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JPH07104485A - Washing method for electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Washing method for electrophotographic photoreceptor

Info

Publication number
JPH07104485A
JPH07104485A JP25188393A JP25188393A JPH07104485A JP H07104485 A JPH07104485 A JP H07104485A JP 25188393 A JP25188393 A JP 25188393A JP 25188393 A JP25188393 A JP 25188393A JP H07104485 A JPH07104485 A JP H07104485A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
water
cutting
cleaning
electrophotographic photoreceptor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25188393A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Ohira
晃 大平
Kiyoshi Tamaki
喜代志 玉城
Masataka Inashiro
正高 稲城
Sunao Kawada
直 川田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP25188393A priority Critical patent/JPH07104485A/en
Publication of JPH07104485A publication Critical patent/JPH07104485A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a processing method for efficiently producing a substrate having surface almost free from an image defect such as a dark point and local fog due to a flay or the like on the surface of an electrophotographic photoreceptor. CONSTITUTION:The characteristic point of this method is that the surface of an electrophotographic photoreceptor substrate 1, while being supplied with aqueous cutting fluid, is cut with a bite 8 made of monocrystal diamond and, then, (1) the substrate 1 is washed with water or washing liquid composed of the water solution of an interfacial active agent, or (2) the substrate 1 is washed with a water soluble organic agent having a boiling point equal to or lower than 120 deg.C and a dielectric constant equal to or above 18.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体基体の
表面処理方法に関し、詳しくはアルミニウム系材料から
なる電子写真感光体基体の洗浄方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for treating the surface of an electrophotographic photoreceptor substrate, and more particularly to a method for cleaning an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum material.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真複写機、デジタルコピア、レー
ザープリンター等においては、回転ドラム状の電子写真
感光体基体(以下適宜「基体」と略称する)上に感光層
を設けてなる電子写真感光体が広く使用されている。か
かる電子写真感光体を構成する基体の材料としては、低
コスト、軽量、加工容易性等の利点から、アルミニウム
系材料が好ましく用いられている。このアルミニウム系
材料からなる回転ドラム状の基体は、一般に、管状素材
の表面を切削加工して仕上げられ、この切削加工時に
は、通常、切削液が使用される。この切削液は、冷却作
用、潤滑作用、洗浄作用等を目的として使用されるもの
であり、具体的には、石油系、ポリブテン系、灯油、白
灯油等が使用されている。また、画像欠陥の発生を防止
するために、基体の切削加工後に、ブラシや研磨剤等を
利用した接触式の洗浄手段により基体の表面を洗浄する
ことも行われている。
2. Description of the Related Art In electrophotographic copying machines, digital copiers, laser printers, etc., an electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer provided on a rotating drum-shaped electrophotographic photosensitive member substrate (hereinafter appropriately referred to as "substrate"). Is widely used. As a material for the base material constituting such an electrophotographic photoreceptor, an aluminum-based material is preferably used because of its advantages such as low cost, light weight, and easy processing. The rotary drum-shaped substrate made of this aluminum-based material is generally finished by cutting the surface of a tubular material, and a cutting fluid is usually used during this cutting. This cutting fluid is used for the purpose of cooling action, lubricating action, cleaning action, etc. Specifically, petroleum-based, polybutene-based, kerosene, white kerosene, etc. are used. Further, in order to prevent the occurrence of image defects, it is also practiced to clean the surface of the substrate by a contact type cleaning means using a brush, an abrasive or the like after cutting the substrate.

【0003】電子写真感光体基体の表面処理方法に関連
する具体的な技術としては、従来、以下に掲げるものが
提案されている。
The followings have been proposed as specific techniques related to the method of treating the surface of the electrophotographic photosensitive member substrate.

【0004】(1)油性向上剤または極圧添加剤を 1.0
重量%以下含有する切削油を使用して電子写真感光体基
体の加工を行う技術 (特開昭63-307463号公報)。
(1) 1.0% oiliness improver or extreme pressure additive
A technique for processing an electrophotographic photosensitive member substrate by using a cutting oil containing less than or equal to wt% (Japanese Patent Laid-Open No. 63-307463).

【0005】(2)特定範囲の割合のマグネシウムとケ
イ素と銅とチタンとを含有するアルミニウム合金からな
る電子写真感光体基体の表面を、切削部に丸みを有する
切削工具によって仕上げる技術 (特開昭64-86151号公
報)。
(2) A technique of finishing the surface of an electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum alloy containing magnesium, silicon, copper and titanium in a specific range of ratios with a cutting tool having a rounded cutting portion 64-86151).

【0006】(3)特定範囲の割合のケイ素と鉄とを含
有するアルミニウム合金からなる電子写真感光体基体を
用いる技術 (特開昭64-86152号公報)。
(3) A technique using an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing silicon and iron in a specific range of ratio (JP-A-64-86152).

【0007】(4)特定範囲の割合のマグネシウムとケ
イ素と銅とを含有するアルミニウム合金からなる電子写
真感光体基体の表面を、切削部に丸みを有する切削工具
によって仕上げる技術 (特開昭64-86153号公報)。
(4) A technique for finishing the surface of an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing magnesium, silicon and copper in a specific range by a cutting tool having a rounded cutting portion (Japanese Patent Laid-Open No. 64-64- 86153).

【0008】(5)特定範囲の割合のケイ素とマグネシ
ウムと鉄とを含有するアルミニウム合金からなる電子写
真感光体基体を用いる技術 (特開昭64-86154号公報)。
(5) A technique using an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing silicon, magnesium and iron in a specific range of ratio (Japanese Patent Laid-Open No. 64-86154).

【0009】(6)特定範囲の割合のマグネシウムとケ
イ素と銅とチタンとを含有するアルミニウム合金からな
る電子写真感光体基体を用いる技術 (特開昭64-86155号
公報)。
(6) A technique using an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing magnesium, silicon, copper and titanium in a specific range of ratios (Japanese Patent Laid-Open No. 64-86155).

【0010】(7)特定範囲の割合のケイ素と鉄とマグ
ネシウムと、特定割合以下のその他の金属とを含有する
アルミニウム合金からなる電子写真感光体基体を用いる
技術 (特開平1-123245号公報)。
(7) A technique using an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing silicon, iron and magnesium in a specific range of ratios and other metals in a specific ratio or less (Japanese Patent Laid-Open No. 1-123245). .

