JPH07110825B2 - フェノールの製造法 - Google Patents
フェノールの製造法Info
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- JPH07110825B2 JPH07110825B2 JP5016179A JP1617993A JPH07110825B2 JP H07110825 B2 JPH07110825 B2 JP H07110825B2 JP 5016179 A JP5016179 A JP 5016179A JP 1617993 A JP1617993 A JP 1617993A JP H07110825 B2 JPH07110825 B2 JP H07110825B2
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、各種ポリマー原料とし
て有用なフェノールの製造法に関するものである。
て有用なフェノールの製造法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化ベンゼンを水の存在下、気相
に於いて加水分解してフェノールに転化する方法は、古
くからフェノール合成に於けるラシヒ法の後段反応とし
て知られている。このハロゲン化ベンゼンの触媒として
は、銅を含むリン酸カルシウムアパタイト(米国特許第
3,148,222号明細書、米国特許第2,988,
573号明細書)、銅を含むリン酸ジルコニウム(特公
昭51ー6108号公報)、希土類金属リン酸塩及び銅
を含んだ希土類金属リン酸塩(特開昭47ー27936
号公報)等が知られている。
に於いて加水分解してフェノールに転化する方法は、古
くからフェノール合成に於けるラシヒ法の後段反応とし
て知られている。このハロゲン化ベンゼンの触媒として
は、銅を含むリン酸カルシウムアパタイト(米国特許第
3,148,222号明細書、米国特許第2,988,
573号明細書)、銅を含むリン酸ジルコニウム(特公
昭51ー6108号公報)、希土類金属リン酸塩及び銅
を含んだ希土類金属リン酸塩(特開昭47ー27936
号公報)等が知られている。
【0003】しかしながら、これまでの触媒は、活性が
低いため高転化率を得るためには、500℃以上の高温
で反応をさせるか、叉は非常に低い空間速度で反応させ
る必要があった。さらに、これらの触媒は、反応中の活
性低下が著しく、触媒の再生も困難であった。
低いため高転化率を得るためには、500℃以上の高温
で反応をさせるか、叉は非常に低い空間速度で反応させ
る必要があった。さらに、これらの触媒は、反応中の活
性低下が著しく、触媒の再生も困難であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高活性でか
つ活性低下が少なく、再生の容易な触媒を用いるフェノ
ールの製造法を提供することを目的とする。
つ活性低下が少なく、再生の容易な触媒を用いるフェノ
ールの製造法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ニッケ
ル、コバルト、パラジウム又は鉄を含有し、かつSi O
2 /Al2 O3 (モル比)が、20〜1000の結晶性
アルミノシリケートが高活性かつ活性低下が少なく、触
媒再生が容易であることを見い出し、本発明を完成する
に至った。
ル、コバルト、パラジウム又は鉄を含有し、かつSi O
2 /Al2 O3 (モル比)が、20〜1000の結晶性
アルミノシリケートが高活性かつ活性低下が少なく、触
媒再生が容易であることを見い出し、本発明を完成する
に至った。
【0006】すなわち、本発明は以下のとおりである。 1.ハロゲン化ベンゼンを水の存在下、気相において加
水分解してフェノールに転化する際に、触媒としてニッ
ケル、コバルト、パラジウム又は鉄を含有し、かつSi
O2 /Al2 O3 (モル比)が20〜1000の結晶性
アルミノシリケートを用いることを特徴とするフェノー
ルの製造法。 2.結晶性アルミノシリケートが、ZSM−5であるこ
とを特徴とする上記1に記載のフェノールの製造法。
水分解してフェノールに転化する際に、触媒としてニッ
ケル、コバルト、パラジウム又は鉄を含有し、かつSi
O2 /Al2 O3 (モル比)が20〜1000の結晶性
アルミノシリケートを用いることを特徴とするフェノー
ルの製造法。 2.結晶性アルミノシリケートが、ZSM−5であるこ
とを特徴とする上記1に記載のフェノールの製造法。
【0007】本発明に用いられる結晶性アルミノシリケ
ートとは、Si O4 とAlO4 とが酸素原子を介して交
さ結合している剛性の三次元構造を有する無機結晶体で
ある。この中のアルミニウム原子とケイ素原子の和と酸
素原子との比は、1:2であり、またアルミニウムを含
有する四面体の電子価は、結晶内に種々のカチオンを含
有する事によって平衡が保たれている。この結晶性アル
ミノシリケートのSiO2 /Al2 O3 (モル比)は、
2〜数万のものまで多くのものが知られているが、本発
明に用いられる結晶性アルミノシリケートのSi O2 /
Al2 O3 (モル比)は20〜1000、好ましくは2
