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JPH0682216B2 - Photoconductive member - Google Patents

Photoconductive member

Info

Publication number
JPH0682216B2
JPH0682216B2 JP60118233A JP11823385A JPH0682216B2 JP H0682216 B2 JPH0682216 B2 JP H0682216B2 JP 60118233 A JP60118233 A JP 60118233A JP 11823385 A JP11823385 A JP 11823385A JP H0682216 B2 JPH0682216 B2 JP H0682216B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
photoconductive member
resin
dispersed
charge transport
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60118233A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61275845A (en
Inventor
正仁 徳弘
泰男 盧
徳好 高橋
雅之 西川
雅人 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP60118233A priority Critical patent/JPH0682216B2/en
Publication of JPS61275845A publication Critical patent/JPS61275845A/en
Publication of JPH0682216B2 publication Critical patent/JPH0682216B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/043Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
    • G03G5/0436Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure combining organic and inorganic layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/08Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
    • G03G5/087Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and being incorporated in an organic bonding material

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、新規な機能分離型の積層型電子写真感光体、
特に感光体に使用される光導電部材に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Industrial field of application" The present invention relates to a novel function-separated laminated electrophotographic photoreceptor,
In particular, it relates to a photoconductive member used for a photoconductor.

「従来の技術、発明が解決しようとする問題点」 一般に電子写真感光体としては、大別すると単層体と機
能分離型の積層型とがある。単層型としては、Se系、Cd
S系、ZnO系、PVK/TNF系、ピリリウム塩系最近では非晶
質シリコン系等が挙げられる。単層型は、1つの層に光
キャリヤ生成と輸送とを合わせもたせている為、両方の
機能が優れている必要があるが、その様な材料は容易に
は見つかっていない。
"Problems to be Solved by Conventional Techniques and Inventions" Generally, electrophotographic photoreceptors are roughly classified into a single layer body and a function-separated layered type. As a single layer type, Se series, Cd
S-based, ZnO-based, PVK / TNF-based, pyrylium salt-based, and more recently, amorphous silicon-based and the like. Since the single layer type has both functions of generating and transporting optical carriers in one layer, it is necessary that both functions are excellent, but such a material has not been easily found.

その為、近年になって、光キャリヤ生成と輸送という2
つの機能を異なった層にもたせた機能分離型の積層型感
光体が開発された。電荷発生層としては、Se系、クロロ
ジアンブルー系、スクウェアリウム系、アゾ顔料系、フ
タロシアニン系、ピリリウム塩系等が挙げられ、電荷輸
送層としては、PVK、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、シ
クロヘキサン系、等が挙げられる。
For this reason, in recent years, there have been 2
A function-separated multi-layer type photoconductor having three different functions has been developed. Examples of the charge generation layer include Se-based, chlorodian blue-based, squarerium-based, azo pigment-based, phthalocyanine-based, pyrylium salt-based, and the like, and the charge-transporting layer includes PVK, pyrazoline-based, hydrazone-based, cyclohexane-based, Etc.

上記材料のうち、低分子有機半導体は、絶縁性樹脂中に
分散させて用いるのが普通である。
Among the above materials, the low molecular weight organic semiconductor is usually used by dispersing it in an insulating resin.

前記した電荷発生層は、一般にミクロンオーダーの薄層
であるため、機械的強度が弱く、表面に電荷発生層を設
けることが難しい。従って、上層に電荷輸送層、下層に
電荷発生層を設けるのが一般的である。電荷輸送層の伝
導を支配しているのは、一般に、正孔であるので、上記
積層感光体の帯電極性は、負である。
Since the above-described charge generation layer is generally a micron-order thin layer, it has low mechanical strength and it is difficult to provide the charge generation layer on the surface. Therefore, it is general to provide a charge transport layer as an upper layer and a charge generation layer as a lower layer. Generally, holes control the conduction of the charge transport layer, so that the charge polarity of the laminated photoreceptor is negative.

しかし、感光体を負帯電で用いると、コロナ帯電時のオ
ゾンの発生、帯電の不安定性等の問題が生じやすく、実
用上不都合な場合がある。
However, if the photoreceptor is used with negative charging, problems such as ozone generation and charging instability during corona charging are likely to occur, which may be practically inconvenient.

また、いずれの電荷発生層も光キャリヤ生成効率(量子
効率)が低く、従って、光感度が低い。また、いずれの
電荷輸送層も光発生したキャリヤの輸送効率(ドリフト
移動度)で小さい。
In addition, any charge generation layer has low photocarrier generation efficiency (quantum efficiency), and thus has low photosensitivity. Further, any charge transport layer has a small transport efficiency (drift mobility) of photogenerated carriers.

本発明の目的は、電子写真感光体として使用した場合に
良好な画像を得ることができる光導電部材を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide a photoconductive member that can obtain a good image when used as an electrophotographic photoreceptor.

「問題点を解決するための手段、作用」 第1発明 本第1発明は、前記した従来技術の欠点を改良するため
になされたものであり、正帯電で用いることのできる積
層型電子写真感光体の光導電部材を提供するものであ
る。しかも、電荷輸送層、電荷発生層共前記した諸材料
を用いず、電荷輸送層としては、絶縁性樹脂中に約10〜
75重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチ
ルフェニル)−(1,1′−ビフェニール)−4,4′−ジア
ミンを分散させた層を、電荷発生層としては、非晶質シ
リコン系微粉末を樹脂結着剤中に分散した層を用いるも
のである。
"Means and Actions for Solving Problems" First Invention The first invention was made to improve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and is a laminated electrophotographic photosensitive material that can be used in positive charging. A photoconductive member of the body is provided. Moreover, the charge transporting layer and the charge generating layer do not use the above-mentioned materials, and the charge transporting layer has about 10 to about 10% in the insulating resin.
A layer in which 75% by weight of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine was dispersed was used as a charge generation layer. Uses a layer in which amorphous silicon fine powder is dispersed in a resin binder.

さらに、本第1発明においては、電荷発生層の表面摩耗
を防ぐ為、上記積層感光体上に中間層、透明絶縁性樹脂
中に平均粒径が0.3μm以下の金属あるいは金属酸化物
を分散させた透明保護層を積層することが好ましい。
Further, in the first invention, in order to prevent surface abrasion of the charge generation layer, a metal or metal oxide having an average particle size of 0.3 μm or less is dispersed in the intermediate layer or the transparent insulating resin on the laminated photoreceptor. It is preferable to stack a transparent protective layer.

本第1発明の光導電部材は、好ましくは、透明保護層、
中間層を通して電荷発生層上に正電荷を帯電させ、電荷
発生層で光生成した電子が表面電荷を中和し、正孔が電
荷輸送層から支持体に抜けることによって、潜像を形成
させるものである。
The photoconductive member of the first invention is preferably a transparent protective layer,
A latent image is formed by positively charging the charge generation layer through the intermediate layer, the electrons photogenerated in the charge generation layer neutralize the surface charge, and holes escape from the charge transport layer to the support. Is.

電荷輸送層に用いられる絶縁性樹脂としては、ポリカー
ボネート、アクリル酸エステル重合体、ビニル重合体、
セルロース重合体、ポリエステル、ポリシロキサン、ポ
リアミド、ポリウレタンおよびエポキシならびにブロッ
ク、ランダム、交互、あるいはグラフト共重合体等が挙
げられる。好ましい絶縁性樹脂は、ポリカーボネート樹
脂である。好ましい分子量は、約20,000〜約100,000で
あり、より好ましくは約50,000〜約100,000である。
Examples of the insulating resin used for the charge transport layer include polycarbonate, acrylic ester polymer, vinyl polymer,
Cellulose polymers, polyesters, polysiloxanes, polyamides, polyurethanes and epoxies as well as block, random, alternating or graft copolymers and the like can be mentioned. A preferred insulating resin is polycarbonate resin. The preferred molecular weight is about 20,000 to about 100,000, more preferably about 50,000 to about 100,000.

