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JPH0657124A - Resin composition - Google Patents

Resin composition

Info

Publication number
JPH0657124A
JPH0657124A JP20897692A JP20897692A JPH0657124A JP H0657124 A JPH0657124 A JP H0657124A JP 20897692 A JP20897692 A JP 20897692A JP 20897692 A JP20897692 A JP 20897692A JP H0657124 A JPH0657124 A JP H0657124A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
polyphenylene ether
resin
carboxylic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP20897692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Sano
哲也 佐野
Shigeki Takayama
茂樹 高山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP20897692A priority Critical patent/JPH0657124A/en
Publication of JPH0657124A publication Critical patent/JPH0657124A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a resin composition excellent in heat resistance and moldability by mixing a polyphenylene ether resin with a styrene resin and a specified carboxamide wax. CONSTITUTION:The resin composition comprises 10-100 pts.wt. polyphenylene ether resin containing at least 0.01 cyclic terminal group of formula I [wherein R1 to R5 are each H, (substituted) alkyl, halogen or (substituted) aryl; R6 to R9 are each H, (substituted) alkyl, (substituted) alkenyl, (substituted) aryl, alkoxyl, carboxyl, nitrile, acyl or the like] on the average per 100 repeating phenylene ether units constituting the resin and having a number-average molecular weight of 1000-100000, 0-90 pts.wt. styrene resin and 0.1-10 pts.wt. carboxamide wax of formula II [wherein R1 and R5 are each, 10-30C (substituted) alkyl; and R2, R3 and R4 are each a 1-10C alkylene, a cycloaliphatic hydrocarbon residue or phenylene].

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、優れた耐熱性、耐衝撃
性、成形加工性を持つポリフェニレンエーテル系樹脂組
成物に関する。更に詳しくは、特定の構造と軟化点を有
するカルボン酸アマイド系ワックスを含有する耐熱性、
成形加工性が改良されたポリフェニレンエーテル系樹脂
組成物に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a polyphenylene ether resin composition having excellent heat resistance, impact resistance, and moldability. More specifically, heat resistance containing a carboxylic acid amide wax having a specific structure and softening point,
The present invention relates to a polyphenylene ether resin composition having improved moldability.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ポリフェニレンエーテル樹脂は、
耐熱性、電気的特性、耐酸性、耐アルカリ性等に優れ、
しかも低比重、低吸水性である等の優れた特性を有する
樹脂であるが、一方流動性が低いため溶融成形加工が困
難でかつ衝撃強度が低いため若干脆いという欠点も有し
ている。そして、これらの欠点を同時に改良するために
ポリブタジエン成分を含む耐衝撃性ポリスチレンを配合
する技術が、米国特許第3383435号明細書に開示
されているが、耐熱性が低下するという欠点を有してい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, polyphenylene ether resin is
Excellent heat resistance, electrical characteristics, acid resistance, alkali resistance, etc.
Moreover, although it is a resin having excellent properties such as low specific gravity and low water absorption, it also has the drawback that it is difficult to melt-mold due to its low fluidity and it is slightly brittle due to its low impact strength. And, a technique of blending impact-resistant polystyrene containing a polybutadiene component in order to improve these drawbacks at the same time is disclosed in US Pat. No. 3,383,435, but it has a drawback that heat resistance is lowered. There is.

【0003】また、特開昭60−245666号公報、
及び特開平2−44335号公報には、成形性改良のた
めに、特定の融点、分子量をもつカルボン酸アミドを添
加することが開示されている。しかし、これらの場合、
耐熱性の低下は小さいが、成形性の改良効果が充分とは
言えない。しかし、プラスチックの廃棄物問題が深刻化
し、材料の薄肉化、軽量化が要求され、また多種多様な
成形方法が開発されている現在、成形加工性を更に改良
することは必須となってきた。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 60-245666,
Further, JP-A-2-44335 discloses that a carboxylic acid amide having a specific melting point and a specific molecular weight is added in order to improve moldability. But in these cases,
Although the decrease in heat resistance is small, the effect of improving moldability is not sufficient. However, as the problem of plastic waste becomes more serious, materials are required to be thinner and lighter, and various molding methods have been developed, it is essential to further improve the molding processability.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】すなわち本発明の課題
は、上記した手段で解決された耐衝撃性、耐熱性を保持
し、かつ成形加工性がさらに改良されたポリフェニレン
エーテル系樹脂組成物を得ることである。
That is, the object of the present invention is to obtain a polyphenylene ether resin composition which has been solved by the above-mentioned means, retains impact resistance and heat resistance, and has further improved moldability. That is.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意検討した結果、本発明にいたった。すな
わち、本発明は、 (a)ポリフェニレンエーテル系樹脂10〜100重量
部 (b)スチレン系樹脂0〜90重量部 (c)190℃〜260℃の軟化点を有する一般式
(1)で表されるカルボン酸アマイド系ワックス0.1
〜10重量部
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made extensive studies in order to achieve the above object, and as a result have arrived at the present invention. That is, the present invention is represented by the general formula (1) having (a) polyphenylene ether resin 10 to 100 parts by weight (b) styrene resin 0 to 90 parts by weight (c) 190 ° C. to 260 ° C. Carboxylic acid amide wax 0.1
-10 parts by weight

