JPH0635465B2

JPH0635465B2 - 新規セフエム化合物およびその製造方法

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Publication number: JPH0635465B2
Application number: JP58252521A
Authority: JP
Inventors: 隆男高谷; 寿高杉; 秀昭山中
Original assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1983-01-04
Filing date: 1983-12-27
Publication date: 1994-05-11
Anticipated expiration: 2009-05-11
Also published as: JPS59130293A; US4499088A

Description

【発明の詳細な説明】この発明は新規セフエム化合物およびその塩類に関す
る。さらに詳しくは、この発明は、抗菌活性を有する新
規セフエム化合物およびその塩類、その製造方法、およ
び細菌感染症予防・治療剤に関する。

従って、この発明の１つの目的は、多くの病原微生物に
対し、特に経口投与において有効な新規セフエム化合物
およびその塩類を提供することである。

この発明の別の目的は、新規セフエム化合物およびその
塩類の製造方法を提供することである。

この発明の更なる目的は、有効成分として前記新規セフ
エム化合物またはその塩類から成る医薬組成物を提供す
ることである。

目的とするセフエム化合物は新規化合物であり、次の一般式〔式中、Ｒ^１はカルボキシ（低級）アルキル基または保
護されたカルボキシ（低級）アルキル基、Ｒ^２はカルボ
キシ基または保護されたカルボキシ基、Ｒ^３は低級アル
カノイルアミノ基、低級アルカンスルホニル基、または
低級アルキルを有していてもよい複素環チオ基である〕で示すことができる。

この発明によれば、新規セフエム化合物(I)は以下の反
応式に示す種々の製造法によって製造することができ
る。

製造法１製造法２製造法３製造法４〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３はそれぞれ前記の通り、
▲Ｒ^１ _ａ▼は保護されたカルボキシ（低級）アルキル
基、▲Ｒ^１ _ｂ▼はカルボキシ（低級）アルキル基、Ｒ^４
は低級アルキル基を有していてもよい複素環基、Ｙはハ
ロゲンである］出発化合物(V)および出発化合物(IV)の幾つかは新規で
あり、以下の反応式に示す製造法によって製造すること
ができる。

製造法Ａ製造法Ｂ製造法Ｃ製造法Ｄ〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４およびＹはそれぞれ前記の通
り。Ｒ^５は低級アルキル基〕この発明において、化合物(I)、(Ia)、(Ib)、(Ic)、(III)、
(IV)、(IVa)、(IVb)、(V)、(VIII)、(IX)および(X)に関して
は、該化合物すべてにはシン異性体、アンチ異性体およ
びその混合物が包含されることを了解すべきである。ま
た、目的化合物(I)に関しては、そのシン異性体は次式〔式中、Ｒ^１は前記の通り〕で示される基を有する１つの幾何異性体を意味し、アン
チ異性体は、式〔式中、Ｒ^１は前記の通り〕の基を有する別の幾何異性体を意味する。

更にその他の化合物に関しては、それらのシンおよびア
ンチ異性体もまた目的化合物(I)と同じ幾何学的立体配
置によってそれぞれ示される。

目的化合物(I)の適当な塩類は慣用の無毒性塩であり、
そのような塩として例えば、アルカリ金属塩（例えば、
ナトリウム塩、カリウム塩、等）およびアルカリ土類金
属塩（例えば、カルシウム塩、マグネシウム塩等）等の
金属塩、アンモニウム塩、等の無機塩、例えば、有機ア
ミン塩（例えば、トリメチルアミン塩、トリエチルアミ
ン塩、ピリジン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジア
ミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、ジエタノールアミン
塩、トリエタノールアミン塩、トリス（ヒドロキシメチ
ルアミノ）メタン塩、フエニルエチルベンジルアミン
塩、ジベンジルエチレンジアミン塩、等）等の有機塩、
有機カルボン酸塩もしくはスルホン酸塩（例えば、ギ酸
塩、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン
酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩、
等）、無機酸塩（例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、リン酸塩、等）、塩基性もしくは酸性アミノ酸（例
えば、アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リ
ジン、等）との塩、等が挙げられる。

この明細書のこれまでの記述および以後の記述におい
て、この発明がその範囲に含む種々の定義の適当な例示
を以下詳細に説明する。

「低級」とは、別に指定がなければ、１〜６個の炭素原
子を意味している。

適当な「保護されたカルボキシ基」および「保護された
カルボキシ（低級）アルキル基」中の「保護されたカル
ボキシ部分」としてエステル化されたカルボキシ等が挙
げられ、該エステル化されたカルボキシのエステル部分
の適当な例としては、例えば、低級アルカノイルオキシ
（低級）アルキルエステル（例えば、アセトキシメチル
エステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリ
ルオキシメチルエステル、バレリルオキシメチルエステ
ル、ピバロイルオキシメチルエステル、２−アセトキシ
エチルエステル、２−プロピオニルオキシエチルエステ
ル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、等）、低級ア
ルカンスルホニル（低級）アルキルエステル（例えば、
２−メシルエチルエステル、等）またはモノ（またはジ
またはトリ）−ハロ（低級）アルキルエステル（例え
ば、２−ヨードエチルエステル、2,2,2−トリクロロエ
チルエステル、等）といった少なくとも１個の置換基を
有していてもよい低級アルキルエステル（例えば、メチ
ルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソ
プロヒルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステ
ル、ｔ−ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキシル
エステル、１−シクロプロピルエチルエステル、等）；
低級アルケニルエステル（例えば、ビニルエステル、ア
リルエステル、等）；低級アルキニルエステル（例え
ば、エチニルエステル、プロピニルエステル、等）；少
なくとも１個の適当な置換基を有していてもよいアル
（低級）アルキルエステル〔例えば、モノ（またはジま
たはトリ）フエニル（低級）アルキルエステル、等〕
（例えば、ベンジルエステル、４−メトキシベンジルエ
ステル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエス
テル、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビ
ス（メトキシフエニル）メチルエステル、3,4−ジメト
キシベンジルエステル、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−ｔ
−ブチルベンジルエステル、等）；少なくとも１個の適
当な置換基を有していてもよいアリールエステル（例え
ば、フエニルエステル、４−クロロフエニルエステル、
トリルエステル、ｔ−ブチルフエニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル、
等）などが挙げられる。

「カルボキシ（低級）アルキル基」および「保護された
カルボキシ（低級）アルキル基」の「低級アルキル部
分」および「低級アルキル基」の適当な例としては、例
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、等が挙げられ
る。

「低級アルカノイルアミノ基」における「低級アルカノ
イル」の適当な例としては、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、オキサリル、スクシニル、ピバロイ
ル、等が挙げられる。

「低級アルカンスルホニル」の適当な例としては、例え
ばメシル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イ
ソプロパンスルホニル、ブタンスルホニル、等が挙げら
れる。