絶縁性樹脂として最も好ましい物質は、ゼネラルエレク
トリック社からレクサン145(Lexan145)として発売さ
れている分子量が約35,000〜約40,000のポリ(4,4′−
イソプロピリデン−ジフェニレンカーボネート);ゼネ
ラルエレクトリック社からレクサン141として発売され
ている分子量が約40,000〜約45,000のポリ(4,4′−イ
ソプロピリデン−ジフェニレンカーボネート);フアル
ベンフアブリケンバイエルA.G′,社(Farben fabrlcke
n Bayer A.G.)からマクロロン(MaKrolon)として発売
されている分子量が約50,000〜約100,000のポリカーボ
ネート樹脂およびモベイケミカル社からマーロン(Marl
on)として発売されている分子量が約20,000〜約50,000
のポリカーボネート樹脂である。
The most preferable substance as the insulating resin is poly (4,4′-) having a molecular weight of about 35,000 to about 40,000, which is commercially available as Lexan145 from General Electric Company.
Isopropylidene-diphenylene carbonate); Poly (4,4'-isopropylidene-diphenylene carbonate) having a molecular weight of about 40,000 to about 45,000, which is marketed as Lexan 141 by General Electric Company; , Company (Farben fabrlcke
n Bayer AG) as a polycarbonate resin with a molecular weight of about 50,000 to about 100,000 as MaKrolon and Mobay Chemical Co.
on), the molecular weight is about 20,000 to about 50,000.
Is a polycarbonate resin.

また、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフ
ェニル)−(1,1′−ビフェニール)−4,4′−ジアミン
の式は、次の通りである。
The formula of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine is as follows.

支持体は、好ましくは、任意の適当な導電体である必要
がある。適当な導電体には、アルミニウム、銅、黒鉛、
分散した導電性塩、導電性重合体などが含まれる。支持
体は、剛性であっても可撓性であってもよく、また、ど
んな厚さのものでもよい。典型的な支持体には、可撓性
ベルトまたはスリーブ、シート、ウエブ、プレート、シ
リンダ、ドラムが含まれる。支持体は、また、紙ベース
上に含まれた薄い導電性被覆層、アルミニウムまたはヨ
ウ化銅のような薄い導電体層で被覆したプラスチック、
あるいはクロムまたは酸化錫の薄い導電性被覆層で被覆
したガラスのような複合構造物から成っていてもよい。
The support should preferably be any suitable electrical conductor. Suitable conductors include aluminum, copper, graphite,
It contains dispersed conductive salts, conductive polymers and the like. The support can be rigid or flexible and can be of any thickness. Typical supports include flexible belts or sleeves, sheets, webs, plates, cylinders, drums. The support is also a thin conductive coating layer contained on a paper base, a plastic coated with a thin conductive layer such as aluminum or copper iodide,
Alternatively it may consist of a composite structure such as glass coated with a thin conductive coating of chromium or tin oxide.

最近、光感性が高く、汎色性に富み、かつ、無公害性、
耐熱性、耐摩耗性、光応答性に優れた非晶質シリコン系
電子写真感光体が提案されている。
Recently, it has high photosensitivity, is rich in panchromatic properties, and is pollution-free.
Amorphous silicon electrophotographic photoreceptors having excellent heat resistance, abrasion resistance, and photoresponsiveness have been proposed.

しかし、薄膜状の非晶質シリコンは、膜の成長速度が遅
く、成膜時の支持体の温度を長時間にわたって均一に保
つことが難しい。
However, thin film amorphous silicon has a slow film growth rate, and it is difficult to maintain the temperature of the support during film formation uniform over a long period of time.

一方、粉末状非晶質シリコンは、簡易な製造装置で大量
に製造でき、結着剤と組み合わせて塗布するので、均一
でかつ大面積の電子写真感光体を大量生産できる。
On the other hand, powdery amorphous silicon can be mass-produced by a simple manufacturing apparatus and is applied in combination with a binder, so that a uniform and large-area electrophotographic photoreceptor can be mass-produced.

非晶質シリコン微粉末を得る方法は、2通りある。There are two methods for obtaining the amorphous silicon fine powder.

1つは、非晶質シリコン膜から粉末を得る方法である。One is a method of obtaining powder from an amorphous silicon film.

非晶質シリコン膜は、グロー放電法(RF、DC)、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法等によって作成さ
れる。所望する特性を有する非晶質シリコン膜を作成す
るための制御が比較的容易であるため、上記諸方法のう
ち、グロー放電法が多く用いられる。この方法で作られ
た薄膜を基板から削り取り、粉砕して粉末状非晶質シリ
コンを得る方法が、微粉末非晶質シリコンを得る一方法
である。
The amorphous silicon film is formed by glow discharge method (RF, DC), sputtering method, ion plating method, or the like. Of the above methods, the glow discharge method is often used because the control for forming the amorphous silicon film having the desired characteristics is relatively easy. A method of obtaining fine powdery amorphous silicon by shaving a thin film formed by this method from a substrate and pulverizing the thin film is one method.

非晶質シリコン微粉末の他の製造方法としては、SiH4
Si2H6等の水素化硅素ガスあるいはこれらの誘導体ガス
を真空状態のチェンバー内に導入し、チェンバー内圧を
0.1〜10Torrの値に保ち、RFあるいはDCまたはこれらの
組み合わさった電界を印加し、必要に応じて原料ガス加
熱を行なって、グロー放電分解によって非晶質シリコン
微粉末を堆積させる方法がある。なお、上記した原料ガ
スはH2、Ar等で適量に希釈して用いてもよい。
Other methods for producing amorphous silicon fine powder include SiH 4 ,
Introduce silicon hydride gas such as Si 2 H 6 or its derivative gas into the chamber in vacuum state, and adjust the chamber internal pressure.
There is a method of depositing amorphous silicon fine powder by glow discharge decomposition by keeping the value of 0.1 to 10 Torr, applying an electric field of RF or DC or a combination of these, heating the source gas as necessary. The above-mentioned raw material gas may be diluted with H 2 and Ar in an appropriate amount before use.

非晶質シリコン微粉末は、水素原子を含み、その含有量
は、通常の場合、10〜40atomic%、好適には、15〜30at
omic%がよい。前記グロー放電時に、周期律表第III族
のB2H6等のガスも導入する必要があり、前記水素化硅素
ガスに対する添加比は1〜50vppmが好適である。
The amorphous silicon fine powder contains hydrogen atoms, and the content thereof is usually 10 to 40 atomic%, preferably 15 to 30 at.
omic% is good. At the time of the glow discharge, it is necessary to introduce a gas such as B 2 H 6 of Group III of the periodic table, and the addition ratio to the silicon hydride gas is preferably 1 to 50 vppm.

非晶質シリコン系微粉末の粒径は0.01〜1μm径が好適
である。
The particle size of the amorphous silicon fine powder is preferably 0.01 to 1 μm.

樹脂結着剤と非晶質シリコン系微粒子との重量比は、通
常は5〜60重量%、好適には8〜50重量%、最適には10
〜40重量%である。
The weight ratio of the resin binder and the amorphous silicon-based fine particles is usually 5 to 60% by weight, preferably 8 to 50% by weight, optimally 10
~ 40% by weight.