【0006】[0006]

【化3】 [Chemical 3]

【0007】(式中、R1 ,R5 は炭素数10〜30の
アルキル基または置換アルキル基で、R1 とR5 は同一
であっても異なってもよい。R2 ,R3 ,R4 は炭素数
1〜10のアルキレン基、脂環式炭化水素残基またはフ
ェニレン基で、それぞれ同一であっても異なってもよ
い)からなるポリフェニレンエーテル系樹脂組成物であ
る。
(Wherein R 1 and R 5 are alkyl groups or substituted alkyl groups having 10 to 30 carbon atoms, and R 1 and R 5 may be the same or different. R 2 , R 3 and R 5 4 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon residue or a phenylene group, which may be the same or different, and is a polyphenylene ether resin composition.

【0008】本発明で用いるポリフェニレンエーテル系
樹脂とは、次に示す一般式(3)、
The polyphenylene ether resin used in the present invention is represented by the following general formula (3),

【0009】[0009]

【化4】 [Chemical 4]

【0010】(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5
6 は炭素1〜4のアルキル基、アリール基、ハロゲ
ン、水素等の一価の残基であり、R5 ,R6 は同時に水
素ではない)を繰り返し単位とし、構成単位が一般式
(3)の〔a〕及び〔b〕からなる単独重合体、あるい
は共重合体が使用できる。ポリフェニレンエーテル系樹
脂の単独重合体の代表例としては、ポリ(2,6−ジメ
チル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチ
ル−6−エチル1,4−フェニレン)エーテル、ポリ
(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル、
ポリ(2−エチル−6−n−プロピル−1,4−フェニ
レン)エーテル、ポリ(2,6−ジ−n−プロピル−
1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6
−n−ブチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ
(2−エチル−6−イソプロピル−1,4−フェニレ
ン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−クロロエチル−
1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6
−ヒドロキシエチル−1,4−フェニレン)エーテル、
ポリ(2−メチル−6−クロロエチル−1,4−フェニ
レン)エーテル等のホモポリマーが挙げられる。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
R 6 is a monovalent residue such as an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, halogen, or hydrogen, and R 5 and R 6 are not hydrogen at the same time) as a repeating unit, and the structural unit has the general formula (3 Homopolymers or copolymers of [a] and [b] can be used. Typical examples of homopolymers of polyphenylene ether resins include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-ethyl1,4-phenylene) ether, and poly (2 , 6-diethyl-1,4-phenylene) ether,
Poly (2-ethyl-6-n-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-di-n-propyl-
1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6)
-N-butyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6-isopropyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-chloroethyl-)
1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6)
-Hydroxyethyl-1,4-phenylene) ether,
Homopolymers such as poly (2-methyl-6-chloroethyl-1,4-phenylene) ether may be mentioned.

【0011】ポリフェニレンエーテル共重合体は、2,
6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェ
ノールとの共重合体あるいはo−クレゾールとの共重合
体あるいは2,3,6−トリメチルフェノール及びo−
クレゾールとの共重合体等、ポリフェニレンエーテル構
造を主体としてなるポリフェニレンエーテル共重合体を
包含する。
The polyphenylene ether copolymer is 2,
Copolymer of 6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol or copolymer of o-cresol or 2,3,6-trimethylphenol and o-
It includes a polyphenylene ether copolymer mainly composed of a polyphenylene ether structure such as a copolymer with cresol.

