JPH066573B2 - インド−ルの製造方法 - Google Patents
インド−ルの製造方法Info
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- JPH066573B2 JPH066573B2 JP60161208A JP16120885A JPH066573B2 JP H066573 B2 JPH066573 B2 JP H066573B2 JP 60161208 A JP60161208 A JP 60161208A JP 16120885 A JP16120885 A JP 16120885A JP H066573 B2 JPH066573 B2 JP H066573B2
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- catalyst
- recovered
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アニリンとエチレングリコールからインドー
ルを製造する方法に関する。更に詳しくは、アニリンと
エチレングリコールを触媒の存在下、気相で反応させて
インドールを製造するに当たり、回収アニリンの循環使
用による触媒の活性低下を防止する方法に関するもので
ある。
ルを製造する方法に関する。更に詳しくは、アニリンと
エチレングリコールを触媒の存在下、気相で反応させて
インドールを製造するに当たり、回収アニリンの循環使
用による触媒の活性低下を防止する方法に関するもので
ある。
インドールは香料、染料等広く化学工業原料として使用
され、特に近年、アミノ酸の合成原料として注目されて
いる。従来、インドールは高価な原料を用い、あるい
は、長く煩雑な工程を経て製造されていた。しかしなが
ら、最近に至り、安価な原料を用い、且つ簡単な工程で
インドールを製造する方法としてアニリンとエチレング
リコールの気相接触反応が見出された。
され、特に近年、アミノ酸の合成原料として注目されて
いる。従来、インドールは高価な原料を用い、あるい
は、長く煩雑な工程を経て製造されていた。しかしなが
ら、最近に至り、安価な原料を用い、且つ簡単な工程で
インドールを製造する方法としてアニリンとエチレング
リコールの気相接触反応が見出された。
反応に供する触媒としては各種の固体酸触媒や金属触媒
が提案されている。これらの触媒は、長期に亙って反応
を行った場合、触媒の種類、反応条件によって程度は異
なるが、活性の低下を示し、定期的に酸素雰囲気中での
加熱焼成による再生操作を必要とする。再生操作は煩雑
で、其の頻度が過大であればプロセスの経済性を損う場
合もある。此の活性低下の原因についてその詳細は明ら
かなではないが、常法にしたがって再生賦活が可能であ
ることから、主な原因は有機物が反応条件下で炭素質と
なって触媒表面に沈着し、触媒の活性点を被覆するため
と考えられる。反応を水素雰囲気で行ったり、更に、反
応系に水を添加することによって活性低下は低減される
が、必ずしも充分なものではない。
が提案されている。これらの触媒は、長期に亙って反応
を行った場合、触媒の種類、反応条件によって程度は異
なるが、活性の低下を示し、定期的に酸素雰囲気中での
加熱焼成による再生操作を必要とする。再生操作は煩雑
で、其の頻度が過大であればプロセスの経済性を損う場
合もある。此の活性低下の原因についてその詳細は明ら
かなではないが、常法にしたがって再生賦活が可能であ
ることから、主な原因は有機物が反応条件下で炭素質と
なって触媒表面に沈着し、触媒の活性点を被覆するため
と考えられる。反応を水素雰囲気で行ったり、更に、反
応系に水を添加することによって活性低下は低減される
が、必ずしも充分なものではない。
一方、収率良くインドールを得る為には、反応系に大過
剰のアニリンを存在させる必要があることが知られてい
る。したがって、この方法で工業的にインドールを製造
する場合には、得られる反応混合物中に含まれる多量の
アニリンを分離回収し、再び原料として反応に使用する
ことが不可欠となる。ところが、この場合、回収アニリ
ンを使用しない場合と比較して触媒の活性低下が著しく
促進されると言う問題を生ずる。即ち、回収アニリンを
リサイクルすることなしに反応を行った場合、数百時間
に亙って充分な反応活性を維持出来る触媒に対して、他
の条件は全く同一のまま、回収アニリンを供給すると触