樹脂結着剤のうち、絶縁性のものは次の通りである。Among the resin binders, the insulating ones are as follows.

フェノール樹脂:フラン樹脂:キシレン樹脂:ホルムア
ルデヒド樹脂:尿素樹脂:メラミン樹脂:アニリン樹
脂:スルホンアミド樹脂:アルキド樹脂:不飽和ポリエ
ステル樹脂:エポキシ樹脂:トリアリルシアスレート樹
脂:ポリエチレン:ポリプロピレン:ポリスチレン:ポ
リ酢酸ビニル:ポリアクリレート:ポリメタクリレー
ト:ポリ塩化ビニル:ポリ塩化ビニリデン:ポリテトラ
フルオロエチレン:ポリクロロトリフルオロエチレン:
ポリフッ化ビニル:ポリ弗化ビニリデン:テトラフルオ
ロエチレン:ヘキサフルオロプロピレン共重合体:クロ
ロトリフルオロエチレン:弗化ビニリデン共重合体等の
弗素樹脂:ポリアクリロニトリル:ポリビニルエーテ
ル:ポリビニルケトン:ポリエーテル:ポリカーボネー
ト:ポリエステル:ナイロン6、ナイロン66、ナイロン
6/66等のポリアミド:ポリウレタン:シリコーン酢酸セ
ルロース、エチルセルロース、プロピオンセルロース、
等のセルロース誘導体:等々。これ等は、必要に応じて
2種以上混合しても良い。
Phenol resin: Furan resin: Xylene resin: Formaldehyde resin: Urea resin: Melamine resin: Aniline resin: Sulfonamide resin: Alkyd resin: Unsaturated polyester resin: Epoxy resin: Triallyl sialate resin: Polyethylene: Polypropylene: Polystyrene: Polyacetic acid Vinyl: Polyacrylate: Polymethacrylate: Polyvinyl chloride: Polyvinylidene chloride: Polytetrafluoroethylene: Polychlorotrifluoroethylene:
Polyvinyl fluoride: Polyvinylidene fluoride: Tetrafluoroethylene: Hexafluoropropylene copolymer: Fluorocarbon resin such as chlorotrifluoroethylene: Vinylidene fluoride copolymer: Polyacrylonitrile: Polyvinyl ether: Polyvinyl ketone: Polyether: Polycarbonate: Polyester: Nylon 6, Nylon 66, Nylon
Polyamide such as 6/66: Polyurethane: Silicone cellulose acetate, ethyl cellulose, propion cellulose,
Cellulose derivatives such as: etc. Two or more of these may be mixed if necessary.

樹脂結着剤のうち、光導電性のものは次の通りである。Among the resin binders, the photoconductive ones are as follows.

PVK、カルバゾール、N−エチルカルバゾール、N−イ
ソプロピルカルバゾール、N−フェニルカルバゾールテ
トラフェニルピレン、1−メチルピレン、ペリレン、ク
リセン、アトラセン、テトラセン、テトラフェン、2−
フェニルナフタリン、アザピレン、フルオレン、フルオ
レノン、1−エチルピレン、アセチルピレン、2,3−ベ
ンゾグリセリン、3,4−ベンゾピレン、1,4−ブロモピレ
ン、フェニルインドール、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルテトラセン、ポリビニルペリレン、ポリビニルテトラ
フェン、ポリアクリロニトリル、PVK:TNF(単量体での
モル比1:1)に、テトラニトロフルオレノン、ジニトロ
アントラセン、ジニトロアクリデン、テトラシアノフイ
レン、ジニトロアントラキノン等。
PVK, carbazole, N-ethylcarbazole, N-isopropylcarbazole, N-phenylcarbazole tetraphenylpyrene, 1-methylpyrene, perylene, chrysene, atracene, tetracene, tetraphene, 2-
Phenylnaphthalene, azapyrene, fluorene, fluorenone, 1-ethylpyrene, acetylpyrene, 2,3-benzoglycerin, 3,4-benzopyrene, 1,4-bromopyrene, phenylindole, polyvinylpyrene, polyvinyltetracene, polyvinylperylene, polyvinyltetraphene , Polyacrylonitrile, PVK: TNF (molar ratio 1: 1 in monomer), tetranitrofluorenone, dinitroanthracene, dinitroacridene, tetracyanophenylene, dinitroanthraquinone, etc.

これらの光導電性樹脂結着剤は、必要に応じて2種以上
混合して使用しても良いし、又、前記した電気絶縁性の
結着剤と混合して使用しても良い。
These photoconductive resin binders may be used as a mixture of two or more kinds as required, or may be used as a mixture with the above-mentioned electrically insulating binder.

非晶質シリコン系微粉末を樹脂結着剤と共に混練分散さ
せる為の溶剤としては、使用される結着剤の種類に応じ
て、a−Si粉末粒子と結着剤との組み合わせに悪影響を
与えないものから選択される。この様な溶剤としては、
通常、市販されている有機溶剤の多くのものが有効に使
用され得る。例えば、塩化メチレン、クロロホルム、二
塩化エタン、1,1,2三塩化エタン、三塩化レチレン、四
塩化エタン、四塩化炭素、1、2塩化プロパン、1,1,1
三塩化エタン、四塩化エチレン、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソアミル、セロソルプアセナート、トルエ
ン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジメチルアミド、N−メチ
ルピロリドン、メチルアルコール、エチルアルコール、
イソプロピルアルコールおよびブチルアルコール等のア
ルコール類などがある。
As a solvent for kneading and dispersing the amorphous silicon fine powder together with the resin binder, it adversely affects the combination of the a-Si powder particles and the binder depending on the kind of the binder used. Selected from none. As such a solvent,
Generally, many of the commercially available organic solvents can be effectively used. For example, methylene chloride, chloroform, ethane dichloride, 1,1,2 ethane trichloride, retylene trichloride, ethane tetrachloride, carbon tetrachloride, 1,2 propane, 1,1,1
Ethane trichloride, ethylene tetrachloride, ethyl acetate, butyl acetate, isoamyl acetate, cellosolve acenate, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, dioxane, tetrahydrofuran, dimethylamide, N-methylpyrrolidone, methyl alcohol, ethyl alcohol,
Examples include alcohols such as isopropyl alcohol and butyl alcohol.

本第1発明の光導電部材は、支持体上に、電荷輸送層と
してポリカーボネート樹脂等の絶縁性樹脂中に約10−75
重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチル
フェニル)−(1,1′−ビフェニール)−4,4′−ジアミ
ンを分散させた層を、電荷発生層として非晶質シリコン
微粉末を樹脂結着剤中に分散させた層を、積層したこと
を特徴とするものである。
The photoconductive member according to the first aspect of the present invention comprises a support, a charge transport layer, an insulating resin such as a polycarbonate resin, and the like.
The layer in which the weight% of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine was dispersed was used as a non-charge generation layer. It is characterized in that layers in which crystalline silicon fine powder is dispersed in a resin binder are laminated.

電荷輸送層の厚さは、約5〜100μmであるべきである
が、この範囲外の厚さも使用することができる。電荷発
生層の厚さは、約0.005〜20μmで満足であることがわ
かっており、約0.2〜5μmの厚さで良好な結果が得ら
れる。ただし、正孔のキャリヤレンジより薄いことが必
要であり、さもないと残留電位の原因になる。
The thickness of the charge transport layer should be about 5-100 μm, although thicknesses outside this range can be used. The thickness of the charge generation layer has been found to be satisfactory at about 0.005 to 20 μm, and good results are obtained at a thickness of about 0.2 to 5 μm. However, it must be thinner than the carrier range of holes, or it will cause a residual potential.

