JPH0680443A - Method for manufacturing glass optical element - Google Patents
Method for manufacturing glass optical elementInfo
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- JPH0680443A JPH0680443A JP22905092A JP22905092A JPH0680443A JP H0680443 A JPH0680443 A JP H0680443A JP 22905092 A JP22905092 A JP 22905092A JP 22905092 A JP22905092 A JP 22905092A JP H0680443 A JPH0680443 A JP H0680443A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、ガラス光学素子の製造方法に関
し、熱プレス成形されたガラス光学素子表面に生じた鉛
等の黒色薄膜や白濁微小傷を確実に除去することがで
き、透明度の高い安定した特性のガラス光学素子を歩留
り良く得ることができるガラス光学素子の製造方法を提
供することを目的とする。
【構成】 熱プレス成形により成形されたガラス光学素
子の製造方法において、成形後の該ガラス光学素子を物
理的または化学的処理して、該ガラス光学素子表面部の
元素分布または形状を変化させることを特徴とするガラ
ス光学素子の製造方法。
(57) [Summary] [Object] The present invention relates to a method for manufacturing a glass optical element, which can reliably remove a black thin film of lead or the like and a white turbid minute scratch generated on the surface of a glass optical element hot-press molded. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a glass optical element that can obtain a glass optical element having high transparency and stable characteristics with good yield. In a method of manufacturing a glass optical element molded by hot press molding, the glass optical element after molding is subjected to a physical or chemical treatment to change the element distribution or shape of the surface portion of the glass optical element. A method for manufacturing a glass optical element, comprising:
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光学部品等に利用され
るガラス光学素子の製造方法に係り、詳しくは、熱プレ
スで成形されたガラス光学素子表面に生じた鉛等の黒色
薄膜や白濁微小傷を確実に除去して、透明度の高い安定
した特性のガラス光学素子を得ることができるガラス光
学素子の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a glass optical element used for an optical component or the like, and more specifically, a black thin film of lead or the like or cloudiness produced on the surface of a glass optical element formed by hot pressing. The present invention relates to a method for manufacturing a glass optical element capable of reliably removing minute scratches and obtaining a glass optical element having high transparency and stable characteristics.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ガラス光学素子の製造方法には、
例えば鉛含有のフリント系ガラスの熱プレス成形法が知
られている。このフリント系ガラスを熱プレス成形する
と、ガラスの構成成分である鉛イオンが型との界面に拡
散して型表面に存在する微量のハイドロカーボン等の還
元性物質と反応して金属鉛となる。この金属鉛は型材を
侵食したり、ガラスと型の融着を引き起こしたりする。
このため、ガラス成形品の表面に鉛等の黒色薄膜が形成
されたり、微小傷が発生して白濁したりする。このよう
に、ガラス表面部に黒色薄膜や白濁微小傷等が生じてし
まうと、透過率が低下して所望の特性のガラス光学素子
が得られなくなるという欠点があった。2. Description of the Related Art Conventionally, a method for manufacturing a glass optical element has been
For example, a hot press molding method of lead-containing flint glass is known. When this flint-based glass is hot-press molded, lead ions, which are the constituent components of the glass, diffuse at the interface with the mold and react with a trace amount of reducing substances such as hydrocarbons present on the mold surface to form metallic lead. This metallic lead corrodes the mold material and causes fusion between the glass and the mold.
For this reason, a black thin film of lead or the like is formed on the surface of the glass molded product, or minute scratches are generated to cause clouding. Thus, if a black thin film, cloudy microscopic scratches, etc. occur on the surface of the glass, there is a drawback that the transmittance is lowered and a glass optical element having desired characteristics cannot be obtained.
【0003】そこで、上記問題を解消するために、従来
では、例えば特開昭60−145920号公報等で報告
されたものがあり、ここでは、熱プレス成形前の光学ガ
ラス素子表面に予め蒸着法等により反射防止膜を形成す
るようにしている。また、例えば、特公平4−2160
6号公報では、熱プレス成形前のガラス母体表面部に鉛
等の易蒸発成分濃度がガラス母体より減少した表層部を
設けるようにしている。Therefore, in order to solve the above problem, there has been a conventional technique disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 145920/1985. Here, a vapor deposition method is previously performed on the surface of an optical glass element before hot press molding. The antireflection film is formed by the above method. Also, for example, Japanese Patent Publication 4-2160
According to Japanese Patent No. 6, a surface layer portion in which the concentration of easily evaporative components such as lead is lower than that of the glass base material is provided on the surface of the glass base material before hot press molding.