【0012】また、本発明のポリフェニレンエーテル系
樹脂中には、本発明の主旨に反しない限り、従来ポリフ
ェニレンエーテル樹脂中に存在させてもよいことが提案
されている他の種々のフェニレンエーテルユニットを部
分構造として含んでいても構わない。少量共存させるこ
とが提案されているものの例としては、特願昭63−1
2698号公報及び特開昭63−301222号公報に
記載されている、2−(ジアルキルアミノメチル)−6
−メチルフェニレンエーテルユニットや、2−(N−ア
ルキル−N−フェニルアミノメチル)−6−メチルフェ
ニレンエーテルユニット等が挙げられる。
Further, in the polyphenylene ether resin of the present invention, various other phenylene ether units which have been proposed to be present in the polyphenylene ether resin may be used unless they are contrary to the gist of the present invention. It may be included as a partial structure. As an example of what is proposed to coexist in a small amount, Japanese Patent Application No. 63-1
2- (dialkylaminomethyl) -6 described in JP-A-2698 and JP-A-63-301222.
-Methylphenylene ether unit, 2- (N-alkyl-N-phenylaminomethyl) -6-methylphenylene ether unit, and the like.

【0013】また、ポリフェニレンエーテル樹脂の主鎖
中にジフェノキノン等が少量結合したものも含まれる。
さらに、例えば特開平2−276823号公報、特開昭
63−108059号公報及び特開昭59−59724
号公報等に記載されている、炭素−炭素二重結合を持つ
化合物により変性されたポリフェニレンエーテルも含
む。
Also included are those in which a small amount of diphenoquinone or the like is bound to the main chain of the polyphenylene ether resin.
Furthermore, for example, JP-A-2-276823, JP-A-63-108059 and JP-A-59-59724.
It also includes polyphenylene ether modified with a compound having a carbon-carbon double bond, which is described in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2003-242242.

【0014】本発明に用いるポリフェニレンエーテル樹
脂の分子量としては、数平均分子量で1,000〜10
0,000である。その好ましい範囲は、約6,000
〜60,000のものである。本発明中の数平均分子量
とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
り、標準ポリスチレンの検量線を用いて求めたポリスチ
レン換算の数平均分子量である。
The polyphenylene ether resin used in the present invention has a number average molecular weight of 1,000 to 10 as a molecular weight.
It is 10,000. Its preferred range is about 6,000.
~ 60,000. The number average molecular weight in the present invention is a polystyrene equivalent number average molecular weight determined by gel permeation chromatography using a calibration curve of standard polystyrene.

【0015】また本発明の(a)成分には、下記の一般
式(2)で表される環化末端基を、樹脂を構成するフェ
ニレンエーテルユニットの100個に対して平均0.0
1個以上含有し、数平均分子量が1,000〜100,
000の範囲にあるポリフェニレンエーテル系樹脂を用
いることができる。
In the component (a) of the present invention, the cyclized terminal group represented by the following general formula (2) is averaged to 0.0 per 100 of the phenylene ether units constituting the resin.
Contains one or more and has a number average molecular weight of 1,000 to 100,
A polyphenylene ether resin in the range of 000 can be used.

【0016】[0016]

【化5】 [Chemical 5]

【0017】このポリフエニレンエーテル系樹脂は以下
のようにして製造することができる。すなわち、一般式
(4)
This polyphenylene ether resin can be manufactured as follows. That is, the general formula (4)

【0018】[0018]

【化6】 [Chemical 6]

【0019】(式中、R1 〜R5 は(2)式で定義した
ものと同じであり、R10、R11はそれぞれ独立に水素、
アルキル基、置換アルキル基を表すが、同時に水素であ
ることはない。)で表される末端基を有するポリフェニ
レンエーテル系樹脂を下記一般式(5)
(In the formula, R 1 to R 5 are the same as defined in the formula (2), R 10 and R 11 are independently hydrogen,
It represents an alkyl group or a substituted alkyl group, but is not hydrogen at the same time. ) A polyphenylene ether resin having a terminal group represented by the following general formula (5)

【0020】[0020]

【化7】 [Chemical 7]

【0021】(式中、R6 、R9 は(2)式で定義した
ものとおなじである。)で表される炭素−炭素二重結合
を有する化合物とラジカル重合開始剤の不存在下に、ポ
リフェニレンエーテル系樹脂のガラス転移温度以上の温
度で加熱することによって製造できる。一般式(5)で
表される化合物の具体例としては、スチレン、αーメチ
ルスチレン、クロルスチレン、メチルスチレン、スチル
ベン、ケイ皮酸アルコールベンザルアセトン、ケイ皮酸
エチル、ケイ皮酸ニトリル、4−ビニルピリジン2−ビ
ニル−3,5−ジアミノ−(s)−トリアジン等が挙げ
られる。
(In the formula, R 6 and R 9 are the same as those defined in the formula (2)) in the absence of a compound having a carbon-carbon double bond and a radical polymerization initiator. It can be produced by heating at a temperature not lower than the glass transition temperature of the polyphenylene ether resin. Specific examples of the compound represented by the general formula (5) include styrene, α-methylstyrene, chlorostyrene, methylstyrene, stilbene, cinnamic acid alcohol benzalacetone, ethyl cinnamate, cinnamic acid nitrile, and 4-vinyl. Pyridine 2-vinyl-3,5-diamino- (s) -triazine and the like can be mentioned.