本第1発明の光導電部材は、従来技術に比較して、正帯
電で用いることができるため、負帯電使用時の諸問題を
避けることができる。さらに、電荷発生層に非晶質シリ
コン系微粉末を分散した層を用いているため、高光感度
を有し、汎色性に富む。また、電荷輸送層中の低分子有
機半導体として、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3
−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニール)−4,4′
−ジアミンを用いている為、キャリヤ(正孔)の輸送効
率が大きく、高速複写機用に適している。
Since the photoconductive member of the first aspect of the present invention can be used with positive charging as compared with the prior art, various problems when using negative charging can be avoided. Further, since the layer in which the amorphous silicon-based fine powder is dispersed is used for the charge generation layer, it has high photosensitivity and is rich in panchromaticity. Further, as a low molecular weight organic semiconductor in the charge transport layer, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3
-Methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4 '
-Because the diamine is used, the carrier (hole) transport efficiency is high and it is suitable for high-speed copying machines.

さらに、本第1発明の好ましい態様においては、前記光
導電部材上に、中間層、透明絶縁性樹脂中に平均粒径が
0.3μm以下の金属あるいは金属酸化物を分散せた透明
保護層を積層することによって、電荷発生層の表面摩耗
を抑えることができる。
Furthermore, in a preferred aspect of the first aspect of the present invention, an average particle size is present in the intermediate layer and the transparent insulating resin on the photoconductive member.
By laminating a transparent protective layer in which a metal or metal oxide of 0.3 μm or less is dispersed, surface abrasion of the charge generation layer can be suppressed.

中間層は、透明保護層から電荷発生層への正孔の注入を
阻止する機能を有している。中間層材料としては、シラ
ンカップリング剤、ジルコニウムブトキサイド、ナイロ
ン、エポキシ等があり、特にジルコニウムブトキサイド
系の中間層は、室温で乾燥させることができ、しかも、
高い正孔注入阻止能を有している。膜厚は、0.01〜0.1
μmが好適である。
The intermediate layer has a function of preventing injection of holes from the transparent protective layer into the charge generation layer. Examples of the material for the intermediate layer include silane coupling agents, zirconium butoxide, nylon, and epoxy. Particularly, the zirconium butoxide-based intermediate layer can be dried at room temperature.
It has a high hole injection blocking ability. The film thickness is 0.01 to 0.1
μm is preferred.

透明保護層に含まれている金属あるいは金属酸化物とし
ては、体積固有抵抗率が1011Ω・cm以下で平均粒径が0.
3μm以下のものであれば任意の金属あるいは金属酸化
物粉末を用いることができる。例えば金、銀、アルミニ
ウム、鉄、銅、ニッケル等の金属、酸化亜鉛、酸化チタ
ン、酸化錫、酸化ビスマス、酸化インジウム、酸化アン
チモン等の金属酸化物をあげることができる。このとき
数種の金属および金属酸化物を混合して用いることもで
きる。特に好ましいのは酸化スズと酸化アンチモンとを
含有する平均粒径が0.15μ以下の粉末である。
The metal or metal oxide contained in the transparent protective layer has a volume resistivity of 10 11 Ωcm or less and an average particle size of 0.
Any metal or metal oxide powder can be used as long as it is 3 μm or less. Examples thereof include metals such as gold, silver, aluminum, iron, copper and nickel, and metal oxides such as zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, bismuth oxide, indium oxide and antimony oxide. At this time, several kinds of metals and metal oxides may be mixed and used. Particularly preferred is a powder containing tin oxide and antimony oxide and having an average particle size of 0.15 μm or less.

透明絶縁性樹脂としては、可視光に対して実用上透明
で、電気絶縁性、機械的強度、接着性に優れたものが望
ましい。例えばポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、シリコーン樹脂、ア
ルキッド樹脂、ポリビニルクロライド樹脂、環化ブタジ
エンゴム、フッ素樹脂等を用いることができる。保護層
の溶剤耐性が要求される場合には、硬化性樹脂を用いる
ことが望ましい。
As the transparent insulating resin, one that is practically transparent to visible light and is excellent in electrical insulation, mechanical strength, and adhesiveness is desirable. For example, polyester resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, epoxy resin, acrylic resin,
A vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a silicone resin, an alkyd resin, a polyvinyl chloride resin, a cyclized butadiene rubber, a fluororesin or the like can be used. When the solvent resistance of the protective layer is required, it is desirable to use a curable resin.

保護層の樹脂を金属あるいは金属酸化物の組成比は、樹
脂100重量部に対して金属あるいは金属酸化物が5〜500
重量部、好ましくは5〜100重量部の範囲で用いる。保
護層の膜厚は必要に応じ0.5〜30μmの間に設定するこ
とができる。
The composition ratio of the metal or metal oxide in the resin of the protective layer is 5 to 500 parts by weight of metal or metal oxide with respect to 100 parts by weight of the resin.
It is used in parts by weight, preferably in the range of 5 to 100 parts by weight. The thickness of the protective layer can be set between 0.5 and 30 μm as required.

一方、支持体と電荷輸送層との間に、キャリヤブロッキ
ング層や接着層を設けてもよい。キャリヤブロッキング
層材料としては、シランカップリング剤、ナイロン、エ
ポキシ、酸化アルミニウム等があり、接着層材料として
は、前記した様なポリエステル等の絶縁性樹脂結着剤が
挙げられる。キャリヤブロッキング層、接着層共、膜厚
は0.01〜0.1μmが好適であり、支持体、キャリヤブロ
ッキング層、接着層、電荷輸送層の順に積層する。
On the other hand, a carrier blocking layer or an adhesive layer may be provided between the support and the charge transport layer. The carrier blocking layer material includes a silane coupling agent, nylon, epoxy, aluminum oxide and the like, and the adhesive layer material includes an insulating resin binder such as polyester as described above. The thickness of both the carrier blocking layer and the adhesive layer is preferably 0.01 to 0.1 μm, and the support, the carrier blocking layer, the adhesive layer, and the charge transport layer are laminated in this order.

第2発明 本第2発明は、前記した従来技術の欠点を改良する為
に、なされたものであり、電荷発生層、電荷輸送層共前
記した諸材料を全く用いていない。すなわち、電荷発生
層としては、非晶質シリコン系微粉末を樹脂結着剤中に
分散した層を用い、電荷輸送層としては、絶縁性樹脂中
に約10〜75重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス
(3−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニール)−
4,4′−ジアミンを分散させた層を用いるものである。
Second Invention The second invention was made in order to improve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and neither the charge generation layer nor the charge transport layer used the above-mentioned materials at all. That is, a layer in which amorphous silicon fine powder is dispersed in a resin binder is used as the charge generation layer, and about 10 to 75% by weight of N, N'in the insulating resin is used as the charge transport layer. -Diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl)-
A layer in which 4,4'-diamine is dispersed is used.

さらに、本第2発明においては、電荷輸送層の表面摩耗
を防ぐ為、透明絶縁性樹脂中に平均粒径が0.3μm以下
の金属あるいは金属酸化物を分散させた透明保護層を積
層することが好ましい。
Further, in the second invention, in order to prevent surface abrasion of the charge transport layer, a transparent protective layer in which a metal or metal oxide having an average particle size of 0.3 μm or less is dispersed in a transparent insulating resin may be laminated. preferable.