【0004】上記した特開昭60−145920号公報
や特公平4−21606号公報の従来のガラス光学素子
の製造方法では、形成方法は異なるが、どちらも予め熱
プレス成形前のガラス表面部にバリア層を設けているた
め、熱プレス成形中にガラス表面に鉛等を析出し難くす
ることができ、ガラス表面に鉛等の黒色薄膜を形成し難
くすることができる。しかも、仮に白濁微小傷がバリア
層に生じても光学特性を決める基材にまで傷を入り難く
することができる。In the conventional method for manufacturing a glass optical element disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 60-145920 and Japanese Patent Publication No. 4-21606, the forming method is different, but both are preliminarily formed on the glass surface before hot press molding. Since the barrier layer is provided, it is possible to make it difficult to deposit lead and the like on the glass surface during hot press molding, and to make it difficult to form a black thin film of lead and the like on the glass surface. In addition, even if white turbidity micro scratches occur in the barrier layer, it is possible to prevent scratches from reaching the base material that determines the optical characteristics.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た予め熱プレス成形前にガラス表面部にバリア層を設け
る従来のガラス光学素子の製造方法では、熱プレス表面
への鉛等の黒色薄膜や、光学特性を決めるガラス基材へ
の白濁微小傷を生じ難くすることができるが、近時の厳
しい光学特性の要求に伴い、上記方法では十分対応し切
れなくなることがあり、歩留りが悪くなることがあると
いう問題があった。However, in the above-mentioned conventional method for manufacturing a glass optical element in which a barrier layer is provided on the glass surface portion in advance before hot press molding, a black thin film of lead or the like on the hot press surface or optical It is possible to prevent white turbidity minute scratches from occurring on the glass substrate that determines the characteristics, but with the recent demands for severe optical characteristics, the above methods may not be able to adequately meet the requirements, and the yield may deteriorate. There was a problem.
【0006】この従来の方法では、何れも熱プレス成形
前での処理であるため、熱プレス形成後のものを完全に
保証するものではなく、仮に熱プレス成形後に上記の如
く鉛等の黒色薄膜や白濁微小傷が生じてしまうと、再利
用することができないうえ、そのまま装置に組み込まれ
てしまうことがあった。そこで、本発明は、熱プレスで
成形されたガラス光学素子表面に生じた鉛等の黒色薄膜
や白濁微小傷を確実に除去することができ、透明度の高
い安定した特性のガラス光学素子を歩留り良く得ること
ができるガラス光学素子の製造方法を提供することを目
的としている。In all of these conventional methods, since the treatment is performed before hot press molding, it is not possible to completely guarantee that after hot press molding. If a white turbid minute scratch occurs, it may not be reused and may be incorporated into the device as it is. Therefore, the present invention can reliably remove the black thin film and white turbidity micro scratches such as lead generated on the surface of the glass optical element molded by hot pressing, and the yield of glass optical elements with high transparency and stable characteristics is high. It is an object of the present invention to provide a method for producing a glass optical element that can be obtained.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的達成
のため、熱プレス成形により成形されたガラス光学素子
の形成方法において、成形後の該ガラス光学素子を物理
的または化学的処理して、該ガラス光学素子表面部の元
素分布または形状を変化させることを特徴とするもので
ある。To achieve the above object, the present invention provides a method for forming a glass optical element molded by hot press molding, wherein the glass optical element after molding is treated physically or chemically. The element distribution or shape of the surface of the glass optical element is changed.
【0008】本発明においては、前記ガラス光学素子表
面部の処理される厚さは1000Å以下である場合が好
ましい。この場合、1000Åより厚く処理すると、光
学素子の素子特性を決めるガラス基材にまで処理が進み
屈折率等の素子特性が悪くなり好ましくないからであ
る。このため、1000Å以下で処理すればガラス表面
部の変質部分のみを除去又は改質(再生)することがで
きるので、より素子特性の良好な光学素子を得ることが
でき好ましい。なお、特性を考慮すると処理膜厚の更に
好ましい範囲は、300Å以上500Å以下である。In the present invention, it is preferable that the treated surface of the glass optical element has a thickness of 1000 Å or less. In this case, if the treatment is made thicker than 1000 Å, the treatment proceeds even to the glass substrate that determines the element characteristics of the optical element, and the element characteristics such as the refractive index are deteriorated, which is not preferable. Therefore, if the treatment is performed at 1000 Å or less, only the altered portion of the glass surface portion can be removed or modified (regenerated), and an optical element having better element characteristics can be obtained, which is preferable. Considering the characteristics, the more preferable range of the processed film thickness is 300 Å or more and 500 Å or less.
