JPH0673070A - 有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
有機ケイ素化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH0673070A JPH0673070A JP4232259A JP23225992A JPH0673070A JP H0673070 A JPH0673070 A JP H0673070A JP 4232259 A JP4232259 A JP 4232259A JP 23225992 A JP23225992 A JP 23225992A JP H0673070 A JPH0673070 A JP H0673070A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrocarbon group
- organosilicon compound
- tertiary hydrocarbon
- present
- grignard reagent
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 第３級炭化水素基を有する有機ケイ素化合物
を容易に、かつ収率良く製造する方法の提供。 【構成】 一般式ＲＭｇＸ（Ｒは第３級炭化水素基、Ｘ
はハロゲン原子である）で示されるグリニヤール試薬と
ジクロルシランを反応させて、一般式ＲＳｉＨ2Ｃｌ
（Ｒは第３級炭化水素基である）で示される第３級炭化
水素基を有する有機ケイ素化合物の製造方法
を容易に、かつ収率良く製造する方法の提供。 【構成】 一般式ＲＭｇＸ（Ｒは第３級炭化水素基、Ｘ
はハロゲン原子である）で示されるグリニヤール試薬と
ジクロルシランを反応させて、一般式ＲＳｉＨ2Ｃｌ
（Ｒは第３級炭化水素基である）で示される第３級炭化
水素基を有する有機ケイ素化合物の製造方法
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般式ＲＳｉＨ2 Ｃｌ
（式中、Ｒは第３級炭化水素基である。以下同じ）で示
される第３級炭化水素基を有する有機ケイ素化合物の製
造方法に関するものである。そして、この有機ケイ素化
合物はシランカップリング剤、シリル化剤及び他の有機
ケイ素化合物（例えばオルガノトリアルコキシシラン）
製造の原料等として工業的に有用である。
（式中、Ｒは第３級炭化水素基である。以下同じ）で示
される第３級炭化水素基を有する有機ケイ素化合物の製
造方法に関するものである。そして、この有機ケイ素化
合物はシランカップリング剤、シリル化剤及び他の有機
ケイ素化合物（例えばオルガノトリアルコキシシラン）
製造の原料等として工業的に有用である。
【０００２】
【従来の技術】第３級炭化水素基を有するケイ素化合物
の合成方法としては、（１）グリニヤール試薬を用いる
方法、（２）有機リチウムを利用する方法等が知られて
いる。
の合成方法としては、（１）グリニヤール試薬を用いる
方法、（２）有機リチウムを利用する方法等が知られて
いる。
【０００３】（１）グリニヤール試薬を用いる方法とし
ては、特公昭６３−４８２７４号公報にグリニヤール試
薬とトリクロロシラン又は炭化水素基含有ハロゲン化シ
ランとの反応が開示されている。しかしながら、この方
法で得られる反応生成物には、ハロゲン原子が２個以上
存在するか、あるいは第３級炭化水素基以外の炭化水素
基が存在することになり、一般式ＲＳｉＨ2 Ｃｌで示さ
れる有機ケイ素化合物は得られない。又、特開平３−３
１２９０号公報にもグリニヤール試薬と炭化水素基含有
ハロゲン化シランとの反応が開示されているが、やはり
一般式ＲＳｉＨ 2 Ｃｌに相当するものは得られない。
ては、特公昭６３−４８２７４号公報にグリニヤール試
薬とトリクロロシラン又は炭化水素基含有ハロゲン化シ
ランとの反応が開示されている。しかしながら、この方
法で得られる反応生成物には、ハロゲン原子が２個以上
存在するか、あるいは第３級炭化水素基以外の炭化水素
基が存在することになり、一般式ＲＳｉＨ2 Ｃｌで示さ
れる有機ケイ素化合物は得られない。又、特開平３−３
１２９０号公報にもグリニヤール試薬と炭化水素基含有
ハロゲン化シランとの反応が開示されているが、やはり
一般式ＲＳｉＨ 2 Ｃｌに相当するものは得られない。
【０００４】（２）有機リチウムを利用する方法として
は第３級アルキルリチウムとクロロシラン類を反応させ
る方法が知られているが、この方法は高活性なリチウム
を使用するため特殊な設備を必要とすること、又第３級
アルキルリチウムは空気と接触すると発火する性質があ
