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JPH07111093A - Negative voltage generator - Google Patents

Negative voltage generator

Info

Publication number
JPH07111093A
JPH07111093A JP25673593A JP25673593A JPH07111093A JP H07111093 A JPH07111093 A JP H07111093A JP 25673593 A JP25673593 A JP 25673593A JP 25673593 A JP25673593 A JP 25673593A JP H07111093 A JPH07111093 A JP H07111093A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
negative voltage
circuit
capacitive element
reset
voltage generation
Prior art date
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Application number
JP25673593A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3153689B2 (en
Inventor
Hironori Banba
博則 番場
Shigeru Atsumi
滋 渥美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP25673593A priority Critical patent/JP3153689B2/en
Publication of JPH07111093A publication Critical patent/JPH07111093A/en
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Publication of JP3153689B2 publication Critical patent/JP3153689B2/en
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Abstract

(57)【要約】 【目的】二回目以降の動作においても負電圧発生速度が
低下しない負電圧発生回路を提供すること。 【構成】PチャネルMOSトランジスタを継続接続し、
各接続ノードに容量素子を接続し、当該容量素子の一端
にクロック信号を駆動することにより負電圧を発生させ
る負電圧発生回路において、容量素子の他端を所定電圧
レベルにリセットするリセット手段92を具備する
(57) [Abstract] [Purpose] To provide a negative voltage generation circuit in which the negative voltage generation speed does not decrease even in the second and subsequent operations. [Structure] P-channel MOS transistor is continuously connected,
In a negative voltage generation circuit that connects a capacitive element to each connection node and drives a clock signal to one end of the capacitive element to generate a negative voltage, a reset means 92 for resetting the other end of the capacitive element to a predetermined voltage level is provided. Have

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は負電圧発生回路に関す
る。特に不揮発性半導体記憶装置において消去時にワー
ド線を負電位に駆動するための負電圧発生回路に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a negative voltage generating circuit. In particular, the present invention relates to a negative voltage generation circuit for driving a word line to a negative potential during erasing in a nonvolatile semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】不揮発性半導体記憶装置のなかでも電気
的にデータの書換及び消去が可能なものはEEPROM
と呼ばれ、現在のところNOR型とNAND型に分類さ
れる。NOR型の多くは浮遊ゲート及びコントロールゲ
ートを積層したスタックセルを用い、書き込みはホット
キャリアによる浮遊ゲートへの電子の注入により行う。
消去は、ソースに例えば15Vをコントロールゲートに
0Vを印加し、浮遊ゲートとソースとの間にFNトンネ
ル電流を流して電子を放出することにより行う。
2. Description of the Related Art Among nonvolatile semiconductor memory devices, EEPROM capable of electrically rewriting and erasing data is an EEPROM.
Are currently classified into NOR type and NAND type. Most NOR type cells use a stack cell in which a floating gate and a control gate are stacked, and writing is performed by injecting electrons into the floating gate by hot carriers.
Erasing is performed by applying, for example, 15 V to the source and 0 V to the control gate, and passing an FN tunnel current between the floating gate and the source to emit electrons.

【0003】最近になって、消去時にワード線を負電位
に駆動することにより消去を行う型の不揮発性半導体記
憶装置が開発され「ゲート負電圧消去型」と呼ばれてい
る。これは、コントロールゲートに接続されたワード線
に例えば−10Vをソースに5Vを印加することによ
り、上述の例と同様の電位差をコントロールゲートとソ
ースとの間に与え、消去を行うものである。この方式の
利点は、消去時にソースに印加される電圧が低いので、
メモリセルのソース側の接合耐圧が低くても良く、ソー
ス側拡散層の深さをドレイン側より深くする、あるいは
ソース側拡散層の不純物濃度を下げるなどの最適化が不
要になり、セルのゲート長を短縮することができる点で
ある。これは高集積化、大容量化にもつながる。ゲート
負電圧消去型の例は既にISSCC 89 pp132-133,"A 5V-Onl
y 256K Bit CMOS Flash EEPROM" S.D'Arrigo et alや、
特開平5−28784に開示されている。
Recently, a non-volatile semiconductor memory device of a type has been developed in which erasing is performed by driving a word line to a negative potential at the time of erasing, which is called a "gate negative voltage erasing type". In this, by applying, for example, -10 V to the word line connected to the control gate and 5 V to the source, a potential difference similar to that in the above-described example is given between the control gate and the source for erasing. The advantage of this method is that the voltage applied to the source during erase is low,
The junction breakdown voltage on the source side of the memory cell may be low, and optimization such as making the depth of the source side diffusion layer deeper than that of the drain side or lowering the impurity concentration of the source side diffusion layer becomes unnecessary, and the gate of the cell The point is that the length can be shortened. This leads to high integration and large capacity. The example of the gate negative voltage erase type is already ISSCC 89 pp132-133, "A 5V-Onl
y 256K Bit CMOS Flash EEPROM "S.D'Arrigo et al,
It is disclosed in JP-A-5-28784.