【0009】本発明においては、前記物理的処理は、成
形後のガラス光学素子を液中で超音波処理することによ
り行う場合が好ましく、この場合、超音波処理せずに単
に液中で処理する場合よりもガラス内部ではなくガラス
表面部分を効率良く加温することができるので、ガラス
表面部の変質部分の除去又は改質を効率良く行うことが
できる。しかも、超音波処理等の条件を適宜調整するこ
とにより、処理厚を制御することができる。In the present invention, it is preferable that the physical treatment is carried out by subjecting the glass optical element after molding to ultrasonic treatment in a liquid. In this case, the physical treatment is simply conducted in liquid without ultrasonic treatment. Since it is possible to efficiently heat the glass surface portion rather than the inside of the glass than in the case, it is possible to efficiently remove or modify the deteriorated portion of the glass surface portion. Moreover, the treatment thickness can be controlled by appropriately adjusting the conditions such as ultrasonic treatment.
【0010】本発明においては、前記物理的処理は、成
形後のガラス光学素子よりも硬い部材で研磨することに
より行う場合が好ましく、この場合、ガラス表面部に生
じた白濁微小傷を効率良く除去することができる。な
お、研磨用部材は加工精度の点で微粒子が好ましく、ま
た、この部材には酸化セリウムやアルミナ等が挙げられ
る。In the present invention, it is preferable that the physical treatment is carried out by polishing with a member harder than the glass optical element after molding, and in this case, the white turbid minute scratches generated on the glass surface are efficiently removed. can do. The polishing member is preferably fine particles in terms of processing accuracy, and examples of this member include cerium oxide and alumina.
【0011】本発明においては、前記物理的処理は、反
応性ドライエッチングにより行う場合が好ましく、この
場合、制御性良くガラス表面部分の変質層等を除去する
ことができる。なお、反応性ドライエッチングには、例
えばアルゴンイオン等によるエッチングや、酸素プラズ
マアッシング等のRIEが挙げられる。本発明において
は、前記化学処理は、無機又は有機酸による湿式処理に
より行う場合が好ましく、この場合、硝酸等の無機酸や
酢酸等の有機酸を用いることができ、これらの無機又は
有機酸によれば塩酸や硫酸等で生じ易い塩酸塩、硫酸塩
等の沈澱を生じさせることなく、ガラス表面部の変質層
等を除去することができる。In the present invention, the physical treatment is preferably carried out by reactive dry etching. In this case, the deteriorated layer on the glass surface can be removed with good controllability. The reactive dry etching includes, for example, etching with argon ions and the like, and RIE such as oxygen plasma ashing. In the present invention, the chemical treatment is preferably carried out by a wet treatment with an inorganic or organic acid. In this case, an inorganic acid such as nitric acid or an organic acid such as acetic acid can be used. According to this, it is possible to remove an altered layer or the like on the glass surface portion without causing precipitation of hydrochloride, sulfate or the like that is likely to occur with hydrochloric acid or sulfuric acid.
【0012】本発明においては、前記化学処理は、フッ
素含有化合物を用いた湿式処理により行う場合が好まし
く、この場合、フッ酸等のフッ素含有化合物を用いるこ
とができ、白濁微小傷やSi膜等を効率良く除去するこ
とができる。本発明においては、前記化学処理は、無機
又は有機アルカリによる湿式処理により行う場合が好ま
しく、この場合、ガラス表面部の変質部分の構成元素と
無機又は有機アルカリの構成元素とをイオン交換するこ
とができるので、ガラス表面部の変質層の除去と改質を
同時に行うことができる。例えば鉛含有ガラスを無機ア
ルカリとして水酸化ナトリウムで処理すると、鉛とナト
リウムをイオン交換することができるので、鉛の除去と
ともに変質層を除去することができるうえ、ナトリウム
を含有させることでガラスの強度、加工性を上げること
ができる。なお、有機アルカリには、ジエチルアミン等
が挙げられる。In the present invention, it is preferable that the chemical treatment is carried out by a wet treatment using a fluorine-containing compound. In this case, a fluorine-containing compound such as hydrofluoric acid can be used. Can be removed efficiently. In the present invention, the chemical treatment is preferably performed by a wet treatment with an inorganic or organic alkali, in which case the constituent elements of the altered portion of the glass surface portion and the constituent elements of the inorganic or organic alkali may be ion-exchanged. Therefore, the altered layer on the glass surface can be removed and modified at the same time. For example, when lead-containing glass is treated with sodium hydroxide as an inorganic alkali, lead and sodium can be ion-exchanged, so the deteriorated layer can be removed together with the removal of lead, and the strength of glass can be improved by adding sodium. The workability can be improved. In addition, diethylamine etc. are mentioned as an organic alkali.
