JPH069285Y2 - レ−ザ測長装置 - Google Patents
レ−ザ測長装置Info
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- JPH069285Y2 JPH069285Y2 JP12634287U JP12634287U JPH069285Y2 JP H069285 Y2 JPH069285 Y2 JP H069285Y2 JP 12634287 U JP12634287 U JP 12634287U JP 12634287 U JP12634287 U JP 12634287U JP H069285 Y2 JPH069285 Y2 JP H069285Y2
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はレーザ光により大寸法のタービンロータ，水
車，ケーシング等の被測定物の外径寸法や長さ等を測長
するレーザ測長装置に関する。
車，ケーシング等の被測定物の外径寸法や長さ等を測長
するレーザ測長装置に関する。
従来のこの種レーザ測長装置としては、第３図に示すよ
うな構成のものが採用されている。すなわち、第３図に
おいて、１はレーザ光源、２は干渉部、３は信号処理
部、４は反射鏡、５は被測定物である。
うな構成のものが採用されている。すなわち、第３図に
おいて、１はレーザ光源、２は干渉部、３は信号処理
部、４は反射鏡、５は被測定物である。
かかる構成において、被測定物５の寸法ｌを測長するに
はレーザ光源１から発振されたレーザ光のビーム径を干
渉部２内に設けた凹面鏡で拡大し、被測定物５のＸ端面
及びＹ端面に密着させた反射鏡あるいは鏡面仕上げをし
た反射物４（本例ではＸ端面は被測定物、Ｙ端面に反射
鏡）に当てることによって被測定物５のＸ端面とＹ端面
の反射鏡あるいは反射物４から反射光を得る。この反射
光が干渉部２に戻ると、干渉部２に設けられたスキャニ
ングミラーからの反射光と干渉させることによって、干
渉縞信号を得ることができ、これを信号処理部３に入力
して信号処理を行なうことで、元の波長より長い合成波
長信号を発生させ、被測定物５のＸ端面、Ｙ端面からの
２つの信号の位相差を求めることで被測定物５の寸法ｌ
を測長することができる。
はレーザ光源１から発振されたレーザ光のビーム径を干
渉部２内に設けた凹面鏡で拡大し、被測定物５のＸ端面
及びＹ端面に密着させた反射鏡あるいは鏡面仕上げをし
た反射物４（本例ではＸ端面は被測定物、Ｙ端面に反射
鏡）に当てることによって被測定物５のＸ端面とＹ端面
の反射鏡あるいは反射物４から反射光を得る。この反射
光が干渉部２に戻ると、干渉部２に設けられたスキャニ
ングミラーからの反射光と干渉させることによって、干
渉縞信号を得ることができ、これを信号処理部３に入力
して信号処理を行なうことで、元の波長より長い合成波
長信号を発生させ、被測定物５のＸ端面、Ｙ端面からの
２つの信号の位相差を求めることで被測定物５の寸法ｌ
を測長することができる。
このような従来のレーザ測長装置においては次のような
問題点がある。
問題点がある。
（１）被測定物の端面に反射物４を精度良く密に接触さ
せることが困難である。
せることが困難である。
（２）第４図に示すように被測定物５の外径寸法Ｄを測
長する場合、両端面に反射鏡４−１，４−２を精度良く
設置することが困難である。
長する場合、両端面に反射鏡４−１，４−２を精度良く
設置することが困難である。
（３）第５図に示すように被測定物５の外径を測長する
とき反射面を被測定物の一端を利用するときでもレーザ
光のビーム径を大きくする必要があるために測長が困難
になる。
とき反射面を被測定物の一端を利用するときでもレーザ
光のビーム径を大きくする必要があるために測長が困難
になる。
本考案は被測定物の外径寸法や長さを容易に測長でき、
しかも効率良く、高精度に絶対測長することができるレ
ーザ測長装置を提供することを目的とする。
しかも効率良く、高精度に絶対測長することができるレ
ーザ測長装置を提供することを目的とする。