媒の活性低下が顕著となり、再生操作の頻度が著しく増
大する。したがって回収アニリンは触媒に対して有害な
不純物を含有しているものと推定される。
剰のアニリンを存在させる必要があることが知られてい
る。したがって、この方法で工業的にインドールを製造
する場合には、得られる反応混合物中に含まれる多量の
アニリンを分離回収し、再び原料として反応に使用する
ことが不可欠となる。ところが、この場合、回収アニリ
ンを使用しない場合と比較して触媒の活性低下が著しく
促進されると言う問題を生ずる。即ち、回収アニリンを
リサイクルすることなしに反応を行った場合、数百時間
に亙って充分な反応活性を維持出来る触媒に対して、他
の条件は全く同一のまま、回収アニリンを供給すると触
媒の活性低下が顕著となり、再生操作の頻度が著しく増
大する。したがって回収アニリンは触媒に対して有害な
不純物を含有しているものと推定される。
反応装置を出たガス状の反応混合物を凝縮して得られる
反応液中には、生成したインドール及び水、未反応のエ
チレングリコール、過剰のアニリンのみならず少量では
あるが各種の副反応生成物が存在している。其の一部に
ついては分離、同定されているが、多くの副反応生成物
については、其の化学構造、物理化学的性質等は明らか
にされてはいない。これらの副反応生成物の中には、回
収アニリンと分離あるいは無害化されることなく反応装
置へリサイクルされた場合、炭素質となって触媒表面に
沈着し、其の活性低下の原因となるものが含まれている
ものと考えられる。
反応液中には、生成したインドール及び水、未反応のエ
チレングリコール、過剰のアニリンのみならず少量では
あるが各種の副反応生成物が存在している。其の一部に
ついては分離、同定されているが、多くの副反応生成物
については、其の化学構造、物理化学的性質等は明らか
にされてはいない。これらの副反応生成物の中には、回
収アニリンと分離あるいは無害化されることなく反応装
置へリサイクルされた場合、炭素質となって触媒表面に
沈着し、其の活性低下の原因となるものが含まれている
ものと考えられる。
しかも、常法にしたがって蒸留によって回収したアニリ
ンが触媒活性に悪影響を与えることから、活性低下の原
因となる副反応生成物はアニリンとの気液平衡関係か
ら、蒸留操作ではアニリンとの分離が困難であるものと
考えられる。
ンが触媒活性に悪影響を与えることから、活性低下の原
因となる副反応生成物はアニリンとの気液平衡関係か
ら、蒸留操作ではアニリンとの分離が困難であるものと
考えられる。
したがって、本発明の目的は、このような触媒に有害
で、且つ蒸留分離の困難な副反応生成物を有効に無害化
し、回収アニリンを反応原料として使用しても、触媒の
活性に対する悪影響を回避し得るインドールの製造方法
を提供することである。
で、且つ蒸留分離の困難な副反応生成物を有効に無害化
し、回収アニリンを反応原料として使用しても、触媒の
活性に対する悪影響を回避し得るインドールの製造方法
を提供することである。
本発明者らは上記本発明の目的を達成すべく種々検討し
た結果、アニリンを蒸留によって分離、回収して再び反
応装置に供給するに当って、回収アニリンを反応装置に
供給するに先立って二酸化炭素ガスと接触させることが
副反応生成物を触媒に対して無害化する上で極めて有効
であることを見出した。本発明のインドールの製造方法
はエチレングリコールと、それに対して化学量論的に過
剰のアニリンとを触媒の存在下に気相反応させ、得られ
たインドール、副反応生成物および未反応のアニリンを
含有する反応液からアニリンを分離回収し、回収された
アニリンを該気相反応に循環使用してインドールを製造
する方法において、上記回収されたアニリンを二酸化炭
素ガスと接触させることを特徴とするものである。
た結果、アニリンを蒸留によって分離、回収して再び反
応装置に供給するに当って、回収アニリンを反応装置に
供給するに先立って二酸化炭素ガスと接触させることが
副反応生成物を触媒に対して無害化する上で極めて有効
であることを見出した。本発明のインドールの製造方法
はエチレングリコールと、それに対して化学量論的に過
剰のアニリンとを触媒の存在下に気相反応させ、得られ
たインドール、副反応生成物および未反応のアニリンを
含有する反応液からアニリンを分離回収し、回収された
アニリンを該気相反応に循環使用してインドールを製造
する方法において、上記回収されたアニリンを二酸化炭
素ガスと接触させることを特徴とするものである。