【0022】さらに(b)成分に用いられるスチレン系
樹脂とは、スチレン系化合物、スチレン系化合物と共重
合可能な化合物をゴム質重合体存在または非存在下に重
合して得られる重合体である。スチレン系化合物とは、
一般式(6)
The styrene resin used as the component (b) is a polymer obtained by polymerizing a styrene compound or a compound copolymerizable with the styrene compound in the presence or absence of a rubbery polymer. . What is a styrene compound?
General formula (6)

【0023】[0023]

【化8】 [Chemical 8]

【0024】(式中、Rは水素、低級アルキルまたはハ
ロゲンを示し、Zはビニル、水素、ハロゲン及び低級ア
ルキルよりなる群から選択され、pは0〜5の整数であ
る。)で表される化合物を意味する。これらの具体例と
しては、スチレン、α−メチルスチレン、2,4−ジメ
チルスチレン、モノクロロスチレン、p−メチルスチレ
ン、p−tert−ブチルスチレン、エチルスチレン等
が挙げられる。また、スチレン系化合物と共重合可能な
化合物としては、メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート等のメタクリル酸エステル類;アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合物類;
無水マレイン酸等の酸無水物等が挙げられ、スチレン系
化合物とともに使用される。また、重合時に共存させ得
るゴム質重合体としては共役ジエン系ゴムあるいは共役
ジエンと芳香族ビニル化合物のコポリマーあるいはこれ
らを一部水素添加したもの、あるいはエチレン−プロピ
レン共重合体系ゴム等が挙げられる。
(Wherein R represents hydrogen, lower alkyl or halogen, Z is selected from the group consisting of vinyl, hydrogen, halogen and lower alkyl, and p is an integer of 0 to 5). Means a compound. Specific examples thereof include styrene, α-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, monochlorostyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, ethylstyrene and the like. The compounds copolymerizable with the styrene compound include methacrylic acid esters such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate; unsaturated nitrile compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile;
Examples thereof include acid anhydrides such as maleic anhydride, which are used together with styrene compounds. Examples of the rubbery polymer that can coexist during the polymerization include a conjugated diene rubber, a copolymer of a conjugated diene and an aromatic vinyl compound, a partially hydrogenated product thereof, and an ethylene-propylene copolymer rubber.

【0025】本発明のスチレン系樹脂の製造方法は限定
されるものではなく、当業者に良く知られている塊状重
合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合のいずれを用いても
良い。本発明の(c)成分に用いられる軟化点が190
℃〜260℃の特定構造を有するカルボン酸アマイド系
ワックスの製造方法は特に限定されるものではないがカ
ルボン酸とジアミンを反応させる際、二塩基酸を存在さ
せることで製造できる。また、軟化点はカルボン酸、ジ
アミン、二塩基酸の種類を変えることで調節できる。
The method for producing the styrene resin of the present invention is not limited, and any of bulk polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization and suspension polymerization well known to those skilled in the art may be used. The softening point used for the component (c) of the present invention is 190.
The method for producing the carboxylic acid amide wax having a specific structure of from 0 to 260 ° C. is not particularly limited, but it can be produced by allowing a dibasic acid to exist when reacting the carboxylic acid and the diamine. The softening point can be adjusted by changing the types of carboxylic acid, diamine and dibasic acid.

【0026】カルボン酸の具体例としてはパルミチン
酸、ステアリン酸、ベヘン酸、モンタン酸、ヒドロキシ
ステアリン酸等が挙げられる。ジアミンの具体例として
はメチレンジアミン、エチレンジアミン、1,3−ジア
ミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、ヘキサメチレ
ンジアミン、メタキシリレンジアミン、パラキシリレン
ジアミン、トリレンジアミン、フェニレンジアミン、イ
ソホロンジアミン等が挙げられる。
Specific examples of the carboxylic acid include palmitic acid, stearic acid, behenic acid, montanic acid, hydroxystearic acid and the like. Specific examples of the diamine include methylenediamine, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, hexamethylenediamine, metaxylylenediamine, paraxylylenediamine, tolylenediamine, phenylenediamine, isophoronediamine and the like. Can be mentioned.