【0011】(8)旋盤ユニットと、高圧液噴射加工ユ
ニットと、電子写真感光体基体の搬送ユニットとからな
り、旋盤加工と高圧噴射加工とが連続して自動的に行え
るようにした表面加工装置を用いる技術(特開平1-1725
73号公報)。
(8) A surface processing apparatus comprising a lathe unit, a high-pressure liquid jet processing unit, and a transfer unit for the electrophotographic photosensitive member substrate, which is capable of continuously and automatically performing lathe processing and high-pressure jet processing. (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-1725
No. 73).

【0012】(9)オイルホールを有する回転工具とオ
イルホールを有しない回転工具とを備えた主軸を回転自
在に支持した主軸頭を有する特定の切削液供給ノズル装
置を用いる技術(特開昭62-152642号公報)。
(9) A technique using a specific cutting fluid supply nozzle device having a spindle head rotatably supporting a spindle provided with a rotary tool having an oil hole and a rotary tool having no oil hole (JP-A-62-62) -152642 publication).

【0013】(10)高圧の水の供給源に接続されたノズ
ルの噴射孔から電子写真感光体基体の表面に高圧の水を
噴射させながら、このノズルを当該基体の表面に沿って
走査させて当該基体の表面を所定の表面粗さに粗面化す
る技術(特開昭63-264764号公報)。
(10) While jetting high-pressure water onto the surface of the electrophotographic photoconductor substrate from the jet holes of the nozzle connected to the supply source of high-pressure water, the nozzle is scanned along the surface of the substrate. A technique for roughening the surface of the substrate to a predetermined surface roughness (Japanese Patent Laid-Open No. 63-264764).

【0014】(11)アルミニウム系材料からなる電子写
真感光体基体の表面を切削油を吹きかけながらダイヤモ
ンドバイトにより切削加工した後、当該基体の表面をブ
ラシや研磨剤を使用する接触式の洗浄手段により洗浄す
ることにより、画像欠陥の発生を防止するようにした技
術(特開平2-201373号、特開平2-191963号の各公報)。
(11) After the surface of the electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum-based material is cut with a diamond cutting tool while spraying cutting oil, the surface of the substrate is cleaned by a contact type cleaning means using a brush or an abrasive. A technique for preventing occurrence of image defects by cleaning (Japanese Patent Laid-Open Nos. 2-201373 and 2-919963).

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来技
術では、切削油を使用して表面加工されたアルミニウム
系材料からなる基体の表面には、アルミニウム切削粉、
ほこりやごみ等の環境異物、さび等が切削油に取り込ま
れた状態で当該基体に強固に付着する場合があり、この
状態が例えば1ヶ月以上の長期にわたり放置されると、
特に夏場の高温高湿下においては、上記の付着物がさら
に強固に固着されるようになり、基体の表面に部分的な
腐食(さび)が発生し、この腐食は目視によっては認識
できない場合もある。
However, in the above-mentioned prior art, the aluminum cutting powder, the aluminum cutting powder, is formed on the surface of the substrate made of the aluminum-based material surface-treated by using the cutting oil.
Environmental foreign matter such as dust and dirt, rust and the like may be firmly adhered to the substrate in a state of being taken in by the cutting oil, and if this state is left for a long period of, for example, one month or more,
Especially under high temperature and high humidity in summer, the above-mentioned deposits become more firmly fixed and partial corrosion (rust) occurs on the surface of the substrate, and this corrosion may not be visually recognizable. is there.

【0016】このような腐食は、有機溶剤や界面活性剤
溶液に浸漬したり、あるいは超音波洗浄や紫外線/O3
洗浄等の非接触式の洗浄手段によっては完全に除去する
ことができない。従って、かかる腐食が存在する基体の
表面に感光層を設けて電子写真感光体を構成すると、当
該腐食部分に画像欠陥が発生し、特に反転現像方式を採
用した画像形成プロセスに適用すると、得られる画像に
黒点、黒ジマ、局部的カブリが発生する問題がある。
Such corrosion may be caused by immersion in an organic solvent or a surfactant solution, ultrasonic cleaning or ultraviolet / O 3
It cannot be completely removed by a non-contact type cleaning means such as cleaning. Therefore, when an electrophotographic photosensitive member is formed by providing a photosensitive layer on the surface of a substrate having such corrosion, an image defect occurs in the corroded portion, and it is obtained particularly when applied to an image forming process employing a reversal development method. There is a problem that black spots, black stripes, and local fog occur in the image.

【0017】基体表面の部分的な腐食は、当該基体表面
をブラシや研磨剤を用いた接触式の洗浄手段により洗浄
することによりある程度は除去することができるが、ア
ルミニウム系材料によっては基体表面に却ってキズがつ
いてしまい、当該キズの部分上に形成される感光層特に
キャリア発生層の膜厚が変化しやすいため、感光層の光
感度が変化し、ハーフトーン画像においてコントラスト
が生じて画像欠陥となる問題がある。さらに、表面粗さ
が 0.3〜2.0μmRmax で、長さが 0.1mm以内の部分に5
〜15個の微小粗さを有するアルミニウム系材料からなる
基体では、微小粗さの凹部内に、油、切削粉、環境異物
等が入り込み、これが放置されると固着し、この固着物
はブラシや研磨剤のみでは必ずしも除去することができ
ないため画像欠陥の原因となり、良好な品質の電子写真
感光体基体が得られない場合がある。
Partial corrosion on the surface of the substrate can be removed to some extent by cleaning the surface of the substrate with a contact type cleaning means using a brush or an abrasive, but depending on the aluminum material, the surface of the substrate may be corroded. On the contrary, since the film thickness of the photosensitive layer, particularly the carrier generation layer, formed on the scratched portion is likely to change, the photosensitivity of the photosensitive layer changes, and a contrast occurs in the halftone image, resulting in image defects. There is a problem. Furthermore, the surface roughness is 0.3-2.0 μm Rmax, and the length is within 0.1 mm.
In the case of a base made of aluminum-based material having 15 to 15 micro-roughness, oil, cutting powder, environmental foreign matter, etc. enter into the recesses of micro-roughness, and they stick when left unattended. Since it cannot always be removed with only the abrasive, it may cause an image defect, and an electrophotographic photosensitive member substrate of good quality may not be obtained in some cases.