【0004】ゲート負電圧消去型の不揮発性半導体記憶
装置を単一電源(例えば5V)で動作させるためには負
電圧発生回路をチップ上に集積する必要がある。従来よ
り、PチャネルMOSトランジスタを継続接続し、各接
続ノードに容量素子を接続し、当該容量素子の一端にク
ロック信号を駆動することにより負電圧を発生させる負
電圧発生回路が好適なものとして知られている。
In order to operate the gate negative voltage erasing type non-volatile semiconductor memory device with a single power source (for example, 5 V), it is necessary to integrate a negative voltage generating circuit on a chip. Conventionally, a negative voltage generation circuit that continuously connects P-channel MOS transistors, connects a capacitive element to each connection node, and drives a clock signal at one end of the capacitive element to generate a negative voltage is known as a preferable one. Has been.

【0005】しかし、従来の負電圧発生回路は動作後に
余計な電荷が各接続ノードに残存するため、二回目以降
の動作において負電圧発生速度が低下するという問題が
あった。この結果、この負電圧発生回路を不揮発性半導
体記憶装置に適用した場合、消去時間が若干長くなると
いう問題が生じた。
However, the conventional negative voltage generating circuit has a problem that the negative voltage generating speed is lowered in the second and subsequent operations because an extra charge remains in each connection node after the operation. As a result, when this negative voltage generating circuit is applied to a nonvolatile semiconductor memory device, there arises a problem that the erasing time becomes slightly longer.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の負電圧発生回路は動作後に余計な電荷が各接続ノード
に残存するため、二回目以降の動作において負電圧発生
速度が低下するという問題があった。本発明は、上記欠
点を除去し、二回目以降の動作においても負電圧発生速
度が低下しない負電圧発生回路を提供することを目的と
する。
As described above, the conventional negative voltage generation circuit has a problem that the negative voltage generation speed decreases in the second and subsequent operations because extra charge remains in each connection node after the operation. was there. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to eliminate the above-mentioned drawbacks and provide a negative voltage generation circuit in which the negative voltage generation speed does not decrease even in the second and subsequent operations.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明では、PチャネルMOSトランジスタを
継続接続し、各接続ノードに容量素子を接続し、当該容
量素子の一端にクロック信号を駆動することにより負電
圧を発生させる負電圧発生回路において、容量素子の他
端を所定電圧レベルにリセットするリセット手段を具備
することを特徴とする負電圧発生回路を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, in the present invention, a P-channel MOS transistor is continuously connected, a capacitive element is connected to each connection node, and a clock signal is applied to one end of the capacitive element. Provided is a negative voltage generation circuit which generates a negative voltage by driving, and is provided with reset means for resetting the other end of the capacitive element to a predetermined voltage level.

【0008】また、リセット手段は、共通配線と、この
共通配線と容量素子の他端との間に接続された逆流防止
手段と、リセット信号に応じて共通配線を所定電圧レベ
ルに充放電するスイッチ手段とからなり、共通配線は負
電圧発生時には浮遊状態とされることを特徴とする負電
圧発生回路を提供する。
The reset means includes a common wire, a backflow preventing means connected between the common wire and the other end of the capacitive element, and a switch for charging and discharging the common wire to a predetermined voltage level according to a reset signal. And a common line that is in a floating state when a negative voltage is generated.