り大量に使用する場合には危険度が高いこと等の問題点
を有している。
は第３級アルキルリチウムとクロロシラン類を反応させ
る方法が知られているが、この方法は高活性なリチウム
を使用するため特殊な設備を必要とすること、又第３級
アルキルリチウムは空気と接触すると発火する性質があ
り大量に使用する場合には危険度が高いこと等の問題点
を有している。
【０００５】
【発明が解決しようする課題】本発明は上記のように従
来技術では製造することが困難であった第３級炭化水素
基を有する有機ケイ素化合物を容易かつ収率よく製造す
る方法を提供するものである。
来技術では製造することが困難であった第３級炭化水素
基を有する有機ケイ素化合物を容易かつ収率よく製造す
る方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは近年工業的
に製造されるようになったジクロルシランの反応性につ
いて鋭意研究した結果、ケイ素原子に結合している２つ
の水素原子による立体的及び電子的効果等によって、グ
リニヤール試薬中の嵩高い炭化水素基とケイ素の結合反
応が速やかに起こることを見出し、本発明を完成するに
至った。
に製造されるようになったジクロルシランの反応性につ
いて鋭意研究した結果、ケイ素原子に結合している２つ
の水素原子による立体的及び電子的効果等によって、グ
リニヤール試薬中の嵩高い炭化水素基とケイ素の結合反
応が速やかに起こることを見出し、本発明を完成するに
至った。
【０００７】すなわち本発明は、一般式ＲＭｇＸ（式
中、Ｒは第３級炭化水素基、Ｘはハロゲン原子である。
以下同じ）で示されるグリニヤール試薬とジクロルシラ
ンを反応させて、一般式ＲＳｉＨ2 Ｃｌで示される第３
級炭化水素基を有する有機ケイ素化合物を製造する方法
である。
中、Ｒは第３級炭化水素基、Ｘはハロゲン原子である。
以下同じ）で示されるグリニヤール試薬とジクロルシラ
ンを反応させて、一般式ＲＳｉＨ2 Ｃｌで示される第３
級炭化水素基を有する有機ケイ素化合物を製造する方法
である。
【０００８】本発明においては、ジクロルシランと一般
式ＲＭｇＸで示されるグリニヤール試薬とが工業的に好
ましい穏やかな条件下でも速やかに反応して、第３級炭
化水素基を有する有機ケイ素化合物が容易に得られる。
式ＲＭｇＸで示されるグリニヤール試薬とが工業的に好
ましい穏やかな条件下でも速やかに反応して、第３級炭
化水素基を有する有機ケイ素化合物が容易に得られる。
【０００９】以下本発明について詳しく説明する。本発
明で利用されるグリニヤール試薬としては、ｔｅｒｔ−
ブチルマグネシウムクロライド、ｔｅｒｔ−ブチルマグ
ネシウムブロマイド、１，１−ジメチルプロピルマグネ
シウムクロライド、１，１−ジメチルプロピルマグネシ
ウムブロマイド、１，１−ジエチルプロピルマグネシウ
ムクロライド、１，１−ジエチルプロピルマグネシウム
ブロマイド等が例示される。
明で利用されるグリニヤール試薬としては、ｔｅｒｔ−
ブチルマグネシウムクロライド、ｔｅｒｔ−ブチルマグ
ネシウムブロマイド、１，１−ジメチルプロピルマグネ
シウムクロライド、１，１−ジメチルプロピルマグネシ
ウムブロマイド、１，１−ジエチルプロピルマグネシウ
ムクロライド、１，１−ジエチルプロピルマグネシウム
ブロマイド等が例示される。
【００１０】また本発明におけるＲＳｉＨ2 Ｃｌで示さ
れる第３級炭化水素基を有する有機ケイ素化合物として
は、ｔｅｒｔ−ブチルクロルシラン、１，１−ジメチル
プロピルクロルシラン、１，１−ジエチルプロピルクロ
ルシラン等が例示される。
れる第３級炭化水素基を有する有機ケイ素化合物として
は、ｔｅｒｔ−ブチルクロルシラン、１，１−ジメチル
プロピルクロルシラン、１，１−ジエチルプロピルクロ
ルシラン等が例示される。
【００１１】本発明の製造方法は、先ず、金属マグネシ
ウムとハロゲン化第３級炭化水素化合物とをテトラヒド
ロフランやジエチルエーテル等のエーテル系単独溶媒
下、またはエーテル系溶媒とベンゼンやトルエンなどの
ような他の炭化水素系不活性溶媒との混合溶媒下で反応
させてグリニヤール試薬を作り、このグリニヤール試薬
にジクロルシランを添加して反応させる。
ウムとハロゲン化第３級炭化水素化合物とをテトラヒド
ロフランやジエチルエーテル等のエーテル系単独溶媒
下、またはエーテル系溶媒とベンゼンやトルエンなどの
ような他の炭化水素系不活性溶媒との混合溶媒下で反応
させてグリニヤール試薬を作り、このグリニヤール試薬
にジクロルシランを添加して反応させる。
【００１２】本発明における反応温度は、−２０℃から
１５０℃の範囲で適用可能であるが、反応速度及び操作