本第2発明の光導電部材は、好ましくは、透明保護層を
通して電荷輸送層上に負電荷を帯電させ、電荷発生層か
ら光生成した正孔で電荷輸送層上の負電荷を中和して、
潜像を形成させるものである。
The photoconductive member of the second aspect of the present invention preferably charges a negative charge on the charge transport layer through the transparent protective layer and neutralizes the negative charge on the charge transport layer with holes photogenerated from the charge generation layer. ,
It forms a latent image.

なお、第2発明の説明において、前記第1発明と同様の
ものについては、説明する省略する。
In the description of the second invention, the description of the same components as those in the first invention will be omitted.

電荷輸送層としてはポリカーボネート樹脂中に約10〜75
重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチル
フェニル)−(1,1′−ビフェニール)−4,4′−ジアミ
ンを分散させた層が好適である。電荷輸送層は可視光線
に対して実質上非吸収性であるが、電荷発生層から発生
した正孔の注入を可能にし且つこれらの正孔を活性な電
荷輸送層中を通して移動させてこの電荷輸送層の表面上
にある表面電荷を選択的に消失させることができる点で
“活性”である。
About 10-75 in the polycarbonate resin as the charge transport layer
A layer in which wt% of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine is dispersed is preferred. Although the charge transport layer is substantially non-absorbent to visible light, it allows the injection of holes generated from the charge generation layer and transports these holes through the active charge transport layer. It is "active" in that it can selectively dissipate surface charges on the surface of the layer.

本第2発明の光導電部材は、支持体上に、電荷発生層と
して非晶質シリコン微粉末を樹脂結着剤中に分散した層
を、電荷輸送層としてポリカーボネート樹脂等の絶縁性
樹脂中に約10〜75重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−
ビス(3−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニー
ル)−4,4′−ジアミンを分散させた層を、積層したこ
とを特徴とするものである。
The photoconductive member according to the second aspect of the present invention comprises a support, a layer of amorphous silicon fine powder dispersed in a resin binder as a charge generation layer, and an insulating resin such as a polycarbonate resin as a charge transport layer. About 10 to 75% by weight of N, N'-diphenyl-N, N'-
It is characterized in that layers in which bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine is dispersed are laminated.

電荷発生層の厚さは約0.05〜20μmで満足であることが
わかっており、約0.2〜5μmの厚さで良好な結果が得
られる。電荷輸送層の厚さは約5〜100μmであるべき
であるが、この範囲外の厚さも使用することができる。
It has been found that a thickness of the charge generation layer of about 0.05 to 20 μm is satisfactory, and good results are obtained at a thickness of about 0.2 to 5 μm. The thickness of the charge transport layer should be about 5-100 μm, although thicknesses outside this range can be used.

本第2発明の光導電部材は、従来技術に比較して、電荷
発生層として非晶質シリコン微粉末分散層を用いている
為、高光感度を有し、汎色性に富む。また、電荷輸送層
中の低分子有機半導体としてN,N′−ジフェニル−N,N′
−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニー
ル)−4,4′−ジアミンを用いている為、キャリヤ(正
孔)の輸送効率が大きく、高速複写機用に適している。
Since the photoconductive member of the second invention uses the amorphous silicon fine powder dispersion layer as the charge generation layer, it has high photosensitivity and rich panchromaticity as compared with the prior art. Further, N, N′-diphenyl-N, N ′ is used as a low-molecular organic semiconductor in the charge transport layer.
Since -bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine is used, it has a high carrier (hole) transport efficiency and is suitable for high-speed copying machines.

更に、本第2発明の好ましい態様においては、上記光導
電部材上に、透明絶縁性樹脂中に平均粒径が0.3μm以
下の金属あるいは金属酸化物を分散させた透明保護層を
積層することによって、電荷輸送層の表面摩耗を抑える
ことができる。
Furthermore, in a preferred embodiment of the second aspect of the present invention, a transparent protective layer in which a metal or metal oxide having an average particle diameter of 0.3 μm or less is dispersed in a transparent insulating resin is laminated on the photoconductive member. The surface abrasion of the charge transport layer can be suppressed.

「実施例」 第1発明 次に、光導電部材用の支持体上に、絶縁性樹脂中に約10
表75重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メ
チルフェニル)−(1,1′−ビフェニール)−4,4′−ジ
アミンを分散させた電荷輸送層、樹脂結着剤中にシリコ
ン原子、水素原子及び周期律表第III族の原子で構成さ
れた非晶質シリコン系微粉末を分散させた電荷発生層
を、順に積層して成ることを特徴とする、本第1発明の
光導電部材について、実施例を説明する。また、上記光
導電部材上に、中間層、透明絶縁性樹脂中に平均粒径が
0.3μm以下の金属あるいは金属酸化物を分散させた透
明保護層を、積層して成る実施例についても説明する。
[Example] First invention Next, about 10% of insulating resin was applied on the support for the photoconductive member.
Table 7 75% by weight of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine dispersed charge transport layer, resin A charge generation layer in which an amorphous silicon-based fine powder composed of silicon atoms, hydrogen atoms, and atoms of Group III of the periodic table is dispersed in a binder, and the charge generation layers are sequentially stacked. Examples of the photoconductive member of the first invention will be described. Further, on the photoconductive member, the average particle size in the intermediate layer and the transparent insulating resin is
An example in which a transparent protective layer having a metal or metal oxide of 0.3 μm or less dispersed therein is laminated will be described.

実施例1 N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニ
ル)−(1,1′−ビフェニール)−4,4′−ジアミン粉末
5gとファルベンファブリケンバイエルA.G.社からマクロ
ロンとして発売されているポリカーボネート樹脂粉末5g
とを、塩化メチレン50gの入ったフラスコに入れ、マグ
ネティックスターラーで攪拌、溶解して、均質な分散液
にした。この分散液を、厚さ150μmのアルミ蒸着PETフ
ィルム上にアプリケータを用いて塗布し、80℃/hrの条
件で乾燥させて、膜厚25μmの電荷輸送層を作成した。
Example 1 N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine powder
5g and 5g of polycarbonate resin powder sold as Makrolon by Farben Fabryken Bayer AG
And were placed in a flask containing 50 g of methylene chloride, stirred with a magnetic stirrer and dissolved to form a homogeneous dispersion liquid. This dispersion was applied onto an aluminum vapor-deposited PET film having a thickness of 150 μm using an applicator and dried at 80 ° C./hr to form a charge transport layer having a thickness of 25 μm.

次に、容量結合型グロー放電装置内の、一方の電極上に
コーニング社製7059ガラス板を設置し、106Torrの真空
度迄拡散ポンプで真空度を上げた。しかるのち、ガラス
板の温度を250℃に設定し、SiH4100sccm、H289sccm、B2
H6、11sccm(ただし、B2H6はH2で希釈されているため、
B2H6はSiH4に対して10vppm)の流量のガスを装置に流し
こみ、13.56MHzのR.F.でグロー放電分解を行なった。放
電分解後、ガラス板上にアモルファスシリコン微粉末を
得た。
Then, in the capacitively coupled glow discharge apparatus, it sets up a Corning 7059 glass plate on one of the electrodes to raise the degree of vacuum by a diffusion pump to a vacuum degree of 10 6 Torr. After that, set the temperature of the glass plate to 250 ℃, SiH 4 100sccm, H 2 89sccm, B 2
H 6 , 11sccm (However, since B 2 H 6 is diluted with H 2 ,
B 2 H 6 gas was injected into the equipment at a flow rate of 10 vppm with respect to SiH 4 , and glow discharge decomposition was carried out at 13.56 MHz RF. After discharge decomposition, fine amorphous silicon powder was obtained on a glass plate.