「低級アルキルを有していてもよい複素環チオ基」およ
び「低級アルキルを有していてもよい複素環基」におけ
る「複素環部分」の適当な例としては、酸素、硫黄、窒
素等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む飽和または不飽
和の単環式または多環式複素環基があげられる。特に好
ましい複素環基としては、例えばピロリル、ピロリニ
ル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジン、ピリミジ
ル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル（例え
ば、４Ｈ−1,2,4−トリアゾリル、１Ｈ−1,2,3−トリア
ゾリル、２Ｈ−1,2,3−トリアゾリル、等）、テトラゾ
リル（例えば、１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリ
ル、等）、ジヒドロトリアジニル、等のような窒素原子
１〜４個を含む不飽和３〜８員複素単環基；ピロリジニ
ル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニル、等
のような窒素原子１〜４個を含む飽和３〜８員複素単環
基；インドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベ
ンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾ
リル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾロピリジル、トリ
アゾロピリダジニル（例えば、1,2,4−トリアゾロ〔4,3
−ｂ〕ピリダジニル、等）、ジヒドロトリアゾロピリダ
ジニル、テトラゾロピリダジニル（例えば、テトラゾロ
〔1,5−ｂ〕ピリダジニル、等）、等のような窒素原子
１〜５個を含む不飽和縮合複素環基；オキサゾリル、イ
ソキサゾリルオキサジアゾリル（例えば、1,2,4−オキ
サジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキ
サジアゾリル、等）等のような酸素原子１〜２個および
窒素原子１〜３個を含む不飽和３〜８員複素単環基；モ
ルホリニル等の酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３
個を含む飽和３〜８員複素単環基；ベンゾキサゾリル、
ベンゾキサジアゾリル、等のような酸素原子１〜２個お
よび窒素原子１〜３個を含む不飽和縮合複素環基；チア
ゾリル、チアゾリニル、チアゾアゾリル（例えば、1,2,
4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,5−
チアジアゾリル、等）等のような硫黄原子１〜２個およ
び窒素原子１〜３個を含む不飽和３〜８員複素単環基；
チアゾリジニル、等のような硫黄原子１〜２個および窒
素原子１〜３個を含む飽和３〜８員複素単環基；チエニ
ル、等のような硫黄原子１個を含む不飽和３〜８員複素
単環基；ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、等
のような硫黄原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含
む不飽和縮合複素環基；などの複素環基が挙げられる。

「ハロゲン」の適当な例としては、塩素、臭素、フッ
素、ヨウ素が挙げられる。

目的化合物の好ましい実施態様は次の通りである。

Ｒ^１の好ましい実施態様はカルボキシ（低級）アルキル
またはエステル化されたカルボキシ（低級）アルキル
〔さらに好ましくは低級アルコキシカルボニル（低級）
アルキル〕である。

Ｒ^２はカルボキシまたはエステル化されたカルボキシ
〔さらに好ましくはモノ（またはジまたはトリ）フエニ
ル（低級）アルコキシカルボニル〕である。

Ｒ^３は低級アルカノイルアミノ、低級アルカンスルホニ
ル、低級アルキルを有していてもよい窒素原子１〜４個
を含む不飽和３〜８員複素単環チオ（さらに好ましくは
トリアゾリルチオ、低級アルキルを有するテトラゾリル
チオ、または低級アルキルを有するピリダジニルチ
オ）、低級アルキルを有する硫黄原子１〜２個および窒
素原子１〜３個を含む不飽和３〜８員複素単環チオ（さ
らに好ましくは低級アルキルを有するチアジアゾリルチ
オ）、または窒素原子１〜５個を含む不飽和縮合複素環
チオ（さらに好ましくはトリアゾロピリダジニルチオま
たはテトラゾロピリダジニルチオ）である。

この発明の目的化合物の製造方法を以下に詳細に説明す
る。

製造法１目的化合物(I)またはその塩類は、化合物(II)、または
そのアミノ基における反応性誘導体またはその塩類に化
合物(III)またはそのカルボキシ基における反応性誘導
体またはその塩類を作用させることにより製造すること
ができる。

化合物(II)のアミノ基における反応性誘導体の適当な例
としては、化合物(II)にアルデヒド、ケトンなどのカル
ボニル化合物を作用させることにより形成されるシッフ
塩基型イミノもしくはそのエナミン型異性体；化合物(I
I)にビス（トリメチルシリル）アセトアミド、トリメチ
ルシリルアセトアミド、ビス（トリメチルシリル）ウレ
アといったシリル化合物を作用させることにより形成さ
れるシリル誘導体；化合物(II)に三塩化リンまたはホス
ゲンを作用させることにより形成される誘導体、等が挙
げられる。

化合物(III)の塩類の適当な例としては、アルカリ金属
塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、等）およびア
ルカリ土類金属塩（例えば、カルシウム塩、マグネシウ
ム塩、等）のような金属塩、アンモニウム塩、有機塩基
塩（例えば、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン
塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロロヘキシルアミ
ン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩、
等）、等が挙げられる。

化合物(III)のカルボキシ基における反応性誘導体の適
当な例としては、酸ハライド、酸無水物、活性アミド、
活性エステル、等が挙げられる。その適当な例として
は、酸塩化物、酸アジド；置換リン酸（例えば、ジアル
キルリン酸、フエニルリン酸、ジフエニルリン酸、ジベ
ンジルリン酸、ハロゲン化リン酸、等）、ジアルキル亜
リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、アルキル炭酸、脂肪
族カルボン酸（例えば、ピバリン酸、ペンタン酸、イソ
ペンタン酸、２−エチルブチル酸またはトリクロロ酢
酸、等）または芳香族カルボン酸（例えば、安息香酸、
等）のごとき酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イミ
ダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾール、４−置換イミダゾール、トリアゾー
ルまたはテトラゾールとの活性アミド；もしくは活性エ
ステル（例えば、シアノメチルエステル、メトキシメチ
ルエステル、ジメチルイミノメチルエステル、2,4−ジニトロフエニルエステル、トリクロ
ロフエニルエステル、ペンタクロロフエニルエステル、
メシルフエニルエステル、フエニルアゾフエニルエステ
ル、フエニルチオエステル、ｐ−ニトロフエニルチオエ
ステル、ｐ−クレジルチオエステル、カルボキシメチル
チオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、
ピペリジルエステル、８−キノリルチオエステル、
等）、もしくはＮ−ヒドロキシ化合物（例えば、Ｎ，Ｎ
−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−
（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−６−ク
ロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、等）とのエステル、
等が挙げられる。

これら反応性誘導体は、使用する化合物(III)の種類に
より適宜選択することができる。

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドまたはその他の有機溶媒等の反応に悪影響を及ぼ
さない慣用の溶媒中で行われる。これら慣用の溶媒は水
と混合して用いてもよい。

