JPH07101559B2 - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents
Nonvolatile semiconductor memory deviceInfo
- Publication number
- JPH07101559B2 JPH07101559B2 JP10337388A JP10337388A JPH07101559B2 JP H07101559 B2 JPH07101559 B2 JP H07101559B2 JP 10337388 A JP10337388 A JP 10337388A JP 10337388 A JP10337388 A JP 10337388A JP H07101559 B2 JPH07101559 B2 JP H07101559B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bit line
- current
- conversion circuit
- voltage conversion
- dummy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 36
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、EPROM,EEPROM等の不揮発性半導体記憶装置
に関し、特にそのセンスアンプに関するものである。The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device such as EPROM, EEPROM, etc., and particularly to a sense amplifier thereof.
第4図に、従来のEEPROMのセンスアンプ部を示す。1ビ
ットのメモリセルは、ゲートワード線1に接続された選
択トランジスタ2とフローティングゲートを有するメモ
リトランジスタ3から構成される。メモリトランジスタ
3のゲート(コントロールゲート)はゲートがワード線
1に接続された選択トランジスタ4を介してコントロー
ルゲート線5に接続され、選択トランジスタ2のドレイ
ンはビット線6に接続される。ビット線6,コントロール
ゲート線5は、ゲートにYゲート信号7が入力されるト
ランジスタ8,9を介して、各々I/O線10,CG線11に接続さ
れる。センスアンプは、電流−電圧変換回路12と第1,第
2のインバータ13,14から構成される。FIG. 4 shows a sense amplifier section of a conventional EEPROM. A 1-bit memory cell is composed of a selection transistor 2 connected to a gate word line 1 and a memory transistor 3 having a floating gate. The gate (control gate) of the memory transistor 3 is connected to the control gate line 5 via the selection transistor 4 whose gate is connected to the word line 1, and the drain of the selection transistor 2 is connected to the bit line 6. The bit line 6 and the control gate line 5 are connected to the I / O line 10 and the CG line 11, respectively, through the transistors 8 and 9 whose gates receive the Y gate signal 7. The sense amplifier comprises a current-voltage conversion circuit 12 and first and second inverters 13 and 14.
次に動作について説明する。EEPROMメモリトランジスタ
3は、フローティングゲートに電子が蓄えられているか
否かによって2値情報を記憶する。電子が蓄えられてい
るとメモリトランジスタのしきい値は高くなり、読出し
時オフする。この状態を“1"が記憶されているとする。
電子が蓄えられていないとメモリトランジスタのしきい
値は負となり、読出し時オンする。この状態を“0"が記
憶されているとする。選択されたメモリセルのメモリト
ランジスタ3に電流が流されるか否かを、電流−電圧検
出回路12で検出する。電流が流れないと電源電圧程度の
電圧を出力し、電流が流れると1V程度を出力する。この
出力をインバータ13,14で増幅する。Next, the operation will be described. The EEPROM memory transistor 3 stores binary information depending on whether or not electrons are stored in the floating gate. When electrons are stored, the threshold value of the memory transistor becomes high, and it turns off during reading. In this state, "1" is stored.
If electrons are not stored, the threshold value of the memory transistor becomes negative, and it turns on during reading. In this state, "0" is stored. The current-voltage detection circuit 12 detects whether or not a current is passed through the memory transistor 3 of the selected memory cell. When the current does not flow, it outputs a voltage of about the power supply voltage, and when the current flows, it outputs about 1V. This output is amplified by the inverters 13 and 14.