【0018】また、従来技術のように切削油を使用して
表面加工されたアルミニウム系材料からなる基体では、
切削油を充分に除去するためには、フロン11、112、113
等のフロン、トリクロルエチレン、1,1,1-トリクロルエ
タン、パークロルエチレン、塩化メチレン等の塩素系溶
剤を用いて洗浄しなければならない。しかし、このよう
な溶剤を多量に使用することは、オゾン層破壊、発ガン
性等の観点から環境汚染、作業安全性に問題がある。
Further, in the case of a substrate made of an aluminum-based material which has been surface-treated using cutting oil as in the prior art,
In order to remove the cutting oil sufficiently, Freon 11, 112, 113
Must be washed with a chlorinated solvent such as CFCs, trichloroethylene, 1,1,1-trichloroethane, perchlorethylene, methylene chloride, etc. However, the use of a large amount of such a solvent has problems in environmental pollution and work safety from the viewpoints of ozone layer depletion, carcinogenicity, and the like.

【0019】また、上記(10)の技術では、高圧の水を
噴射させながら基体表面の加工を行うものであり、高圧
の水のみでは金属表面の均一な加工を行うことは困難で
あるという問題がある。
Further, in the above technique (10), the substrate surface is processed while jetting high-pressure water, and it is difficult to uniformly process the metal surface with only high-pressure water. There is.

【0020】そこで、本発明の目的は、フロンや塩素系
溶剤を使用しないで容易に洗浄することができ、しかも
画像欠陥の少ない電子写真感光体基体を得ることができ
る表面処理方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a surface treatment method capable of obtaining an electrophotographic photosensitive member substrate which can be easily washed without using a CFC or a chlorine-based solvent and has few image defects. It is in.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、アルミ
ニウム系材料からなる電子写真感光体基体の表面に水系
切削液を供給しながら、当該基体の表面を単結晶ダイヤ
モンドからなるバイトにより切削加工した後、水もしく
は界面活性剤水溶液からなる洗浄液により当該基体の洗
浄を行う事を特徴とする電子写真感光体基体の洗浄方
法、あるいは、アルミニウム系材料からなる電子写真感
光体基体の表面に水系切削液を供給しながら、当該基体
の表面を単結晶ダイヤモンドからなるバイトにより切削
加工した後、沸点が120℃以下、比誘電率が18以上の水
溶性有機溶剤により当該基体の洗浄を行う事を特徴とす
る電子写真感光体基体の洗浄方法、によって達成するこ
とが出来る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to cut a surface of an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum-based material with a cutting tool made of single crystal diamond while supplying a water-based cutting fluid to the surface. After that, the substrate is cleaned with a cleaning liquid composed of water or an aqueous solution of a surfactant, or a method of cleaning an electrophotographic photosensitive substrate comprising an aluminum-based material, or water-based cutting on the surface of the substrate. While supplying the liquid, after cutting the surface of the substrate with a cutting tool made of single crystal diamond, the substrate is washed with a water-soluble organic solvent having a boiling point of 120 ° C or less and a relative dielectric constant of 18 or more. And a method of cleaning an electrophotographic photosensitive member substrate.

【0022】水系洗浄液の具体例としては、純水、水道
水、アニオン系、カチオン系、非イオン系、両性等の界
面活性剤水溶液等が挙げられる。
Specific examples of the water-based cleaning liquid include pure water, tap water, anionic, cationic, nonionic, amphoteric surfactant aqueous solutions and the like.

【0023】また水溶性有機溶剤とは、溶解度(溶質の
グラム数/溶媒のグラム数)で50以上のものを指し、具
体的例としては、メタノール、エタノール、n-プロパノ
ール、イソプロパノール、sec-ブタノール、アセトン、
アセトニトリル等のアルコール系、ケトン系溶剤等があ
る。
The water-soluble organic solvent refers to a solvent having a solubility (gram of solute / gram of solvent) of 50 or more, and specific examples thereof include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, sec-butanol. ,acetone,
Examples include alcohol-based solvents such as acetonitrile and ketone-based solvents.

【0024】水系切削液を使用することにより、アルミ
ニウム切削粉、ほこりやごみ等の環境異物等の基体表面
への溶着や固着が有効に防止される。仮に付着物が生じ
たとしても強固に固着することがないのでその後の洗浄
が容易となり、表面張力が特定値以下の界面活性剤水溶
液により上記付着物を良好に洗浄することができる。従
って、洗浄工程数の減少により生産性が向上し、またブ
ラシや研磨剤を用いて接触式で洗浄する必要性が少ない
ので、基体表面にキズを発生させるおそれが少ない。し
かも、洗浄にはフロンや塩素系溶剤を用いる必要がない
ので、環境汚染、作業安全性の問題が生じない。又、洗
浄液としてフロンや塩素系溶剤を使用した場合には、洗
浄後に基体上に残留して、画像欠陥の原因となったり、
特に塩素系溶剤では水と反応して塩酸を発生し、アルミ
ニウム系材料からなる基体表面に孔食腐食を発生させる
問題が生ずるが、本発明ではこれらの問題は生じない。
また、切削液のコストの低減化を図ることができ、さら
に水系切削液は、油系切削液に比べて冷却効果が高いこ
とからバイトの長寿命化も図ることができる。
By using the water-based cutting fluid, it is possible to effectively prevent aluminum cutting powder, environmental foreign matters such as dust and dirt from adhering to and adhering to the substrate surface. Even if an adhering substance is generated, it is not firmly fixed so that subsequent washing is facilitated, and the adhering substance can be favorably washed with an aqueous surfactant solution having a surface tension of a specific value or less. Therefore, the productivity is improved by reducing the number of cleaning steps, and since it is less necessary to perform contact-type cleaning with a brush or an abrasive, there is less possibility of causing scratches on the substrate surface. Moreover, since it is not necessary to use CFCs or chlorine-based solvents for cleaning, environmental pollution and work safety problems do not occur. Also, when CFCs or chlorine-based solvents are used as the cleaning liquid, they may remain on the substrate after cleaning, causing image defects,
In particular, a chlorine-based solvent reacts with water to generate hydrochloric acid, which causes a problem of causing pitting corrosion on the surface of a substrate made of an aluminum-based material, but the present invention does not cause these problems.
In addition, the cost of the cutting fluid can be reduced, and since the water-based cutting fluid has a higher cooling effect than the oil-based cutting fluid, the life of the cutting tool can be extended.

【0025】[0025]

【作用】本発明の表面処理方法においては、アルミニウ
ム系材料からなる電子写真感光体基体の表面に水系切削
液を供給しながら、当該基体の表面を単結晶ダイヤモン
ド焼結体からなるバイトにより切削加工した後、水又は
界面活性剤水溶液からなる洗浄液により当該基体の表面
を洗浄する。
In the surface treatment method of the present invention, the surface of the electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum-based material is cut with a cutting tool made of a single crystal diamond sintered body while supplying an aqueous cutting liquid to the surface. After that, the surface of the substrate is washed with a washing liquid containing water or a surfactant aqueous solution.