0〜500、さらに好ましくは30〜200である。こ
の範囲外のものは活性が低く実用的でない。
ートとは、Si O4 とAlO4 とが酸素原子を介して交
さ結合している剛性の三次元構造を有する無機結晶体で
ある。この中のアルミニウム原子とケイ素原子の和と酸
素原子との比は、1:2であり、またアルミニウムを含
有する四面体の電子価は、結晶内に種々のカチオンを含
有する事によって平衡が保たれている。この結晶性アル
ミノシリケートのSiO2 /Al2 O3 (モル比)は、
2〜数万のものまで多くのものが知られているが、本発
明に用いられる結晶性アルミノシリケートのSi O2 /
Al2 O3 (モル比)は20〜1000、好ましくは2
0〜500、さらに好ましくは30〜200である。こ
の範囲外のものは活性が低く実用的でない。
【0008】このようなSi O2 /Al2 O3 (モル
比)を有する結晶性アルミノシリケートとしては、モー
ビルオイル社の開発したZSM−5(米国特許第370
2886号明細書)、ZSM−11(特開昭54ー52
699号公報)、ZSM−12(米国特許第38324
49号明細書)、ZSM−35(特開昭53ー1445
00号公報)、本発明者らが先に発明したAZ−1(特
開昭59ー128210号公報、米国特許第45377
57号明細書)等が挙げられる。好ましいのはZSM−
5、ZSM−11、AZ−1であり、特に好ましいのは
ZSM−5である。
比)を有する結晶性アルミノシリケートとしては、モー
ビルオイル社の開発したZSM−5(米国特許第370
2886号明細書)、ZSM−11(特開昭54ー52
699号公報)、ZSM−12(米国特許第38324
49号明細書)、ZSM−35(特開昭53ー1445
00号公報)、本発明者らが先に発明したAZ−1(特
開昭59ー128210号公報、米国特許第45377
57号明細書)等が挙げられる。好ましいのはZSM−
5、ZSM−11、AZ−1であり、特に好ましいのは
ZSM−5である。
【0009】本発明に用いられる結晶性アルミノシリケ
ートは、ニッケル、コバルト、パラジウム又は鉄を含有
する必要がある。これらの中で好ましいのはニッケル、
コバルト、パラジウムであり、特に好ましいのはニッケ
ルである。
ートは、ニッケル、コバルト、パラジウム又は鉄を含有
する必要がある。これらの中で好ましいのはニッケル、
コバルト、パラジウムであり、特に好ましいのはニッケ
ルである。
【0010】結晶性アルミノシリケート中に含まれるこ
れらの金属の状態は、カチオン、酸化物、ハロゲン化物
等の塩、還元金属のいずれの状態でも構わないが、好ま
しいのはカチオンの状態である。これらの金属の含有量
は、特に制限はないが、あまり少ないと活性が低く、多
すぎると選択性が低くなるため、通常は結晶性アルミノ
シリケートに対して0.005〜50wt%、好ましく
は0.01〜20wt%、さらに好ましくは0.1〜1
0wt%である。結晶性アルミノシリケートに、これら
の金属を含有させる方法としては、通常のイオン交換
法、含浸法等が用いられる。
れらの金属の状態は、カチオン、酸化物、ハロゲン化物
等の塩、還元金属のいずれの状態でも構わないが、好ま
しいのはカチオンの状態である。これらの金属の含有量
は、特に制限はないが、あまり少ないと活性が低く、多
すぎると選択性が低くなるため、通常は結晶性アルミノ
シリケートに対して0.005〜50wt%、好ましく
は0.01〜20wt%、さらに好ましくは0.1〜1
0wt%である。結晶性アルミノシリケートに、これら
の金属を含有させる方法としては、通常のイオン交換
法、含浸法等が用いられる。
【0011】本発明におけるハロゲン化ベンゼンとは、
例えばクロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼ
ン等が挙げられる。本発明における水とハロゲン化ベン
ゼンの比は、通常水/ハロゲン化ベンゼン(モル比)で
0.5〜100、好ましくは1〜50、さらに好ましく
は2〜20である。
例えばクロルベンゼン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼ
ン等が挙げられる。本発明における水とハロゲン化ベン
ゼンの比は、通常水/ハロゲン化ベンゼン(モル比)で
0.5〜100、好ましくは1〜50、さらに好ましく
は2〜20である。
【0012】本発明における反応温度は、通常250〜
600℃、好ましくは300〜550℃、さらに好まし
くは350〜500℃である。
600℃、好ましくは300〜550℃、さらに好まし
くは350〜500℃である。
【0013】本発明における圧力は減圧、常圧、加圧い
ずれでも良い。
ずれでも良い。
【0014】
【実施例】以下、本発明を実施例を用いて説明する。な
お、以下の実施例、比較例における転化率、収率、選択
率は通常のガスクロマトグラフ法による分析値をもとに
求めた。
お、以下の実施例、比較例における転化率、収率、選択
率は通常のガスクロマトグラフ法による分析値をもとに
求めた。
【0015】
【実施例1】Qbrandケイ酸塩水溶液(Na2 O
8.9wt%、Si O2 28.9wt%、H2 O62.