第6図に、電流−電圧変換回路の一例を示す。ゲートが
接地されたPチャネルMOSトランジスタ15,18と、Nチャ
ネルMOSトランジスタ16,17,19から構成される。情報
“0"が読出されている時には、ノードaの電位は定常状
態においてほぼ1.0Vとなる。これによってトランジスタ
16は多少オンの状態となり、ノードbの電位は例えばほ
ぼ2Vとなる。そのためトランジスタ17,19が多少オンす
るが、18のオン抵抗が19に比べて大きく設定されている
ため、出力▲▼の電位はノードaの電位と同程度と
なる。すなわち1V程度となる。FIG. 6 shows an example of the current-voltage conversion circuit. It is composed of P-channel MOS transistors 15, 18 whose gates are grounded and N-channel MOS transistors 16, 17, 19. When the information "0" is read, the potential of the node a becomes approximately 1.0 V in the steady state. This makes the transistor
16 is turned on to some extent, and the potential of the node b becomes, for example, approximately 2V. Therefore, the transistors 17 and 19 are turned on to some extent, but since the on resistance of 18 is set to be larger than that of 19, the potential of the output {circle around ()} is approximately the same as the potential of the node a. That is, it is about 1V.
一方、“1"が書込まれている時は、ノードaの電位は例
えばほぼ1.1Vとなっている。このためノードbの電位は
約1.8Vとなり、トランジスタ17,19のゲート・ソース間
電位は約0.7Vとなり、これらのトランジスタ17,19はオ
フする。これにより、出力▲▼の電位はトランジス
タ18により5Vまで引上げられる。On the other hand, when "1" is written, the potential of the node a is, for example, about 1.1V. Therefore, the potential of the node b becomes about 1.8V, the gate-source potential of the transistors 17, 19 becomes about 0.7V, and these transistors 17, 19 are turned off. As a result, the potential of the output ▲ ▼ is raised to 5V by the transistor 18.
また、第5図に他の従来例を示す。リファレンス回路を
設け、メモリセル側の電流−電圧変換回路12出力の
“L",“H"の中間レベルが出力されるように、リファレ
ンス側の電流−電圧変換回路12aの特性を設定する。た
だし、このような回路はEPROMにしか用いられておら
ず、リファレンスセルを必要とするためEEPROMに適用す
ることは困難である。Further, another conventional example is shown in FIG. A reference circuit is provided, and the characteristics of the current-voltage conversion circuit 12a on the reference side are set so that the intermediate level between "L" and "H" of the current-voltage conversion circuit 12 output on the memory cell side is output. However, such a circuit is used only in EPROM and requires a reference cell, so it is difficult to apply it to EEPROM.
従来の不揮発性半導体記憶装置は以上のように構成され
ているため、アドレスが切換り“0"が記憶されているセ
ルを読出している状態から“1"が記憶されているセルを
読出す状態に切換った時、I/O線,ビット線の充電に時
間がかかりセンスアンプ出力の反転が遅れるという問題
点があった。また、差動増幅器を用いる方式は、EEPROM
に適用することが困難であるという問題点があった。Since the conventional nonvolatile semiconductor memory device is configured as described above, the state in which the address is switched and the cell in which "0" is stored is read out from the cell in which "1" is stored is read out. When switched to, there is a problem that it takes time to charge the I / O lines and bit lines, and the inversion of the sense amplifier output is delayed. In addition, the method using the differential amplifier is EEPROM
There is a problem that it is difficult to apply to.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、高速アクセスの可能なセンスアンプを有し、
EEPROMにも適用可能な不揮発性半導体記憶装置を得るこ
とを目的とする。The present invention has been made to solve the above problems, and has a sense amplifier capable of high speed access,
An object is to obtain a non-volatile semiconductor memory device that can be applied to EEPROM.
この発明に係る不揮発性半導体記憶装置は、ダミーI/O
線及びダミービット線と、ビット線及び上記ダミービッ
ト線にそれぞれ接続され、アドレス変化により該ビット
線及びダミービット線をリセットするリセット用トラン
ジスタと、上記ビット線に接続される電流−電圧変換回
路の出力と上記ダミービット線に接続される電流−電圧
変換回路の出力とを入力とし、上記リセット動作から所
定時間経過後に活性化される差動増幅器とを備え、か
つ、上記ダミービット線に接続される電流−電圧変換回
路の出力ノードと電源電位間に設けられた負荷抵抗の抵
抗値を、上記ビット線に接続される電流−電圧変換回路
の出力ノードと電源電位間に設けられた負荷抵抗の抵抗
値よりも高く設定し、上記ダミービット線に接続される
電流−電圧変換回路の特性は、上記ビット線に接続され
る電流−電圧変換回路の特性と異ならしめたものであ
る。The nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention is a dummy I / O.