性等の面から、好ましくは０℃から４０℃である。
１５０℃の範囲で適用可能であるが、反応速度及び操作
性等の面から、好ましくは０℃から４０℃である。
【００１３】本発明におけるグリニヤール試薬とジクロ
ルシランとの反応のモル比は１：０．１から１：１０の
範囲で行うことができるが、通常は化学量論的に等しい
１：１付近が好ましい。なお原料となるグリニヤール試
薬は、酸素や水分等と反応するので、窒素やアルゴン等
の不活性ガスの存在下で反応を行うことが好ましい。
ルシランとの反応のモル比は１：０．１から１：１０の
範囲で行うことができるが、通常は化学量論的に等しい
１：１付近が好ましい。なお原料となるグリニヤール試
薬は、酸素や水分等と反応するので、窒素やアルゴン等
の不活性ガスの存在下で反応を行うことが好ましい。
【００１４】
【発明の効果】本発明の方法によれば一般式ＲＳｉＨ2
Ｃｌで示される第３級炭化水素基を有する有機ケイ素化
合物を工業的に有利な方法で製造することができる。ま
た、本発明により製造される第３級炭化水素基を有する
有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤、シリル化
剤及び他の有機ケイ素化合物製造の原料として有用であ
る。
Ｃｌで示される第３級炭化水素基を有する有機ケイ素化
合物を工業的に有利な方法で製造することができる。ま
た、本発明により製造される第３級炭化水素基を有する
有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤、シリル化
剤及び他の有機ケイ素化合物製造の原料として有用であ
る。
【００１５】
【実施例】次に本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例１ 温度計、撹拌器、冷却器及び適下ロートを取り付けた１
０００ｃｃの４つ口フラスコにｔｅｒｔ−ブチルマグネ
シウムクロライド０．５モルを含むジエチルエーテル溶
液５８８ｃｃを仕込み、窒素雰囲気下２０℃で撹拌をし
ながら、ジクロルシラン５４．５ｇ（０．５４モル）を
ジエチルエーテル３１６ｇとともに適下ロートから適下
し、その後１時間撹拌を続けた。次に反応液をロータリ
ーエバポレーターに仕込み、７０ｔｏｒｒ下に、オイル
バスで８５℃に加熱して留出液をえた。引続き、この留
出液を蒸留塔を用いて精製し、ｔｅｒｔ−ブチルクロル
シランを４１ｇ（０．３４モル）回収した。なお、反応
液及び最終製品の組成についてはガスクロマトグラフィ
ー分析により確認した。
る。 実施例１ 温度計、撹拌器、冷却器及び適下ロートを取り付けた１
０００ｃｃの４つ口フラスコにｔｅｒｔ−ブチルマグネ
シウムクロライド０．５モルを含むジエチルエーテル溶
液５８８ｃｃを仕込み、窒素雰囲気下２０℃で撹拌をし
ながら、ジクロルシラン５４．５ｇ（０．５４モル）を
ジエチルエーテル３１６ｇとともに適下ロートから適下
し、その後１時間撹拌を続けた。次に反応液をロータリ
ーエバポレーターに仕込み、７０ｔｏｒｒ下に、オイル
バスで８５℃に加熱して留出液をえた。引続き、この留
出液を蒸留塔を用いて精製し、ｔｅｒｔ−ブチルクロル
シランを４１ｇ（０．３４モル）回収した。なお、反応
液及び最終製品の組成についてはガスクロマトグラフィ
ー分析により確認した。
【００１６】実施例２ 温度計、撹拌器、冷却器及び適下ロートを取り付けた３
０００ｃｃの４つ口フラスコに、２−クロロ−２−メチ
ルブタン１３１ｇ（１．２３モル）を仕込み、それにヨ
ウ素０．３ｇ、金属マグネシウム３５．８ｇ（１．４７
モル）及びテトラヒドロフラン１２００ｃｃを入れて窒
素雰囲気下に外温を６５℃に維持して、テトラヒドロフ
ランを還流しながら３時間反応させてグリニャール試薬
（１−１−ジメチルプロピルマグネシウムクロライド）
１．００モルを含むテトラヒドロフラン溶液１５４０ｃ
ｃを得た。引続き、この溶液に１７℃でジクロルシラン
１０１．３ｇ（１．００３モル）を約１時間かけて添加
した後、更に約１時間撹拌を継続した。次に反応液を取
り出し、それにヘキサンを３０００ｃｃ加え、塩を析出
させてろ過し、このろ液を蒸留塔を用いて精製し、１−
１−ジメチルプロピルクロルシランを８１グラム回収し
た。なお、反応液及び最終製品の組成についてはガスク
ロマトグラフィー分析により確認した。
０００ｃｃの４つ口フラスコに、２−クロロ−２−メチ
ルブタン１３１ｇ（１．２３モル）を仕込み、それにヨ
ウ素０．３ｇ、金属マグネシウム３５．８ｇ（１．４７
モル）及びテトラヒドロフラン１２００ｃｃを入れて窒
素雰囲気下に外温を６５℃に維持して、テトラヒドロフ
ランを還流しながら３時間反応させてグリニャール試薬