2wt%)300gに10wt%テトラプロピルアンモ
ニウムハイドロキサイド水溶液200gを加え、さらに
水100gに硝酸アルミニウム(Al(NO3 )3 ・9
H2 O)5gを溶かした溶液を加えて均質な溶液を得
た。さらに硝酸をかきまぜながら滴下してpH10〜1
0.5に調整して均質なゲルを得た。このゲルをテフロ
ン内張りオートクレーブに仕込み、かき混ぜながら18
0℃、24時間結晶化させた。
8.9wt%、Si O2 28.9wt%、H2 O62.
2wt%)300gに10wt%テトラプロピルアンモ
ニウムハイドロキサイド水溶液200gを加え、さらに
水100gに硝酸アルミニウム(Al(NO3 )3 ・9
H2 O)5gを溶かした溶液を加えて均質な溶液を得
た。さらに硝酸をかきまぜながら滴下してpH10〜1
0.5に調整して均質なゲルを得た。このゲルをテフロ
ン内張りオートクレーブに仕込み、かき混ぜながら18
0℃、24時間結晶化させた。
【0016】得られた生成物を濾過、洗浄、120℃で
4時間乾燥、500℃で6時間空気中で焼成した。この
生成物はX線回折分析よりZSM−5と同定された。ま
た、ケイ光X線分析より求めたSi O2 /Al2 O
3 (モル比)は55であった。得られたZSM−5を、
Ni,Co,Pd,Feの各種金属でイオン交換した触
媒を用い、下記の反応条件でクロルベンゼンの加水分解
反応を行った。 〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=2.
6、WHSV(クロルベンゼン基準)=3.0hr-1、
反応温度=450℃、常圧。反応開始から2〜3時間後
の結果を表1に示す。
4時間乾燥、500℃で6時間空気中で焼成した。この
生成物はX線回折分析よりZSM−5と同定された。ま
た、ケイ光X線分析より求めたSi O2 /Al2 O
3 (モル比)は55であった。得られたZSM−5を、
Ni,Co,Pd,Feの各種金属でイオン交換した触
媒を用い、下記の反応条件でクロルベンゼンの加水分解
反応を行った。 〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=2.
6、WHSV(クロルベンゼン基準)=3.0hr-1、
反応温度=450℃、常圧。反応開始から2〜3時間後
の結果を表1に示す。
【0017】
【表1】
【0018】
【比較例1】NaーY型ゼオライト(リンデ・デビジョ
ン社製SK−40、Si O2 /Al 2 O3 (モル比)=
4.6)を15wt%NiCl2 ・6H2 O水溶液中で
1日イオン交換を行った。濾過、洗浄、120℃で4時
間乾燥したのち、450℃で3時間焼成してNi−Y型
ゼオライトを得た。ケイ光X線分析により測定したNi
の含有率は1.8wt%であった。この触媒を用いて下
記反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。 〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=3.
0、WHSV(クロルベンゼン基準)=3.0hr-1、
反応温度=450℃、常圧。 反応開始から2〜3時間の結果は、クロルベンゼン転化
率=1.3%、フェノール選択率=99%であった。
ン社製SK−40、Si O2 /Al 2 O3 (モル比)=
4.6)を15wt%NiCl2 ・6H2 O水溶液中で
1日イオン交換を行った。濾過、洗浄、120℃で4時
間乾燥したのち、450℃で3時間焼成してNi−Y型
ゼオライトを得た。ケイ光X線分析により測定したNi
の含有率は1.8wt%であった。この触媒を用いて下
記反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。 〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=3.
0、WHSV(クロルベンゼン基準)=3.0hr-1、
反応温度=450℃、常圧。 反応開始から2〜3時間の結果は、クロルベンゼン転化
率=1.3%、フェノール選択率=99%であった。
【0019】
【比較例2】H−モルデナイト(東洋曹達製Si O2 /
Al2 O3 (モル比)=10)を20wt%NiCl2
・6H2 O水溶液で1日イオン交換して、濾過、洗浄
後、120℃で4時間乾燥、450℃で3時間空気中で
焼成してNiーモルデナイトを得た。ケイ光X線分析よ
り求めたNi含有量は1.1wt%であった。この触媒
を用いて下記反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応
を行った。 〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=4.