A line and a dummy bit line, a reset transistor connected to the bit line and the dummy bit line, respectively, for resetting the bit line and the dummy bit line by an address change, and a current-voltage conversion circuit connected to the bit line. An output and an output of the current-voltage conversion circuit connected to the dummy bit line are input, a differential amplifier activated after a predetermined time has elapsed from the reset operation, and connected to the dummy bit line. The resistance value of the load resistance provided between the output node of the current-voltage conversion circuit and the power supply potential is determined by the resistance value of the load resistance provided between the output node of the current-voltage conversion circuit connected to the bit line and the power supply potential. The characteristic of the current-voltage conversion circuit that is set higher than the resistance value and that is connected to the dummy bit line is the current-voltage conversion circuit connected to the bit line. Those which made different from the characteristics.
この発明においては、ダミーI/O線及びダミービット線
と、ビット線及び上記ダミービット線にそれぞれ接続さ
れ、アドレス変化により該ビット線及びダミービット線
をリセットするリセット用トランジスタと、上記ビット
線に接続される電流−電圧変換回路の出力と上記ダミー
ビット線に接続される電流−電圧変換回路の出力とを入
力とし、上記リセット動作から所定時間経過後に活性化
される差動増幅器とを備え、かつ、上記ダミービット線
に接続される電流−電圧変換回路の出力ノードと電源電
位間に設けられた負荷抵抗の抵抗値を、上記ビット線に
接続される電流−電圧変換回路の出力ノードと電源電位
間に設けられた負荷抵抗の抵抗値よりも高く設定し、上
記ダミービット線に接続される電流−電圧変換回路の特
性を、上記ビット線に接続される電流−電圧変換回路の
特性と異ならしめた構成としたから、アドレス変化時に
ビット線,及びダミービット線をリセットし、その後ビ
ット線に接続される電流−電圧変換回路の出力とダミー
ビット線に接続される電流−電圧変換回路の出力とを差
動増幅することにより、リファレンスセルを必要とせず
に高速アクセスが可能となる。In the present invention, a dummy I / O line and a dummy bit line, a reset transistor connected to the bit line and the dummy bit line, respectively, for resetting the bit line and the dummy bit line by an address change, and the bit line An output of the connected current-voltage conversion circuit and an output of the current-voltage conversion circuit connected to the dummy bit line are input, and a differential amplifier activated after a predetermined time has elapsed from the reset operation is provided. The resistance value of the load resistance provided between the output node of the current-voltage conversion circuit connected to the dummy bit line and the power supply potential is set to the output node of the current-voltage conversion circuit connected to the bit line and the power supply. The characteristic of the current-voltage conversion circuit connected to the dummy bit line is set to be higher than the resistance value of the load resistance provided between the potentials. Since the configuration differs from the characteristics of the connected current-voltage conversion circuit, the bit line and the dummy bit line are reset when the address changes, and then the output of the current-voltage conversion circuit connected to the bit line and the dummy bit. By differentially amplifying the output of the current-voltage conversion circuit connected to the line, high-speed access becomes possible without requiring a reference cell.
以下、この発明の一実施例を図について説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図は、この発明の一実施例による不揮発性半導体記
憶装置のセンスアンプ部を示す図である。ダミーI/O線2
0が設けられ、リファレンス側の電流−電圧変換回路21
に接続される。ダミーI/O線20にはゲートに信号YGが入
力されるトランジスタ22のドレインが接続され、トラン
ジスタ22のソースにはダミービット線23が接続される。
すべてのビット線6,ダミービット線23に、リセット用信
号RSTがゲートに入力されるリセット用トランジスタ24,
25が接続される。電流−電圧変換回路12,21の出力は、
ゲートに信号VTが入力されるトランジスタ26,27を介し
て、トランジスタ28〜31から構成される差動増幅器に入
力される。PチャネルMOSトランジスタ28,30のソース
は、ゲートに信号▲▼が入力されるPチャネルMOS
トランジスタ32を介して電源に接続される。トランジス
タ29,31のソースは、ゲートに信号S0が入力されるトラ
ンジスタ33を介して接地される。差動増幅器の2つのノ
ードN1,N2は、ゲート信号RSTが入力されるトランジスタ
34,35を介して接地される。差動増幅器の出力RD,▲
▼は、ゲートに信号SDTが入力されるトランジスタ36,37
を介して取り出される。FIG. 1 is a diagram showing a sense amplifier section of a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. Dummy I / O line 2
0 is provided, and the reference side current-voltage conversion circuit 21
Connected to. The dummy I / O line 20 is connected to the drain of the transistor 22 whose gate receives the signal YG, and the source of the transistor 22 is connected to the dummy bit line 23.