【0013】本発明においては、前記化学処理は、キレ
ート試薬による湿式処理を行う場合が好ましく、この場
合、ガラス表面部の構成元素イオンを選択的に除去する
ことができるので、このイオン除去と同時に変質層等を
除去することができる。例えば、鉛含有ガラスをEDT
A等のキレート試薬で処理すると、ガラス表面部分の構
成元素の鉛イオンを選択的に除去してこれと同時に変質
層も除去することができる。In the present invention, the chemical treatment is preferably a wet treatment with a chelating reagent. In this case, the constituent element ions on the glass surface can be selectively removed. The altered layer and the like can be removed. For example, if lead-containing glass is EDT
When treated with a chelating agent such as A, the lead ions of the constituent elements of the glass surface portion can be selectively removed, and at the same time, the altered layer can be removed.
【0014】本発明においては、前記化学処理は、溶融
塩中に浸漬する湿式処理により行う場合が好ましく、こ
の場合、ガラス表面部の構成元素イオンと溶融塩の構成
イオンをイオン交換してガラス表面部の変質層等の除去
と改質を同時に行うことができる。例えば鉛含有ガラス
を硝酸ナトリウムの溶融塩中で処理すると、鉛とナトリ
ウムをイオン交換することができるので、鉛の除去とと
もに変質層を除去することができるうえ、ナトリウムを
含有させることでガラスの強度、加工性を上げることが
できる。In the present invention, the chemical treatment is preferably carried out by a wet treatment of immersing in the molten salt. In this case, the constituent element ions of the glass surface portion and the constituent ions of the molten salt are ion-exchanged to obtain a glass surface. It is possible to remove and modify the deteriorated layer and the like at the same time. For example, when lead-containing glass is treated in a molten salt of sodium nitrate, lead and sodium can be ion-exchanged, so that the deteriorated layer can be removed together with the removal of lead, and the strength of glass can be improved by adding sodium. The workability can be improved.
【0015】本発明においては、前記化学処理は、水や
エタノール等の適当な溶媒による溶液中で浸漬処理する
か、あるいは、その溶液を蒸気にした雰囲気中で処理す
ることにより行う場合であってもよく、この場合、ガラ
ス光素子の光学特性を決める基材にダメージを与え難く
して変質層等を除去することができる。本発明において
は、前記物理処理又は化学処理の少なくとも2つ以上の
処理を同時に行うか、あるいは続けて行う場合が好まし
く、この場合、ガラス表面部に生じた傷、鉛等の付着膜
の具合に合わせて適宜選択して例えば効果的に除去する
ことができる。In the present invention, the chemical treatment is carried out by dipping in a solution of a suitable solvent such as water or ethanol, or by treating the solution in a vaporized atmosphere. In this case, the base material that determines the optical characteristics of the glass optical element is less likely to be damaged, and the altered layer and the like can be removed. In the present invention, it is preferable that at least two or more of the physical treatments or chemical treatments be performed simultaneously or successively, and in this case, the scratches formed on the glass surface, the adhesion film of lead, etc. It can be appropriately selected in combination and can be effectively removed, for example.
【0016】[0016]
【作用】本発明では、ガラス光学素子表面部の元素分布
又は形状を変化することができるため、成形後に生じた
ガラス表面部の鉛等の黒色薄膜や白濁微小傷を確実に除
去することができる。このため、黒色や白濁等のない透
明度の高い所望の特性のガラス光学素子を効率良く得る
ことができる。従って、熱プレス成形後劣化したものを
再利用することができる。In the present invention, since the element distribution or shape of the surface of the glass optical element can be changed, it is possible to reliably remove the black thin film of lead or the like and the white turbidity micro scratches on the surface of the glass after molding. . Therefore, it is possible to efficiently obtain a glass optical element having desired characteristics with high transparency, such as black or cloudiness. Therefore, it is possible to reuse the deteriorated one after hot press molding.
【0017】[0017]
(実施例1)以下、本発明を図面に基づいて説明する。
図1は本発明の実施例1に則したガラス光学素子の製造
方法を説明する図である。図1において、1は所望の形
状に熱プレス成形された鉛含有の重フリントガラス等の
ガラス光学素子であり、2aはプレス成形時にガラス光
学素子1表面に鉛が析出して生じた鉛薄膜による着色
(黒色)層であり、2bは熱プレス成形時にガラス光学
素子1表面に生じた微小傷の白濁層である。(Embodiment 1) Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram illustrating a method of manufacturing a glass optical element according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 is a glass optical element such as lead-containing heavy flint glass hot-press molded into a desired shape, and 2a is a lead thin film formed by deposition of lead on the surface of the glass optical element 1 during press molding. It is a colored (black) layer, and 2b is an opaque layer of minute scratches generated on the surface of the glass optical element 1 during hot press molding.