0、WHSV(クロルベンゼン基準)=1.0hr-1、
反応温度=450℃、常圧。 反応開始から3〜4時間後の結果は、クロルベンゼン転
化率=2.0%、フェノール選択率=99%であった。
Al2 O3 (モル比)=10)を20wt%NiCl2
・6H2 O水溶液で1日イオン交換して、濾過、洗浄
後、120℃で4時間乾燥、450℃で3時間空気中で
焼成してNiーモルデナイトを得た。ケイ光X線分析よ
り求めたNi含有量は1.1wt%であった。この触媒
を用いて下記反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応
を行った。 〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=4.
0、WHSV(クロルベンゼン基準)=1.0hr-1、
反応温度=450℃、常圧。 反応開始から3〜4時間後の結果は、クロルベンゼン転
化率=2.0%、フェノール選択率=99%であった。
【0020】
【比較例3】特開昭47ー27936号公報の記載に従
い、銅含有LaPO4 を調製した。即ち、La(N
O3 )3 ・6H2 O=28.8gを水200ccに溶か
した溶液に、(NH4 )2 HPO4 =17.6gを水1
00ccに溶かした溶液を激しく撹拌しながら加える。
その後、アンモニア水でPH=6.0に調整して、濾
過、洗浄した後、120℃で24時間乾燥、500℃で
16時間空気中で焼成して白色のLaPO4 粉末を得
た。このLaPO4 =10gをCu(NO3 )2 ・3H
2 Oの0.2wt%水溶液20cc中に浸漬して、蒸発
乾固した後、450℃で5時間空気中で焼成した。この
Cu含有LaPO4 中のCu含有率は0.05wt%で
あった。このCu含有LaPO4 を触媒に用いて、下記
の反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。 〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=2.
6、WHSV(クロルベンゼン基準)=3.0hr-1、
反応温度=450℃、常圧。 反応開始から2〜3時間後の成績は、クロルベンゼン転
化率=3.0%、フェノール選択率=97.0%、ベン
ゼン選択率=3.0%であった。この結果と実施例1と
を比較すると、この触媒の活性が低いことが判る。
い、銅含有LaPO4 を調製した。即ち、La(N
O3 )3 ・6H2 O=28.8gを水200ccに溶か
した溶液に、(NH4 )2 HPO4 =17.6gを水1
00ccに溶かした溶液を激しく撹拌しながら加える。
その後、アンモニア水でPH=6.0に調整して、濾
過、洗浄した後、120℃で24時間乾燥、500℃で
16時間空気中で焼成して白色のLaPO4 粉末を得
た。このLaPO4 =10gをCu(NO3 )2 ・3H
2 Oの0.2wt%水溶液20cc中に浸漬して、蒸発
乾固した後、450℃で5時間空気中で焼成した。この
Cu含有LaPO4 中のCu含有率は0.05wt%で
あった。このCu含有LaPO4 を触媒に用いて、下記
の反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。 〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=2.
6、WHSV(クロルベンゼン基準)=3.0hr-1、
反応温度=450℃、常圧。 反応開始から2〜3時間後の成績は、クロルベンゼン転
化率=3.0%、フェノール選択率=97.0%、ベン
ゼン選択率=3.0%であった。この結果と実施例1と
を比較すると、この触媒の活性が低いことが判る。
【0021】
【比較例4】特公昭51ー6108号公報の記載に従っ
て、銅を含むリン酸ジルコニウムを調製した。即ち、Z
rOCl2 ・8H2 O=24gを水100gに溶かし、
さらにCuCl2 ・2H2 O=0.6gを溶かした。こ
の溶液をNaOH=8.0gと85%H3 PO4 =1
4.8gを水100gに溶かした溶液に加え44時間室
温で撹拌を続けた。得られたスラリーを濾過、洗浄した
後、110℃で4時間乾燥、400℃で3時間空気中で
焼成を行い銅含有リン酸ジルコニウムを得た。この銅含
有リン酸ジルコニウムを触媒に用い、比較例3と同じ条
件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。反応開始
から2〜3時間後の成績は、クロルベンゼン転化率=
2.3%、フェノール選択率=97.2%、ベンゼン選
択率=2.8%であった。この結果と実施例1とを比較
すると、この触媒の活性が低いことが判る。
て、銅を含むリン酸ジルコニウムを調製した。即ち、Z
rOCl2 ・8H2 O=24gを水100gに溶かし、
さらにCuCl2 ・2H2 O=0.6gを溶かした。こ
の溶液をNaOH=8.0gと85%H3 PO4 =1
4.8gを水100gに溶かした溶液に加え44時間室
温で撹拌を続けた。得られたスラリーを濾過、洗浄した
後、110℃で4時間乾燥、400℃で3時間空気中で
焼成を行い銅含有リン酸ジルコニウムを得た。この銅含
有リン酸ジルコニウムを触媒に用い、比較例3と同じ条
件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。反応開始
から2〜3時間後の成績は、クロルベンゼン転化率=
2.3%、フェノール選択率=97.2%、ベンゼン選
択率=2.8%であった。この結果と実施例1とを比較
すると、この触媒の活性が低いことが判る。
【0022】
【発明の効果】本発明に於ける触媒は、従来の触媒に比
べて活性が高く、かつ活性低下が小さく触媒再生が容易
である。この事は工業的に行う上で非常に有利となる。
べて活性が高く、かつ活性低下が小さく触媒再生が容易
である。この事は工業的に行う上で非常に有利となる。
Claims (1)
- 【請求項1】 ハロゲン化ベンゼンを水の存在下、気相
において加水分解してフェノールに転化する際に、触媒
としてニッケル、コバルト、パラジウム又は鉄を含有
し、かつSi O2 /Al2 O3 (モル比)が20〜10
00の結晶性アルミノシリケートを用いることを特徴と