本発明の方法においては、固体酸触媒や金属触媒の存在
下、アニリンとエチレングリコールを気相で反応させ
る。
下、アニリンとエチレングリコールを気相で反応させ
る。
この方法において使用される触媒の中、固体酸触媒とし
ては、次のものを挙げることができる。
ては、次のものを挙げることができる。
(1)Si,Al,B,Sb,Bi,Sn,Pb,Ga,Ti,In,Sr,Ca,Zr,Be,Mg,Y,C
u,Ag,Zn,Cd及びランタナイド元素から選ばれた少なくと
も１種の元素の酸化物又は水酸化物（以下、触媒物質
(1)と称する）を含有する触媒、例えば、CdO,ZnO,PbO2,
Al2O3−B2O3,SiO2−ZnO,SiO2−CaO,SiO2−In2O3，SiO2-
SrO,SiO2−CdO,SiO2−Al2O3，SiO2-MgO,TiO2−SnO2,TiO
2-ZrO2CdO2-Bi2O3，SiO2-Y2O3，SiO2,Bi2O3−BeO,SiO2
−Ga2O3，SiO2-La2O3，SiO2-Ce2O3，SiO2-ZnO−AgO,SiO
2−MgO−CuO等。
u,Ag,Zn,Cd及びランタナイド元素から選ばれた少なくと
も１種の元素の酸化物又は水酸化物（以下、触媒物質
(1)と称する）を含有する触媒、例えば、CdO,ZnO,PbO2,
Al2O3−B2O3,SiO2−ZnO,SiO2−CaO,SiO2−In2O3，SiO2-
SrO,SiO2−CdO,SiO2−Al2O3，SiO2-MgO,TiO2−SnO2,TiO
2-ZrO2CdO2-Bi2O3，SiO2-Y2O3，SiO2,Bi2O3−BeO,SiO2
−Ga2O3，SiO2-La2O3，SiO2-Ce2O3，SiO2-ZnO−AgO,SiO
2−MgO−CuO等。
(2)Pd,Pt,Cr,Fe,Ni,Co,Zn,Mo,Cd及びＷから選ばれた少
なくとも１種の元素の硫化物又はセレン化物（以下、触
媒物質(2)と称する）を含有する触媒、例えば、PdS,Pt
S,CrS,FeS,NiS,CoS,ZnS,MoS2,CdS,WS2,ZnSe,CdSe等。
なくとも１種の元素の硫化物又はセレン化物（以下、触
媒物質(2)と称する）を含有する触媒、例えば、PdS,Pt
S,CrS,FeS,NiS,CoS,ZnS,MoS2,CdS,WS2,ZnSe,CdSe等。
(3)Fe,Tl,Ca,Mn,Bi,St,Y,Al,Zn,Cd,Ni,Mg,In,Be,Co,Ga
及びランタナイド元素から選ばれた少なくとも１種の元
素の無機塩、即ちハロゲン化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸
塩、燐酸塩、ピロ燐酸塩、燐モリブデン酸塩、珪タング
ステン酸塩（以下、触媒物質(3)と称する）を含有する
触媒、例えば、硫酸第二鉄、硫酸タリウム、硫酸カルシ
ウム、硫酸マンガン、硫酸ビスマス、硫酸ストロンチウ
ム、硫酸イットリウム、臭化カドミウム、硫酸アルミニ
ウム、硫酸亜鉛、硫酸ニッケル、塩化カドミウム、硫酸
マグネシウム、硫酸インジウム、硫酸ベリリウム、硝酸
カドミウム、硫酸コバルト、硫酸アルミニウム亜鉛、塩
化マグネシウム、硫酸カドミウム、燐酸カドミウム等。
及びランタナイド元素から選ばれた少なくとも１種の元
素の無機塩、即ちハロゲン化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸
塩、燐酸塩、ピロ燐酸塩、燐モリブデン酸塩、珪タング
ステン酸塩（以下、触媒物質(3)と称する）を含有する
触媒、例えば、硫酸第二鉄、硫酸タリウム、硫酸カルシ
ウム、硫酸マンガン、硫酸ビスマス、硫酸ストロンチウ
ム、硫酸イットリウム、臭化カドミウム、硫酸アルミニ
ウム、硫酸亜鉛、硫酸ニッケル、塩化カドミウム、硫酸
マグネシウム、硫酸インジウム、硫酸ベリリウム、硝酸
カドミウム、硫酸コバルト、硫酸アルミニウム亜鉛、塩
化マグネシウム、硫酸カドミウム、燐酸カドミウム等。
また、金属触媒としてはCu,Ag,Pt,Pd,Ni,Co,Fe,Ir,Os,R
u及びRhから選ばれた少なくとも１種の元素（以下、触
媒物質(4)と称する）を含有する触媒を挙げることが出
来る。
u及びRhから選ばれた少なくとも１種の元素（以下、触
媒物質(4)と称する）を含有する触媒を挙げることが出
来る。
上記の各触媒物質の群の中で、最も好ましく用いられる
ものとして、触媒物質(1)の群では、SiO2-ZnO-AgO、触