【0018】次に、そのガラス光学素子の製造方法につ
いて説明する。ここでは本発明の特徴である熱プレス成
形後のガラス光学素子の処理方法について具体的に説明
する。まず、図1(a)に示す如く、成形条件を525
℃、100 Kgcm -2、1分(硝種;SF2)とした金型
を用いた熱プレス成形によりガラス光学素子1を形成す
る。この時、ガラス光学素子1を多数個成形すると、図
1(b)に示す如く、ガラス光学素子1表面に鉛が析出
して鉛の着色層2aが生じたり、ガラス光学素子1表面
に微小傷の白濁層2bが生じたりする。Next, a method of manufacturing the glass optical element will be described. Here, the method of treating the glass optical element after hot press molding, which is a feature of the present invention, will be specifically described. First, as shown in FIG.
The glass optical element 1 is formed by hot press molding using a mold at 100 ° C. and 100 Kgcm −2 for 1 minute (glass type: SF2). At this time, if a large number of glass optical elements 1 are molded, as shown in FIG. 1B, lead is deposited on the surface of the glass optical element 1 to form a colored layer 2a of lead, or minute scratches are formed on the surface of the glass optical element 1. The white turbid layer 2b may occur.
【0019】次に、図1(c),(d)に示す如く、着
色層2a及び白濁層2bが生じたガラス光学素子1を1
M硝酸中で15分間超音波処理することによりガラス表面
部の鉛による着色層2aを酸化によって除去する。次い
で、フッ酸(4M)と硝酸(1.3M)の混合液中で1
分間浸漬することによってガラス表面部の着色層2aや
微小傷による白濁層2bを効率良くエッチングする。こ
の時、硝酸中での超音波処理工程と、フッ酸及び硝酸混
合液中での処理工程とを適宜繰り返し行うことによりエ
ッチング量を適宜調節することができる。このため、ガ
ラス光学素子1に生じた着色層2a及び白濁層2bを確
実に除去することができる。Next, as shown in FIGS. 1 (c) and 1 (d), the glass optical element 1 having the colored layer 2a and the cloudy layer 2b is
The colored layer 2a of lead on the glass surface is removed by oxidation by ultrasonic treatment in M nitric acid for 15 minutes. Then, 1 in a mixed solution of hydrofluoric acid (4M) and nitric acid (1.3M)
By soaking for a minute, the colored layer 2a on the glass surface and the cloudy layer 2b due to minute scratches are efficiently etched. At this time, the etching amount can be appropriately adjusted by appropriately repeating the ultrasonic treatment step in nitric acid and the treatment step in the mixed solution of hydrofluoric acid and nitric acid. Therefore, the colored layer 2a and the cloudy layer 2b generated on the glass optical element 1 can be reliably removed.
【0020】そして、着色層2a及び白濁層2bが除去
されたガラス光学素子1を純水でリンスして乾燥すると
透明度の高いガラス光学素子1を得ることができる。こ
のように、本実施例では、ガラス光学素子1に生じた着
色層2a及び白濁層2bを、硝酸中での超音波処理と、
フッ酸及び硝酸混合液中での処理を適宜繰り返し行うこ
とにより効率良く確実に除去することができる。このた
め、透明度の高い安定した特性のガラス光学素子1を歩
留り良く得ることができる。しかも、熱プレス形成後劣
化したものを再利用することができる。Then, the glass optical element 1 from which the colored layer 2a and the cloudy layer 2b are removed is rinsed with pure water and dried to obtain the glass optical element 1 having high transparency. As described above, in the present embodiment, the colored layer 2a and the cloudy layer 2b formed on the glass optical element 1 are subjected to ultrasonic treatment in nitric acid,
By appropriately repeating the treatment in the mixed solution of hydrofluoric acid and nitric acid, it is possible to remove efficiently and surely. Therefore, the glass optical element 1 having high transparency and stable characteristics can be obtained with high yield. Moreover, it is possible to reuse the deteriorated one after the hot press forming.