化合物(III)を遊離酸もしくはその塩の形で反応に用い
る場合、反応は好ましくは慣用の縮合剤の存在下に行
う。そのような縮合剤としては、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モ
ルホリノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−
Ｎ′−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジ
イミド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド；Ｎ，Ｎ′
−ジイソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ′−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｎ，
Ｎ′−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾール）；
ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジ
フエニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキシ
アセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン；亜
リン酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリリン酸イ
ソプロピル；オキシ塩化リン（塩化ホスホリル）；三塩
化リン；塩化チオニル；塩化オキサリル；トリフエニル
ホスフィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイソキ
サゾリウム塩；２−エチル−５−（ｍ−スルホフエニ
ル）イソキサゾリウムヒドロキシド分子内塩；１−（ｐ
−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−１
Ｈ−ベンゾトリアゾール；Ｎ，Ｎ′−ジメチルホルムア
ミドに塩化チオニル、ホスゲン、オキシ塩化リン等を作
用させることにより製造される所謂ビルスマイヤー試
薬、等が挙げられる。

反応は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩、トリ（低級）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低
級）アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ′−ジ（低級）アルキ
ルベンジルアミン、等のような無機もしくは有機塩基の
存在下に行ってもよい。反応温度は特に限定されない
が、反応は通常冷却下ないし室温で行われる。

製造法２目的化合物(Ib)またはその塩類は、化合物(Ia)またはそ
の塩類を▲Ｒ^１ _ａ▼におけるカルボキシ保護基の脱離反
応に付することにより製造することができる。

化合物(Ia)および(Ib)の塩類の適当な例としては、化合
物(I)で例示したものを挙げることができる。

この反応は、加水分解、還元等の常法により行なう。

保護基がエステルである場合、保護基は加水分解により
脱離することができる。加水分解は、好ましくは塩基も
しくは酸の存在下に行なわれる。適当な塩基には無機塩
基および有機塩基が含まれ、そのような塩基としてはア
ルカリ金属（例えば、ナトリウム、カリウム、等）、ア
ルカリ土類金属（例えば、マグネシウム、カルシウム、
等）、それらの水酸化物または炭酸塩または炭酸水素
塩、トリアルキルアミン（例えば、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、等）、ピコリン、1,5−ジアザビシ
クロ〔4,3,0〕ノン−５−エン、1,4−ジアザビシクロ
〔2,2,2〕オクタン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウ
ンデセン−７、等が挙げられる。適当な酸としては、有
機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオ
ロ酢酸、等）および無機酸（例えば、塩酸、臭化水素
酸、硫酸、等）を挙げることができる。トリフルオロ酢
酸を用いる酸加水分解は通常アニソールの添加により促
進される。

反応は通常溶媒中で行なわれ、溶媒としては、水、塩化
メチレン、アルコール（例えば、メタノール、エタノー
ル、等）、それらの混合物もしくは反応に悪影響を及ぼ
さないその他の溶媒が挙げられる。液状の塩基もしくは
酸も溶媒として使用することができる。反応温度は特に
限定されないが、反応は通常冷却下ないし加温下に行な
われる。

還元は、好ましくは４−ニトロベンジル、２−ヨードエ
チル、2,2,2−トリクロロエチル等の保護基の脱離に適
用することができる。脱離反応に適用し得る還元方法と
しては、例えば、金属（例えば、亜鉛、亜鉛マルガム、
等）もしくはクロム化合物（例えば、塩化クロム、酢酸
クロム、等）と有機酸もしくは無機酸（例えば、酢酸、
プロピオン酸、塩酸、等）を併用する還元、および慣用
の金属触媒（例えば、パラジウム−炭素、等）の存在下
での慣用の接触還元が挙げられる。

この発明はその範囲内に、Ｒ^２の保護されたカルボキシ
基をこの反応中もしくはこの反応の後処理段階中に遊離
カルボキシ基に変換する場合を包含している。

製造法３化合物(I)またはその塩類は、化合物(IV)またはその塩
類を還元することにより製造することができる。

化合物(IV)の塩類の適当な例としては、化合物(I)につ
いて例示したものを挙げることができる。

この還元は、例えば三塩化リン、塩化第一スズと塩化ア
セチルの組合せ、ヨウ化アルカリ金属（例えば、ヨウ化
ナトリウム、等）と無水トリハロ酢酸（例えば、無水ト
リフルオロ酢酸、等）の組合せ、等を使用するような、を-S-に変換するのに適用される慣用の方法により行う
ことができる。

この還元は通常溶媒中で行われ、そのような溶媒として
は、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ベンゼ
ン、ヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミドまたは反応に悪影響を及ぼさないその
他の溶媒が挙げられる。

反応温度は特に限定されないが、反応は通常冷却下ない
し室温で行われる。

製造法４化合物(Ic)またはその塩類は、化合物(V)またはその塩
類に化合物(VI)またはそのメルカプト基における反応性
誘導体を作用させることにより製造することができる。

化合物(Ic)の塩類の適当な例としては、化合物(I)につ
いて例示されたものが挙げられる。

化合物(V)の塩類の適当な例としては、化合物(III)につ
いて例示されたものが挙げられる。

化合物(VI)におけるメルカプト基における反応性誘導体
の適当な例としては、アルカリ金属塩（例えば、ナトリ
ウム塩、カリウム塩、等）、アルカリ土類金属塩（例え
ば、マグネシウム塩、等）、等のような金属塩が挙げら
れる。

反応は通常溶媒中で行われ、溶媒としては、水、アセト
ン、クロロホルム、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩
化エチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノー
ル、エタノール、エーテル、テトラヒドロフランもしく
は反応に悪影響を及ぼさないその他慣用の溶媒が挙げら
れ、好ましくは強い極性を有するもので、水と混合して
使用してもよい。

化合物(V)および／または化合物(VI)を遊離形で反応に
使用する場合、反応は好ましくは塩基の存在下に行わ
れ、そのような塩基としては、水酸化アルカリ金属、炭
酸アルカリ金属、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキル
アミン、ピロジン、もしくは三フッ化ホウ素等のルイス
酸が挙げられ、好ましくは中性条件付近で行われる。

反応温度は特に限定されず、反応は通常冷却下、室温、
もしくは加温下に行われる。

この発明の出発化合物(V)および幾つかの出発化合物(I
V)の製造方法を以下詳細に説明する。

製造法Ａ化合物(V)またはその塩類は、化合物(VII)またはそのア
ミノ基における反応性誘導体またはその塩類に化合物(I
II)またはそのカルボキシ基における反応性誘導体また
はその塩類を作用させることにより製造することができ
る。

化合物(VII)の塩類の適当な例としては、化合物(I)につ
いて例示したものが挙げられる。

化合物(VII)のアミノ基における反応性誘導体の適当な
例としては、化合物(II)について例示したものが挙げら
れる。

この反応は前記製造法１と同様にして行うことができ
る。

製造法Ｂ化合物(IVa)またはその塩類は、化合物(VIII)またはそ
の塩類を酸化することにより製造することができる。

化合物(IVa)および(VIII)の塩類の適当な例は化合物(I)
について例示したものが挙げられる。

この酸化反応は、例えばｍ−クロロ過安息香酸、過安息
香酸、過酢酸、オゾン、過酸化水素、過ヨウ素酸等の酸
化剤を使用するような、-S-をに変換するのに適用される慣用の方法により行うことが
できる。