【0027】二塩基酸の具体例としてはマロン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸等が挙げられる。本発明のカルボン酸アマイド系ワ
ックスは1分子中に4個のアミド結合構造を有している
ことが必要であり、ポリフェニレンエーテル系樹脂の成
形加工性を改良する効果が、従来使用されてきたジアミ
ド化合物とは異なる。
Specific examples of the dibasic acid include malonic acid, succinic acid, adipic acid, pimelic acid, azelaic acid and sebacic acid. The carboxylic acid amide wax of the present invention is required to have four amide bond structures in one molecule, and the effect of improving the molding processability of the polyphenylene ether resin is the diamide that has been used conventionally. Different from the compound.

【0028】本発明のカルボン酸アマイド系ワックスの
軟化点は190℃〜260℃であることが好ましい。軟
化点が190℃以下のものは、加工時に揮散したり、耐
熱性を低下させる。260℃以上では加工時に十分に溶
融せず、成形加工性の改良効果がなくなる。このカルボ
ン酸アマイド系ワックスの具体例としてはN,N´−ビ
ス(2−ステアロアミドエチル)−セバカミド、N,N
´−ビス(2−ステアロアミドエチル)アゼライカミ
ド、N,N´−ビス(ステアロアミド−m−キシリレ
ン)セバカミド等が挙げられる。
The softening point of the carboxylic acid amide wax of the present invention is preferably 190 ° C to 260 ° C. Those having a softening point of 190 ° C. or lower volatilize during processing and reduce heat resistance. At 260 ° C. or higher, it does not melt sufficiently during processing, and the effect of improving moldability is lost. Specific examples of the carboxylic acid amide wax include N, N'-bis (2-stearoamidoethyl) -sebacamide, N, N
Examples include ′ -bis (2-stearoamidoethyl) azeraicamide and N, N′-bis (stearoamido-m-xylylene) sebacamide.

【0029】(c)成分の添加量は0.1〜10重量部
であることが好ましく、0.1重量部未満の場合、成形
加工性の改良効果が小さく、10重量部を超えると耐衝
撃性等の機械的強度が低下する。本発明の組成物には他
の添加剤、例えば、可塑剤、安定剤、紫外線吸収剤、難
燃剤、着色剤、離型剤及びガラス繊維、炭素繊維等の繊
維状補強剤、更にはガラスビーズ、炭酸カルシュウム、
タルク等の充填剤を添加することができる。安定剤とし
ては、亜リン酸エステル類、ヒンダードフェノール類、
アルカノールアミン類、酸アミド類、ジチオカルバミン
酸金属塩類、無機硫化物、金属酸化物類の中から単独で
または組み合わせて使用することができる。紫外線吸収
剤としてはベンゾトリアゾール類、サリシレート類、ベ
ンゾフェノン類等が挙げられる。
The component (c) is preferably added in an amount of 0.1 to 10 parts by weight. When it is less than 0.1 parts by weight, the effect of improving the moldability is small, and when it exceeds 10 parts by weight, the impact resistance is high. The mechanical strength such as properties is reduced. In the composition of the present invention, other additives such as a plasticizer, a stabilizer, an ultraviolet absorber, a flame retardant, a coloring agent, a release agent and a fibrous reinforcing agent such as glass fiber and carbon fiber, and further glass beads. , Calcium carbonate,
Fillers such as talc can be added. As the stabilizer, phosphite esters, hindered phenols,
The alkanolamines, acid amides, dithiocarbamic acid metal salts, inorganic sulfides, and metal oxides can be used alone or in combination. Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazoles, salicylates, benzophenones and the like.

【0030】また本発明の組成物には必要に応じて他の
ゴム質重合体、例えばスチレンーブタジエンブロック共
重合体またはその水添物等を添加することも可能であ
る。スチレンーブタジエンブロック共重合体の水添物と
は、少なくとも1個のスチレン系ポリマーブロックと少
なくとも1個のオレフィン系エラストマーブロックとよ
り成るブロック共重合体である。
If necessary, other rubbery polymer such as styrene-butadiene block copolymer or hydrogenated product thereof may be added to the composition of the present invention. A hydrogenated product of a styrene-butadiene block copolymer is a block copolymer composed of at least one styrene polymer block and at least one olefin elastomer block.

