基板に塗布し、100℃中の恒温槽に
おいて、30分間放置した。その後、作製された評価用
基板を60℃95%RHの恒温恒湿槽に投入し、直流電
圧50Vを正負導体に印加した。一定時間毎に正負導体
間の絶縁抵抗値を測定した。本実施例における絶縁抵抗
値の測定は、60℃95%RHの恒温恒湿槽内で実施し
た。結果を(図4)に示す。また、比較のため、市販の
炭化水素系洗浄剤、ポリエチレングリコール系界面活性
剤(以下PEGと略す)、ポリオキシエチレンポリオキ
シプロピレンアルキルエーテル(以下POEと略す)に
ついても同様の方法で評価を行った。結果を(図4)に
併せて示す。
Diethylene glycol mononormal hexyl ether or propylene glycol mononormal butyl ether 500, which is one of the detergent compositions of the present invention.
μl was applied to the above-mentioned evaluation substrate and left in a constant temperature bath at 100 ° C. for 30 minutes. After that, the manufactured evaluation substrate was placed in a constant temperature and humidity chamber at 60 ° C. and 95% RH, and a DC voltage of 50 V was applied to the positive and negative conductors. The insulation resistance value between the positive and negative conductors was measured at regular intervals. The measurement of the insulation resistance value in this example was carried out in a constant temperature and constant humidity chamber at 60 ° C. and 95% RH. The results are shown in (Fig. 4). For comparison, a commercially available hydrocarbon-based detergent, polyethylene glycol-based surfactant (hereinafter abbreviated as PEG), and polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether (hereinafter abbreviated as POE) were also evaluated in the same manner. It was The results are also shown in (FIG. 4).

【0052】(図4)に示されるように、本実施例の洗
浄剤組成物であるジエチレングリコールモノノルマルヘ
キシルエーテル及びプロピレングリコールモノノルマル
ブチルエーテルは、500時間にわたって絶縁性に優れ
ているために本実施例の洗浄剤組成物が電子部品に残存
しても絶縁性に影響を及ぼさなかった。なお、(図4)
に示されている本実施例の洗浄剤組成物の結果はフロン
洗浄品及び洗浄剤等を塗布しない基板と同等の絶縁抵抗
値を有している。
As shown in FIG. 4, the cleaning composition of this example, diethylene glycol mono-normal hexyl ether and propylene glycol mono-n-butyl ether, has excellent insulating properties for 500 hours. Even if the cleaning composition of No. 1 remained in the electronic component, it did not affect the insulating property. Note that (Fig. 4)
The result of the cleaning composition of this example shown in FIG. 6 has the same insulation resistance value as that of the CFC cleaning product and the substrate to which the cleaning agent is not applied.

【0053】以下に本実施例の洗浄剤組成物の留意すべ
き点を挙げる; 1)水分による層分離が起こらないので、常に安定した
洗浄性が得られる。 2)水分の存在を嫌う電子部品の洗浄に特に有効であ
る。
The following are points to be noted for the detergent composition of this example: 1) Since layer separation due to moisture does not occur, stable detergency is always obtained. 2) It is particularly effective for cleaning electronic parts that are sensitive to the presence of water.

【0054】3)残存しても信頼性に影響を及ぼさな
い。
3) Remaining does not affect reliability.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明の洗浄剤組成
物は、前記一般式(化1)または(化2)で示されるグ
リコール化合物を含有することにより、半田フラックス
残渣に対して優れた除去性を発揮するとともに、地球環
境問題をクリアーし、且つ安全性が高いので、電子部品
の半田フラックス残渣に有効に使用することができる。
As described above, the cleaning composition of the present invention contains the glycol compound represented by the general formula (Chemical formula 1) or (Chemical formula 2) and is therefore excellent in solder flux residue. Since it exhibits removability, clears global environmental problems, and has high safety, it can be effectively used as a solder flux residue of electronic parts.

【0056】また、前記一般式(化1)または(化2)
に示されるグリコール化合物を30重量%以上含有する
ことにより、洗浄力の特に高い洗浄剤を達成できる。ま
た、前記一般式(化1)または(化2)に示されるグリ
コール化合物を30重量%以上と、70重量%以下のア
ルカンとを含有することにより、安全性の高い洗浄剤を
達成できる。
Further, the above general formula (Formula 1) or (Formula 2)
By containing 30% by weight or more of the glycol compound shown in (3), a detergent having particularly high detergency can be achieved. Further, by containing the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) or (Formula 2) in an amount of 30% by weight or more and 70% by weight or less of an alkane, a highly safe detergent can be achieved.

【0057】また、前記一般式(化1)に示されるグリ
コール化合物が直鎖型ヘキシル基を有するエチレングリ
コール化合物であることにより、優れた洗浄力をもつ洗
浄剤を達成できる。
When the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) is an ethylene glycol compound having a linear hexyl group, a detergent having excellent detergency can be achieved.

【0058】また、前記一般式(化1)に示されるグリ
コール化合物がジエチレングリコールモノノルマルヘキ
シルエーテルであることにより、半田フラックス残渣を
溶解除去する能力が特に高い洗浄剤を達成できる。
When the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) is diethylene glycol mononormal hexyl ether, a cleaning agent having a particularly high ability to dissolve and remove the solder flux residue can be achieved.