【0009】[0009]

【作用】本発明で提供する手段を用いると、容量素子の
他端を所定電圧レベルにリセットするリセット手段を有
するため、動作後の余計な残存電荷を充放電させること
により、二回目以降の動作においても一回目の動作と同
様の状態から負電圧発生を開始させることができ、この
結果、二回目以降の動作においても負電圧発生速度が低
下しない負電圧発生回路を提供することが可能になる。
When the means provided by the present invention is used, since it has a reset means for resetting the other end of the capacitive element to a predetermined voltage level, by charging and discharging extra residual charge after the operation, the second and subsequent operations are performed. In this case, the negative voltage generation can be started from the same state as the first operation, and as a result, it is possible to provide the negative voltage generation circuit in which the negative voltage generation speed does not decrease in the second and subsequent operations. .

【0010】また、負電圧発生時に浮遊状態とされる共
通配線と、容量素子との間に接続された逆流防止手段を
有することにより、多段のチャージポンプ回路において
も一つのスイッチ手段によりリセット動作をさせること
が可能になる。これはチップ面積の削減に寄与する。
Further, by providing the backflow prevention means connected between the common wiring which is in a floating state when a negative voltage is generated and the capacitive element, the reset operation can be performed by one switch means even in the multi-stage charge pump circuit. It is possible to let This contributes to reducing the chip area.

【0011】[0011]

【実施例】本発明の実施例を[図1]〜[図4]を参照
して説明する。[図1]は本発明の負電圧発生回路を用
いた不揮発性半導体記憶装置の全体回路構成である。す
なわち、メモリセルアレイ1と、ロウデコーダ2と、ソ
ースデコーダ3と、カラムデコーダ4と、カラムゲート
5と、センスアンプ6と、アドレスバッファ7と、制御
回路8と、負電圧発生回路9と昇圧回路10と、入出力
バッファ11とからなる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is an overall circuit configuration of a nonvolatile semiconductor memory device using the negative voltage generating circuit of the present invention. That is, the memory cell array 1, the row decoder 2, the source decoder 3, the column decoder 4, the column gate 5, the sense amplifier 6, the address buffer 7, the control circuit 8, the negative voltage generation circuit 9, and the booster circuit. 10 and an input / output buffer 11.

【0012】メモリセルアレイ1は浮遊ゲート型MOS
トランジスタから構成されるメモリセルトランジスタM
Cを行列状に配設してなり、同一行に属するメモリセル
トランジスタの制御ゲートはワード線WLにソースは共
通ソース線SLに、同一列に属するメモリセルトランジ
スタのドレインはビット線BLに接続されている。
The memory cell array 1 is a floating gate type MOS.
Memory cell transistor M composed of a transistor
C are arranged in a matrix. The control gates of the memory cell transistors belonging to the same row are connected to the word line WL, the sources are connected to the common source line SL, and the drains of the memory cell transistors belonging to the same column are connected to the bit line BL. ing.

【0013】ロウデコーダ2はアドレスバッファ7に入
力された外部アドレスA0 〜A18の中の行アドレスによ
って指定されるワード線WLを選択し、各動作モードに
応じた所定電位に駆動する。ソースデコーダ3も同様に
外部アドレスA0 〜A18の中のブロックアドレスによっ
て指定される共通ソース線SLを選択し、各動作モード
に応じた所定電位に駆動する。
The row decoder 2 selects a word line WL designated by a row address in the external addresses A0 to A18 input to the address buffer 7 and drives it to a predetermined potential according to each operation mode. Similarly, the source decoder 3 selects the common source line SL designated by the block address in the external addresses A0 to A18, and drives it to a predetermined potential according to each operation mode.