A reset transistor 24 whose reset signal RST is input to the gates of all the bit lines 6 and dummy bit lines 23,
25 are connected. The outputs of the current-voltage conversion circuits 12 and 21 are
The signal VT is input to the differential amplifier including transistors 28 to 31 via the transistors 26 and 27 whose gates are input. The sources of the P-channel MOS transistors 28, 30 are P-channel MOS whose signals are input to the gates.
It is connected to the power supply through the transistor 32. The sources of the transistors 29 and 31 are grounded via the transistor 33 whose gate receives the signal S 0 . The two nodes N1 and N2 of the differential amplifier are transistors to which the gate signal RST is input.
Grounded via 34 and 35. Output RD of differential amplifier, ▲
▼ indicates transistors 36 and 37 whose signal SDT is input to the gate
Taken out through.
次に動作について説明する。第2図に第1図に示した装
置のクロックタイミングダイアグラム、第3図にそのシ
ミュレーション結果を示す。入力アドレスが変化した
時、これを検知してATDパルスが出る(回路は図示せ
ず)。この信号によりRST信号が“H"となり、すべての
ビット線6,ダミービット線23が接地される。その後信号
YGが“H"となり、同時に選択されたYゲート信号7が
“H"となり、電流−電圧変換回路12,21がビット線6,ダ
ミービット線23に接続される。これによりビット線6,ダ
ミーセット線23は、電流−電圧変換回路12,21により充
電されはじめる。選択されたメモリセルに“1"が書込ま
れておれば、ビット線6の充電が終った後、徐々に電流
−電圧変換回路12の出力(ノードN3)電位が上昇してい
く。また“0"が書込まれておれば、ノードN3の電位は低
いままである。Next, the operation will be described. FIG. 2 shows a clock timing diagram of the apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 3 shows the simulation result. When the input address changes, this is detected and an ATD pulse is output (the circuit is not shown). This signal causes the RST signal to go to "H", and all bit lines 6 and dummy bit lines 23 are grounded. Then signal
YG becomes "H", the selected Y gate signal 7 becomes "H" at the same time, and the current-voltage conversion circuits 12 and 21 are connected to the bit line 6 and the dummy bit line 23. As a result, the bit line 6 and the dummy set line 23 are started to be charged by the current-voltage conversion circuits 12 and 21. If “1” is written in the selected memory cell, the output (node N3) potential of the current-voltage conversion circuit 12 gradually rises after the charging of the bit line 6 is completed. If "0" is written, the potential of the node N3 remains low.
一方、リファレンス側は、電流−電圧変換回路21の負荷
トランジスタ(第6図で示したトランジスタ18)のサイ
ズがメモリセル側の電流−電圧変換回路12のものよりも
小さく設定されているので、ノードN4の電位は“1"読出
し時のノードN3よりもゆっくりと上昇する。ノードN4の
レベルは、“1"読出し時,“0"読出し時のノードN3のレ
ベルの中間となる。ノードN3とノードN4の電位差がつい
たところで、▲▼=“L"(S0=“H")として差動増
幅器を活性化させ、ノードN3,N4の電位差を増幅する。
ただし、この時信号VTは“L"となりい、電流−電圧変換
回路12,21と差動増幅器は切離される。なお、ダミーI/O
線20,ダミービット線23のレイアウト,浮遊容量は、I/O
線10,ビット線6とほぼ同一に設定される。On the other hand, on the reference side, the size of the load transistor (transistor 18 shown in FIG. 6) of the current-voltage conversion circuit 21 is set to be smaller than that of the current-voltage conversion circuit 12 on the memory cell side. The potential of N4 rises more slowly than the node N3 when reading "1". The level of the node N4 is in the middle of the level of the node N3 when "1" is read and when "0" is read. When the potential difference between the node N3 and the node N4 is reached, the differential amplifier is activated by setting ▲ ▼ = "L" (S 0 = "H"), and the potential difference between the nodes N3 and N4 is amplified.