【0021】なお、実施例1では、硝酸中での超音波処
理によりガラス光学素子1に生じた着色層2aを除去す
る場合について説明したが、本発明はこれに限定される
ものではなく、例えば、1M水酸化ナトリウムや適用な
pH値(約10)に設定した10%EDTA水溶液によ
る処理を行ってもよいし、また、ギ酸蒸気中に15分間
曝して行ってもよく、上記実施例1と同等の効果を得る
ことができる。In the first embodiment, the case where the colored layer 2a formed on the glass optical element 1 is removed by ultrasonic treatment in nitric acid has been described, but the present invention is not limited to this. Treatment with 1 M sodium hydroxide or a 10% EDTA aqueous solution set to an applicable pH value (about 10) may be performed, or exposure to formic acid vapor for 15 minutes may be performed. The same effect can be obtained.
【0022】また、実施例1では、フッ酸と硝酸混合液
中での処理によりガラス光学素子1に生じた着色層2a
及び白濁層2bを除去する場合について説明したが、本
発明はこれに限定されるものではなく、例えば酸化セリ
ウム7g/100 ml水溶液中で15分間超音波処理を行っ
てもよく、上記実施例1と略同等の効果を得ることがで
きる。このように、超音波処理を行うと、表面に達する
Ce(OH)4 が活性化され、ガラス表面部でのCe−
O−Siの活性錯体の生成を均一に促進させることがで
き、CeO2 の超音波振動による研磨を効率良く行うこ
とができる。In Example 1, the colored layer 2a formed on the glass optical element 1 by the treatment in the mixed solution of hydrofluoric acid and nitric acid.
Although the case where the cloudy layer 2b and the cloudy layer 2b are removed has been described, the present invention is not limited to this. For example, ultrasonic treatment may be carried out for 15 minutes in an aqueous solution of cerium oxide 7 g / 100 ml. It is possible to obtain substantially the same effect as. In this way, when ultrasonic treatment is performed, Ce (OH) 4 reaching the surface is activated, and Ce- at the glass surface portion
The formation of the active complex of O—Si can be uniformly promoted, and polishing by ultrasonic vibration of CeO 2 can be efficiently performed.
【0023】(実施例2)実施例1では着色層2a及び
白濁層2bが生じたガラス光学素子1を処理する場合に
ついて説明したが、着色層2aのみがガラス光学素子1
に生じている場合は本実施例のように処理してもよい。
以下、具体的に図面を用いて説明する。図2は本発明の
実施例2に則したガラス光学素子の製造方法を説明する
図である。図2において、図1と同一符号は同一又は相
当部分を示す。(Example 2) In Example 1, the case where the glass optical element 1 in which the colored layer 2a and the cloudy layer 2b were formed was treated was described, but only the colored layer 2a is the glass optical element 1.
If it occurs, the processing may be performed as in this embodiment.
Hereinafter, a specific description will be given with reference to the drawings. FIG. 2 is a diagram illustrating a method of manufacturing a glass optical element according to the second embodiment of the present invention. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts.
【0024】次に、そのガラス光学素子の製造方法につ
い説明する。ここでは、本発明の特徴である熱プレス成
形後のガラス光学素子の処理方法について具体的に説明
する。まず、図2(a)に示す如く、成形条件を525
℃、100 Kgcm -2、1分(硝種;SF2)とした金型
を用いた熱プレス成形によりガラス光学素子1を形成す
る。この時、図2(b)に示す如く、ガラス光学素子1
表面に鉛が析出して着色層2aが生じる。Next, a method of manufacturing the glass optical element will be described. Here, a method of treating a glass optical element after hot press molding, which is a feature of the present invention, will be specifically described. First, as shown in FIG.
The glass optical element 1 is formed by hot press molding using a mold at 100 ° C. and 100 Kgcm −2 for 1 minute (glass type: SF2). At this time, as shown in FIG. 2B, the glass optical element 1
Lead is deposited on the surface to form the colored layer 2a.
【0025】次に、図2(c)に示す如く、着色層2a
が生じたガラス光学素子1を酸素プラズマによるRIE
法によりエッチングする。この時、ガラス光学素子1に
生じた着色層2aが除去される。このように、本実施例
ではガラス光学素子1に生じた着色層2aを酸素プラズ
マによるRIEで処理することにより効率良く確実に除
去することができる。このため、透明度の高い安定した
特性のガラス光学素子1を歩留り良く得ることができ
る。Next, as shown in FIG. 2C, the colored layer 2a
Of the glass optical element 1 in which the occurrence of oxygen is caused by RIE by oxygen plasma
Etching by the method. At this time, the colored layer 2a generated on the glass optical element 1 is removed. As described above, in this embodiment, the colored layer 2a formed on the glass optical element 1 can be efficiently and surely removed by treating the colored layer 2a by RIE using oxygen plasma. Therefore, the glass optical element 1 having high transparency and stable characteristics can be obtained with high yield.