するフェノールの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5016179A JPH07110825B2 (ja) | 1993-02-03 | 1993-02-03 | フェノールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5016179A JPH07110825B2 (ja) | 1993-02-03 | 1993-02-03 | フェノールの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH069464A JPH069464A (ja) | 1994-01-18 |
JPH07110825B2 true JPH07110825B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=11909290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5016179A Expired - Lifetime JPH07110825B2 (ja) | 1993-02-03 | 1993-02-03 | フェノールの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07110825B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2074164C1 (ru) * | 1994-04-12 | 1997-02-27 | Институт катализа им.Г.К.Борескова СО РАН | Способ получения фенола или его производных |
RU2058286C1 (ru) * | 1994-04-12 | 1996-04-20 | Институт катализа им.Г.К.Борескова СО РАН | Способ получения фенола или его производных |
JP4779942B2 (ja) * | 2006-11-20 | 2011-09-28 | 住友化学株式会社 | 加水分解反応用触媒の製造方法 |
JP2010275208A (ja) * | 2009-05-27 | 2010-12-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | フェノールの製造方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62192330A (ja) * | 1986-02-20 | 1987-08-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アリ−ル水酸化物の製造法 |
JPS62240634A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アリ−ル水酸化物の製法 |
JPS62240636A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アリ−ル水酸化物の製造方法 |
JPS63206060A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-25 | Fujitsu Ltd | 入トランク接続回路 |
JPH047039A (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-10 | Res Assoc Util Of Light Oil | 触媒の製造方法 |
JPH0421645A (ja) * | 1990-05-17 | 1992-01-24 | Res Assoc Util Of Light Oil | ヒドロキシ芳香族化合物の製法 |
JPH04117339A (ja) * | 1990-09-06 | 1992-04-17 | Res Assoc Util Of Light Oil | 芳香族水酸化物の製造方法 |
JPH04117338A (ja) * | 1990-09-06 | 1992-04-17 | Res Assoc Util Of Light Oil | 芳香族水酸化物の製法 |
JPH04334333A (ja) * | 1991-05-10 | 1992-11-20 | Res Assoc Util Of Light Oil | フェノール類の製造方法 |
JPH04334332A (ja) * | 1991-05-09 | 1992-11-20 | Res Assoc Util Of Light Oil | ヒドロキシ芳香族化合物の製造方法 |
-
1993
- 1993-02-03 JP JP5016179A patent/JPH07110825B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS62192330A (ja) * | 1986-02-20 | 1987-08-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アリ−ル水酸化物の製造法 |
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JPH04117339A (ja) * | 1990-09-06 | 1992-04-17 | Res Assoc Util Of Light Oil | 芳香族水酸化物の製造方法 |
JPH04117338A (ja) * | 1990-09-06 | 1992-04-17 | Res Assoc Util Of Light Oil | 芳香族水酸化物の製法 |
JPH04334332A (ja) * | 1991-05-09 | 1992-11-20 | Res Assoc Util Of Light Oil | ヒドロキシ芳香族化合物の製造方法 |
JPH04334333A (ja) * | 1991-05-10 | 1992-11-20 | Res Assoc Util Of Light Oil | フェノール類の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH069464A (ja) | 1994-01-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960814 |