本考案は上記のような目的を達成するため、レーザ光源
と、被測定物体の両端測定点を挟み込むノギス型構造に
して設けられた１対のセッティング台と、前記レーザ光
源から発振されるレーザ光を半透明鏡を介して反射光と
透過光との２系統に分割しその透過光を被測定物の一端
測定点に当て、また反射光を反射鏡を介して前記被測定
物の他端測定点に当てる光学系と、光源を有しこの光源
からの光を前記１対のセッティング台にそれぞれ設けら
れた反射鏡に当てその反射光から前記被測定物の概略長
さ，概略外径寸法を測長する測距計と、前記１対のセッ
ティング台にそれぞれ設けられた反射鏡からの反射光を
入射し光の位置を検出して前記セッティング台の傾きを
判別する手段と、前記被測定物からの反射光を干渉部を
介して入力し前記被測定物の長さ，外径寸法等を測長す
るに必要な信号に処理する信号処理部とを備えたことを
特徴としている。
と、被測定物体の両端測定点を挟み込むノギス型構造に
して設けられた１対のセッティング台と、前記レーザ光
源から発振されるレーザ光を半透明鏡を介して反射光と
透過光との２系統に分割しその透過光を被測定物の一端
測定点に当て、また反射光を反射鏡を介して前記被測定
物の他端測定点に当てる光学系と、光源を有しこの光源
からの光を前記１対のセッティング台にそれぞれ設けら
れた反射鏡に当てその反射光から前記被測定物の概略長
さ，概略外径寸法を測長する測距計と、前記１対のセッ
ティング台にそれぞれ設けられた反射鏡からの反射光を
入射し光の位置を検出して前記セッティング台の傾きを
判別する手段と、前記被測定物からの反射光を干渉部を
介して入力し前記被測定物の長さ，外径寸法等を測長す
るに必要な信号に処理する信号処理部とを備えたことを
特徴としている。
このような構成のレーザ測長装置にあっては、被測定物
を１対のセッティング台で挟み込むノギス型構造にして
被測定物に密接させ、且つ半透明鏡によりレーザ光源か
ら発振させるレーザ光を反射光と透過光との２系統に分
割しその透過光を被測定物の一端測定点に当て、また反
射光を反射鏡を介して被測定物の他端測定点に当てて被
測定物の両端面から直接且つ同時に反射光が得られるの
で、容易にしかも効率良く被測定物の外径寸法や長さを
測長することができる。また、測距計からの光を１対の
セッティング台に設けられた反射鏡に当ててその反射光
から被測定物の概略長さ，概略寸法を測長することがで
き、しかもその反射光から光の位置を検出することでセ
ッティング台が傾いているか否かを判別し、傾いている
場合にはその傾きを調整できるので、被測定物の外径寸
法や長さを高精度に絶対測長することが可能となる。
を１対のセッティング台で挟み込むノギス型構造にして
被測定物に密接させ、且つ半透明鏡によりレーザ光源か
ら発振させるレーザ光を反射光と透過光との２系統に分
割しその透過光を被測定物の一端測定点に当て、また反
射光を反射鏡を介して被測定物の他端測定点に当てて被
測定物の両端面から直接且つ同時に反射光が得られるの
で、容易にしかも効率良く被測定物の外径寸法や長さを
測長することができる。また、測距計からの光を１対の
セッティング台に設けられた反射鏡に当ててその反射光
から被測定物の概略長さ，概略寸法を測長することがで
き、しかもその反射光から光の位置を検出することでセ
ッティング台が傾いているか否かを判別し、傾いている
場合にはその傾きを調整できるので、被測定物の外径寸
法や長さを高精度に絶対測長することが可能となる。
以下本考案の一実施例を図面を参照して説明する。
第１図は本考案によるレーザ測長装置の構成例を示すも
のであり、第３図と同一部品には同一記号を付して示
し、ここではその説明を省略する。第１図に示すように
例えばタービンロータからなる被測定物５の両端測定点
Ｘ，Ｙを挟んで１対のセッティング台１０−１，１０−
２がノギス型構造にして設けられ、またこれらセッティ
ング台１０−１，１０−２の下部には傾き調整台１１−
１，１１−２がそれぞれ設けられている。この場合、一
方のセッティング台１０−１は固定されており、他方の
セッティング台１０−２は水平方向に移動可能になって