【0014】カラムデコーダ4は外部アドレスA0 〜A
18の中の列アドレスによって指定されるビット線BLを
選択し、カラムゲート5は指定されたビット線をセンス
アンプ6に接続する。
The column decoder 4 has external addresses A0-A.
The bit line BL designated by the column address in 18 is selected, and the column gate 5 connects the designated bit line to the sense amplifier 6.

【0015】制御回路8は外部から入力される制御信
号、例えば/CE、/WE等、に応じて内部の各回路ブ
ロックに制御信号を与え、読み出し、書き込み、消去等
の各モードを制御する。
The control circuit 8 gives a control signal to each internal circuit block according to a control signal input from the outside, for example, / CE, / WE, etc., and controls each mode such as reading, writing, and erasing.

【0016】負電圧発生回路9は消去時にワード線を駆
動するための負電圧を発生させるための回路であり、後
述するようにチャージポンプ回路91、リセット回路9
2、クロック発生回路93からなり、ロウデコーダに負
電圧電源VBBを供給する。
The negative voltage generating circuit 9 is a circuit for generating a negative voltage for driving the word line at the time of erasing. As will be described later, the charge pump circuit 91 and the reset circuit 9 are provided.
2. The clock generator circuit 93 is provided to supply the negative voltage power supply VBB to the row decoder.

【0017】昇圧回路10は書き込み時にビット線やワ
ード線等を駆動するための昇圧電圧を発生させるための
回路であり、チャージポンプ回路101、クロック発生
回路102からなり、ロウデコーダに負電圧電源VBBを
供給する。
The booster circuit 10 is a circuit for generating a boosted voltage for driving a bit line, a word line, etc. at the time of writing, is composed of a charge pump circuit 101 and a clock generation circuit 102, and has a row decoder having a negative voltage power supply VBB. To supply.

【0018】入出力バッファ11は、読み出し動作時に
は、センスアンプ6により増幅された読み出し信号をさ
らに増幅し、チップ外部に出力する。また、書き込み動
作時には外部から入力された書き込みデータをチップ内
部に入力する。
During the read operation, the input / output buffer 11 further amplifies the read signal amplified by the sense amplifier 6 and outputs it to the outside of the chip. In addition, during a write operation, write data input from the outside is input to the inside of the chip.

【0019】[図2]にチャージポンプ回路91とリセ
ット回路92の詳細な回路構成図を示す。チャージポン
プ回路91は継続接続されたPチャネル型MOSトラン
ジスタQ11、Q12、Q13、Q14と、各接続ノードに接続
された容量素子C11、C12、C13、C14と、トランジス
タQ11、Q12、Q13、Q14のソース、ゲート間をそれぞ
れ接続しゲートが容量素子C11、C12、C13、C14の接
続ノードに接続されたPチャネル型MOSトランジスタ
Q21、Q22、Q23、Q24と、トランジスタQ11、Q12、
Q13、Q14のゲートにそれぞれ接続された容量素子C2
1、C22、C23、C24と、逆流防止用の出力トランジス
タQ30からなる。
FIG. 2 is a detailed circuit diagram of the charge pump circuit 91 and the reset circuit 92. The charge pump circuit 91 includes P-channel type MOS transistors Q11, Q12, Q13 and Q14 which are continuously connected, capacitive elements C11, C12, C13 and C14 which are connected to respective connection nodes, and transistors Q11, Q12, Q13 and Q14. P-channel type MOS transistors Q21, Q22, Q23, Q24, whose sources and gates are connected to each other and whose gates are connected to the connection nodes of the capacitive elements C11, C12, C13, C14, and the transistors Q11, Q12,
Capacitance element C2 connected to the gates of Q13 and Q14, respectively
1, C22, C23, C24 and an output transistor Q30 for backflow prevention.