【0026】アルミニウム系材料としては、JIS で規定
されているA1070、A1100、A3003、A5005、A5805、
A6063等が用いられる。基体の形態としては特に限定さ
れず、回転ドラム状、エンドレスシートベルト状のいず
れであってもよい。
Aluminum-based materials include A1070, A1100, A3003, A5005, A5805, which are specified by JIS.
A6063 or the like is used. The form of the substrate is not particularly limited, and may be in the form of a rotating drum or an endless seat belt.

【0027】切削液としては水系切削液を用いるが、基
体表面への水系切削液の供給は、例えば扶桑精機社製の
「マジックカット」等を用いてミスト状にして行うこと
が好ましい。ミスト状にすることにより、切削加工時に
発生した切削粉や環境異物の基体表面への強固な固着が
有効に防止され、また切削粉等が微小粗さの凹部内に入
ったとしても除去されやすい。さらに、切削粉等が基体
表面に強固に固着しないので洗浄が容易となる。また、
長期間放置されても、切削粉や環境異物が基体表面に強
固に付着するおそれがない。さらに、表面加工時には、
アルミニウム系材料からなる基体の表面にミスト状の水
系切削液によって均一で丈夫な酸化膜が形成されるた
め、基体の表面状態が安定し、部分的な腐食も生ずるお
それがない。
Although a water-based cutting fluid is used as the cutting fluid, it is preferable to supply the water-based cutting fluid to the surface of the substrate in a mist form using, for example, "Magic Cut" manufactured by Fuso Seiki Co., Ltd. The mist shape effectively prevents solid adhesion of cutting powder and environmental foreign matter generated during cutting to the surface of the substrate, and is easy to remove even if the cutting powder enters the concave portion of minute roughness. . Further, since the cutting powder and the like do not firmly adhere to the surface of the substrate, cleaning becomes easy. Also,
Even if it is left for a long period of time, there is no possibility that cutting powder or environmental foreign matter will firmly adhere to the substrate surface. Furthermore, during surface processing,
Since a uniform and durable oxide film is formed on the surface of the substrate made of an aluminum-based material by the mist-like water-based cutting fluid, the surface condition of the substrate is stable and there is no possibility of partial corrosion.

【0028】水系切削液の供給量は、良好な冷却作用、
潤滑作用、洗浄作用を得る観点から、0.003ml/cm2以上
であることが好ましい。
The supply amount of the water-based cutting fluid is good
From the viewpoint of obtaining a lubricating action and a washing action, it is preferably 0.003 ml / cm 2 or more.

【0029】水系切削液の具体例としては、純水、水道
水、アニオン系、カチオン系、非イオン系、両性等の界
面活性剤水溶液、アルコール系、ケトン系溶剤等の水溶
性有機溶剤またはこれらと水との混合物等が挙げられ
る。
Specific examples of the water-based cutting fluid include pure water, tap water, anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactant aqueous solutions, water-soluble organic solvents such as alcohol-based and ketone-based solvents, or these. And a mixture of water and the like.

【0030】本発明においては、切削工具として、単結
晶ダイヤモンドからなるバイトを用いる。荒加工では、
通常の多結晶ダイヤモンドが用いられるが、仕上げ加工
では、単結晶ダイヤモンドであって、ノーズの丸みの半
径Rが20mm以上のバイトを用いることが好ましい。ノー
ズの丸みの半径Rが大きいものを使用することにより、
バイトの送りピッチ内における最大高さRmax が小さく
なり、加工面が洗浄されやすい形状となる。すなわち、
最大高さRmax は小さくてピッチが大きい形状となる。
また、ノーズの丸みの半径Rを大きくすることにより、
最大高さRmaxが同じ場合、バイトの送りピッチを大き
くでき、タクトタイムにも有効である。
In the present invention, a cutting tool made of single crystal diamond is used as the cutting tool. In rough machining,
Ordinary polycrystalline diamond is used, but it is preferable to use a cutting tool which is a single crystal diamond and has a radius R of the nose of 20 mm or more for finishing. By using a nose with a large radius R,
The maximum height Rmax in the feed pitch of the cutting tool becomes small, and the machined surface becomes a shape that is easily cleaned. That is,
The maximum height Rmax is small and the pitch is large.
Also, by increasing the radius R of the roundness of the nose,
When the maximum height Rmax is the same, the feed pitch of the cutting tool can be increased, which is also effective for takt time.

【0031】ここで、最大高さRmaxは、JIS B0601-19
82に準じて測定されたものである。使用した測定器は、
JIS B0651に規定された触針式表面粗さ測定器である
「表面粗さ測定器SE-30H」(小坂研究所製)であ
り、使用した触針の先端曲率半径の呼び値は2μmであ
る。
Here, the maximum height Rmax is JIS B0601-19
It was measured according to 82. The measuring instrument used is
It is a "surface roughness measuring instrument SE-30H" (manufactured by Kosaka Laboratory) which is a stylus type surface roughness measuring instrument specified in JIS B0651, and the nominal radius of curvature of the tip of the stylus used is 2 µm.

【0032】表面加工の条件としては、荒加工では、主
軸回転数が2000〜6000rpm、切込みが 0.1〜0.2mm、送り
ピッチが0.2mm/rev程度がよく、仕上げ加工では、主軸
回転数が2000〜6000rpm、切込みが20μm、送りピッチが
0.2mm/rev程度がよい。なお、主軸回転数は、管状の基
体の外径によっても異なるので、一概に規定することは
できない。
As the conditions of the surface processing, in the rough processing, the spindle rotational speed is 2000 to 6000 rpm, the depth of cut is 0.1 to 0.2 mm, the feed pitch is 0.2 mm / rev, and in the finishing processing, the spindle rotational speed is 2000 to 6000 rpm. 6000 rpm, depth of cut 20 μm, feed pitch
0.2mm / rev is recommended. The spindle rotation speed cannot be unconditionally specified because it depends on the outer diameter of the tubular substrate.