【0026】(実施例3)実施例1では着色層2a及び
白濁層2bが生じたガラス光学素子1を処理する場合に
ついて説明したが、着色層2aのみがガラス光学素子1
に生じている場合は本実施例のように処理してもよい。
以下、具体的に図面を用いて説明する。図3は本発明の
実施例3に則したガラス光学素子の製造方法を説明する
図である。図3において、図1と同一符号は同一又は相
当部分を示す。(Example 3) In Example 1, the case where the glass optical element 1 having the colored layer 2a and the cloudy layer 2b was treated was described, but only the colored layer 2a is the glass optical element 1.
If it occurs, the processing may be performed as in this embodiment.
Hereinafter, a specific description will be given with reference to the drawings. FIG. 3 is a diagram illustrating a method of manufacturing a glass optical element according to the third embodiment of the present invention. 3, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts.
【0027】次に、そのガラス光学素子の製造方法につ
い説明する。ここでは、本発明の特徴である熱プレス成
形後のガラス光学素子の処理方法について具体的に説明
する。まず、図3(a)に示す如く、成形条件を525
℃、100 Kgcm -2、1分(硝種;SF2)とした金型
を用いた熱プレス成形によりガラス光学素子1を形成す
る。この時、図3(b)に示す如く、ガラス光学素子1
表面に鉛が析出して着色層2aが生じる。Next, a method of manufacturing the glass optical element will be described. Here, a method of treating a glass optical element after hot press molding, which is a feature of the present invention, will be specifically described. First, as shown in FIG.
The glass optical element 1 is formed by hot press molding using a mold at 100 ° C. and 100 Kgcm −2 for 1 minute (glass type: SF2). At this time, as shown in FIG. 3B, the glass optical element 1
Lead is deposited on the surface to form the colored layer 2a.
【0028】次に、図3(c)に示す如く、着色層2a
が生じたガラス光学素子1を400℃の硝酸カリウムに
で浸漬処理することにより、ガラス光学素子1に生じた
着色層2aを除去する、この時、ガラス光学素子1表面
に生じた鉛による着色層2aは硝酸カリウム溶液によっ
て溶融(鉛の溶融)されて除去されるとともに、硝酸カ
リウム溶液中のカリウムイオンと着色層2aの鉛イオン
を交換することによって除去される。Next, as shown in FIG. 3C, the colored layer 2a.
The colored layer 2a formed on the glass optical element 1 is removed by immersing the glass optical element 1 in which the above occurs in potassium nitrate at 400 ° C. At this time, the colored layer 2a formed by lead on the surface of the glass optical element 1 is removed. Is removed by melting with a potassium nitrate solution (melting of lead) and is removed by exchanging potassium ions in the potassium nitrate solution for lead ions in the colored layer 2a.
【0029】このように、本実施例では、ガラス光学素
子1に生じた着色層2aを硝酸カリウムの溶融塩中に浸
漬処理することにより、効率良く確実に除去することが
できる。このため、透明度の高い安定した特性のガラス
光学素子1を歩留り良く得ることができる。As described above, in this embodiment, the colored layer 2a formed on the glass optical element 1 can be efficiently and surely removed by immersing it in the molten salt of potassium nitrate. Therefore, the glass optical element 1 having high transparency and stable characteristics can be obtained with high yield.
【0030】[0030]
【発明の効果】本発明によれば、熱プレスで成形された
ガラス光学素子表面に生じた鉛等の黒色薄膜や白濁微小
傷を確実に除去することができ、透明度の高い安定した
特性のガラス光学素子を歩留り良く得ることができると
いう効果がある。According to the present invention, a black thin film of lead or the like and white turbid minute scratches formed on the surface of a glass optical element molded by hot pressing can be surely removed, and a glass having high transparency and stable characteristics. There is an effect that an optical element can be obtained with high yield.
【図1】本発明の実施例1に則したガラス光学素子の製
造方法を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a method of manufacturing a glass optical element according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施例2に則したガラス光学素子の製
造方法を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a method of manufacturing a glass optical element according to a second embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施例3に則したガラス光学素子の製
造方法を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a method of manufacturing a glass optical element according to a third embodiment of the present invention.