微粉末の粒径としては、0.01〜1μm径が好適であるた
め、今回は分別して平均粒径0.1μmの微粉末を集め
た。
Since the particle size of the fine powder is preferably 0.01 to 1 μm, fine powder having an average particle size of 0.1 μm was collected this time.

次に、平均粒径0.1μmの非晶質シリコン系微粉末1.5g
とバスフ社製ポリ−Nビニルカルバゾール粉末3.5gと
を、トルエン7.5g、テトラヒドロフラン17.5gと共に、
アトライターに入れ攪拌、溶解して均質な分散液にし
た。
Next, 1.5 g of amorphous silicon fine powder with an average particle size of 0.1 μm
And 3.5 g of poly-N vinylcarbazole powder manufactured by Basuf Co., together with 7.5 g of toluene and 17.5 g of tetrahydrofuran,
The mixture was placed in an attritor, stirred and dissolved to form a homogeneous dispersion.

分散液を、前記電荷輸送層上にアプリケータを用いて塗
布し、80℃30分の条件で乾燥させて膜厚0.5μmの電荷
発生層を作成し、積層構造にした。
The dispersion was applied onto the charge transport layer using an applicator and dried under the condition of 80 ° C. for 30 minutes to form a charge generation layer having a film thickness of 0.5 μm, which had a laminated structure.

なお、第1図には、実施例1による光導電部材が示され
ており、第1図において、1は電荷発生層、2は電荷輸
送層、3は支持体、4は光導電部材、である。
Incidentally, FIG. 1 shows a photoconductive member according to Example 1, and in FIG. 1, 1 is a charge generation layer, 2 is a charge transport layer, 3 is a support, and 4 is a photoconductive member. is there.

上記電子写真感光体を、川口電機製model SP428 electr
ostatic paper amalygerにセットして、電子写真特性の
評価を行なった。すると、+6kvの印加電圧で帯電電位
が760v、残留電位が10v、感度が半減露光量で11uxsec程
度を得た。さらに、1kサイクル後、帯電電位が770v、残
留電位が20v、感度が半減露光量で11uxsec程度を得た。
The above electrophotographic photosensitive member is model SP428 electr manufactured by Kawaguchi Denki.
It was set on an ostatic paper amaglyger and the electrophotographic characteristics were evaluated. Then, with an applied voltage of +6 kv, the charging potential was 760 v, the residual potential was 10 v, and the sensitivity was about 11 uxsec at the half exposure amount. Further, after 1 k cycle, the charging potential was 770 v, the residual potential was 20 v, and the sensitivity was about 11 uxsec at the half exposure amount.

なお、市販の複写機を用いてコピーテストをしたとこ
ろ、上記データから予想される様に、1サイクル目、1K
サイクル目共、鮮明でかぶりのない良好な画像が得られ
た。
A copy test was performed using a commercially available copying machine. As expected from the above data, the first cycle, 1K
A clear and good image with no fog was obtained at every cycle.

実施例2 本実施例2は、実施例1において作成された光導電部材
上に、中間層、透明保護層を、順に積層した光導電部材
を提供するものである。
Example 2 This Example 2 provides a photoconductive member in which an intermediate layer and a transparent protective layer are laminated in this order on the photoconductive member prepared in Example 1.

まず、マツモト交商からZA−60として発売されているジ
ルコニウムブトキサイド液4gと、信越化学からKBM503と
して発売されているγ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン液1gとを、エタノール300gの入ったフラス
コに入れ、マグネティックスタータで攪拌、溶解して均
質な分散液にした。
First, 4 g of zirconium butoxide solution sold as ZA-60 from Matsumoto Trading and 1 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane solution sold as KBM503 from Shin-Etsu Chemical were added to a flask containing 300 g of ethanol. And stirred with a magnetic starter to dissolve it into a homogeneous dispersion.

あらかじめ、恒温槽(80℃設定)に入れてあった実施例
1で作成された光導電部材を、恒温槽により出し、すぐ
に分散液を光導電部材上に流し塗ることにより、光導電
部材上に膜厚0.1μmの中間層を作成した。
On the photoconductive member, the photoconductive member prepared in Example 1 which had been placed in the constant temperature tank (80 ° C. setting) in advance was taken out by the constant temperature tank, and the dispersion liquid was immediately poured on the photoconductive member. Then, an intermediate layer having a film thickness of 0.1 μm was formed.

次に、三菱金属製の平均粒径0.1μmの酸化スズ/酸化
アンチモン微粉末14gと、関西ペイントからレタン4000
として発売されているポリアクリルウレタン樹脂粉末2
0.9gとを、塩化メチレン44.1gの入ったボールミルに入
れ、ポールミルを回転させて攪拌、溶解し、均質な分散
液にした。
Next, 14 g of tin oxide / antimony oxide fine powder with an average particle size of 0.1 μm manufactured by Mitsubishi Metals and Retan 4000 from Kansai Paint.
Polyacryl urethane resin powder sold as
0.9 g was put into a ball mill containing 44.1 g of methylene chloride, and the pole mill was rotated to be stirred and dissolved to form a homogeneous dispersion liquid.

均質な分散液を作成した後、フラスコに移し、住友バイ
エルウレタン社からDesmodur TPL−5−2291として発売
されている硬化剤5.1gと塩化メチレン632gとを加えて、
マグネティックスターラーで攪拌、溶解して均質な分散
液にした。
After making a homogeneous dispersion, transferred to a flask, adding 5.1 g of a curing agent and 632 g of methylene chloride, which are sold as Desmodur TPL-5-2291 by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.,
It was stirred with a magnetic stirrer and dissolved to form a homogeneous dispersion.

この分散液を、上記中間層上に、アプリケータを用いて
塗布し、80℃24hrの条件を乾燥させて、濃厚1μmの透
明保護層を作成し、積層構造にした。
This dispersion was applied onto the above intermediate layer using an applicator, and dried under the condition of 80 ° C. for 24 hours to prepare a transparent protective layer having a thickness of 1 μm, which had a laminated structure.

なお、第2図には、実施例2による光導電部材が示され
ており、第2図において、5は中間層、6は表面保護層
である。
Note that FIG. 2 shows the photoconductive member according to Example 2, and in FIG. 2, 5 is an intermediate layer, and 6 is a surface protective layer.

前記電子写真感光体を、川口電機製model SP428 electr
ostatic paper amalygerにセットして、電子写真特性の
評価を行なった。
The electrophotographic photoconductor is model SP428 electr manufactured by Kawaguchi Denki.
It was set on an ostatic paper amaglyger and the electrophotographic characteristics were evaluated.

すると、+6kvの印加電圧で、帯電電位が780v、残留電
圧が20v、感度が半減露光量で11uxsec程度を得た。さら
に、1kサイクル後、帯電電位が810v、残留電位が30v、
感度が半減露光量で11uxsec程度を得た。
Then, with an applied voltage of +6 kv, a charging potential of 780 v, a residual voltage of 20 v, and a sensitivity of about 11 uxsec at a half exposure amount were obtained. Furthermore, after 1k cycle, the charging potential is 810v, the residual potential is 30v,
The sensitivity was about 11uxsec at half exposure.

なお、市販の複写機にてコピーテストをしたところ、上
記データから予想される様に、1サイクル目、1Kサイク
ル目共、鮮明でかぶりのない良好な画像が得られた。
When a copy test was carried out using a commercially available copying machine, as expected from the above data, clear and good fog-free images were obtained in both the first cycle and the 1Kth cycle.