【0033】本発明においては、特に、基体の表面粗さ
が 0.3〜1.0μmRmax となるように切削加工することが
好ましい。また、基体の表面に、バイトの送り方向にお
いて1回転当りの送り長さ(送りピッチ)当り当該バイ
トを構成する単結晶ダイヤモンドの粒度に起因する5〜
40個の微小粗さが存在するように切削加工することが好
ましい。
In the present invention, it is particularly preferable to perform cutting so that the surface roughness of the substrate is 0.3 to 1.0 μmRmax. Further, on the surface of the base body, the length of the feed per one rotation (feed pitch) in the feed direction of the cutting tool is caused by the grain size of the single crystal diamond constituting the cutting tool.
It is preferable to perform cutting so that 40 minute roughnesses exist.

【0034】ここで、微小粗さは、上記の最大高さRma
x の測定と同様にして測定されたものであり、使用する
触針の先端曲率半径によっても測定できる微小粗さの細
かさが異なってくるが、一例においては先端曲率半径の
呼び値が2μmの触針が用いられる。
Here, the fine roughness is the maximum height Rma mentioned above.
It is measured in the same way as the measurement of x, and the fineness of the microroughness that can be measured varies depending on the tip curvature radius of the stylus used, but in one example, the nominal tip radius of curvature is 2 μm. Needles are used.

【0035】基体の切削加工に使用できる工作機械とし
ては、特に限定されないが、例えば図1に示す基体加工
用旋盤が挙げられる。図1において、1はドラム状の基
体、2はマグネットベース、3はホルダー、4はアトマ
イザー、5は噴霧ノズル、6は切削液容器、7は操作用
空気弁、8はバイトである。操作用空気弁7を操作者が
足で踏むとエアーがアトマイザー4に送られて、切削液
容器6の噴霧ノズル5からミスト状の水系切削液が、バ
イト8と基体1との接触部分に噴射される。切削液の噴
霧装置の具体例としては、「マジックカット」(扶桑精
機社製)が挙げられる。図2は、切削液の噴霧装置の拡
大図である。
The machine tool that can be used for cutting the substrate is not particularly limited, but examples include a lathe for substrate processing shown in FIG. In FIG. 1, 1 is a drum-shaped substrate, 2 is a magnet base, 3 is a holder, 4 is an atomizer, 5 is a spray nozzle, 6 is a cutting fluid container, 7 is an operating air valve, and 8 is a cutting tool. When the operator steps on the operation air valve 7 with air, air is sent to the atomizer 4, and the mist-like water-based cutting fluid is jetted from the spray nozzle 5 of the cutting fluid container 6 to the contact portion between the cutting tool 8 and the base 1. To be done. As a specific example of the cutting liquid spraying device, "Magic Cut" (manufactured by Fuso Seiki Co., Ltd.) can be mentioned. FIG. 2 is an enlarged view of the cutting fluid spraying device.

【0036】切削加工された基体は、次に洗浄工程に付
されるが、本発明においては、表面張力が40dyne/cm以
下の界面活性剤水溶液からなる洗浄液により当該基体の
表面を洗浄する。界面活性剤水溶液を用いた洗浄法によ
れば、フロンや塩素系溶剤を使用した場合の環境衛生上
の問題が発生せず、またブラシや研磨剤を用いて強く擦
った場合の画像欠陥の問題も発生しない。特に、洗浄液
としてフロンや塩素系溶剤を使用した場合には、洗浄後
に水シミが基体上に残留して、画像欠陥の原因となった
り、特に塩素系溶剤では水と反応して塩酸を発生し、ア
ルミニウム系材料からなる基体表面張力に孔食腐食を発
生させる問題が生ずるが、本発明ではこれらの問題は生
じない。
The machined substrate is then subjected to a cleaning step. In the present invention, the surface of the substrate is cleaned with a cleaning solution composed of an aqueous surfactant solution having a surface tension of 40 dyne / cm or less. According to the cleaning method using an aqueous solution of a surfactant, there is no environmental hygiene problem when using CFCs or chlorine-based solvents, and there is a problem of image defects when a brush or abrasive is used to rub strongly. Does not occur. In particular, when CFCs or chlorine-based solvents are used as the cleaning liquid, water stains remain on the substrate after cleaning, causing image defects.Especially chlorine-based solvents react with water to generate hydrochloric acid. However, there is a problem that the surface tension of the substrate made of an aluminum-based material causes pitting corrosion, but these problems do not occur in the present invention.

【0037】界面活性剤としては、高級アルキルスルホ
ン酸塩、高級アルコール硫酸エステル塩、リン酸エステ
ル塩、カルボン酸塩等のアニオン性界面活性剤、ベンザ
ルコニウムクロライド、サバミン型第4級アンモニウム
塩、ピリジニウム塩、アミン塩型等のカチオン性界面活
性剤、アミノ酸型、ベタイン型等の両性界面活性剤、ポ
リエチレングリコール型、多価アルコール型等の非イオ
ン性界面活性剤等が挙げられる。これらは適宜混合して
用いてもよい。
As the surfactant, an anionic surfactant such as higher alkyl sulfonate, higher alcohol sulfate ester salt, phosphate ester salt, carboxylate salt, benzalkonium chloride, sabamin type quaternary ammonium salt, Examples thereof include pyridinium salt and amine salt type cationic surfactants, amino acid type and betaine type amphoteric surfactants, polyethylene glycol type, polyhydric alcohol type nonionic surfactants and the like. These may be appropriately mixed and used.

【0038】界面活性剤水溶液の表面張力は、40dyne/
cm以下であることが必要である。表面張力の小さな界面
活性剤水溶液によれば、表面活性が小さいので優れた洗
浄性が発揮される。ここで「表面張力」は、協和科学社
製の「Wilhelmy型表面張力計A-3型」(白金プレート
使用、25℃)により測定されたものである。
The surface tension of the aqueous surfactant solution is 40 dyne /
It must be below cm. An aqueous solution of a surfactant having a small surface tension has a small surface activity and therefore exhibits excellent detergency. Here, the "surface tension" is measured by "Wilhelmy type surface tensiometer A-3 type" (using platinum plate, 25 ° C) manufactured by Kyowa Kagaku.

【0039】洗浄方法としては、特に限定されないが、
具体的には下記の方法が挙げられる。
The cleaning method is not particularly limited,
Specifically, the following method can be mentioned.

【0040】(1)基体を界面活性剤水溶液中に浸漬し
て超音波洗浄する手段。
(1) Means for ultrasonic cleaning by immersing the substrate in an aqueous surfactant solution.

【0041】(2)基体を界面活性剤水溶液中に浸漬し
てスポンジやブラシにより基体表面を軽く擦る手段。
(2) Means for immersing the substrate in an aqueous solution of a surfactant and lightly rubbing the substrate surface with a sponge or a brush.