However, at this time, the signal VT does not become "L", and the current-voltage conversion circuits 12 and 21 and the differential amplifier are disconnected. In addition, dummy I / O
Layout of line 20 and dummy bit line 23, stray capacitance is I / O
The line 10 and the bit line 6 are set to be almost the same.
このように、本実施例におるリファレンス側の電流−電
圧変換回路は、アドレスが変化し読出しデータが変化す
る時に、メモリセル側の電流−電圧変換回路の出力“L"
/“H"の中間電位を出力する。さらに、本実施例による
装置では、アドレス変化があって所定時間後に差動増幅
器が活性化されることにより、急速に電位差が増幅され
る。従って、アドレスが切換ってもセンスアンプ出力の
反転が遅れることはなく、また、リファレンス側にリフ
ァレンスセルを必要としないのでEPROMのみならずEEPRO
Mに用いることもできる。As described above, the current-voltage conversion circuit on the reference side in this embodiment outputs “L” from the current-voltage conversion circuit on the memory cell side when the address changes and the read data changes.
/ Outputs the intermediate potential of "H". Furthermore, in the device according to the present embodiment, the potential difference is rapidly amplified by activating the differential amplifier after a predetermined time when the address changes. Therefore, even if the address is switched, the inversion of the sense amplifier output is not delayed, and since a reference cell is not required on the reference side, not only EPROM but also EEPRO
It can also be used for M.
以上のように、この発明に係る不揮発性半導体記憶装置
によれば、リファレンス側にダミーI/O線,ダミービッ
ト線を設け、アドレス変化時にすべてのビット線,ダミ
ービット線をリセットし、センス出力をレベル差がつい
てから差動増幅器で急速に増幅するよう構成したので、
高速アクセスが可能であり、EEPROMにも適用可能なもの
が得られるという効果がある。As described above, according to the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, the dummy I / O line and the dummy bit line are provided on the reference side, all the bit lines and the dummy bit line are reset when the address changes, and the sense output is generated. Since it was configured to amplify rapidly with a differential amplifier after the level difference was attached,
High-speed access is possible, and there is an effect that the one applicable to EEPROM can be obtained.
第1図は本発明の一実施例による不揮発性半導体記憶装
置を示す図、第2図はそのクロックタイミングダイアグ
ラムを示す図、第3図はそのシミュレーション結果を示
す図、第4図は従来の不揮発性半導体記憶装置を示す
図、第5図は従来の他の不揮発性半導体記憶装置を示す
図、第6図は電流−電圧変換回路の一例を示す図であ
る。 6はビット線、12,21は電流−電圧変換回路、20はダミ
ーI/O線、23はダミービット線、24,25はリセット用トラ
ンジスタ。 なお、図中同一符号は同一又は相当部分を示す。FIG. 1 is a diagram showing a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a clock timing diagram thereof, FIG. 3 is a diagram showing simulation results thereof, and FIG. 4 is a conventional nonvolatile memory device. FIG. 5 is a diagram showing a conventional semiconductor memory device, FIG. 5 is a diagram showing another conventional nonvolatile semiconductor memory device, and FIG. 6 is a diagram showing an example of a current-voltage conversion circuit. 6 is a bit line, 12 and 21 are current-voltage conversion circuits, 20 is a dummy I / O line, 23 is a dummy bit line, and 24 and 25 are reset transistors. The same reference numerals in the drawings indicate the same or corresponding parts.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林越 正紀 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 宮脇 好和 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masanori Hayashikoshi 4-1-1 Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture LS Electric Co., Ltd. LSE Research Laboratory (72) Inventor Yoshikazu Miyawaki 4-Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture No. 1 Mitsubishi Electric Corporation LSI Research Center
Claims (1)
アドレス変化により該ビット線及びダミービット線をリ
セットするリセット用トランジスタと、 上記ビット線に接続される電流−電圧変換回路の出力と
上記ダミービット線に接続される電流−電圧変換回路の
出力とを入力とし、上記リセット動作から所定時間経過
後に活性化される差動増幅器とを備え、 上記ダミービット線に接続される電流−電圧変換回路の
出力ノードと電源電位間に設けられた負荷抵抗の抵抗値
が、上記ビット線に接続される電流−電圧変換回路の出
力ノードと電源電位間に設けられた負荷抵抗の抵抗値よ
りも高く設定されており、上記ダミービット線に接続さ