いる。また、レーザ光源１から干渉部２を介して被測定
物５の一端測定点に至るレーザ光路の途中に半透明鏡８
−２が設けられている。一方のセッティング台１０−１
には半透明鏡８−２の透過光を２系統に分割してその透
過光を被測定物５の一端測定点Ｘに当てる半透明鏡８−
３が設けられると共に半透明鏡８−３の反射光を他方の
セッティング台１０−２方向に回折する反射鏡１２−１
が設けられている。さらに、他方のセッティング台１０
−２には反射鏡１２−１からの反射光を被測定物５の他
端測定点Ｙに当てる反射鏡１２−２，１２−３がそれぞ
れ設けられている。そして、セッティング台１０−１の
レーザ光入射部より若干軸方向にずれた位置に反射鏡９
−１が設けられ、また反射鏡１２−１から反射される反
射光が入射される他方のセッティング台１０−２のレー
ザ光入射部より若干軸方向にずれた位置にも反射鏡９−
２が設けられている。この場合、反射鏡９−１は傾き調
整台１１−１の調整を行うときのみ設けられ、また反射
鏡９−２は傾き調整台１１−２の調整を行うときのみ設
けられる。一方、６はレーザ光源１とは別光源を有する
測距計で、この測定距計６は光を半透明鏡８−１を介し
て前述した半透明鏡８−２に当て、さらに反射鏡９−
１，９−２に当ててその反射光を元の光路を通して戻し
入射することにより、被測定物５の概略外径寸法を測長
するものである。また、７は反射鏡９−１，９−２から
の反射光を半透明鏡８−１を介して入射される半導体位
置検出素子（以下ＰＳＤと略称する）カメラで、このＰ
ＳＤカメラ７は反射鏡９−１，９−２の反射光から２次
元で光の位置を検出するものである。ここで、ＰＳＤカ
メラとは高感度の大型ＰＩＮシリコンフォトダイオード
の両面に均一な抵抗層（Ｐ層とＮ層）を生成させ、それ
ぞれに対向した電極を設けたもので、このＰＳＤの受光
面にレンズを介してＬＥＤの光スポットを結像させる
と、結像位置より光電流を生じ、この電流は両面の抵抗
層を通ってそれぞれの電極へ出力されるものである。こ
の場合、対向した電極から取出される電流は光スポット
の結像位置からそれぞれの電極までの抵抗値、すなわち
距離によって分割出力される。
のであり、第３図と同一部品には同一記号を付して示
し、ここではその説明を省略する。第１図に示すように
例えばタービンロータからなる被測定物５の両端測定点
Ｘ，Ｙを挟んで１対のセッティング台１０−１，１０−
２がノギス型構造にして設けられ、またこれらセッティ
ング台１０−１，１０−２の下部には傾き調整台１１−
１，１１−２がそれぞれ設けられている。この場合、一
方のセッティング台１０−１は固定されており、他方の
セッティング台１０−２は水平方向に移動可能になって
いる。また、レーザ光源１から干渉部２を介して被測定
物５の一端測定点に至るレーザ光路の途中に半透明鏡８
−２が設けられている。一方のセッティング台１０−１
には半透明鏡８−２の透過光を２系統に分割してその透
過光を被測定物５の一端測定点Ｘに当てる半透明鏡８−
３が設けられると共に半透明鏡８−３の反射光を他方の
セッティング台１０−２方向に回折する反射鏡１２−１
が設けられている。さらに、他方のセッティング台１０
−２には反射鏡１２−１からの反射光を被測定物５の他
端測定点Ｙに当てる反射鏡１２−２，１２−３がそれぞ
れ設けられている。そして、セッティング台１０−１の
レーザ光入射部より若干軸方向にずれた位置に反射鏡９
−１が設けられ、また反射鏡１２−１から反射される反
射光が入射される他方のセッティング台１０−２のレー
ザ光入射部より若干軸方向にずれた位置にも反射鏡９−
２が設けられている。この場合、反射鏡９−１は傾き調
整台１１−１の調整を行うときのみ設けられ、また反射
鏡９−２は傾き調整台１１−２の調整を行うときのみ設
けられる。一方、６はレーザ光源１とは別光源を有する
測距計で、この測定距計６は光を半透明鏡８−１を介し
て前述した半透明鏡８−２に当て、さらに反射鏡９−
１，９−２に当ててその反射光を元の光路を通して戻し
入射することにより、被測定物５の概略外径寸法を測長