【0031】本発明に言うスチレン系ポリマーブロック
とは具体的には一般式(6)
The styrenic polymer block referred to in the present invention is specifically represented by the general formula (6)

【0032】[0032]

【化9】 [Chemical 9]

【0033】(式中、Rは水素、低級アルキルまたはハ
ロゲンを示し、Zはビニル、水素、ハロゲン及び低級ア
ルキルよりなる群から選択され、pは0〜5の整数であ
る)で表される化合物から誘導されるポリマーまたは共
重合体ブロックである。本発明に言うオレフィン系エラ
ストマーブロックとは、エチレン、プロピレン、1−ブ
テン、イソブチレン等のモノオレフィンあるいはブタジ
エン、イソプレン、1,3−ペンタジエン等の共役ジオ
レフィン、1,4−ヘキサジエン、ノルボルネン誘導体
等の非共役ジオレフィンのうちから選ばれた1種以上の
オレフィン化合物が重合あるいは共重合した形態を有す
る重合体ブロックであり、しかも該ブロックの不飽和度
は20%以下である。したがって、オレフィン系エラス
トマーブロックの構成モノマーとして上記のジオレフィ
ン類を用いた場合には、該ブロック部分の不飽和度が2
0%を超えない程度まで水添等により不飽和度を減らす
処置が施されていなければならない。又、オレフィン系
エラストマーブロックにはスチレン系化合物がランダム
に共重合されてもよい。
(Wherein R represents hydrogen, lower alkyl or halogen, Z is selected from the group consisting of vinyl, hydrogen, halogen and lower alkyl, and p is an integer of 0 to 5) Is a polymer or copolymer block derived from The olefin elastomer block referred to in the present invention includes monoolefins such as ethylene, propylene, 1-butene and isobutylene, conjugated diolefins such as butadiene, isoprene and 1,3-pentadiene, 1,4-hexadiene and norbornene derivatives. A polymer block having a form in which one or more olefin compounds selected from non-conjugated diolefins are polymerized or copolymerized, and the unsaturation degree of the block is 20% or less. Therefore, when the above diolefins are used as the constituent monomers of the olefin elastomer block, the degree of unsaturation of the block portion is 2
Measures to reduce the degree of unsaturation, such as hydrogenation, must be taken to the extent that it does not exceed 0%. Further, a styrene compound may be randomly copolymerized with the olefin elastomer block.

【0034】本発明を構成する各成分を混合する方法は
いかなる方法でもよいが、例えば、押出機、加熱ロー
ル、バンバリーミキサー、ニーダー等を使用することが
出来る。
Any method may be used for mixing the respective components constituting the present invention. For example, an extruder, a heating roll, a Banbury mixer, a kneader or the like may be used.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
実施例及び比較例において使用した成分は以下のもので
ある。 (a)成分:ポリフェニレンエーテル系樹脂 a−1;固有粘度が0.50(30℃、クロロホルム
中)であるポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレ
ン)エーテル a−2;フェニレンエーテルユニット100個に対して
下記(7)式で表される末端基を0.25個有する固有
粘度が0.50(30℃、クロロホルム中)であるポリ
(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.
The components used in the examples and comparative examples are as follows. Component (a): polyphenylene ether resin a-1; poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether a-2 having an intrinsic viscosity of 0.50 (in chloroform at 30 ° C.) a-2; phenylene ether unit Poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) having an intrinsic viscosity of 0.50 (at 30 ° C. in chloroform) having 0.25 terminal groups represented by the following formula (7) per 100 )ether

【0036】[0036]

【化10】 [Chemical 10]

【0037】(b)成分:スチレン系樹脂 b−1;ポリブタジエンを9重量%含有するゴム補強ポ
リスチレン b−2;1,2−ビニル結合の90%が水素添加された
ポリブタジエン9重量%を含有するゴム補強ポリスチレ
ン (c)成分 c−1;N,N´−ビス(2−ステアロアミドエチル)
セバカミド(軟化点255℃)
Component (b): Styrenic resin b-1; Rubber-reinforced polystyrene containing 9% by weight of polybutadiene b-2; 90% of 1,2-vinyl bonds contains 9% by weight of hydrogenated polybutadiene. Rubber-reinforced polystyrene (c) component c-1; N, N'-bis (2-stearoamidoethyl)
Sebacamide (softening point 255 ° C)

【0038】[0038]

【化11】 [Chemical 11]

【0039】c−2;N,N´−ビス(2−ステアロア
ミドエチル)アゼライカミド(軟化点235℃)
C-2; N, N'-bis (2-stearoamidoethyl) azelaicamide (softening point 235 ° C.)

【0040】[0040]

【化12】 [Chemical 12]

【0041】c−3;N,N´−ビス(ステアロアミド
−m−キシリレン)セバカミド(軟化点196℃)
C-3; N, N'-bis (stearoamide-m-xylylene) sebacamide (softening point 196 ° C.)