媒物質(2)の群では、硫化カドミウムが、触媒物質(3)の
群では、硫酸カドミウムが、又、触媒物質(4)の群では
比表面積の大きな担体に担持したAgが挙げられる。
ものとして、触媒物質(1)の群では、SiO2-ZnO-AgO、触
媒物質(2)の群では、硫化カドミウムが、触媒物質(3)の
群では、硫酸カドミウムが、又、触媒物質(4)の群では
比表面積の大きな担体に担持したAgが挙げられる。
これらの触媒は、公知の任意の方法により製造すること
が出来る。即ち、触媒物質(1)は、触媒構成元素の水可
溶性塩を加水分解して水酸化物とし、得られたゲルを乾
燥、焼成する方法、又は、易分解性塩を空気中で熱分解
する方法等により製造することができる。
が出来る。即ち、触媒物質(1)は、触媒構成元素の水可
溶性塩を加水分解して水酸化物とし、得られたゲルを乾
燥、焼成する方法、又は、易分解性塩を空気中で熱分解
する方法等により製造することができる。
触媒物質(2)は、触媒構成元素の水可溶性塩に硫酸ナト
リウム又はセレン化カリウムを加える方法、又は、触媒
構成元素又は其の塩を硫化水素ガス又はセレン化水素ガ
スと接触させる方法等により製造することができる。
リウム又はセレン化カリウムを加える方法、又は、触媒
構成元素又は其の塩を硫化水素ガス又はセレン化水素ガ
スと接触させる方法等により製造することができる。
更に、金属触媒である触媒物質(4)は、触媒構成元素の
塩、水酸化物又は酸化物を水素、ホルマリン、蟻酸、亜
燐酸、ヒドラジン等の還元剤で還元する方法等により製
造することができる。
塩、水酸化物又は酸化物を水素、ホルマリン、蟻酸、亜
燐酸、ヒドラジン等の還元剤で還元する方法等により製
造することができる。
これらの固体酸触媒又は金属触媒は前記の触媒物質(1),
(2),(3),(4)を夫々単独、あるいは２種以上混合したも
の、又はそれらを担体に担持したものであっても良い。
担体としては、一般に使用されているものがいずれも使
用出来るが、通常、珪藻土、軽石、チタニア、シリカー
アルミナ、アルミナ、マグネシア、シリカゲル、活性白
土、石綿等が用いられる。これらの担体に前記触媒物質
を常法により担持させて担持触媒を調製する。
(2),(3),(4)を夫々単独、あるいは２種以上混合したも
の、又はそれらを担体に担持したものであっても良い。
担体としては、一般に使用されているものがいずれも使
用出来るが、通常、珪藻土、軽石、チタニア、シリカー
アルミナ、アルミナ、マグネシア、シリカゲル、活性白
土、石綿等が用いられる。これらの担体に前記触媒物質
を常法により担持させて担持触媒を調製する。
前記触媒物質の担体に対する担持量は特に制限はなく、
通常、担体に応じた適当量、例えば１〜50％の前記触媒
物質を担持させる。
通常、担体に応じた適当量、例えば１〜50％の前記触媒
物質を担持させる。
本発明のインドールの製造方法においてアニリンとエチ
レングリコールとの反応は前記の触媒の存在下、気相で
実施されるが、反応装置としては固定層、流動層又は移
動反応装置のいずれもが使用され得る。
レングリコールとの反応は前記の触媒の存在下、気相で
実施されるが、反応装置としては固定層、流動層又は移
動反応装置のいずれもが使用され得る。
反応装置に導入するアニリンとエチレングリコールは、
アニリン１モルに対してエチレングリコール0.01〜１モ
ルの範囲、特に、0.05〜0.5モルの範囲が好ましい。
アニリン１モルに対してエチレングリコール0.01〜１モ
ルの範囲、特に、0.05〜0.5モルの範囲が好ましい。
原料であるアニリンとエチレングリコールの導入量は液
空間速度(LHSV)で0.01〜10hr-1の範囲であり、予め蒸発
器において気化させた後、反応装置に導入する。又、其
の際に、水蒸気、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタ
ン、窒素、ネオン、アルゴン等をキャリアガスとして同
伴させても良い。とくに、水蒸気、水素、一酸化炭素は
触媒寿命を増大させるので好ましい。
空間速度(LHSV)で0.01〜10hr-1の範囲であり、予め蒸発
器において気化させた後、反応装置に導入する。又、其
の際に、水蒸気、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタ
ン、窒素、ネオン、アルゴン等をキャリアガスとして同
伴させても良い。とくに、水蒸気、水素、一酸化炭素は