実施例3 実施例3においては、第3図に示されるように、実施例
2で作成された光導電部材において、キャリヤブロッキ
ング層7、接着層8、を設けている。
Example 3 In Example 3, as shown in FIG. 3, the carrier blocking layer 7 and the adhesive layer 8 were provided in the photoconductive member prepared in Example 2.

第2発明 次に、光導電部材用の支持体上に、樹脂結着剤中にシリ
コン原子、水素原子及び周期律表第III族の原子で構成
された非晶質シリコン系微粉末を分散させた電荷発生
層、絶縁性樹脂中に約10〜75重量%のN,N′−ジフェニ
ル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1′−ビ
フェニール)−4,4′−ジアミンを分散させた電荷輸送
層、を順に積層して成ることを特徴とする、本第2発明
の光導電部材について、実施例を説明する。また、上記
光導電部材上に、透明絶縁性樹脂中に平均粒径が0.3μ
m以下の金属あるいは金属酸化物を分散させた透明保護
層を、積層して成る実施例についても説明する。
Second invention Next, an amorphous silicon fine powder composed of silicon atoms, hydrogen atoms and atoms of Group III of the periodic table is dispersed in a resin binder on a support for a photoconductive member. Charge generating layer, about 10 to 75% by weight of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4 'in the insulating resin Examples of a photoconductive member according to the second aspect of the invention will be described in which a charge transport layer having a diamine dispersed therein is sequentially laminated. Further, on the photoconductive member, the average particle size in the transparent insulating resin is 0.3μ.
An example in which a transparent protective layer in which a metal or metal oxide of m or less is dispersed is laminated is also described.

実施例4 容量結合型グロー放電装置内の、一方の電極上にコーニ
ング社製7059ガラス板を設置し、10-6Torrの真空度迄拡
散ポンプを真空度を上げた。しかるのち、ガラス板の温
度を250℃に設定し、SiH4100sccm、H289sccm、B2H611sc
cm(ただし、B2H6はH2で希釈されているため、B2H6はSi
H4に対して10vppm)の流量のガスを装置に流しこみ、1
3.56MHzのR.F.でグロー放電分解を行なった。放電分解
後、ガラス板上及びチャンバー内に黒色微粉末を得た。
Example 4 A Corning 7059 glass plate was installed on one electrode in a capacitively coupled glow discharge device, and the vacuum level of the diffusion pump was raised to a vacuum level of 10 -6 Torr. After that, the temperature of the glass plate was set to 250 ° C, SiH 4 100sccm, H 2 89sccm, B 2 H 6 11sc
cm (However, since B 2 H 6 is diluted with H 2 , B 2 H 6 is
Inject gas at a flow rate of 10 vppm) with respect to H 4 into the device, and
Glow discharge decomposition was performed at RF of 3.56MHz. After discharge decomposition, black fine powder was obtained on the glass plate and in the chamber.

微粉末の粒径としては、0.01〜1μm径が好適であるた
め、分別して平均粒径0.1μmの微粉末を集めた。
Since the particle size of the fine powder is preferably 0.01 to 1 μm, fine particles having an average particle size of 0.1 μm were collected by fractionation.

次に非晶質シリコン系微粉末1.5gとバスフ社製ポリ−N
ビニルカルバゾール粉末3.5gとを、トルエン7.5g、テト
ラヒドロフラン17.5gと共に、アトライターに入れ攪
拌、溶解して均質な分散液にした。
Next, 1.5 g of amorphous silicon-based fine powder and Poly-N manufactured by BASF
3.5 g of vinylcarbazole powder and 7.5 g of toluene and 17.5 g of tetrahydrofuran were put in an attritor, stirred and dissolved to form a homogeneous dispersion liquid.

この分散液を、厚さ150μmのアルミ蒸着PETフィルム上
にアプリケータを用いて塗布し、80℃30分の条件で乾燥
させて、膜厚2μmの電荷発生層を作成した。
This dispersion was applied onto an aluminum vapor-deposited PET film having a thickness of 150 μm using an applicator and dried at 80 ° C. for 30 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 2 μm.

次に、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフ
ェニル)−(1,1′−ビフェニール)−4,4′−ジアミン
粉末5gと、フアルベンフアブリケンバイルA.G.社からマ
クロロンとして発売されているポリカーボネート樹脂粉
末5gとを、塩化メチレン50gの入ったフラスコに入れ、
マグネティックスターラーで攪拌、溶解して、均質な分
散液にした。
Next, 5 g of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine powder and Huarben Huabriken Weil AG 5g of polycarbonate resin powder sold as Macrolon from, and placed in a flask containing 50g of methylene chloride,
It was stirred and dissolved with a magnetic stirrer to obtain a homogeneous dispersion liquid.

この分散液を、前記電荷輸送層上にアプリケータを用い
て塗布し、80℃1時間の条件で乾燥させて、膜厚25μm
の電荷輸送層を作製し、積層構造にした。
This dispersion was applied onto the charge transport layer using an applicator and dried under the conditions of 80 ° C. for 1 hour to give a film thickness of 25 μm.
The charge transport layer of was prepared to have a laminated structure.

なお、第4図には、実施例4による光導電部材が示され
ており、第4図において、11は電荷輸送層、12は電荷発
生層、13支持体、14は光導電部材、である。
Incidentally, FIG. 4 shows a photoconductive member according to Example 4, and in FIG. 4, 11 is a charge transport layer, 12 is a charge generation layer, 13 support, and 14 is a photoconductive member. .

上記電子写真感光体を、6kvの印加電圧で電子写真特性
の評価を行なったところ、帯電電位が−760v、残留電位
が−10v、感度が半減露光量で11uxsoc程度であった。さ
らに、1kサイクル後、帯電電位が−770v、残留電位が−
20v、感度が半減露光量で11uxsoc程度を得た。
When the electrophotographic characteristics of the above electrophotographic photosensitive member were evaluated with an applied voltage of 6 kv, the charging potential was −760 v, the residual potential was −10 v, and the sensitivity was about 11 uxsoc at a half-exposure amount. Furthermore, after 1k cycle, the charging potential was −770v and the residual potential was −
20v, sensitivity was about 11ux soc at half exposure.

実施例5 本実施例は、実施例4において作成された光導電部材上
に、透明保護層を積層した光導電部材を提供するもので
ある。
Example 5 This example provides a photoconductive member in which a transparent protective layer is laminated on the photoconductive member prepared in Example 4.

三菱金属製の平均粒径0.1μmの酸化スズ/酸化アンチ
モン微分末14gと、関西ペイントからレタン4000として
発売されているポリアクリルウレタン樹脂粉末20.9gと
を、塩化メチレン44.1gの入ったボールミルに入れ、ボ
ールミルを回転させて攪拌、溶解して、均質な分散液に
した。
Put 14g of tin oxide / antimony oxide derivative powder with an average particle size of 0.1μm made by Mitsubishi Metals and 20.9g of polyacryl urethane resin powder sold as Retan 4000 by Kansai Paint into a ball mill containing 44.1g of methylene chloride. The ball mill was rotated, stirred and dissolved to form a homogeneous dispersion liquid.

均質な分散液を作成した後、フラスコに移し、住友バイ
エルウレタン社からDesmodur TPL−5−2291として発売
されている硬化剤5.1gと塩化メチレン632gとを加えて、
マグネティックスターラーで攪拌、溶解して均質な分散
液にした。
After making a homogeneous dispersion, transferred to a flask, adding 5.1 g of a curing agent and 632 g of methylene chloride, which are sold as Desmodur TPL-5-2291 by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.,
It was stirred with a magnetic stirrer and dissolved to form a homogeneous dispersion.