【0042】[0042]

【化13】 [Chemical 13]

【0043】c−4;N,N´−エチレンビスステアロ
アミド(軟化点142℃)
C-4; N, N'-ethylenebisstearamide (softening point 142 ° C.)

【0044】[0044]

【化14】 [Chemical 14]

【0045】c−5;N,N′−ジヘプタノイル−p−
フェニレンジアミド(軟化点210℃)
C-5; N, N'-diheptanoyl-p-
Phenylenediamide (softening point 210 ℃)

【0046】[0046]

【化15】 [Chemical 15]

【0047】[0047]

【実施例1】上記a−1で示したポリフェニレンエーテ
ル50重量部、b−1で示したゴム補強ポリスチレン5
0重量部、c−1で示したカルボン酸アマイド1.0重
量部をスクリュウ径30mmの二軸押出機(池貝鉄工
(株)製PCM−30)中300℃で溶融混練し、水槽
を通してペレット化した。このペレットを射出成形機
(東芝機械(株)製IS−80EPN)で300℃で成
形し、試験片を作成した。そして、得られたペレット、
試験片を用いて、下記試験法により材料の特性を評価し
結果を表1に示した。
Example 1 50 parts by weight of the polyphenylene ether shown in a-1 above and the rubber-reinforced polystyrene 5 shown in b-1 above
0 part by weight, 1.0 part by weight of carboxylic acid amide represented by c-1 were melt-kneaded at 300 ° C. in a twin-screw extruder with a screw diameter of 30 mm (PCM-30 manufactured by Ikegai Tekko KK), and pelletized through a water tank. did. The pellets were molded at 300 ° C. by an injection molding machine (IS-80EPN manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) to prepare test pieces. And the resulting pellets,
Using the test piece, the characteristics of the material were evaluated by the following test methods, and the results are shown in Table 1.

【0048】[0048]

【実施例2】c−1成分をc−2成分に変えた以外は実
施例1と同様に行った。
Example 2 Example 1 was repeated except that the c-1 component was changed to the c-2 component.

【0049】[0049]

【実施例3】c−1成分をc−3成分に変えた以外は実
施例1と同様に行った。
Example 3 Example 1 was repeated except that the c-1 component was changed to the c-3 component.

【0050】[0050]

【実施例4】b−1成分をb−2成分に変えてc−1成
分の添加量を1.0重量部から2.0重量部に変えた以
外は実施例1と同様に行った。
Example 4 Example 1 was repeated except that the component b-1 was changed to the component b-2 and the addition amount of the component c-1 was changed from 1.0 part by weight to 2.0 parts by weight.

【0051】[0051]

【比較例1】c−1成分を添加しなかったこと以外は実
施例1と同様に行った。
Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated except that the c-1 component was not added.

【0052】[0052]

【比較例2】c−1成分をc−4成分に変えた以外は実
施例1と同様に行った。
Comparative Example 2 The procedure of Example 1 was repeated except that the c-1 component was changed to the c-4 component.

【0053】[0053]

【比較例3】c−1成分をc−5成分に変えた以外は実
施例1と同様に行った。
Comparative Example 3 The procedure of Example 1 was repeated except that the c-1 component was changed to the c-5 component.

【0054】[0054]

【比較例4】c−1成分をc−4成分に変えた以外は実
施例4と同様に行った。
Comparative Example 4 The procedure of Example 4 was repeated except that the c-1 component was changed to the c-4 component.

【0055】[0055]

【実施例6】上記a−2で示したポリフェニレンエーテ
ル65重量部、b−2で示したゴム補強ポリスチレン3
5重量部c−1で示したカルボン酸アマイド2重量部を
実施例1と同様な方法でペレット化、成形をして評価を
した。結果を表2に示した。
Example 6 65 parts by weight of the polyphenylene ether shown in a-2 above and the rubber-reinforced polystyrene 3 shown in b-2 above
2 parts by weight of carboxylic acid amide shown as 5 parts by weight of c-1 was pelletized and molded in the same manner as in Example 1 and evaluated. The results are shown in Table 2.

【0056】[0056]

【比較例5】c−1成分を添加しなかったこと以外は実
施例6と同様に行った。
Comparative Example 5 The procedure of Example 6 was repeated except that the c-1 component was not added.

【0057】[0057]

【比較例6】c−1成分をc−4成分にしたこと以外は
実施例6と同様に行った。
Comparative Example 6 The procedure of Example 6 was repeated except that the c-1 component was changed to the c-4 component.