【0042】(3)界面活性剤水溶液中に浸漬する手
段。
(3) Means of immersing in a surfactant aqueous solution.

【0043】以上の洗浄手段は適宜組合せて用いてもよ
い。
The above cleaning means may be used in combination as appropriate.

【0044】界面活性剤水溶液による洗浄後、乾燥工程
に付されるが、乾燥手段としては特に限定されない。例
えば温純水引上げ乾燥、イソプロパノール乾燥、蒸気乾
燥等が用いられる。
After washing with the aqueous surfactant solution, a drying step is carried out, but the drying means is not particularly limited. For example, hot water pull-up drying, isopropanol drying, steam drying and the like are used.

【0045】本発明の方法により表面処理された電子写
真感光体基体は、電子写真複写機、デジタルコピア、レ
ーザープリンター等に用いられる電子写真感光体を構成
するために使用されるが、かかる電子写真感光体は、例
えば当該基体の表面にキャリア発生層とキャリア輸送層
を含む有機感光層を設けて構成される。
The electrophotographic photosensitive member substrate surface-treated by the method of the present invention is used for constituting an electrophotographic photosensitive member used in an electrophotographic copying machine, a digital copier, a laser printer, etc. The photoreceptor is constituted by providing an organic photosensitive layer including a carrier generating layer and a carrier transporting layer on the surface of the substrate, for example.

【0046】[0046]

【実施例】以下、さらに具体的な実施例について説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
EXAMPLES Hereinafter, more specific examples will be described, but the present invention is not limited to these examples.

【0047】実施例1 下記の条件に従って、基体の表面に切削液を供給しなが
ら、当該基体の表面をバイトにより切削加工した。
Example 1 The surface of the substrate was cut with a cutting tool while supplying the cutting fluid to the surface of the substrate under the following conditions.

【0048】(1)基体 アルミニウム系材料からなる基体であって、外径が60mm
で長さが 273mmの神戸製鋼所製のA40S(6000系) から
なる回転ドラム状の基体を用いた。なお、このA40S
は、アルミニウムのほかに、マグネシウムが0.55重量
%、ケイ素が0.12重量%、鉄が0.05重量%、チタンが0.
01重量%、亜鉛が0.01重量%、マンガンが0.01重量%以
下の割合で含有されているものである。
(1) Substrate A substrate made of an aluminum material having an outer diameter of 60 mm
A rotating drum-shaped substrate made of A40S (6000 series) manufactured by Kobe Steel, Ltd. having a length of 273 mm was used. In addition, this A40S
In addition to aluminum, magnesium is 0.55% by weight, silicon is 0.12% by weight, iron is 0.05% by weight, titanium is 0.
The content is 01% by weight, 0.01% by weight zinc, and 0.01% by weight or less manganese.

【0049】(2)切削液 比抵抗が5kΩ/cmの水道水を用いた。(2) Cutting fluid Tap water having a specific resistance of 5 kΩ / cm was used.

【0050】(3)切削液の供給量 0.003ml/cm2となるように供給した。(3) The cutting fluid was supplied at a rate of 0.003 ml / cm 2 .

【0051】(4)工作機械 切削液の噴霧装置として「マジックカット」(扶桑精機
社製)を備えた、図1に示した基体加工用旋盤を用い
た。
(4) Machine tool The lathe for substrate processing shown in FIG. 1 equipped with "Magic Cut" (manufactured by Fuso Seiki Co., Ltd.) as a spraying device for cutting fluid was used.

【0052】(5)バイト 荒加工では、ノーズRが3mm、粒度が5μmの多結晶ダ
イヤモンド焼結体からなるバイトを使用した。
(5) Tool Bit For roughing, a tool bit composed of a polycrystalline diamond sintered body having a nose R of 3 mm and a grain size of 5 μm was used.

【0053】仕上げ加工では、平形状単結晶ダイアモン
ドからなるバイトを使用した。
In the finishing process, a bite made of a flat single crystal diamond was used.

【0054】(6)加工条件 荒加工では、主軸回転数を3000rpm、送りピッチを0.2mm
/rev、切込を0.2mmとした。
(6) Machining conditions In rough machining, the spindle speed is 3000 rpm and the feed pitch is 0.2 mm.
/ Rev, the depth of cut was 0.2 mm.

【0055】仕上げ加工では、主軸回転数を3000rpm、
送りピッチを0.2mm/rev、切込を20μmとした。以上の
ようにして、切削加工された基体表面を下記のようにし
て洗浄して表面処理された電子写真感光体基体を得た。
In the finishing process, the spindle speed is 3000 rpm,
The feed pitch was 0.2 mm / rev and the depth of cut was 20 μm. As described above, the surface of the substrate cut and processed was washed in the following manner to obtain a surface-treated electrophotographic photosensitive substrate.

【0056】(1)界面活性剤水溶液として表面張力が
28dyne/cmのラウリル硫酸ナトリウム水溶液を用いて、
ソニックフェロー社製の超音波洗浄装置(600W)によ
り超音波洗浄(周波数28kHz)を行った。
(1) The surface tension of the aqueous surfactant solution is
Using 28 dyne / cm sodium lauryl sulfate aqueous solution,
Ultrasonic cleaning (frequency 28 kHz) was performed using an ultrasonic cleaning device (600 W) manufactured by Sonic Fellow.

【0057】(2)次いで、純水を用いて、上記超音波
洗浄装置により超音波洗浄(周波数200kHz ) を行っ
た。
(2) Next, pure water was used to perform ultrasonic cleaning (frequency: 200 kHz) with the above ultrasonic cleaning device.

【0058】(3)その後、基体を純水に浸漬した。(3) Then, the substrate was immersed in pure water.

【0059】(4)さらに、ソニックフェロー社製の温
純水引上げ装置により、引上げ速度15mm/min、温度60
℃の条件で温純水引上げ乾燥を行った。
(4) Further, using a warm pure water pulling device manufactured by Sonic Fellow, a pulling speed of 15 mm / min and a temperature of 60
Hot water was pulled up and dried under the condition of ° C.

【0060】実施例2〜11 後記表1に示す条件としたほかは、実施例1と同様にし
て表面処理された電子写真感光体基体を得た。ただし、
表1の洗浄液の欄に記載したA〜Kは下記のものを表
す。
Examples 2 to 11 Surface-treated electrophotographic photoreceptor substrates were obtained in the same manner as in Example 1 except that the conditions shown in Table 1 below were used. However,
A to K described in the column of the cleaning liquid in Table 1 represent the following.