この反応は通常溶媒中で行われ、そのような溶媒として
は、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロ
ロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸、
酢酸エチルもしくは反応に悪影響を及ぼさないその他の
溶媒が挙げられる。

この反応はまた、タングステン酸アルカリ金属（例え
ば、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウ
ム、等）等の触媒の存在下に行うことができる。

反応温度は特に限定されず、反応は好ましくは冷却下な
いし室温で行われる。

製造法Ｃ− 化合物(IX)またはその塩類は化合物(V)またはその塩類
を酸化することにより製造することができる。

化合物(IX)の適当な塩類としては化合物(III)で例示し
たものが挙げられる。この反応は前記製造法Ｂと同様に
して行うことができる。

製造法Ｃ− 化合物(IVa)またはその塩類は、化合物(IX)またはその
塩類に化合物(VI)またはそのメルカプト基における反応
性誘導体を作用させることにより製造することができ
る。

この反応は前記製造法４と同様にして行うことができ
る。

製造法Ｄ化合物(IVb)またはその塩類は、化合物(X)またはその塩
類を酸化することにより製造することができる。

化合物(IVb)および(X)の適当な塩類としては、化合物(I
II)について例示したものがあげられる。この反応は前
記製造法Ｂと同様にして行うことができる。

この発明の目的化合物(I)およびその塩類は、高い抗菌
活性を示しグラム陽性並びにグラム陰性菌を含む広範な
病原微生物の発育を阻害し、抗菌剤として、特に経口投
与で有用な、新規化合物である。治療目的には、この発
明による化合物は、有効成分として前記化合物を、経
口、非経口投与または外用に適した有機もしくは無機
の、固形もしくは液体賦形剤のような医薬として許容し
得る担体と混合して含有する慣用の剤型で使用すること
ができる。製剤としては、カプセル、錠剤、糖衣錠、軟
膏または坐剤のような固体状であっても、溶液、懸濁液
またはエマルジョンのような液状であってもよい。所望
であれば上記製剤中に、補助剤、安定化剤、湿潤剤もし
くは乳化剤、緩衝剤およびその他常用の添加物（例え
ば、乳糖、フマル酸、クエン酸、酒石酸、ステアリン
酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、ショ糖、トウモロコシでん粉、タル
ク、ゼラチン、寒天、ペクチン、ピーナツ油、オリーブ
油、カカオ脂、エチレングリコール、等）を含有してい
てもよい。

化合物の投与量は患者の年令や状態により様々である
が、この発明による化合物の平均１回投与量薬１０mg、
５０mg、１００mg、２５０mg、５００mgおよび１０００
mgは病原菌による感染症の治療に有効である。一般に、
１日当り１mg〜約6,000mgあるいはそれ以上を投与して
もよい。

目的化合物の有用性を例示するため、この発明の代表的
化合物の抗菌活性、尿中排泄および胆汁中排泄を以下に
示す。

〔１〕試験化合物７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−チア
ゾリル）アセトアミド〕−３−（テトラゾロ〔1,5−
ｂ〕ピリダジン−６−イル）−チオメチル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）（以後、試験化合物
(1)と称す）。

〔２〕試験 (A)最小発育阻止濃度試験方法下記の寒天板倍数希釈法によって試験管内抗菌活性を測
定した。

各試験菌株をトリプチケース・ソイ・ブロス中、一夜培
養してその１白金耳（生菌数１０^８個／ｍ）を各濃度
段階の試験化合物を含むハートインフュージョン寒天
（ＨＩ寒天）に接種し、３７℃で２０時間培養した後、
最小発育阻止濃度(MIC)をμｇ／ｍで表わした。

結果 (B)尿中排泄試験方法試験抗生物質１００mg／kgをラットに経口投与した後、
０〜６時間および６〜２４時間の尿を尿採集器により採
集した。尿試料中の抗生物質濃度を、Ｍ／１５燐酸塩緩
衝液（pH 7.0）で調製した標準溶液を用いてバイオアッ
セイにより測定し、２４時間内の尿中回収率を計算し
た。

結果 (C)胆汁中排泄試験方法ペントバルビタールで麻酔したラットを仰向けに固定
し、ポリエチレン管を胆管に挿入した。試験抗生物質１
００mg／kgを経口投与した後、０〜３時間、３〜６時間
および６〜２４時間の胆汁試料を採集した。胆汁試料中
の抗生物質濃度を、Ｍ／１５燐酸塩緩衝液（pH 7.0）で
調製した標準溶液を用いてバイオアッセイにより測定
し、２４時間内の胆汁中回収率を計算した。

結果以下の製造例および実施例によりこの発明をさらに詳細
に説明する。

製造例１２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）酢酸（シン異性
体）（15.0ｇ）および濃塩酸（9.5ｇ）の混合物をメタ
ノール（７５ｍ）に加え、室温で2.5時間攪拌した。
反応混合物に水（１００ｍ）を加え、溶液は攪拌下に
１０％水酸化ナトリウム水溶液でpH 3.0に調整した。沈
殿を取し、水およびジイソプロピルエーテルで洗浄し
て乾燥すると、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸
（シン異性体）（12.7ｇ）が得られた。

IR(ヌジョ-ル)：3340,1740,1630cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.43(9H,s),4.51(2H,s),6.77(3H,s) 製造例２２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）
（11.5ｇ）のテトラヒドロフラン（80.5ｍ）懸濁液
に、亜硝酸ブチル（6.5ｇ）のテトラヒドロフラン（32.
5ｍ）溶液を５０−５７℃で攪拌しつつ滴下し、混合
物を５０−５５℃で２０分間撹拌した。反応混合物を酢
酸エチルと水の混合物中に注ぎ込み、溶液を１０％塩酸
でpH 1.0に酸性化した。水（６０ｍ）を分取した有機
層に加え、混合物を４０％炭酸カリウム水溶液でpH 6.0
に調整した。分取した水層は酢酸エチルで洗浄し、溶液
を１０％塩酸でpH 2.8に酸性化した。酸性化した溶液は
酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層は硫酸マグネシウム
で乾燥させ、溶媒を留去した。残渣をジイソプロピルエ
ーテルで粉末化すると、２−ｔ−ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ−２−（４−チアゾリル）酢酸（シン異性
体）（6.1ｇ）、融点１４１℃（分解）が得られた。