（１−１−ジメチルプロピルマグネシウムクロライド）
１．００モルを含むテトラヒドロフラン溶液１５４０ｃ
ｃを得た。引続き、この溶液に１７℃でジクロルシラン
１０１．３ｇ（１．００３モル）を約１時間かけて添加
した後、更に約１時間撹拌を継続した。次に反応液を取
り出し、それにヘキサンを３０００ｃｃ加え、塩を析出
させてろ過し、このろ液を蒸留塔を用いて精製し、１−
１−ジメチルプロピルクロルシランを８１グラム回収し
た。なお、反応液及び最終製品の組成についてはガスク
ロマトグラフィー分析により確認した。
【００１７】比較例１ 温度計、撹拌器、冷却器及び適下ロートを取り付けた１
０００ｃｃの４つ口フラスコにｔｅｒｔ−ブチルマグネ
シウムクロライド０．５モルを含むテトラヒドロフラン
溶液５８８ｃｃを仕込み窒素雰囲気下に２５℃で撹拌を
しながらトリクロルシラン７２．６ｇ（０．５４モル）
をテトラヒドロフラン３１６ｇとともに適下ロートから
適下し、その後３時間撹拌を続けた。次に反応液をロー
タリーエバポレーターに仕込み、７０ｔｏｒｒ下にオイ
ルバスで１４０℃に加熱して留出液を得た。この液をガ
スクロマトグラフィーで分析した結果、ｔｅｒｔ−ブチ
ルクロルシランは検出されなかった。
０００ｃｃの４つ口フラスコにｔｅｒｔ−ブチルマグネ
シウムクロライド０．５モルを含むテトラヒドロフラン
溶液５８８ｃｃを仕込み窒素雰囲気下に２５℃で撹拌を
しながらトリクロルシラン７２．６ｇ（０．５４モル）
をテトラヒドロフラン３１６ｇとともに適下ロートから
適下し、その後３時間撹拌を続けた。次に反応液をロー
タリーエバポレーターに仕込み、７０ｔｏｒｒ下にオイ
ルバスで１４０℃に加熱して留出液を得た。この液をガ
スクロマトグラフィーで分析した結果、ｔｅｒｔ−ブチ
ルクロルシランは検出されなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 崇男 新潟県西頸城郡青海町大字青海2209番地 電気化学工業株式会社青海工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式ＲＭｇＸ（式中、Ｒは第３級炭化
水素基、Ｘはハロゲン原子である）で示されるグリニヤ
ール試薬とジクロルシランを反応させて、一般式ＲＳｉ
Ｈ2 Ｃｌ（式中、Ｒは第３級炭化水素基である）で示さ
れる第３級炭化水素基を有する有機ケイ素化合物の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4232259A JPH0673070A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4232259A JPH0673070A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673070A true JPH0673070A (ja) | 1994-03-15 |
Family
ID=16936465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4232259A Pending JPH0673070A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673070A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0656363A1 (en) * | 1993-12-03 | 1995-06-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for preparing a silane having a tertiary hydrocarbon group at the alpha position thereof |
-
1992
- 1992-08-31 JP JP4232259A patent/JPH0673070A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0656363A1 (en) * | 1993-12-03 | 1995-06-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for preparing a silane having a tertiary hydrocarbon group at the alpha position thereof |
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