【0061】A:ラウリル硫酸ナトリウム(界面活性
剤)の水溶液 B:サパミンMS(陽イオン界面活性剤,Ciba製)
の水溶液 C:ステアリン酸エチレンオキサイド15モル付加物(界
面活性剤)の水溶液 D:ステアリルジメチルベタイン(界面活性剤)の水溶
液 E:RBS48S(界面活性剤と無機物の混合物,純正化
学社製)の水溶液 F:イオン交換水 G:ウラリル硫酸ナトリウム(界面活性剤)の水溶液
(Aの1/2濃度) H:サパミンMS(陽性イオン界面活性剤,Cide製)の
水溶液(Bの1/2濃度) I:ステアリン酸エチレンオキサイド15モル付加物(界
面活性剤)の水溶液(Cの1/2濃度) J:ステアリルジメチルベタイン(界面活性剤)の水溶
液(Dの1/2濃度) K:RBS48S(界面活性剤と無機物の混合物,純正化
学社製)の水溶液(Eの1/2濃度) 比較例1〜11 後記表1および表2に示す条件としたほかは、実施例1
と同様にして表面処理された電子写真感光体基体を得
た。
A: Aqueous solution of sodium lauryl sulfate (surfactant) B: Sapamine MS (cationic surfactant, manufactured by Ciba)
Aqueous solution C: Aqueous solution of ethylene oxide 15 mol of stearic acid (surfactant) D: Aqueous solution of stearyl dimethyl betaine (surfactant) E: Aqueous solution of RBS48S (mixture of surfactant and inorganic, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) F: Ion-exchanged water G: Aqueous solution of sodium ularyl sulfate (surfactant) (1/2 concentration of A) H: Sapamine MS (Positive ion surfactant, made by Cide) aqueous solution (1/2 concentration of B) I : Aqueous solution of 15 mol of ethylene oxide stearate (surfactant) (1/2 concentration of C) J: Aqueous solution of stearyl dimethyl betaine (surfactant) (1/2 concentration of D) K: RBS48S (Surfactant) Aqueous solution (mixture of agent and inorganic, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) (1/2 concentration of E) Comparative Examples 1 to 11 Example 1 except that the conditions shown in Tables 1 and 2 below
A surface-treated electrophotographic photoreceptor substrate was obtained in the same manner as in.

【0062】表2の切削液の欄に記載した「D 110」
は、パラフィン系炭化水素を54%、ナフテン系炭化水素
を46%含有してなる非水溶性の切削液である。
"D 110" described in the column of cutting fluid in Table 2
Is a water-insoluble cutting fluid containing 54% of paraffinic hydrocarbons and 46% of naphthenic hydrocarbons.

【0063】表中、水道水は比抵抗5kΩ/cmのものを
用い、単結晶とは単結晶ダイアモンドバイトを表す。
In the table, tap water having a specific resistance of 5 kΩ / cm is used, and a single crystal means a single crystal diamond bite.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】[0065]

【表2】 [Table 2]

【0066】実写評価 以上の実施例および比較例で得られた電子写真感光体基
体を用いて、下記のようにして、下引層、キャリア発生
層、キャリア輸送層を順に積層して、機能分離型の2層
構成の有機感光層を備えた電子写真感光体を作製した。
Evaluation of Actual Copy Using the electrophotographic photosensitive member substrates obtained in the above Examples and Comparative Examples, an undercoat layer, a carrier generating layer and a carrier transporting layer were sequentially laminated in the following manner to separate the functions. An electrophotographic photoreceptor having an organic photosensitive layer having a two-layer structure of a mold was produced.

【0067】(1)下引層 塗布溶剤として、トルエンと、2-ブタノン(MEK)と
を用い、バインダーとしてエルバックス4260(エチレン
系共重合体)を用いて、電子写真感光体基体上に乾燥後
の膜厚が 0.2μmの下引層を設けた。
(1) Undercoat layer Toluene and 2-butanone (MEK) were used as coating solvents, and Erbax 4260 (ethylene copolymer) was used as a binder, and dried on an electrophotographic photosensitive substrate. An undercoat layer having a film thickness of 0.2 μm was provided later.

【0068】(2)キャリア発生層 塗布溶剤として2-ブタノン(MEK)を用い、バインダ
ー(溶液)としてKR-5240(シリコーン樹脂)を用
い、キャリア発生物質としてτ型無金属フタロシアニン
を用いて、上記下引層の上に乾燥後の付着量が4mg/dm
2のキャリア発生層を設けた。
(2) Carrier Generation Layer 2-butanone (MEK) was used as a coating solvent, KR-5240 (silicone resin) was used as a binder (solution), and τ-type metal-free phthalocyanine was used as a carrier generation material. Adhesion amount after drying on subbing layer is 4 mg / dm
Two carrier generation layers were provided.

【0069】(3)キャリア輸送層 塗布溶剤として1,2-ジクロロエタンを用い、バインダー
としてユーピロンZ-200(ポリカーボネートBPZ)を
用い、キャリア輸送物質としてED-485(スチリルトリ
フェニルアミン系)を用い、酸化防止剤としてイルガノ
ックス-1010(ペンタエリスリル-テトラキス〔3-(3,5-
ジ-ターシャリブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオ
ネート〕)を用い、シリコーンオイルとしてKF-54
(1/10希釈液) を用いて、上記キャリア発生層の上に
乾燥後の膜厚が20μmのキャリア輸送層を設けた。
(3) Carrier Transport Layer 1,2-Dichloroethane was used as the coating solvent, Iupilon Z-200 (polycarbonate BPZ) was used as the binder, and ED-485 (styryltriphenylamine type) was used as the carrier transport material. Irganox-1010 (pentaerythryl-tetrakis [3- (3,5-
Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]) as a silicone oil KF-54
(1/10 diluted solution) was used to provide a carrier transport layer having a film thickness after drying of 20 μm on the carrier generation layer.

【0070】上記各電子写真感光体をコニカ社製のレー
ザープリンター「LP3115」に搭載して、反転現像法に
よりA4サイズの普通紙に画像を形成する実写テストを
行い、画質を評価した。なお、帯電電圧(VH)は、黒
点、黒ジマ、局部的カブリが出やすいように、450Vに
設定した。また、画質の評価は、黒点、黒ジマ、局部的
カブリがいずれも発生しない場合を◎、黒点が若干発生
したがカブリのない場合を○、黒点、黒ジマ、カブリが
発生した場合を×とした。以上の結果は表1および表2
に併せて示した。
Each of the above electrophotographic photoconductors was mounted on a laser printer "LP3115" manufactured by Konica Corporation, and a real-image test was conducted to form an image on A4 size plain paper by the reversal development method, and the image quality was evaluated. The charging voltage (V H ) was set to 450 V so that black spots, black stripes, and local fog were likely to occur. In addition, the evaluation of the image quality is ◎ when no black spots, black stripes, and local fog occur, ◯ when there are some black spots but no fog, and × when black spots, black stripes, and fog occur. did. The above results are shown in Table 1 and Table 2.
Are also shown.