するものである。また、７は反射鏡９−１，９−２から
の反射光を半透明鏡８−１を介して入射される半導体位
置検出素子（以下ＰＳＤと略称する）カメラで、このＰ
ＳＤカメラ７は反射鏡９−１，９−２の反射光から２次
元で光の位置を検出するものである。ここで、ＰＳＤカ
メラとは高感度の大型ＰＩＮシリコンフォトダイオード
の両面に均一な抵抗層（Ｐ層とＮ層）を生成させ、それ
ぞれに対向した電極を設けたもので、このＰＳＤの受光
面にレンズを介してＬＥＤの光スポットを結像させる
と、結像位置より光電流を生じ、この電流は両面の抵抗
層を通ってそれぞれの電極へ出力されるものである。こ
の場合、対向した電極から取出される電流は光スポット
の結像位置からそれぞれの電極までの抵抗値、すなわち
距離によって分割出力される。
したがって、Ｐ層ではＸ座標電流、Ｎ層ではＹ座標電流
として取出され、この出力電流をアナログ演算回路によ
た演算することにより、２次元位置を精密に計測するこ
とができる。
として取出され、この出力電流をアナログ演算回路によ
た演算することにより、２次元位置を精密に計測するこ
とができる。
次に上記のように構成されたレーザ測長装置の作用につ
いて述べる。
いて述べる。
一方のセッティング台１０−１に被測定物５の一端測定
点Ｘを密に接触させ、次に他方のセッティング台１０−
２を水平移動させて被測定物５の他端測定点Ｙに密に接
触させる。このような状態で、まずセッティング台１０
−１の所定の位置に反射鏡９−１を取付けて測距計６か
ら光を出射すると、この光は半透明鏡８−１，８−２を
介して反射鏡９−１に当り、その反射光が同経路を介し
て測距計６およびＰＳＤカメラ７に入射される。
点Ｘを密に接触させ、次に他方のセッティング台１０−
２を水平移動させて被測定物５の他端測定点Ｙに密に接
触させる。このような状態で、まずセッティング台１０
−１の所定の位置に反射鏡９−１を取付けて測距計６か
ら光を出射すると、この光は半透明鏡８−１，８−２を
介して反射鏡９−１に当り、その反射光が同経路を介し
て測距計６およびＰＳＤカメラ７に入射される。
ＰＳＤカメラ７では前述したように反射鏡９−１からの
反射光から２次元で光の位置を検出し、セッティング台
１０−１に傾きが生じているか否かを判別する。もし、
セッティング台１０−１に傾きが生じている場合には傾
き調整台１１−１によりその傾きを調整する。この場
合、反射鏡９−１はセッティング台１０−１の光入射面
に平行に取付けられているので、この反射鏡９−１から
の反射光が鏡面に対して垂直方向になるように、つまり
入射光と反射光とが同一光路になるように傾き調整台１
１−１を調整することにより、セッティング台１０−１
の傾きが調整される。
反射光から２次元で光の位置を検出し、セッティング台
１０−１に傾きが生じているか否かを判別する。もし、
セッティング台１０−１に傾きが生じている場合には傾
き調整台１１−１によりその傾きを調整する。この場
合、反射鏡９−１はセッティング台１０−１の光入射面
に平行に取付けられているので、この反射鏡９−１から
の反射光が鏡面に対して垂直方向になるように、つまり
入射光と反射光とが同一光路になるように傾き調整台１
１−１を調整することにより、セッティング台１０−１
の傾きが調整される。
次にセッティング台１０−１に取付けた反射鏡９−１を
取外すと共に、半透明鏡８−３と被測定物５の測定点Ｘ
との間に図示しない遮蔽板を入れ、またセッティング台
１０−２の所定の位置に反射鏡９−２を取付けて上記同
様に測距計６から光を出射すると、この光は半透明鏡８
−１，８−２，８−３、反射鏡１２−１をそれぞれ介し
て反射鏡９−２に当り、その反射光が同経路を介して測
距計６およびＰＳＤカメラ７に入射される。
取外すと共に、半透明鏡８−３と被測定物５の測定点Ｘ
との間に図示しない遮蔽板を入れ、またセッティング台
１０−２の所定の位置に反射鏡９−２を取付けて上記同
様に測距計６から光を出射すると、この光は半透明鏡８
−１，８−２，８−３、反射鏡１２−１をそれぞれ介し
て反射鏡９−２に当り、その反射光が同経路を介して測