触媒寿命を増大させるので好ましい。
反応温度は、200〜600℃の範囲、特に250〜500℃の範囲
が好ましい。
が好ましい。
反応圧力は、標準大気圧以上、反応温度において原料あ
るいは反応混合物中に含まれる成分が凝縮相を形成する
圧力以下の任意の圧力を選ぶことが出来るが、実用的に
は、1.1×105〜1.0×107Paの範囲が好ましく、2.0×1.0
5〜5.0×106Paの範囲がより好ましい。
るいは反応混合物中に含まれる成分が凝縮相を形成する
圧力以下の任意の圧力を選ぶことが出来るが、実用的に
は、1.1×105〜1.0×107Paの範囲が好ましく、2.0×1.0
5〜5.0×106Paの範囲がより好ましい。
本発明の方法においては、インドール製造の反応装置を
出たガス状の反応混合物を凝縮して得られる反応液から
アニリンを回収し、この回収アニリンを二酸化炭素ガス
と接触させたのち、反応装置に循環再使用する。
出たガス状の反応混合物を凝縮して得られる反応液から
アニリンを回収し、この回収アニリンを二酸化炭素ガス
と接触させたのち、反応装置に循環再使用する。
本発明における二酸化炭素とは純粋なCO2ガス、あるい
はCO2ガスを含有するガスであれば特に限定されない。
混合ガスとしてはH2,N2,O2,CO,He,Ne,Ar,CH4,C2H6,C
3H8,C4H10,C2H4,C3H6,C4H8等の通常常温、常圧で気体で
ある物質の１種以上を含むCO2含有ガスが挙げられる。
しかしながら、本発明における方法でCO2と混合できる
物質はこれらに限定されず、CO2と回収アニリンを接触
させる温度、圧力等の処理条件の範囲内で気体である物
質であれば特に限定されない。
はCO2ガスを含有するガスであれば特に限定されない。
混合ガスとしてはH2,N2,O2,CO,He,Ne,Ar,CH4,C2H6,C
3H8,C4H10,C2H4,C3H6,C4H8等の通常常温、常圧で気体で
ある物質の１種以上を含むCO2含有ガスが挙げられる。
しかしながら、本発明における方法でCO2と混合できる
物質はこれらに限定されず、CO2と回収アニリンを接触
させる温度、圧力等の処理条件の範囲内で気体である物
質であれば特に限定されない。
本発明の方法において、回収アニリンとCO2ガスを接触
させる方法としては、例えば回収アニリンとCO2ガスを
密閉容器に入れ攪拌する方法、回収アニリンにCO2ガス
をバブリングさせる方法またはCO2ガス気流中に回収ア
ニリンをスプレーする方法がある。しかしながら、これ
らの方法に限定されず、回収アニリンとCO2ガスとを接
触させ得る各種の方法が適用可能である。また、これら
の方法の形態としては回分式、半回分式または連続式の
何れであってもよい。
させる方法としては、例えば回収アニリンとCO2ガスを
密閉容器に入れ攪拌する方法、回収アニリンにCO2ガス
をバブリングさせる方法またはCO2ガス気流中に回収ア
ニリンをスプレーする方法がある。しかしながら、これ
らの方法に限定されず、回収アニリンとCO2ガスとを接
触させ得る各種の方法が適用可能である。また、これら
の方法の形態としては回分式、半回分式または連続式の
何れであってもよい。
本発明において、回収アニリンと接触させるCO2ガスの
分圧に特に制限はないが、通常、ゲージ圧0.01Kg/cm2以
上であればよい。また、回収アニリンとCO2ガスの接触
時間は約10分乃至50時間である。しかしながら、CO2ガ
ス分圧および接触時間はこの範囲に限定されるものでな
く、回収アニリン中に含まれる副反応生成物の量に応じ
て本発明の目的を達成するのに必要なCO2分圧、時間を
選定すれば良い。通常、CO2ガス分圧が低いほど、接触
時間を長くするのが望ましい。処理温度については、ア
ニリンの蒸発等の問題があるため、150℃以下が好まし
い。
分圧に特に制限はないが、通常、ゲージ圧0.01Kg/cm2以
上であればよい。また、回収アニリンとCO2ガスの接触
時間は約10分乃至50時間である。しかしながら、CO2ガ
ス分圧および接触時間はこの範囲に限定されるものでな
く、回収アニリン中に含まれる副反応生成物の量に応じ
て本発明の目的を達成するのに必要なCO2分圧、時間を
選定すれば良い。通常、CO2ガス分圧が低いほど、接触
時間を長くするのが望ましい。処理温度については、ア
ニリンの蒸発等の問題があるため、150℃以下が好まし
い。
以上のように処理されて得られる回収アニリンは、その
