JPH0648508A - 密閉コンテナのガスパージ方法 - Google Patents
密閉コンテナのガスパージ方法Info
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Abstract
する場合に、コンテナを特殊構造にする必要のない密閉
コンテナのガスパージ方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 可搬式密閉コンテナ内1を真空引きしたのち
不活性ガスでガスパージする場合において、配管を通し
て真空源80と不活性ガス源90に連絡される密閉ボッ
クス内を壁80Aで本体部Aと当該本体部とは連通孔8
1を通して連通するコンテナ収納部Bとに区画し、上記
壁上に上記密閉コンテナを載置し、密閉コンテナの底蓋
20を上記密閉ボックス内へ開くことにより当該密閉コ
ンテナ内を前記密閉ボックスの本体部内に連通して真空
引きおよび不活性ガスによるガスパージを行なうことを
特徴とする。
Description
られる可搬式密閉コンテナ等のガスパージ方法に関す
る。
清浄化したクリーンルーム内において行なわれるが、ク
リーンルーム内での搬送や保管は、半導体ウエハへの塵
埃の付着を防ぐために当該半導体ウエハや液晶基板等を
収納したウエハカセットを可搬式の密閉コンテナに収納
して行なう。
る酸化膜の成長を防止するために、上記密閉コンテナの
内部雰囲気を窒素N2 ガスや乾燥空気等のウエハにとっ
て不活性なガスで置換するようにしている。
テナの1例を図6に示す。同図において、10は可搬式
の密閉コンテナ(POD)1の本体、11は本体10の
開口部12に設けられたフランジ、13、13Aはシー
ル材、14は把手、20は密閉コンテナの蓋、30は半
導体ウエハWを収納したウエハカセットである。40は
半導体の表面処理装置の密閉型のケースであって、図示
しない表面処理用の反応炉や昇降装置を含む搬送機構等
を収納している。42はウエハカセット出し入れ用の開
口であって、ケース40の上壁41の一部に設けられて
いる。この上壁41には、一端が開口42の周面に開口
し、他端が不活性ガスボンベ(この例ではN2 ガスボン
ベ)50に接続される給ガス管44Aが設けられるとと
もに、一端が開口42の周面に開口し、他端がボツクス
外に開口する排ガス管44Bが設けられている。45A
は給気弁、45Bは排気弁である。46は上記昇降装置
100の昇降台であって、開口42内に、当該開口42
の周面との間に隙間Gを残して嵌入可能な大きさを有し
ている。40Aは密閉コンテナ1のフランジ11を押さ
えるロック機構である。なお、密閉型のケース40内
は、窒素N2 ガス雰囲気であり、わずかに大気圧以上に
予圧されている。
て、例えば図7に示すような錠機構を有している。24
はカムで、25は板状のロックアームであって、転動子
25aを有し、長手方向進退可能かつ傾倒可能に片持ち
支持されている。26は支点部材、27はばねである。
カム軸28は昇降台46の上壁中央から蓋20内に伸
び、昇降台46上に蓋20が同心に載置された時にカム
44とスプライン係合する。昇降台46はカム軸28を
所定角度だけ回動するカム軸駆動機構29を内蔵してお
り、このカム軸駆動機構29とカム軸28は解錠/施錠
機構を構成している。なお、本体10の開口部12の内
周面には、ロックアーム25が係合する凹所12Aが形
成されている。
は、窒素N2 ガスを充満した密閉コンテナに上記ウエハ
カセットを入れて搬送・保管するようにしているが、密
閉コンテナ内を窒素N2 ガス等の不活性ガスで置換する
だけでは、当該密閉コンテナの内表面や、ウエハカセッ
ト、このウエハカセットに収納したカセットの表面に付
着したH2 OやO2(以下、吸着・吸蔵気体や液体)を
充分に除去することができないので、時間の経過ととも