距計６およびＰＳＤカメラ７に入射される。
上記同様にＰＳＤカメラ７ではセッティング台１０−２
に傾きが生じているか否かを判別し、もし、セッティン
グ台１０−２に傾きが生じている場合には傾き調整台１
１−２によりその傾きを調整する。この場合、上記セッ
ティング台１０−１が調整されたときのＰＳＤカメラの
光スポット結像位置に反射鏡９−２からの反射光の結像
位置が一致するように傾き調整台１１−２を調整するこ
とにより、セッティング台１０−２の傾きが調整され
る。
に傾きが生じているか否かを判別し、もし、セッティン
グ台１０−２に傾きが生じている場合には傾き調整台１
１−２によりその傾きを調整する。この場合、上記セッ
ティング台１０−１が調整されたときのＰＳＤカメラの
光スポット結像位置に反射鏡９−２からの反射光の結像
位置が一致するように傾き調整台１１−２を調整するこ
とにより、セッティング台１０−２の傾きが調整され
る。
また、測距計６では反射鏡９−１，９−２からの反射光
をもとに被測定物５の概略外径寸法を測長する。
をもとに被測定物５の概略外径寸法を測長する。
その後、半透明鏡８−３と被測定物５の測定点Ｘとの間
に入れた遮蔽板と反射鏡９−２とを取除き、レーザ光源
１からレーザ光を発振させると、このレーザ光は干渉部
２内でそのビーム径が拡大され、半透明鏡８−２，８−
３を介して被測定物５の一端測定点Ｘに当り、また半透
明鏡８−３の反射光が反射鏡１２−１，１２−２，１２
−３を介して被測定物５の他端測定点Ｙに当り、それぞ
れの反射光が同時に元の光路を通して干渉部２に戻る。
干渉部２ではその反射光をスキャニングミラーからの反
射光と干渉させることで干渉縞信号を得、これを信号処
理部３に入力して信号処理することにより被測定物５の
外径寸法Ｄを測長する。
に入れた遮蔽板と反射鏡９−２とを取除き、レーザ光源
１からレーザ光を発振させると、このレーザ光は干渉部
２内でそのビーム径が拡大され、半透明鏡８−２，８−
３を介して被測定物５の一端測定点Ｘに当り、また半透
明鏡８−３の反射光が反射鏡１２−１，１２−２，１２
−３を介して被測定物５の他端測定点Ｙに当り、それぞ
れの反射光が同時に元の光路を通して干渉部２に戻る。
干渉部２ではその反射光をスキャニングミラーからの反
射光と干渉させることで干渉縞信号を得、これを信号処
理部３に入力して信号処理することにより被測定物５の
外径寸法Ｄを測長する。
以下にその測長手順について述べる。
いま、半透明鏡８−３の位置を基準とすると（イ）Ｘ点
までの距離は、Ｘ＝ａ１となる。
までの距離は、Ｘ＝ａ１となる。
（ロ）Ｙ点までの距離は、 Ｙ＝ｂ１＋ａ２＋Ｃ＋ａ３＋ｂ２＋ａ４となる。
（ハ）ａ１＝ａ２＝ａ３＝ａ４＝ａ， ｂ１＝ｂ２＝ｂとおくと、 Ｄ＝Ｙ−Ｘ＝２ｂ＋３ａ＋Ｃ−ａ ＝２ｂ＋２ａ＋Ｃ （Ｃ＝Ｄ）となる。
（ニ）ここでａ，ｂは既知であるから、被測定物５の寸
法ＤはＹ点までの測長値−Ｘ点までの測長値で求めるこ
とができる。
法ＤはＹ点までの測長値−Ｘ点までの測長値で求めるこ
とができる。
ここで、具体的な数値を用いた例を第２図を参照して説
明すると、次の通りである。
明すると、次の通りである。
第２図において、 ａ１＝ａ２＝ａ３＝ａ４＝０．５ｍ， ｂ１＝ｂ２＝３ｍとすると、 Ｘ＝ａ１＝０．５ｍ、 Ｙ＝ｂ１＋ａ２＋Ｃ＋ａ３＋ｂ２＋ａ４ ＝７．５ｍ＋Ｃ 今、Ｙの測長値が１５ｍとすると、 Ｙ−Ｘ＝７．５＋Ｃ−０．５（Ｃ＝Ｄ） Ｄ＝（Ｙ−Ｘ）−７ ＝（１５−０．５）−７＝７．５ よって、被測定物の外径寸法Ｄ＝７．５ｍとなる。
このように本実施例では被測定物５を１対のセッティン
グ台１０−１，１０−２で挟み込むノギス型構造として
被測定物５にセッティング台１０−１，１０−２を密に
接触させ、且つレーザ光源１からのレーザ光を半透明鏡
８−３により透過光と反射光の２系統に分割してその透
過光を被測定物５の一端測定点Ｘに、また反射光を反射
鏡１２−１，１２−２，１２−３を介して被測定物５の
他端測定点Ｙに当てる光学系を形成するようにしたの
で、被測定物５の両測定点からの反射光が直接に同時に
得ることができ、効率良く被測定物５の外径寸法を測長