まま、または、新しいアニリンと混合して反応に再使用
される。
まま、または、新しいアニリンと混合して反応に再使用
される。
本発明の方法によれば、エチレングリコールと、それに
対して化学量論的に過剰のアニリンを気相反応させ、反
応混合物を凝縮して得られる反応液からこの過剰のアニ
リンを分離回収して再び原料として使用するに際し、反
応液から分離回収したアニリンを二酸化炭素ガスと接触
させることにより触媒に対して有害な副反応生成物を無
害化することができる。したがって、回収アニリンを使
用しても触媒の活性を長時間維持し収率よくインドール
を製造することができる。
対して化学量論的に過剰のアニリンを気相反応させ、反
応混合物を凝縮して得られる反応液からこの過剰のアニ
リンを分離回収して再び原料として使用するに際し、反
応液から分離回収したアニリンを二酸化炭素ガスと接触
させることにより触媒に対して有害な副反応生成物を無
害化することができる。したがって、回収アニリンを使
用しても触媒の活性を長時間維持し収率よくインドール
を製造することができる。
以下に参考例、比較例および実施例を示して本発明の方
法及び効果を具体的に説明する。
法及び効果を具体的に説明する。
参考例１ 内径２５mmのステンレス鋼製反応管に、粉末状の硫化カ
ドミウムを粒径３〜４mmに圧縮成形した触媒500mlを充
填して反応に供した。７kg/cm2の加圧下に水素ガスを２
／minで反応管に供給し、触媒層の温度を室温から徐
々に350℃迄上昇せしめ、350℃に保持した。ついで、ア
ニリンと33％エチレングリコール水溶液とを、それぞれ
234g/hrおよび48g/hrで混合、気化させた後、反応管に
供給して反応を開始した。反応開始直後におけるエチレ
ングリコール基準のインドール収率は74.8％であった。
この収率は時間の経過と共に漸次低下し、反応開始後20
0時間では62.0％になった。なお、反応に供したアニリ
ンは市販の工業用アニリンである。
ドミウムを粒径３〜４mmに圧縮成形した触媒500mlを充
填して反応に供した。７kg/cm2の加圧下に水素ガスを２
／minで反応管に供給し、触媒層の温度を室温から徐
々に350℃迄上昇せしめ、350℃に保持した。ついで、ア
ニリンと33％エチレングリコール水溶液とを、それぞれ
234g/hrおよび48g/hrで混合、気化させた後、反応管に
供給して反応を開始した。反応開始直後におけるエチレ
ングリコール基準のインドール収率は74.8％であった。
この収率は時間の経過と共に漸次低下し、反応開始後20
0時間では62.0％になった。なお、反応に供したアニリ
ンは市販の工業用アニリンである。
比較例１ 参考例１において、反応管を出る反応混合物を室温迄冷
却し、得られた凝縮液を水相と有機相とに二相分離し
て、後者より蒸留によってアニリンを次のようにして分
離回収した。すなわち、内容積30の蒸留釜、内径80m
m、高さ2000mmの呼称寸法1/4inchラシヒリングの充填層
及び凝縮器より成るガラス製の蒸留装置に該有機相25kg
を仕込み、圧力10Torr、還流比0.2で回分蒸留して行っ
た。初留分0.4kg、ついで20.3kgのアニリン留分を留出
させた。同様の回分蒸留を繰り返して、約80kgの回収ア
ニリンを得た。分析の結果、回収アニリンの純度は99％
以上であった。
却し、得られた凝縮液を水相と有機相とに二相分離し
て、後者より蒸留によってアニリンを次のようにして分
離回収した。すなわち、内容積30の蒸留釜、内径80m
m、高さ2000mmの呼称寸法1/4inchラシヒリングの充填層
及び凝縮器より成るガラス製の蒸留装置に該有機相25kg
を仕込み、圧力10Torr、還流比0.2で回分蒸留して行っ
た。初留分0.4kg、ついで20.3kgのアニリン留分を留出
させた。同様の回分蒸留を繰り返して、約80kgの回収ア
ニリンを得た。分析の結果、回収アニリンの純度は99％
以上であった。
この回収アニリンを用いて参考例１と全く同様の条件で
インドール合成反応を実施した。反応開始直後における
エチレングリコール基準のインドール収率は参考例１と
略同様の75.2％であったが、反応開始後200時間で43.6
％に低下した。
インドール合成反応を実施した。反応開始直後における
エチレングリコール基準のインドール収率は参考例１と
略同様の75.2％であったが、反応開始後200時間で43.6
％に低下した。
実施例１ 参考例１と同一の条件のインドール合成反応からの反応