【0059】また、前記一般式(化2)で示されるグリ
コール化合物が、炭素数4以上の直鎖型アルキル基を有
するプロピレングリコール化合物であることにより、特
に優れた洗浄力を持つ洗浄剤を達成できる。
Further, since the glycol compound represented by the general formula (Formula 2) is a propylene glycol compound having a linear alkyl group having 4 or more carbon atoms, a detergent having a particularly excellent detergency is achieved. it can.

【0060】また、前記一般式(化2)に示されるグリ
コール化合物がプロピレングリコールモノノルマルブチ
ルエーテルであることにより、半田フラックス残渣を溶
解除去する能力が特に高い洗浄剤を達成できる。
When the glycol compound represented by the general formula (Formula 2) is propylene glycol mono-n-butyl ether, a cleaning agent having a particularly high ability to dissolve and remove the solder flux residue can be achieved.

【0061】また、アルカンがオクタン、ノナン、デカ
ン、ウンデカン及びドデカンから選ばれる少なくとも1
種のアルカンであることにより、安全性の高い、より優
れた洗浄力をもつ洗浄剤を達成できる。
Further, the alkane is at least one selected from octane, nonane, decane, undecane and dodecane.
By being a kind of alkane, it is possible to achieve a cleaning agent having high safety and superior cleaning power.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例における洗浄剤を用いた洗浄
時のテストピース位置の概念図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram of a test piece position at the time of cleaning with a cleaning agent according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の比較例における洗浄剤を用いた洗浄液
とテストピース位置の概念図である。
FIG. 2 is a conceptual diagram of a cleaning solution using a cleaning agent and a test piece position in a comparative example of the present invention.

【図3】本発明の一実施例において用いた絶縁抵抗試験
評価用基板の図である。
FIG. 3 is a diagram of an insulation resistance test evaluation substrate used in one example of the present invention.

【図4】本発明の一実施例における絶縁抵抗値の経時変
化を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a change with time of an insulation resistance value in one example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1. ビーカー 2. テストピース 3. テストピースを支える治具 4. 洗浄剤組成物 5. デカンの層 6. ジプロピレングリコールモノメチルエーテルの層 1. Beaker 2. Test piece 3. Jig supporting the test piece 4. Cleaning composition 5. Decane layer 6. Layer of dipropylene glycol monomethyl ether

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山縣 芳和 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshikazu Yamagata 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(化1)または(化2)で示され
るグリコール化合物を含有する洗浄剤組成物。 【化1】 【化2】
1. A detergent composition containing a glycol compound represented by the general formula (Formula 1) or (Formula 2). [Chemical 1] [Chemical 2]
【請求項2】 前記一般式(化1)または(化2)で示
されるグリコール化合物を30重量%以上含有する請求
項1に記載の洗浄剤組成物。
2. The cleaning composition according to claim 1, which contains 30% by weight or more of the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) or (Formula 2).
【請求項3】 前記一般式(化1)または(化2)に示
されるグリコール化合物を30重量%以上と、70重量
%以下のアルカンとを含有する請求項1に記載の洗浄剤
組成物。
3. The cleaning composition according to claim 1, containing 30% by weight or more of the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) or (Formula 2) and 70% by weight or less of an alkane.
【請求項4】 前記一般式(化1)で示されるグリコー
ル化合物が直鎖型ヘキシル基を有するエチレングリコー
ル化合物である請求項1〜3いずれかに記載の洗浄剤組
成物。
4. The detergent composition according to claim 1, wherein the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) is an ethylene glycol compound having a linear hexyl group.
【請求項5】 前記一般式(化1)で示されるグリコー
ル化合物がジエチレングリコールモノノルマルヘキシル
エーテルである請求項1〜3いずれかに記載の洗浄剤組
成物。
5. The cleaning composition according to claim 1, wherein the glycol compound represented by the general formula (Formula 1) is diethylene glycol mononormal hexyl ether.
【請求項6】 前記一般式(化2)に示されるグリコー
ル化合物が、炭素数4以上の直鎖型アルキル基を有する
プロピレングリコール化合物である請求項1〜3いずれ
かに記載の洗浄剤組成物。
6. The detergent composition according to claim 1, wherein the glycol compound represented by the general formula (Formula 2) is a propylene glycol compound having a linear alkyl group having 4 or more carbon atoms. .
【請求項7】 前記一般式(化2)に示されるグリコー
ル化合物が、プロピレングリコールモノノルマルブチル
エーテルである請求項1〜3いずれかに記載の洗浄剤組
成物。
7. The cleaning composition according to claim 1, wherein the glycol compound represented by the general formula (Formula 2) is propylene glycol mononormal butyl ether.
【請求項8】 アルカンがオクタン、ノナン、デカン、
ウンデカン及びドデカンから選ばれる少なくとも1種の
アルカンである請求項3に記載の洗浄剤組成物。
8. The alkane is octane, nonane, decane,
The cleaning composition according to claim 3, which is at least one alkane selected from undecane and dodecane.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006193602A (en) * 2005-01-13 2006-07-27 Kao Corp Liquid detergent composition

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