することができる。また被測定物５の測長に先立ち測距
計６からの光を反射鏡９−１，９−２に当ててその反射
光をもとに被測定物５の概略外径寸法を測長することが
でき、しかも反射鏡９−１，９−２からの反射光をＰＳ
Ｄカメラ７に入射してその反射光を２次元で光の位置と
して検出するようにしているので、セッティング台１０
−１，１０−２が傾いているような場合にはその調整を
容易に行なうことができる。
グ台１０−１，１０−２で挟み込むノギス型構造として
被測定物５にセッティング台１０−１，１０−２を密に
接触させ、且つレーザ光源１からのレーザ光を半透明鏡
８−３により透過光と反射光の２系統に分割してその透
過光を被測定物５の一端測定点Ｘに、また反射光を反射
鏡１２−１，１２−２，１２−３を介して被測定物５の
他端測定点Ｙに当てる光学系を形成するようにしたの
で、被測定物５の両測定点からの反射光が直接に同時に
得ることができ、効率良く被測定物５の外径寸法を測長
することができる。また被測定物５の測長に先立ち測距
計６からの光を反射鏡９−１，９−２に当ててその反射
光をもとに被測定物５の概略外径寸法を測長することが
でき、しかも反射鏡９−１，９−２からの反射光をＰＳ
Ｄカメラ７に入射してその反射光を２次元で光の位置と
して検出するようにしているので、セッティング台１０
−１，１０−２が傾いているような場合にはその調整を
容易に行なうことができる。
したがって、測距計６により被測定物５の概略寸法を測
長でき、その後レーザ光で少数点以下の端数についても
絶対測長することができる。
長でき、その後レーザ光で少数点以下の端数についても
絶対測長することができる。
なお、上記実施例では被測定物５としてタービンロータ
について述べたが、水車，ケーシング等の寸法測長の場
合にも同様に適用実施できるものである。また、本装置
は製品加工時に適用できることは勿論、発電プラント等
の現地据付工事を行なうような場合にも適用することが
できる。
について述べたが、水車，ケーシング等の寸法測長の場
合にも同様に適用実施できるものである。また、本装置
は製品加工時に適用できることは勿論、発電プラント等
の現地据付工事を行なうような場合にも適用することが
できる。
以上述べたように本考案によれば、被測定物を１対のセ
ッティング台で挟み込むノギス型構造にして被測定物に
密に接触させ、且つ半透明鏡によりレーザ光源から発振
されるレーザ光を反射光と透過光との２系統に分割しそ
の透過光を被測定物の一端測定点に当て、また反射光を
反射鏡を介して被測定物の他端測定点に当てて被測定物
の両端面から直接且つ同時に反射光が得られるように光
学系を形成し、且つ測距計からの光を１対のセッティン
グ台に設けられた反射鏡に当ててその反射光から光の位
置を検出することでセッティング台が傾いているか否か
を判別し、傾いている場合にはその傾きを調整できるよ
うにしたので、被測定物の長さ，外径寸法を容易に測長
でき、しかも被測定物に反射光を得るための反射物を取
付ける必要がないので、被測定物の外径寸法や長さを高
精度に絶対測長することができるレーザ測長装置を提供
することができる。
ッティング台で挟み込むノギス型構造にして被測定物に
密に接触させ、且つ半透明鏡によりレーザ光源から発振
されるレーザ光を反射光と透過光との２系統に分割しそ
の透過光を被測定物の一端測定点に当て、また反射光を
反射鏡を介して被測定物の他端測定点に当てて被測定物
の両端面から直接且つ同時に反射光が得られるように光
学系を形成し、且つ測距計からの光を１対のセッティン
グ台に設けられた反射鏡に当ててその反射光から光の位
置を検出することでセッティング台が傾いているか否か
を判別し、傾いている場合にはその傾きを調整できるよ
うにしたので、被測定物の長さ，外径寸法を容易に測長
でき、しかも被測定物に反射光を得るための反射物を取
付ける必要がないので、被測定物の外径寸法や長さを高
精度に絶対測長することができるレーザ測長装置を提供
することができる。
第１図は本考案によるレーザ測長装置の一実施例を示す