1 ガラス光学素子 2a 着色層 2b 白濁層 1 Glass Optical Element 2a Colored Layer 2b Cloudy Layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 湊 明人 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 遠藤 弘之 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Akito Minato 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Inside Ricoh Co., Ltd. (72) Hiroyuki Endo 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Stock company Ricoh
Claims (12)
素子の製造方法において、成形後の該ガラス光学素子を
物理的または化学的処理して、該ガラス光学素子表面部
の元素分布または形状を変化させることを特徴とするガ
ラス光学素子の製造方法。1. A method of manufacturing a glass optical element molded by hot press molding, wherein the glass optical element after molding is subjected to a physical or chemical treatment to change the element distribution or shape of the surface of the glass optical element. A method for manufacturing a glass optical element, which comprises:
さは1000Å以下であることを特徴とする請求項1記
載のガラス光学素子の製造方法。2. The method for manufacturing a glass optical element according to claim 1, wherein the treated thickness of the surface portion of the glass optical element is 1000 Å or less.
子を液中で超音波処理することにより行うことを特徴と
する請求項1乃至2記載のガラス光学素子の製造方法。3. The method for producing a glass optical element according to claim 1, wherein the physical treatment is performed by subjecting the glass optical element after molding to ultrasonic treatment in a liquid.
子よりも硬い部材で研磨することにより行うことを特徴
とする請求項1乃至3記載のガラス光学素子の製造方
法。4. The method for producing a glass optical element according to claim 1, wherein the physical treatment is performed by polishing with a member harder than the glass optical element after molding.
グにより行うことを特徴とする請求項1乃至4記載のガ
ラス光学素子の製造方法。5. The method for manufacturing a glass optical element according to claim 1, wherein the physical treatment is performed by reactive dry etching.
式処理により行うことを特徴とする請求項1乃至5記載
のガラス光学素子の製造方法。6. The method for manufacturing a glass optical element according to claim 1, wherein the chemical treatment is performed by a wet treatment with an inorganic or organic acid.
た湿式処理により行うことを特徴とする請求項1乃至6
記載のガラス光学素子の製造方法。7. The chemical treatment is performed by a wet treatment using a fluorine-containing compound.
A method for manufacturing the glass optical element as described above.
よる湿式処理により行うことを特徴とする請求項1乃至
7記載のガラス光学素子の製造方法。8. The method of manufacturing a glass optical element according to claim 1, wherein the chemical treatment is performed by a wet treatment with an inorganic or organic alkali.
処理により行うことを特徴とする請求項1乃至8記載の
ガラス光学素子の製造方法。9. The method for manufacturing a glass optical element according to claim 1, wherein the chemical treatment is a wet treatment with a chelating reagent.
処理により行うことを特徴とする請求項1乃至9記載の
ガラス光学素子の製造方法。10. The method for manufacturing a glass optical element according to claim 1, wherein the chemical treatment is performed by a wet treatment of immersing in a molten salt.
で浸漬処理するか、あるいはその溶液を蒸気にした雰囲
気中で処理することにより行うことを特徴とする請求項
1乃至10記載のガラス光学素子の製造方法。11. The glass according to claim 1, wherein the chemical treatment is performed by immersion treatment in a solution with an appropriate solvent or by treating the solution in an atmosphere of steam. Optical element manufacturing method.
つ以上の処理を同時に行うか、あるいは続けて行うこと
を特徴とする請求項2乃至11記載のガラス光学素子の
製造方法。12. At least two of the physical treatment or the chemical treatment.
The method for manufacturing a glass optical element according to claim 2, wherein one or more treatments are performed simultaneously or successively.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22905092A JPH0680443A (en) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | Method for manufacturing glass optical element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22905092A JPH0680443A (en) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | Method for manufacturing glass optical element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0680443A true JPH0680443A (en) | 1994-03-22 |
Family
ID=16885963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22905092A Pending JPH0680443A (en) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | Method for manufacturing glass optical element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0680443A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5667373A (en) * | 1994-08-05 | 1997-09-16 | Acuson Corporation | Method and apparatus for coherent image formation |
| US5793701A (en) * | 1995-04-07 | 1998-08-11 | Acuson Corporation | Method and apparatus for coherent image formation |
| WO2004078668A1 (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-16 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method of manufacturing article with recess and protrusion |
| US7407889B2 (en) | 2003-03-03 | 2008-08-05 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method of manufacturing article having uneven surface |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP22905092A patent/JPH0680443A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5667373A (en) * | 1994-08-05 | 1997-09-16 | Acuson Corporation | Method and apparatus for coherent image formation |
| US6016285A (en) * | 1994-08-05 | 2000-01-18 | Acuson Corporation | Method and apparatus for coherent image formation |
| US5793701A (en) * | 1995-04-07 | 1998-08-11 | Acuson Corporation | Method and apparatus for coherent image formation |
| WO2004078668A1 (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-16 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method of manufacturing article with recess and protrusion |
| US7407889B2 (en) | 2003-03-03 | 2008-08-05 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method of manufacturing article having uneven surface |
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