混合物を室温迄冷却して得られた凝縮液を水相と有機相
に二相分離し、後者より比較例１と同様に回分蒸留によ
ってアニリンを分離回収した。蒸留により約80kgの回収
アニリンを得た。その純度は99％以上であった。
混合物を室温迄冷却して得られた凝縮液を水相と有機相
に二相分離し、後者より比較例１と同様に回分蒸留によ
ってアニリンを分離回収した。蒸留により約80kgの回収
アニリンを得た。その純度は99％以上であった。
この回収アニリンを密閉式の容積３００の撹拌槽に入
れ、系内をCO2ガスでパージしたのち、槽内圧力がゲー
ジ１kg/cm2となるまでCO2ガスを導入し、６０℃におい
て３時間、５００rpmで撹拌した。処理したあとアニリ
ンを、参考例１と同様にインドール合成反応に供した。
反応開始直後におけるエチレングリコール基準のインド
ール収率は74.5％、反応開始200時間後におけるインド
ール収率は60.9％であった。
れ、系内をCO2ガスでパージしたのち、槽内圧力がゲー
ジ１kg/cm2となるまでCO2ガスを導入し、６０℃におい
て３時間、５００rpmで撹拌した。処理したあとアニリ
ンを、参考例１と同様にインドール合成反応に供した。
反応開始直後におけるエチレングリコール基準のインド
ール収率は74.5％、反応開始200時間後におけるインド
ール収率は60.9％であった。
Claims (1)
- 【請求項１】エチレングリコールと、それに対して化学
量論的に過剰のアニリンとを触媒の存在下に気相反応さ
せ、得られたインドール、副反応生成物および未反応の
アニリンを含有する反応液からアニリンを分離回収し、
回収されたアニリンを該気相反応に循環使用してインド
ールを製造する方法において、上記回収されたアニリン
を二酸化炭素ガスと接触させることを特徴とするインド
ールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60161208A JPH066573B2 (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | インド−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60161208A JPH066573B2 (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | インド−ルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6222758A JPS6222758A (ja) | 1987-01-30 |
| JPH066573B2 true JPH066573B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=15730654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60161208A Expired - Lifetime JPH066573B2 (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | インド−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH066573B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60161209A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-22 | Mazda Motor Corp | 車高調整装置 |
-
1985
- 1985-07-23 JP JP60161208A patent/JPH066573B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60161209A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-22 | Mazda Motor Corp | 車高調整装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6222758A (ja) | 1987-01-30 |
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