IR(ヌジョ-ル)：1730cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.46(9H,s),4.69(2H,s),8.08(1H,d,
J＝2.0Hz),9.21(1H,d,J＝2.0Hz) 製造例３ビルスマイヤー試薬を、オキシ塩化リン（14.4ｇ）と
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（6.9ｇ）を酢酸エチル
（27.6ｍ）に加え、常法により調製した。２−ｔ−ブ
トキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−チアゾリ
ル）酢酸（シン異性体）（22.8ｇ）を氷冷下に、撹拌し
たビルスマイヤー試薬の酢酸エチル（２００ｍ）懸濁
液に加え、混合物を２０分間同温度で撹拌すると、活性
化酸溶液が得られた。トリメチルシリルアセトアミド
（56.9ｇ）を撹拌した７−アミノ−３−クロロメチル−
３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（３０ｇ）の酢酸エチル（３００ｍ）懸濁液に加え、
得られた混合物を３０分間室温で撹拌した。この溶液に
前記活性化酸溶液を−１０℃で加え、混合物を３０分間
同温度で撹拌した。水を反応混合物に加え、分取した有
機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で順次洗浄した。酢酸エチル層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、７−〔２−ｔ
−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−チア
ゾリル）アセトアミド〕−３−クロロメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異
性体）（37.3ｇ）が得られた。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1730,1680cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.45(9H,s),3.69(2H,m),4.48(2H,
s),4.68(2H,S),5.33(1H,d,J＝5.0Hz),6.03(1H,d,J＝5.0
Hz,8.0Hz),7.02(1H,s),7.20-7.73(10H,m),7.98(1H,d,J
＝2.0Hz),9.22(1H,d,J＝2.0Hz),9.70(1H,d,J＝8.0Hz) 製造例４下記化合物を製造例３と同様の方法により得た。

７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２
−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−メチルチオ
メチル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3270,1770,1720,1660cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.42(9H,s),1.78(3H,s),3.42-3.73
(4H,m),4.61(2H,s),5.26(1H,d,J＝4.0Hz),5.87(1H,dd,J
＝4.0Hz,8.0Hz),6.88(1H,s),7.13-7.60(10H,m),7.91(1
H,d,J＝2.0Hz),9.11(1H,d,J＝2.0Hz),9.56(1H,d,J＝8.0
Hz) 製造例５ｍ−クロロ過安息香酸（0.4ｇ）（純度８０％）の酢酸
エチル（５ｍ）溶液を、７−〔２−ｔ−ブトキシカル
ボニルメトキシイミノ−２−（４−チアゾリル）アセト
アミド〕−３−（1,2,4−トリアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダ
ジン−６−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）と７−
〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−
（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−ト
リアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチ
ル−２−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）の混合物（1.4ｇ）の酢酸エチル
（１０ｍ）溶液に氷冷下に加え、得られた混合物を１
時間同温度で撹拌した。得られた溶液を炭酸水素ナトリ
ウム飽和水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次
洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去すると、７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３
−（1,2,4−トリアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イ
ル）チオメチル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル−１−オキシド（シン異性体）（1.3
ｇ）が得られる。

IR(ヌジョ-ル)：1790,1775,1720cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.44(9H,s),4.50-4.81(4H,m),3.98
(2H,s),5.04(1H,d,J＝5.0Hz),6.07(1H,d,J＝5.0Hz,8.0H
z),7.05-7.68(11H,m),8.00(1H,d,J＝2.0Hz),8.14(1H,d,
J＝10.0Hz),8.77(1H,d,J＝8.0Hz),9.07-9.23(2H,m) 製造例６下記化合物を、製造例５と同様の方法により、７−〔２
−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−クロロメチル−３−
セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シ
ン異性体）にｍ−クロロ過安息香酸を作用させることに
より得た。

７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２
−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−クロロメチ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル−１−オキシド（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1785,1720,1670cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.46(9H,s),3.93(2H,m),4.61(2H,
m),4.71(2H,s),5.18(1H,d,J＝5.0Hz),6.18(1H,d,J＝5.0
Hz,8.0Hz),7.04(1H,s),7.24-7.73(10H,s),8.06(1H,d,J
＝2.0Hz),8.90(1H,d,J＝8.0Hz),9.22(1H,d,J＝2.0Hz) 製造例７３−メルカプト−６−メチルピリダジン（１ｇ）を、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２５ｍ）中７−〔２
−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−クロロメチル−３−
セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル−１
−オキシド（シン異性体）（5.0ｇ）とトリエチルアミ
ン（0.7ｇ）の混合物に氷冷下に加え、混合物を３時間
同温度で撹拌した。反応混合物を酢酸エチルと水の混合
物に加えた。分取した有機層を塩化ナトリウム飽和水溶
液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
ると、７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミ
ノ−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（６
−メチルピリダジン−３−イル）チオメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル−１−オ
キシド（シン異性体）（4.8ｇ）が得られた。

IR(ヌジョ-ル)：1780,1715,1665cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：2.30(3H,s),4.03(2H,m),4.72(4H,
m),5.14(1H,d,J＝4.0Hz),6.15(1H,dd,J＝4.0Hz,8.0Hz),
7.04(1H,s),7.08-7.78(12H,m),8.06(1H,d,J＝2.0Hz),8.
83(1H,d,J＝8.0Hz),9.21(1H,d,J＝2.0Hz) 製造例８下記化合物を製造例７と同様の方法により得た。

７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２
−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−
トリアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメ
チル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル−１−オキシド（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1790,1775,1720cm^-1 製造例９７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ）−
２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−メチルチ
オメチル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）（2.64ｇ）、塩化メチレン（５０ｍ）および酢酸
（５０ｍ）の混合物を１０分間室温で撹拌すると、澄
明な溶液が得られた。この溶液にタングステン酸ナトリ
ウム（0.1ｇ）および３０％過酸化水素（1.7ｇ）水（８
ｍ）溶液を加え、得られた溶液を１時間室温で撹拌し
た。反応混合物を過し、塩化メチレンで洗浄し、液
と洗浄液を合し、溶媒を蒸発させた。得られた油状残渣
をジイソプロピルエーテル（７００ｍ）に加えた。

生じた沈殿を取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄、
乾燥すると、７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３
−メシルメチル−３−セフエム−４−カルボン酸−１−
オキシド（シン異性体）が得られた。