構成説明図、第２図は同実施例において具体的数値によ
る測長手順を説明するための図、第３図乃至第５図は従
来のレーザ測長装置の構成例を説明するための図であ
る。 １…レーザ光源、２…干渉部、３…信号処理部、６…測
距計、７…ＰＳＤカメラ、８−１，８−２，８−３…半
透明鏡、９−１，９−２…反射鏡、１０−１、１０−２
…セッティング台、１１−１，１１−２…傾き調整台、
１２−１，１２−２，１２−３…反射鏡。
構成説明図、第２図は同実施例において具体的数値によ
る測長手順を説明するための図、第３図乃至第５図は従
来のレーザ測長装置の構成例を説明するための図であ
る。 １…レーザ光源、２…干渉部、３…信号処理部、６…測
距計、７…ＰＳＤカメラ、８−１，８−２，８−３…半
透明鏡、９−１，９−２…反射鏡、１０−１、１０−２
…セッティング台、１１−１，１１−２…傾き調整台、
１２−１，１２−２，１２−３…反射鏡。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 高橋 正雄 兵庫県高砂市荒井町新浜２丁目１番１号 三菱重工業株式会社高砂研究所内 審査官 田部 元史
Claims (1)
- 【請求項１】レーザ光源と、被測定物体の両端測定点を
挟み込むノギス型構造にして設けられる１対のセッティ
ング台と、前記レーザ光源から発振されるレーザ光を半
透明鏡を介して反射光と透過光との２系統に分割しその
透過光を被測定物の一端測定点に当て、また反射光を反
射鏡を介して前記被測定物の他端測定点に当てる光学系
と、光源を有しこの光源からの光を前記１対のセッティ
ング台にそれぞれ設けられた反射鏡に当てその反射光か
ら前記被測定物の概略長さ，概略外径寸法を測長する測
距計と、前記１対のセッティング台にそれぞれ設けられ
た反射鏡からの反射光を入射し光の位置を検出して前記
セッティング台の傾きを判別する手段と、前記被測定物
からの反射光を干渉部を介して入力し前記被測定物の長
さ，外径寸法等を測長するに必要な信号に処理する信号
処理部とを備えたことを特徴とするレーザ測長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12634287U JPH069285Y2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | レ−ザ測長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12634287U JPH069285Y2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | レ−ザ測長装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6433012U JPS6433012U (ja) | 1989-03-01 |
| JPH069285Y2 true JPH069285Y2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=31377781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12634287U Expired - Lifetime JPH069285Y2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | レ−ザ測長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069285Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-08-21 JP JP12634287U patent/JPH069285Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6433012U (ja) | 1989-03-01 |
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