【0020】各容量素子の他端は、C12とC14はクロッ
ク信号φ1 に、C21とC23はクロック信号φ2 に、C11
とC13はクロック信号φ3 に、C22、C24はクロック信
号φ4 が入力されるリセット回路92は、容量素子C1
1、C12、C13、C14の一端に接続された、Pチャネル
MOSトランジスタQ31、Q32、Q33、Q34と、容量素
子C21、C22、C23、C24の一端に接続されたPチャネ
ルMOSトランジスタQ41、Q42、Q43、Q44と、各ト
ランジスタQ31、Q32、Q33、Q34、Q41、Q42、Q4
3、Q44の他端に接続された共通配線929と、この共
通配線929と電源電位Vccとの間に直列に接続された
NチャネルMOSトランジスタQ51とPチャネルMOS
トランジスタQ50とからなる。
At the other end of each capacitive element, C12 and C14 are clock signals φ1, C21 and C23 are clock signals φ2, and C11 is C11.
The clock signal φ3 is input to C13 and C13, and the clock signal φ4 is input to C22 and C24.
P-channel MOS transistors Q31, Q32, Q33, Q34 connected to one ends of 1, C12, C13, C14 and P-channel MOS transistors Q41, Q42 connected to one ends of capacitive elements C21, C22, C23, C24, Q43, Q44 and each transistor Q31, Q32, Q33, Q34, Q41, Q42, Q4
3, a common wiring 929 connected to the other end of Q44, an N-channel MOS transistor Q51 and a P-channel MOS transistor connected in series between the common wiring 929 and the power supply potential Vcc
It consists of a transistor Q50.

【0021】各トランジスタQ31、Q32、Q33、Q34、
Q41、Q42、Q43、Q44のゲートは容量素子との接続端
子に接続され、トランジスタQ51のゲートは接地電位V
SSに、トランジスタQ50のゲートはインバータ921に
より反転されたReset 信号が入力される。
Each of the transistors Q31, Q32, Q33, Q34,
The gates of Q41, Q42, Q43, and Q44 are connected to the connection terminal with the capacitive element, and the gate of the transistor Q51 is at the ground potential V.
The reset signal inverted by the inverter 921 is input to SS at the gate of the transistor Q50.

【0022】[図3](a)にクロック発生回路93の
回路構成図を、(b)にその出力であるφ1 、φ2 、φ
3 、φ4 のタイムチャートを示す。クロック発生回路9
3は発振回路931、カウンタ回路932、デコーダ回
路933からなる。
FIG. 3 (a) is a circuit configuration diagram of the clock generation circuit 93, and FIG. 3 (b) is its output φ1, φ2, φ.
A time chart of 3 and φ4 is shown. Clock generation circuit 9
Reference numeral 3 includes an oscillation circuit 931, a counter circuit 932, and a decoder circuit 933.

【0023】続いて、実施例の動作について説明する。
外部から消去信号(若しくは消去コマンド)が入力され
ると、制御回路8が消去動作の制御を開始し、これに応
じて負電圧発生回路9はリセット動作に入る。Reset 信
号が“H”になると、インバータ921のによってトラ
ンジスタQ50のゲートには“L”(0V)が印加され
る。この結果、トランジスタQ50のドレイン電位は上昇
し、5Vとなる。これに応じて、共通配線929はトラ
ンジスタQ51のしきい値分だけ負の電圧に上昇(それ以
前は負の電位になっている)する。トランジスタQ51の
しきい値が1Vであれば、共通配線929は−1Vとな
る。この結果、チャージポンプ回路91の各接続ノード
がトランジスタQ31、Q32、Q33、Q34、Q41、Q42、
Q43、Q44を介して所定電位に充放電される。所定のリ
セット時間が経過するとReset 信号は“L”になり、ト
ランジスタQ51のソース・ドレイン及び共通配線929
は浮遊状態となる。
Next, the operation of the embodiment will be described.
When an erase signal (or erase command) is input from the outside, the control circuit 8 starts control of the erase operation, and in response to this, the negative voltage generation circuit 9 enters the reset operation. When the Reset signal becomes "H", "L" (0V) is applied to the gate of the transistor Q50 by the inverter 921. As a result, the drain potential of the transistor Q50 rises to 5V. In response to this, the common wiring 929 rises to a negative voltage by the threshold value of the transistor Q51 (it has a negative potential before that). If the threshold value of the transistor Q51 is 1V, the common line 929 becomes -1V. As a result, the connection nodes of the charge pump circuit 91 are connected to the transistors Q31, Q32, Q33, Q34, Q41, Q42,
It is charged and discharged to a predetermined potential via Q43 and Q44. When a predetermined reset time has elapsed, the Reset signal becomes "L", and the source / drain of the transistor Q51 and the common wiring 929 are connected.
Becomes floating.