IR(ヌジョ-ル)：3280,1770,1720,1680,1540cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.43(9H,s),3.0(3H,s),3.95(2H,AB
q,J＝18Hz),4.50(2H,ABq,J＝13Hz),4.67(2H,s),5.15(1
H,d,J＝5Hz),6.02(1H,dd,J＝5Hz,8Hz),8.03(1H,d,J＝2H
z),8.80(1H,d,J＝8Hz),9.18(1H,d,J＝2Hz) 実施例１ビルスマイヤー試薬を、オキシ塩化リン（1.6ｇ）と
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（0.8ｇ）を酢酸エチル
（3.2ｍ）に加えて常法により調製した。２−ｔ−ブ
トキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−チアゾリ
ル）酢酸（シン異性体）（2.5ｇ）を撹拌したビルスマ
イヤー試薬の酢酸エチル（２０ｍ）懸濁液に氷冷下に
加え、この混合物を２０分間同温度で撹拌すると、活性
化酸溶液が得られた。７−アミノ−３−（テトラゾル
〔1,5−ｂ〕ピリダジン−６−イル）、チオメチル−３
−セフエム−４−カルボン酸（3.5ｇ）を、水（２６ｍ
）とアセトン（２６ｍ）の混液中炭酸水素ナトリウ
ム（2.4ｇ）溶液に溶かした。この溶液に前記活性化酸
溶液を−３〜３℃で加え、得られた溶液を３０分間、２
０％炭酸ナトリウム水溶液でpHを７〜８に保ちながら、
撹拌した。水および酢酸エチルを反応混合物に加え、得
られた混合物を１０％塩酸でpH 2.0に調整した。有機層
を分取し、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、溶媒を留去すると、７−〔２−
ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−チ
アゾリル）アセトアミド〕−３−（テトラゾロ〔1,5−
ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸（シン異性体）（3.7ｇ）が得られ
た。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1710,1670cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.45(9H,s),3.76(2H,m),4.45(2H,q,
J＝14.0Hz),4.66(2H,s),5.21(1H,d,J＝5.0Hz),5.87(1H,
dd,J＝5.0Hz,8.0Hz),7.74(1H,d,J＝10.0Hz),7.95(1H,d,
J＝2.0Hz),8.58(1H,d,J＝10.0Hz),9.15(1H,d,J＝2.0H
z),9.60(1H,d,J＝8.0Hz) 実施例２ビルスマイヤー試薬を、オキシ塩化リン（1.9ｇ）と
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（0.9ｇ）を酢酸エチル
（3.6ｍ）に加え常法により調製した。２−ｔ−ブト
キシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−チアゾリ
ル）酢酸（シン異性体）（3.0ｇ）を撹拌したビルスマ
イヤー試薬の酢酸エチル（３０ｍ）懸濁液に氷冷下に
加え、この混合物を２０分間同温度で撹拌すると、活性
化酸溶液が得られた。ビス（トリメチルシリル）ウレア
（5.8ｇ）を、撹拌した７−アミノ−３−（１−メチル
−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セ
フエム−４−カルボン酸（3.1ｇ）のテトラヒドロフラ
ン（３０ｍ）懸濁液に加え、この混合物を２０分間、
３５〜４０℃で撹拌した。得られた溶液に前記活性化酸
溶液を−１０℃で加え、混合物を３０分間同温度で撹拌
した。水および酢酸エチルを反応混合物に加え、分取し
た有機層を水に加え、２０％炭酸カリウム水溶液でpH
7.5に調整した。分取した水層を１０％塩酸でpH２に調
整し、酢酸エチルで抽出した。抽出層を塩化ナトリウム
飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去すると、７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−
３−（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チ
オメチル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）（4.7ｇ）が得られた。

IR(ヌジョ-ル)：3260,1760,1720,1680,1630cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.45(9H,s),3.92(2H,q,J＝18.0Hz),
3.96(3H,s),4.33(2H,q,J＝14.0Hz),4.66(2H,s),5.18(1
H,d,J＝5.0Hz),5.87(1H,dd,J＝5.0Hz,8.0Hz),7.96(1H,
d,J＝2.0Hz),9.19(1H,d,J＝2.0Hz),9.63(1H,d,J＝8.0H
z) 実施例３下記化合物を実施例１および２と同様の方法により得
た。

(1)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（テトラゾロ〔1,5
−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3200,1775,1715,1675cm^-1 (2)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (3)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（５−
メチル−1,3,4−チアジアゾール−２−イル）チオメチ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1720,1670cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.45(9H,s),2.69(3H,s),3.71(2H,q,
J＝18.0Hz),4.40(2H,q,J＝14.0Hz),4.67(2H,s),5.21(1
H,d,J＝4.0Hz),5.87(1H,dd,J＝4.0Hz,8.0Hz),7.97(1H,
d,J＝2.0Hz),9.20(1H,d,J＝2.0Hz),9.62(1H,d,J＝4.0H
z) (4)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（５−メチル−1,3,
4−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (5)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１Ｈ
−1,2,3−トリアゾール−５−イル）チオメチル−３−
セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1710,1670cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.45(9H,s),3.67(2H,q,J＝18.0Hz),
3.97(2H,q,J＝14.0Hz),4.66(2H,s),5.19(1H,d,J＝5.0H
z),5.84(1H,dd,J＝5.0Hz,8.0Hz),7.95(3H,m),9.19(1H,
d,J＝2.0Hz),9.61(1H,d,J＝8.0Hz) (6)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１Ｈ−1,2,3−ト
リアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフエム−４
−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (7)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−アセト
アミドメチル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1780,1710,1680,1600,1550cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.43(9H,s),1.53(3H,s),3.48(2H,AB
q,J＝18Hz),4.10(2H,q,J＝13Hz),4.67(2H,s),5.17(1H,
d,J＝5Hz),5.83(1H,dd,J＝5Hz,8Hz),8.0(1H,d,J＝2Hz),
9.23(1H,d,J＝2Hz),9.58(1H,d,J＝8Hz) (8)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−アセトアミドメチル
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1775,1720,1670,1540cm^-1 (9)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（６−
メチルピリダジン−３−イル）チオメチル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）。

IR(ヌジョ-ル)：1780,1720,1675,1630cm^-1 (10)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（６−メチルピリダ
ジン−３−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カル
ボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1675cm^-1 (11)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−メシル
メチル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1770,1710,1650,1550cm^-1 (12)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−メシルメチル−３−
セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1780,1720,1675,1540cm^-1 (13)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,
4−トリアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオ
メチル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1715,1675cm^-1 (14)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−トリアゾ
ロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1680cm^-1 実施例４トリフルオロ酢酸（14.4ｍ）を、７−〔２−ｔ−ブト
キシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−チアゾリ
ル）アセトアミド〕−３−（テトラゾロ〔1,5−ｂ〕ピ
リダジン−６−イル）チオメチル−３−セフエム−４−
カルボン酸（シン異性体）（3.6ｇ）の塩化メチレン
（７ｍ）およびアニソール（3.6ｍ）中懸濁液に室
温で加え、２時間同温度で撹拌した。得られた溶液にジ
イソプロピルエーテルを撹拌下に加えた。沈殿物を取
し、ジイソプロピルエーテルで洗浄した。この沈殿物を
酢酸エチル−水混液に加え、この混合物を２０％炭酸ナ
トリウム水溶液でpH 7.5に調整した。分取した水層を氷
冷下に１０％塩酸でpH 2.0に調整した。生じた沈殿を
取し、氷水で洗浄し、五酸化リンで真空乾燥すると、７
−〔２−ｔ−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−チ
アゾリル）アセトアミド〕−３−（テトラゾロ〔1,5−
ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸（シン異性体）（1.8ｇ）が得られ
た。

IR(ヌジョ-ル)：3200,1775,1715,1675cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：3.75(2H,q,J＝16.0Hz),4.49(2H,q,J
＝14.0Hz),4.74(2H,s),5.26(1H,q,J＝5.0Hz),5.96(1H,d
d,J＝5.0Hz,8.0Hz),7.87(1H,d,J＝10.0Hz),8.10(1H,d,J
＝2.0Hz),8.71(1H,d,J＝10.0Hz),9.31(1H,d,J＝2.0Hz),
9.83(1H,d,J＝8.0Hz) 実施例５下記化合物を実施例４と同様の方法により得た。