にこれらが密閉コンテナ内へ出てきて、密閉コンテナ内
のH2 OやO2 の濃度が上昇し、ウエハに自然酸化によ
る酸化膜の形成が生じ、歩留りが低下する。
閉コンテナ内を真空引きしたのちに不活性ガスでガスパ
ージする方法を提案した。
69を通してそれぞれ真空源90と不活性ガス源50に
連絡された密閉ボックス60の上壁60U上に密閉コン
テナ1を載置し、底蓋20を解錠したのち昇降台46を
例えば鎖線で示す位置まで下げて(底蓋20も鎖線で示
す位置まで下がる)、密閉コンテナ1内を密閉ボックス
60内と連通させ、真空引きしたのちに不活性ガスでガ
スパージする。91、92は開閉弁である。図4では、
前記ロック機構40Aの図示は省いてある。
旦、真空にするので、コンテナ1や底蓋20の内表面部
に付着している水分や酸素、コンテナ1内の図示されて
いないウエハやウエハカセットの表面部に付着している
水分や酸素がこれら内表面部や表面部からに蒸発して内
表面や表面から離脱し、外部へ排気され、その後、コン
テナ1はN2 ガスで置換されることになる。
ジを行なった後の密閉容器内のH2O濃度の変化を示
し、(b)は前記従来のガスパージを行なった後の密閉
容器内のH2 O濃度の変化を示す。また、同図の(c)
は上記真空引き後にガスパージを行なった後の密閉容器
内のO2 濃度の変化を示し、同図の(d)は前記従来法
によりO2 濃度を0ppmまで下げたのちのO2 濃度の
変化を示している。なお、この実験に用いた密閉容器の
容積は540リットルで、当該密閉容器内には25枚入
りのウエハカセットを4箇収納して実験した。
きしたのち不活性ガスパージを行なった場合には、容器
内表面や、ウエハ、ウエハカセットから出てくるH2 O
やO2 の量が従来の場合に比して、著しく低減するか
ら、長期に亘ってコンテナに収納したままでも、自然酸
化膜の成長を抑制することができる。
コンテナ1の内部と外部との間に圧力差が生じるため、
コンテナ1の本体10はその圧力差に耐える必要があっ
た。そこで、コンテナを肉厚にして負圧耐力を増加させ
るか、負圧に耐える特殊構造にする必要があるが、これ
らはコストの上昇を招くと同時に重量が増加し持ち運び
し難いという問題がある。
たもので、真空引きしたのちに不活性ガスでガスパージ
する場合に、上記圧力差を問題にする必要のない密閉コ
ンテナのガスパージ方法を提供することを目的とする。
するため、請求項1では、密閉コンテナ内を真空引きし
たのちコンテナ収納物にとって不活性ガスでガスパージ
する場合において、配管を通して真空源と不活性ガス源
に連絡される密閉ボックス内を壁で本体部と当該本体部
とは連通孔を通して連通するコンテナ収納部とに区画
し、上記壁上に上記密閉コンテナを載置し、密閉コンテ
ナの底蓋を上記密閉ボックス内へ開くことにより当該密
閉コンテナ内を前記密閉ボックスの本体内に連通して真
空引きおよび不活性ガスによるガスパージを行なう構成
とした。
テナ収納部はこの箱体上にかぶせられた半球形状のカバ
ー体で当該箱体上に区画される構成とした。
られている構成とした。
けられ、この孔開閉機構は、真空引きに際して連通孔を
開く構成とした。
ナ収納部であるパージ室内およびコンテナ内が全て同圧
になるので、コンテナに前記した内外圧力差が作用しな
い。
明する。
壁80Aで本体部Aとコンテナ収納部であるパージ室B
とに区画されている。83は密閉ボックス80の蓋であ
って、図示しないヒンジ機構で開閉可能に取り付けられ
ている。本体部Aと収納部Bとは仕切り壁80Aに形成
した通孔(連通孔)81を通して連通し、この通孔81
の下端開口はフィルタ82で覆われている。仕切り壁8
0Aはコンテナ1が載置される台座として利用され、こ
の仕切り壁80Aに開口82が形成されている。昇降台
46は、開口85内に、当該開口85の周面との間に隙