【0058】[0058]

【比較例7】c−1成分をc−5成分にしたこと以外は
実施例6と同様に行った。なお、試験法は以下の通りで
ある。 熱変形温度:ASTM D−648に準拠し、加重1
8.6kg/cm2 で測定した。
Comparative Example 7 The procedure of Example 6 was repeated except that the c-1 component was changed to the c-5 component. The test method is as follows. Heat distortion temperature: Weighted 1 according to ASTM D-648
It was measured at 8.6 kg / cm 2 .

【0059】メルトフローレート:JIS K−721
0に従いペレットを用いて、250℃、10kg荷重で
測定した。
Melt flow rate: JIS K-721
According to 0, pellets were used and the measurement was performed at 250 ° C. under a load of 10 kg.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】[0061]

【表2】 [Table 2]

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明の特定の軟化点と構造を有するカ
ルボン酸アマイド系ワックスを用いたものは、耐熱を保
持しつつ優れた成形加工性を有していた。
EFFECTS OF THE INVENTION The carboxylic acid amide type wax having a specific softening point and structure of the present invention has excellent moldability while maintaining heat resistance.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)ポリフェニレンエーテル系樹脂10
〜100重量部 (b)スチレン系樹脂0〜90重量部 (c)190℃〜260℃の軟化点を有する一般式
(1)で表されるカルボン酸アマイド系ワックス0.1
〜10重量部 からなるポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。 【化1】 (式中、R1 ,R5 は炭素数10〜30のアルキル基ま
たは置換アルキル基で、R1 とR5 は同一であっても異
なってもよい。R2 ,R3 ,R4 は炭素数1〜10のア
ルキレン基、脂環式炭化水素残基またはフェニレン基
で、それぞれ同一であっても異なってもよい)
1. A (a) polyphenylene ether resin 10
To 100 parts by weight (b) Styrenic resin 0 to 90 parts by weight (c) Carboxylic amide wax 0.1 represented by the general formula (1) having a softening point of 190 to 260 ° C.
A polyphenylene ether resin composition comprising 10 to 10 parts by weight. [Chemical 1] (In the formula, R 1 and R 5 are alkyl groups having 10 to 30 carbon atoms or substituted alkyl groups, and R 1 and R 5 may be the same or different. R 2 , R 3 and R 4 are carbon atoms. An alkylene group of formula 1 to 10, an alicyclic hydrocarbon residue or a phenylene group, which may be the same or different)
【請求項2】ポリフェニレンエーテル系樹脂が下記の一
般式(2)で表される環化末端基を、樹脂を構成するフ
ェニレンエーテルユニットの100個に対して平均0.
01個以上含有し、数平均分子量が1,000〜10
0,000の範囲にある請求項1記載のポリフェニレン
エーテル系樹脂組成物。 【化2】 (式中、R1 〜R5 はそれぞれ独立に水素、アルキル
基、置換アルキル基、ハロゲン基、アリール基、または
置換アリール基であり、R6 〜R9 はそれぞれ独立に水
素、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換
アルケニル基、アリール基、置換アリール基、アルコキ
シ基、N−ラクタム基、カルボン酸基、カルボン酸無水
物基、カルボン酸エステル基、カルボン酸アミド基、ニ
トリル基、アシロキシ基、またはアシル基である。な
お、R6 とR7 、R8 とR9 はそれぞれ独立に結合して
スピロ環状構造のリングを形成していてもよい。)
2. A polyphenylene ether resin having a cyclized terminal group represented by the following general formula (2) on average of 0.1 to 100 phenylene ether units constituting the resin.
Contains 01 or more and has a number average molecular weight of 1,000 to 10
The polyphenylene ether resin composition according to claim 1, which is in the range of 10,000. [Chemical 2] (In the formula, R 1 to R 5 are each independently hydrogen, an alkyl group, a substituted alkyl group, a halogen group, an aryl group, or a substituted aryl group, and R 6 to R 9 are each independently hydrogen, an alkyl group, or a substituted aryl group. Alkyl group, alkenyl group, substituted alkenyl group, aryl group, substituted aryl group, alkoxy group, N-lactam group, carboxylic acid group, carboxylic acid anhydride group, carboxylic acid ester group, carboxylic acid amide group, nitrile group, acyloxy group Or R 6 and R 7 , and R 8 and R 9 may be independently bonded to each other to form a ring having a spiro cyclic structure.)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5523342A (en) * 1993-04-07 1996-06-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Thermoplastic resin composition

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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