(1)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：3.68(2H,s),3.91(3H,s),4.30(2H,
m),4.65(2H,s),5.13(1H,d,J＝5.0Hz),5.82(1H,d,J＝5.0
Hz,8.0Hz),7.91(1H,d,J＝2.0Hz),9.11(1H,d,J＝2.0Hz)
9.54(1H,d,J＝8.0Hz) (2)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（５−メチル−1,3,
4−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：2.66(3H,s),3.67(2H,q,J＝18.0Hz),
4.36(2H,q,J＝14.0Hz),4.67(2H,s),5.16(1H,d,J＝5.0H
z),5.84(1H,dd,J＝5.0Hz,8.0Hz),7.90(1H,d,J＝2.0Hz),
9.18(1H,d,J＝2.0Hz)9.53(1H,d,J＝8.0Hz) (3)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１Ｈ−1,2,3−ト
リアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフエム−４
−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：3.72(2H,q,J＝17.0Hz),4.03(2H,q,J
＝14.0Hz),4.78(2H,s),5.26(1H,q,J＝5.0Hz),5.92(1H,d
d,J＝5.0Hz,8.0Hz),8.05(1H,s),8.08(1H,d,J＝2.0Hz),
9.27(1H,d,J＝2.0Hz),9.74(1H,d,J＝8.0Hz) (4)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−アセトアミドメチル
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1775,1720,1670,1540cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.83(3H,s),3.47(2H,ABq,J＝18.0H
z),4.07(2H,ABq,J＝13Hz),4.67(2H,s),5.12(1H,d,J＝5H
z),5.82(1H,dd,J＝5Hz,8Hz),7.93(1H,d,J＝2Hz),8.05(1
H,t,J＝6Hz),9.12(1H,d,J＝2Hz),9.50(1H,d,J＝8Hz) (5)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（６−メチルピリダ
ジン−３−イル）−チオメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1675cm^-1 (6)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−メシルメチル−３−
セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1780,1720,1675,1540cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：3.02(3H,s),3.75(2H,q,J＝18Hz),4.
50(2H,ABq,J＝13Hz),4.70(2H,s),5.30(1H,q,J＝5Hz),5.
93(1H,dd,J＝5Hz,8Hz),8.00(1H,d,J＝2Hz),9.20(1H,d,J
＝2Hz),9.65(1H,d,J＝8Hz) (7)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−トリアゾ
ロ〔3,4−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1680cm^-1 実施例６下記化合物を、実施例４と同様の方法により、７−〔２
−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）−アセトアミド〕−３−（６−メチルピリ
ダジン−３−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）をトリ
フルオロ酢酸およびアニソールで処理することにより得
た。

７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−チア
ゾリル）アセトアミド〕−３−（６−メチルピリダジン
−３−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カルボン
酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1675cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.40-1.70(3H,D₂O-overlap),3.66(2
H,q,J＝18.0Hz),4.16(2H,m),4.66(2H,s),5.16(1H,q,J＝
5.0Hz),5.83(1H,dd,J＝5.0Hz,8.0Hz),7.38(1H,d,J＝9.0
Hz),7.51(1H,d,J＝9.0Hz),7.94(1H,s),9.14(1H,s),9.58
(1H,d,J＝8.0Hz) 実施例７下記化合物を、実施例４と同様の方法により、７−〔２
−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）−アセトアミド〕−３−（1,2,4−トリア
ゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−
３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シン異性体）をトリフルオロ酢酸およびアニソールで
処理することにより得た。

７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−チア
ゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−トリアゾロ
〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３−
セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1680cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：3.71(2H,q,J＝18.0Hz),4.08(2H,q,J
＝14.0Hz),4.70(2H,s),5.20(1H,q,J＝4.0Hz),5.87(1H,d
d,J＝4.0Hz,8.0Hz),7.28(1H,d,J＝10.0Hz),7.99(1H,d,J
＝2.0Hz),8.23(1H,d,J＝10.0Hz),9.21(1H,d,J＝2.0Hz),
9.41(1H,s),9.65(1H,d,J＝8.0Hz) 実施例８三塩化リン（0.26ｍ）を７−〔２−ｔ−ブトキシカル
ボニルメトキシイミノ−２−（４−チアゾリル）アセト
アミド〕−３−（1,2,4−トリアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダ
ジン−６−イル）チオメチル−３−セフエム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル−１−オキシド（シン異
性体）（1.2ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１
０ｍ）溶液に−３５℃で加え、３５分間−３０〜−２
０℃で撹拌した。酢酸エチル−水混液にこの反応混合物
を加え、２０％炭酸ナトリウム水溶液でpH 7.0に調整し
た。分取した有機層を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、７
−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−
（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−ト
リアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）（1.0ｇ）が得られた。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1715,1675cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.43(9H,s),3.75(2H,q,J＝18.0Hz),
4.14(2H,m),4.68(2H,s),5.25(1H,d,J＝4.0Hz),5.95(1H,
dd,J＝4.0Hz,8.0Hz),7.60-7.68(11H,m),7.95(1H,d,J＝
2.0Hz),8.16(1H,d,J＝10.0Hz),9.06(1H,d,J＝2.0Hz),9.
21(1H,s),9.65(1H,d,J＝8.0Hz) 実施例９三塩化リン（1.5ｇ）を７−〔２−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノ−２−（４−チアゾリル）−アセト
アミド〕−３−メシルメチル−３−セフエム−４−カル
ボン酸−１−オキシド（シン異性体）（2.1ｇ）のＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍ）溶液に−５０℃
で加え、−４０〜−３０℃で１０分間撹拌した。反応混
合物を冷水（２００ｍ）−酢酸エチル（１５０ｍ）
混液に注ぎ込んだ。分取した有機層を水（５０ｍ）で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する
と、７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）−アセトアミド〕−３−メシ
ルメチル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）（0.9ｇ）が得られる。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1770,1710,1650,1550cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.45(9H,s),3.0(3H,s),3.73(2H,bro
ad s),4.50(2H,ABq,J＝13Hz),4.67(2H,s),5.30(1H,d,J
＝5Hz),5.90(1H,dd,J＝5Hz,8Hz),7.97(1H,d,J＝2Hz),9.
20(1H,d,J＝2Hz),9.67(1H,d,J＝8Hz) 実施例１０下記化合物を実施例８および９と同様の方法により得
た。