この分散液を、上記光導電部材・上に、アプリケータを
用いて塗布し、80℃24hrの条件で乾燥させて、膜厚2μ
mの透明保護層を作成し、積層構造にした。
This dispersion liquid was applied onto the above-mentioned photoconductive member using an applicator and dried under the conditions of 80 ° C and 24 hr to give a film thickness of 2 μm.
A transparent protective layer of m was formed to have a laminated structure.

なお、第5図には、実施例5による光導電部材が示され
ており、第5図において、17は透明保護層である。
Incidentally, FIG. 5 shows a photoconductive member according to Example 5, and in FIG. 5, 17 is a transparent protective layer.

前記電子写真感光体を、川口電機製model SP428 electr
ostatic paper analygerにセットして、電子写真特性の
評価を行なった。
The electrophotographic photoconductor is model SP428 electr manufactured by Kawaguchi Denki.
It was set in an ostatic paper analyger and the electrophotographic characteristics were evaluated.

すると、−6kvの印加電圧で、帯電電位が−780v、残留
電圧が20v、感度が半減露光量で11uxsec程度を得た。さ
らに、1kサイクル後、帯電電位が−810v、残留電位が−
50v、感度が半減露光量で11uxsec程度を得た。
Then, with an applied voltage of −6 kv, a charging potential of −780 v, a residual voltage of 20 v, and a sensitivity of about 11 uxsec at a half exposure amount were obtained. Furthermore, after 1k cycle, the charging potential is -810v and the residual potential is -810v.
50v, sensitivity was about 11uxsec at half exposure.

実施例6 実施例6においては、第6図に示されているように、実
施例4で作成された光導電部材において、キャリヤブロ
ッキング層15、接着層16、を設けている。
Example 6 In Example 6, as shown in FIG. 6, a carrier blocking layer 15 and an adhesive layer 16 are provided in the photoconductive member produced in Example 4.

「発明の効果」 以上説明したように、本発明によれば、電子写真感光体
として使用した場合に良好な画像を得ることができる。
"Effects of the Invention" As described above, according to the present invention, a good image can be obtained when used as an electrophotographic photoreceptor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は第1発明の実施例1による光導電部材を示す構
成説明図、 第2図は第1発明の実施例2による光導電部材を示す構
成説明図、 第3図は第1発明の実施例3による光導電部材を示す構
成説明図、 第4図は第2発明の実施例4による光導電部材を示す構
成説明図、 第5図は第2発明の実施例5による光導電部材を示す構
成説明図、 第6図は第2発明の実施例6による光導電部材を示す構
成説明図である。 1……電荷発生層、2……電荷輸送層、3……支持体、
4……光導電部材、5……中間層、6……表面保護層、
7……キャリヤブロッキング層、8……接着層、11……
電荷輸送層、12……電荷発生層、13……支持体、14……
光導電部材、15……キャリヤブロッキング層、16……接
着層、17……透明保護層。
FIG. 1 is a structural explanatory view showing a photoconductive member according to Embodiment 1 of the first invention, FIG. 2 is a structural explanatory view showing a photoconductive member according to Embodiment 2 of the first invention, and FIG. FIG. 4 is a structural explanatory view showing a photoconductive member according to Embodiment 3, FIG. 4 is a structural explanatory view showing a photoconductive member according to Embodiment 4 of the second invention, and FIG. 5 is a photoconductive member according to Embodiment 5 of the second invention. 6 is a structural explanatory view showing a photoconductive member according to Example 6 of the second invention. 1 ... Charge generation layer, 2 ... Charge transport layer, 3 ... Support,
4 ... Photoconductive member, 5 ... Intermediate layer, 6 ... Surface protective layer,
7 ... Carrier blocking layer, 8 ... Adhesive layer, 11 ...
Charge transport layer, 12 ... Charge generation layer, 13 ... Support, 14 ...
Photoconductive member, 15 ... Carrier blocking layer, 16 ... Adhesive layer, 17 ... Transparent protective layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西川 雅之 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ツクス株式会社竹松事業所内 (72)発明者 小野 雅人 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ツクス株式会社竹松事業所内 (56)参考文献 特開 昭56−60446(JP,A) 特開 昭56−35140(JP,A) 特開 昭55−79450(JP,A) 特開 昭53−27033(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masayuki Nishikawa 1600 Takematsu, Minamiashigara City, Kanagawa Prefecture Fuji Zero Tsux Co., Ltd. Takematsu Plant (72) Inventor Masato Ono 1600 Takematsu, Minami Ashigara City, Kanagawa Prefecture Fuji Zero Tsux Corporation Takematsu Business In-house (56) Reference JP-A-56-60446 (JP, A) JP-A-56-35140 (JP, A) JP-A-55-79450 (JP, A) JP-A-53-27033 (JP, A)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光導電部材用の支持体上に、 絶縁性樹脂中に約10〜75重量%のN,N′−ジフェニル−
N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェ
ニール)−4,4′−ジアミンを分散させた電荷輸送層、 樹脂結着剤中にシリコン原子、水素原子及び周期律表第
III族の原子を主体とする非晶質シリコン系微粉末を分
散させた電荷発生層を、 順に積層して成ることを特徴とする光導電部材。
1. A support for a photoconductive member, comprising about 10 to 75% by weight of N, N'-diphenyl-in an insulating resin.
Charge transport layer in which N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine is dispersed, silicon atom, hydrogen atom and periodicity in resin binder Front
A photoconductive member comprising a charge generation layer in which fine particles of amorphous silicon based on group III atoms are dispersed, which are sequentially laminated.
【請求項2】特許請求の範囲第(1)項に記載されてい
る光導電部材において、光導電部材上に、 中間層、透明絶縁性樹脂中に平均粒径が0.3μm以下の
金属あるいは金属酸化物を分散させた透明保護層を、積
層して成ることを特徴とする光導電部材。
2. The photoconductive member according to claim 1, wherein a metal or metal having an average particle size of 0.3 μm or less in the intermediate layer and the transparent insulating resin on the photoconductive member. A photoconductive member comprising a transparent protective layer in which an oxide is dispersed and which is laminated.
【請求項3】光導電部材用の支持体上に、 樹脂結着剤中にシリコン原子、水素原子及び周期律表第
III族の原子で構成された非晶質シリコン系微粉末を分
散させた電荷発生層、 絶縁性樹脂中に約10〜75重量%のN,N′−ジフェニル−
N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェ
ニール)−4,4′−ジアミンを分散させた電荷輸送層
を、 順に積層して成ることを特徴とする光導電部材。
3. A resin binder containing silicon atoms, hydrogen atoms, and a periodic table on a support for a photoconductive member.
A charge generation layer in which fine particles of amorphous silicon composed of group III atoms are dispersed. About 10 to 75% by weight of N, N'-diphenyl-in an insulating resin.
A photoconductive member comprising a charge transport layer in which N, N'-bis (3-methylphenyl)-(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine is dispersed, which are sequentially laminated. .
【請求項4】特許請求の範囲第(3)項に記載されてい
る光導電部材において、光導電部材上に、 透明絶縁性樹脂中に平均粒径が0.3μm以下の金属ある
いは金属酸化物を分散させた透明保護層を、積層して成
ることを特徴とする光導電部材。
4. The photoconductive member according to claim 3, wherein a metal or metal oxide having an average particle size of 0.3 μm or less is contained in the transparent insulating resin on the photoconductive member. A photoconductive member comprising a laminated transparent protective layer dispersed therein.
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