【0024】引き続いて、[図3](b)に示すクロッ
ク信号が各容量素子の他端に印加される。すると負電圧
発生動作が始まり、VBB端子には負電位が出力される。
負電圧発生動作については既によく知られているため説
明を省略する。負電圧発生動作中には共通配線929も
同様に負電位に駆動されるため、逆流防止用のトランジ
スタQ31、Q32、Q33、Q34、Q41、Q42、Q43、Q44
は全てオフしている。この結果、リセット回路92はチ
ャージポンプ回路91から切り放され、負電圧発生動作
に影響を与えない。
Subsequently, the clock signal shown in FIG. 3B is applied to the other end of each capacitive element. Then, the negative voltage generating operation starts, and a negative potential is output to the VBB terminal.
Since the negative voltage generating operation is already well known, its explanation is omitted. Since the common wiring 929 is also driven to a negative potential during the negative voltage generating operation, the backflow preventing transistors Q31, Q32, Q33, Q34, Q41, Q42, Q43, Q44.
Are all off. As a result, the reset circuit 92 is disconnected from the charge pump circuit 91 and does not affect the negative voltage generating operation.

【0025】この負電位がロウデコーダ2に入力され、
図示しないロウデコーダ内の駆動トランジスタは選択ワ
ード線を負電位に駆動する。消去動作では選択共通ソー
ス線も同時に正電位(昇圧電位もしくは電源電位)に駆
動される。
This negative potential is input to the row decoder 2,
A drive transistor in a row decoder (not shown) drives the selected word line to a negative potential. In the erase operation, the selected common source line is also simultaneously driven to a positive potential (boosted potential or power supply potential).

【0026】ベリファイ動作を挟んで消去動作を小刻み
に行う時は、上述のステップを複数開繰り返す。以上の
ように、負電圧発生動作の直前にリセット動作を行うた
め、動作後の余計な残存電荷を充放電させることによ
り、二回目以降の動作においても一回目の動作と同様の
状態から負電圧発生を開始させることができ、この結
果、二回目以降の動作においても負電圧発生速度が低下
しない負電圧発生回路を提供することが可能になる。
When the erase operation is performed in small steps with the verify operation interposed therebetween, the above steps are repeated a plurality of times. As described above, since the reset operation is performed immediately before the negative voltage generation operation, by charging and discharging the extra residual charge after the operation, even in the second and subsequent operations, the same voltage as the first operation is applied to the negative voltage. Generation can be started, and as a result, it is possible to provide a negative voltage generation circuit in which the negative voltage generation speed does not decrease even in the second and subsequent operations.

【0027】本発明の効果を[図4]に示す。これは、
各容量素子の容量を2.5pF、トランジスタQ11、Q1
2、Q13、Q14のW/Lを200/2に、トランジスタ
Q21、Q22、Q23、Q24のW/Lを50/2に設定した
時に、リセット動作の有無による二回目以降の負電位発
生の速度をシミュレーションにより比較した結果であ
る。このように、リセット動作を行うと二回目以降の負
電位発生速度が向上することがわかる。
The effect of the present invention is shown in FIG. this is,
The capacitance of each capacitive element is 2.5 pF, and transistors Q11 and Q1
When the W / L of 2, Q13 and Q14 is set to 200/2 and the W / L of transistors Q21, Q22, Q23 and Q24 is set to 50/2, the speed of negative potential generation after the second time depending on the presence or absence of the reset operation. The results are compared by simulation. Thus, it can be seen that the reset operation improves the negative potential generation speed after the second time.