(1)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（テト
ラゾロ〔1,5−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1710,1670cm^-1 (2)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（テトラゾロ〔1,5
−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3200,1775,1715,1675cm^-1 (3)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１−
メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−
３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3260,1760,1720,1680,1630cm^-1 (4)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１−メチル−１Ｈ
−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフエム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (5)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）−アセトアミド〕−３−（５
−メチル−1,3,4−チアジアゾール−２−イル）チオメ
チル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1720,1670cm^-1 (6)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（５−メチル−1,3,
4−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−３−セフ
エム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (7)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１Ｈ
−1,2,3−トリアゾール−５−イル）チオメチル−３−
セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1710,1670cm^-1 (8)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（１Ｈ−1,2,3−ト
リアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフエム−４
−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (9)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）−アセトアミド〕−３−アセ
トアミドメチル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン
異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1780,1710,1680,1600,1550cm^-1 (10)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−アセトアミドメチル
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1775,1720,1670,1540cm^-1 (11)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（６−
メチルピリダジン−３−イル）チオメチル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）。

IR(ヌジョ-ル)：1780,1720,1675,1630cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.45(9H,s),2.32(3H,s),3.73(2H,
m),4.20(2H,m),4.67(2H,s),5.28(1H,d,J＝5.0Hz),5.98
(1H,dd,J＝5.0Hz,8.0Hz),7.00(1H,s),7.17-7.73(12H,
m),7.98(1H,d,J＝2.0Hz),9.21(1H,d,J＝2.0Hz),9.67(1
H,d,J＝8.0Hz) (12)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（６−メチルピリダ
ジン−３−イル）−チオメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1675cm^-1 (13)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−セフエム−４−カル
ボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：3250,1780,1720,1675,1540cm^-1 (14)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−トロアゾ
ロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1680cm^-1 実施例１１６−メルカプト−1,2,4−トリアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダ
ジン（4.7ｇ）を、撹拌した７−〔２−ｔ−ブトキシカ
ルボニルメトキシイミノ−２−（４−チアゾリル）アセ
トアミド〕−３−クロロメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）（5.0
ｇ）およびヨウ化ナトリウム（4.6ｇ）のＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド（３５ｍ）懸濁液に加え、２時間室
温で撹拌した。この反応混合物に酢酸エチル−水混液を
加え、２０％炭酸ナトリウム水溶液でpH 7.5に調整し
た。分取した有機層を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。有機層を濃縮して
得られた粗生成物は、酢酸エチルを溶出液として用いた
シリカゲルカラムクロマトグラフィにより精製した。目
的化合物を含有する画分を集め、溶媒を留去すると、７
−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−
（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−ト
ロアゾロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）（1.2ｇ）を与えた。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1715,1675cm^-1 NMR(DMSO-d₆,δ）：1.43(9H,s),3.75(2H,q,J＝18.0Hz),
4.14(2H,m),4.68(2H,s),5.25(1H,d,J＝4.0Hz),5.95(1H,
dd,J＝4.0Hz,8.0Hz),7.60-7.68(11H,m),7.95(1H,d,J＝
2.0Hz),8.16(1H,d,J＝10.0Hz),9.06(1H,d,J＝2.0Hz),9.
21(1H,s),9.65(1H,d,J＝8.0Hz) 実施例１２下記化合物を実施例１１と同様の方法により得た。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (5)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（５−
メチル−1,3,4−チアジアゾール−２−イル）チオメチ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (7)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）−アセトアミド〕−３−（１
Ｈ−1,2,3−トリアゾール−５−イル）チオメチル−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1775,1720,1675cm^-1 (9)７−〔２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアゾリル）アセトアミド〕−３−（６−
メチルピリダジン−３−イル）チオメチル−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）。

IR(ヌジョ-ル)：1780,1720,1675,1630cm^-1 (10)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（６−メチルピリダ
ジン−３−イル）−チオメチル−３−セフエム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1675cm^-1 (11)７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−（1,2,4−トリアゾ
ロ〔4,3−ｂ〕ピリダジン−６−イル）チオメチル−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）。

IR(ヌジョ-ル)：1770,1680cm^-1

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開昭56−128786（ＪＰ，Ａ) 特開昭56−142289（ＪＰ，Ａ) 特開昭55−141490（ＪＰ，Ａ) 特開昭54−9296（ＪＰ，Ａ) 特開昭55−151594（ＪＰ，Ａ) 特開昭55−105689（ＪＰ，Ａ) 特開昭55−35096（ＪＰ，Ａ) 特開昭56−161395（ＪＰ，Ａ) 特公昭40−22857（ＪＰ，Ｂ１)

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式：［式中、Ｒ^１はカルボキシ（低級）アルキル基または保
護されたカルボキシ（低級）アルキル基、Ｒ^２はカルボ
キシ基または保護されたカルボキシ基、Ｒ^３は低級アル
カノイルアミノ基、低級アルカンスルホニル基、または
低級アルキルを有していてもよい複素環チオ基である］で示される新規セフェム化合物およびその塩類。
【請求項２】Ｒ^１がカルボキシ（低級）アルキル基また
はエステル化されたカルボキシ（低級）アルキル基、Ｒ
^２がカルボキシ基またはエステル化されたカルボキシ
基、Ｒ^３が低級アルカノイルアミノ基、低級アルカンス
ルホニル基、低級アルキルを有していてもよい窒素原子
１〜４個を含む不飽和３〜８員複素環チオ基、低級アル
キルを有していてもよい硫黄原子１〜２個および窒素原
子１〜３個を含む不飽和３〜８員複素環チオ基または窒
素原子１〜５個を含む不飽和縮合複素環チオ基である特
許請求の範囲第１項記載の化合物。
【請求項３】シン異性体である特許請求の範囲第２項記
載の化合物。
【請求項４】Ｒ^１がカルボキシ（低級）アルキル基また
は低級アルコキシカルボニル（低級）アルキル基、Ｒ^２
がカルボキシ基、Ｒ^３が低級アルカノイルアミノ基であ
る特許請求の範囲第３項記載の化合物。
【請求項５】７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２
−（４−チアゾリル）アセトアミド］−３−アセトアミ
ドメチル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体）である特許請求の範囲第４項記載の化合物。
【請求項６】Ｒ^１がカルボキシ（低級）アルキル基また
は低級アルコキシカルボニル（低級）アルキル基、Ｒ^２
がカルボキシ基、Ｒ^３が低級アルカンスルホニル基であ
る特許請求の範囲第３項記載の化合物。
【請求項７】７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２
−（４−チアゾリル）アセトアミド］−３−メシルメチ
ル−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）であ
る特許請求の範囲第６項記載の化合物。
【請求項８】Ｒ^１がカルボキシ（低級）アルキル基また
は低級アルコキシカルボニル（低級）アルキル基、Ｒ^２
がカルボキシ基またはジフエニル（低級）アルコキシカ
ルボニル基、Ｒ^３がトリアゾリルチオ基、低級アルキル
を有するテトラゾリルチオ基、低級アルキルを有するピ
リダジニルチオ基、低級アルキルを有するチアジアゾリ
ルチオ基、トリアゾロピリダジニルチオ基またはテトラ
ゾロピリダジニルチオ基である特許請求の範囲第３項記
載の化合物。
【請求項９】７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２
−（４−チアゾリル）アセトアミド］−３−（テトラゾ
ロ［１，５−ｂ］ピリダジン−６−イル）チオメチル−
３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）である特
許請求の範囲第８項記載の化合物。