れる電流−電圧変換回路の特性は、上記ビット線に接続
される電流−電圧変換回路の特性と異なるものであるこ
とを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。1. A dummy I / O line and a dummy bit line, and a bit line and the dummy bit line, respectively,
A reset transistor for resetting the bit line and the dummy bit line by an address change, an output of the current-voltage conversion circuit connected to the bit line and an output of the current-voltage conversion circuit connected to the dummy bit line. A resistance of a load resistor provided between the output node of the current-voltage conversion circuit connected to the dummy bit line and the power supply potential, the differential resistance being an input and activated after a predetermined time has elapsed from the reset operation. The value is set higher than the resistance value of the load resistance provided between the output node of the current-voltage conversion circuit connected to the bit line and the power supply potential, and the current-voltage connected to the dummy bit line. A characteristic of the conversion circuit is different from that of the current-voltage conversion circuit connected to the bit line.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10337388A JPH07101559B2 (en) | 1988-04-26 | 1988-04-26 | Nonvolatile semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10337388A JPH07101559B2 (en) | 1988-04-26 | 1988-04-26 | Nonvolatile semiconductor memory device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01276493A JPH01276493A (en) | 1989-11-07 |
JPH07101559B2 true JPH07101559B2 (en) | 1995-11-01 |
Family
ID=14352303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10337388A Expired - Lifetime JPH07101559B2 (en) | 1988-04-26 | 1988-04-26 | Nonvolatile semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07101559B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100962027B1 (en) | 2008-11-12 | 2010-06-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | Sensing Enable Signal Control Circuit of Semiconductor Memory Device |
-
1988
- 1988-04-26 JP JP10337388A patent/JPH07101559B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01276493A (en) | 1989-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3416062B2 (en) | Content addressable memory (CAM) | |
US4973864A (en) | Sense circuit for use in semiconductor memory | |
US5243573A (en) | Sense amplifier for nonvolatile semiconductor storage devices | |
US4933906A (en) | Non-volatile semiconductor memory device | |
US4062000A (en) | Current sense amp for static memory cell | |
US7590003B2 (en) | Self-reference sense amplifier circuit and sensing method | |
JPH048878B2 (en) | ||
WO1992002933A1 (en) | Bit storage cell | |
JPH02201797A (en) | semiconductor memory device | |
JPH0666115B2 (en) | Semiconductor memory device | |
JPS5833638B2 (en) | memory device | |
JP2662822B2 (en) | Semiconductor storage device | |
JP3188608B2 (en) | Sense circuit for detecting charge transfer via access transistor in DRAM | |
KR950005171B1 (en) | Current mirror amplifier circuit and driving method thereof | |
JPH0814994B2 (en) | Semiconductor memory device | |
US5815450A (en) | Semiconductor memory device | |
JPH0883491A (en) | Data read-out circuit | |
JP3583052B2 (en) | Semiconductor storage device | |
US7123529B1 (en) | Sense amplifier including multiple conduction state field effect transistor | |
JPH07101559B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
US5438551A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JPH0217872B2 (en) | ||
JPS6160519B2 (en) | ||
JP2984045B2 (en) | Semiconductor storage device | |
JPH0482093A (en) | Nonvolatile semiconductor memory |