【0028】つづいて本発明の実施例の変形例を[図
5]に示す。[図5](a)は逆流防止素子としてトラ
ンジスタQ31、Q32、Q33、Q34、Q41、Q42、Q43、
Q44の代わりにダイオードD1 、D2 、D3 、D4 、D
5 、D6 、D7 、D8 を用いた例である。動作は上述の
実施例とほぼ同様のため説明を省略する。ダイオードを
用いるため、小さなスペースで回路を構成することが可
能になる。
Next, a modified example of the embodiment of the present invention is shown in FIG. [FIG. 5] (a) shows transistors Q31, Q32, Q33, Q34, Q41, Q42, Q43 as backflow prevention elements,
Diodes D1, D2, D3, D4, D instead of Q44
In this example, 5, D6, D7 and D8 are used. Since the operation is almost the same as that of the above-mentioned embodiment, its explanation is omitted. Since the diode is used, the circuit can be constructed in a small space.

【0029】[図5](b)はリセット回路92を複数
個の回路ブロック922に分け、スイッチング用のトラ
ンジスタQ50とレベルシフトトランジスタQ51を各々の
回路ブロック922に設けた例である。動作は上述の実
施例とほぼ同様のため説明を省略する。負電圧発生動作
時に共通配線929を充放電する必要が無いため、動作
が高速化する。
FIG. 5B is an example in which the reset circuit 92 is divided into a plurality of circuit blocks 922, and a switching transistor Q50 and a level shift transistor Q51 are provided in each circuit block 922. Since the operation is almost the same as that of the above-mentioned embodiment, its explanation is omitted. Since it is not necessary to charge and discharge the common wiring 929 during the negative voltage generating operation, the operation speed is increased.

【0030】[0030]

【発明の効果】本願発明を用いることにより、二回目以
降の動作においても負電圧発生速度が低下しない負電圧
発生回路が提供される。
By using the present invention, a negative voltage generating circuit is provided in which the negative voltage generating speed does not decrease even in the second and subsequent operations.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例を示す全体回路構成図FIG. 1 is an overall circuit configuration diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例の負電圧発生回路の回路構成図FIG. 2 is a circuit configuration diagram of a negative voltage generating circuit according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例のクロック発生回路の回路構成
FIG. 3 is a circuit configuration diagram of a clock generation circuit according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例の効果を示すグラフFIG. 4 is a graph showing the effect of the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の変形例を示す回路構成図FIG. 5 is a circuit configuration diagram showing a modified example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 ロウデコーダ 3 ソースデコーダ 4 カラムデコーダ 5 カラムゲート 6 センスアンプ 7 アドレスバッファ 8 制御回路 9 負電圧発生回路 10 昇圧回路 11 入出力バッファ 1 Memory Cell Array 2 Row Decoder 3 Source Decoder 4 Column Decoder 5 Column Gate 6 Sense Amplifier 7 Address Buffer 8 Control Circuit 9 Negative Voltage Generation Circuit 10 Booster Circuit 11 Input / Output Buffer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 PチャネルMOSトランジスタを継続接
続し、各接続ノードに容量素子を接続し、当該容量素子
の一端にクロック信号を駆動することにより負電圧を発
生させる負電圧発生回路において、 前記容量素子の他端を所定電圧レベルにリセットするリ
セット手段を具備することを特徴とする負電圧発生回
路。
1. A negative voltage generation circuit for continuously connecting a P-channel MOS transistor, connecting a capacitive element to each connection node, and driving a clock signal to one end of the capacitive element to generate a negative voltage, wherein: A negative voltage generating circuit comprising reset means for resetting the other end of the element to a predetermined voltage level.
【請求項2】 前記リセット手段は、共通配線と、この
共通配線と前記容量素子の他端との間に接続された逆流
防止手段と、リセット信号に応じて前記共通配線を所定
電圧レベルに充放電するスイッチ手段とからなり、前記
共通配線は負電圧発生時には浮遊状態とされることを特
徴とする負電圧発生回路。
2. The reset means charges a common wire, a backflow preventing means connected between the common wire and the other end of the capacitive element, and charges the common wire to a predetermined voltage level in response to a reset signal. A negative voltage generating circuit, comprising: discharging switch means, wherein the common wiring is in a floating state when a negative voltage is generated.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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