間Gを残して嵌入可能な大きさを有している。他の構成
は図4のものと同じであるので、同一符号を付してあ
る。
A内とコンテナ収納部であるパージ室B内とが通孔81
を通して連通するので、本体部A、パージ室Bおよびコ
ンテナ1内が全て同圧になる。従って、コンテナ1に前
記した内外圧力差が作用せず、コンテナ1を肉厚にした
り特殊構造にしたりする必要がない。
テナ1の外周面に塵埃等が付着していた場合、この塵埃
は通孔81を通って本体部Aに入り、コンテナ1の本体
10内に侵入してウエハWを汚染する恐れがあるが、本
実施例では、通孔81をフィルタ82で塞いでいるの
で、この恐れはない。
8の一端、給ガス用の配管69の一端ともに密閉ボック
ス80の本体部Aに開口しているが、パージ室Bに開口
させてもよく、また、例えば、真空排気用の配管68の
一端はパージ室Bに開口させ、給ガス用の配管69の一
端は本体部Aに開口させてもよい。
で、コンテナ収納部であるパージ室Bを半球形状のカバ
ー体84で区画し、半球形状にすることにより、薄肉で
強度を持たせ、簡便にパージ室Bを形成し得るようにし
たものである。即ち、本体部は箱体からなり、コンテナ
収納部はこの箱体上にかぶせられた半球形状のカバー体
で当該箱体上に区画されている。
納部であるパージ室Bとは、真空引きを行なう場合に、
互いに連通すればよいので、図3に示すように、孔開閉
機構、例えば、電磁弁81Aを有する管81Bを通孔8
1に通し、真空引きを行なっている間だけ、電磁弁81
Aを開弁して本体部Aとパージ室Bとが連通するように
してもよい。真空引き後は、コンテナ収納部であるパー
ジ室Bは蓋を開けるために常圧に戻すことは勿論であ
る。
内外圧力差が無い状態で、真空引きおよびガス置換が行
なわれるから、コンテナとしては従来のままのコンテナ
を使用することができる利点がある。
る。
めの部分図である。
るための概略縦断面図である。
のH2 OやO2 濃度の時間経過と、従来のガスパージ後
の容器内のH2 OやO2 濃度の時間経過とを対比して示
した線図である。
す図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 電子機器の基板等を収納して搬送する可
搬式密閉コンテナ内を真空引きしたのちコンテナ収納物
にとって不活性なガスでガスパージする場合において、 配管を通して真空源と不活性ガス源に連絡される密閉ボ
ックス内を壁で本体部と当該本体部とは連通孔を通して
連通するコンテナ収納部とに区画し、上記壁上に上記密
閉コンテナを載置し、密閉コンテナの底蓋を上記密閉ボ
ックス内へ開くことにより当該密閉コンテナ内を前記密
閉ボックスの本体内に連通して真空引きおよび不活性ガ
スによるガスパージを行なうことを特徴とする密閉コン
テナのガスパージ方法。 - 【請求項2】 本体部は箱体であり、コンテナ収納部は
この箱体上にかぶせられた半球形状のカバー体で当該箱
体上に区画されていることを特徴とする請求項1記載の
密閉コンテナのガスパージ方法。 - 【請求項3】 連通孔にはフィルタが設けられているこ
とを特徴とする請求項1または2記載の密閉コンテナの
ガスパージ方法。 - 【請求項4】 連通孔は、孔開閉機構が設けられ、この
孔開閉機構は、真空引きに際して連通孔を開くことを特
徴とする請求項1または2または3記載の密閉コンテナ
のガスパージ方法。
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1992
- 1992-07-29 JP JP20266092A patent/JP3252456B2/ja not_active Expired - Fee Related
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