【0071】実施例12 前記の基体No.1と同様に切削加工された基体表面を下
記のように洗浄して電子写真感光体基体を得た。
Example 12 The surface of the substrate which had been cut in the same manner as the substrate No. 1 was washed as follows to obtain an electrophotographic photosensitive substrate.

【0072】(1)水溶性有機溶剤として沸点が64.1℃
で比誘電率が32.0のメタノールを用いて、温度50℃で超
音波洗浄(周波数28kHz)を行った。
(1) Boiling point as a water-soluble organic solvent is 64.1 ° C.
Ultrasonic cleaning (frequency 28 kHz) was performed at a temperature of 50 ° C using methanol with a relative dielectric constant of 32.0.

【0073】(2)さらに、温度25℃で超音波洗浄(周
波数40kHz) を行った。
(2) Further, ultrasonic cleaning (frequency 40 kHz) was performed at a temperature of 25 ° C.

【0074】(3)その後、基体を温度74.1℃の蒸気に
より乾燥した。
(3) Thereafter, the substrate was dried with steam at a temperature of 74.1 ° C.

【0075】実施例13〜16 後記表3に示す条件としたほかは、実施例12と同様にし
て表面処理された電子写真感光体基体を得た。ただし、
表3の洗浄液の欄に記載したA〜Eおよびa〜cは下記
のものを表す。
Examples 13 to 16 Surface-treated electrophotographic photoreceptor substrates were obtained in the same manner as in Example 12 except that the conditions shown in Table 3 below were used. However,
A to E and a to c described in the column of the cleaning liquid in Table 3 represent the following.

【0076】A:メタノール B:エタノール C:1-プロパノール D:イソプロパノール E:アセトン a:1-ブタノール b:sec-ブタノール c:エチレングリコールモノエチルエーテル 比較例12〜14 後記表3に示す条件としたほかは、実施例12と同様にし
て表面処理された電子写真感光体基体を得た。
A: Methanol B: Ethanol C: 1-Propanol D: Isopropanol E: Acetone a: 1-Butanol b: sec-Butanol c: Ethylene glycol monoethyl ether Comparative Examples 12 to 14 The conditions are shown in Table 3 below. Other than the above, a surface-treated electrophotographic photosensitive member substrate was obtained in the same manner as in Example 12.

【0077】[0077]

【表3】 [Table 3]

【0078】実写評価 前記表1,2に結果を示した評価方法と同様にして実写
テストを行った。結果は表3に示すごとくであった。
Evaluation of Actual Image An actual image test was conducted in the same manner as the evaluation method whose results are shown in Tables 1 and 2 above. The results are shown in Table 3.

【0079】[0079]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の表
面処理方法によれば、切削加工においては水系切削液を
用いるので、アルミニウム切削粉、ほこりやごみ等の環
境異物等の基体表面への溶着や固着が有効に防止され、
洗浄工程においては水又は界面活性剤水溶液、又は、沸
点および比誘電率を規定した水溶性有機溶剤を洗浄液と
して用いるので、良好な洗浄性が発揮されると共に、フ
ロンや塩素系溶剤を用いた場合の環境汚染、作業安全
性、孔食腐食の問題が発生せず、黒点、黒スジ、黒ジ
マ、局部的カブリ等の画像欠陥の少ない電子写真感光体
基体が得られる。
As described in detail above, according to the surface treatment method of the present invention, since the water-based cutting fluid is used in the cutting process, the surface of the substrate such as aluminum cutting powder, environmental foreign matters such as dust and dust, etc. Effectively prevents welding and sticking of
In the washing process, water or a surfactant aqueous solution, or a water-soluble organic solvent having a specified boiling point and relative dielectric constant is used as the washing liquid, so that good washing properties are exhibited and when a CFC or chlorine-based solvent is used. The problem of environmental pollution, work safety and pitting corrosion does not occur, and an electrophotographic photoreceptor substrate having few image defects such as black spots, black lines, black stripes, and local fog can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】基体加工用旋盤の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a lathe for processing a substrate.

【図2】切削液の噴霧装置の拡大斜視図である。FIG. 2 is an enlarged perspective view of a cutting fluid spraying device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基体 2 マグネットベース 3 ホルダー 4 アトマイザー 5 噴霧ノズル 6 切削液容器 7 操作用空気弁 8 バイト 1 Base 2 Magnet Base 3 Holder 4 Atomizer 5 Spray Nozzle 6 Cutting Fluid Container 7 Air Valve for Operation 8 Bytes

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川田 直 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株式 会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Nao Kawada 2970 Ishikawacho, Hachioji City, Tokyo Konica Stock Company

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム系材料からなる電子写真感
光体基体の表面に水系切削液を供給しながら、当該基体
の表面を単結晶ダイヤモンドからなるバイトにより切削
加工した後、水もしくは界面活性剤水溶液からなる洗浄
液により当該基体の洗浄を行う事を特徴とする電子写真
感光体基体の洗浄方法。
1. A surface of an electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum-based material is supplied with an aqueous cutting liquid while the surface of the substrate is cut by a cutting tool made of single-crystal diamond, and then water or a surfactant aqueous solution is used. A method for cleaning an electrophotographic photosensitive member substrate, which comprises cleaning the substrate with a cleaning liquid comprising:
【請求項2】 アルミニウム系材料からなる電子写真感
光体基体の表面に水系切削液を供給しながら、当該基体
の表面を単結晶ダイヤモンドからなるバイトにより切削
加工した後、沸点が120℃以下、比誘電率が18以上の水
溶性有機溶剤により当該基体の洗浄を行う事を特徴とす
る電子写真感光体基体の洗浄方法。
2. An electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum-based material is supplied with a water-based cutting fluid while the surface of the substrate is cut by a cutting tool made of single crystal diamond, and then the boiling point is 120 ° C. or less, A method for cleaning an electrophotographic photoreceptor substrate, which comprises cleaning the substrate with a water-soluble organic solvent having a dielectric constant of 18 or more.
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