JPH0635200A - 感光性転写シート及びレジストパターン形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 感光性樹脂層を有する感光性転写シートと感
光性樹脂層を転写すべき支持体とを貼り合わせた積層物
から、仮支持体を剥離する際に塵埃等が感光性樹脂層の
上に付着することの無い感光性転写シートを提供する。 【構成】 合成樹脂製の仮支持体上に、バリヤー性剥離
層又は剥離層及びバリヤー層、並びにアルカリ現像型の
感光性樹脂層がこの順で積層されてなる感光性転写シー
トに於いて、仮支持体が１０¹³Ω／□以下の表面電気抵
抗値を有する感光性転写シート。この感光性転写シート
を使用して支持体上にその感光性樹脂層を転写しレジス
トパターンを形成する方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、主に半導体集積回路や
フォトマスク、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレ
イなどの透明電極（ＩＴＯ）や配線、プリント配線板の
配線等のパターン形成に用いられるアルカリ現像型の感
光性転写シート及びこの感光性転写シートを使用するレ
ジストパターン形成方法に関する。本発明の感光性転写
シート及びパターン形成方法は、電子材料分野において
トランジスタ回路や透明電極膜（ＩＴＯ膜等）等を製造
するためのエッチングレジストを形成するために特に有
用である。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体集積回路、フォトマスク、
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、プリント配
線板等の電子材料部を製造する分野に於いて、透明電極
（ＩＴＯ）や配線のパターニングを行うために、ＩＴＯ
膜や金属膜を設けた基板上に塗布により感光性樹脂（フ
ォトレジスト）層を形成し、フォトリソ法によりレジス
トをパターニングし、次いでＩＴＯ膜や金属膜をエッチ
ングする方法が採用されていた。

【０００３】この方法に於いて、基板上への感光性樹脂
層形成液の塗布は一般にスピンコート法により行われて
いるが、スピンコートする際に感光性樹脂層形成液の大
部分は振り飛ばされ、実際に基板上にコートされる感光
性樹脂層形成液の量は、供給した形成液全量の数重量％
に過ぎない。その結果、高価な感光性樹脂層形成液は殆
ど無駄になり、従ってコストの面で大きな問題となって
いた。

【０００４】上記のような問題点を解決するために、仮
支持体上に剥離層及び感光性樹脂層を設けた感光性転写
シートを用い、基板と感光性樹脂層を貼り合わせて転写
シートと基板との積層物を作り、この積層物から仮支持
体を剥離することにより基板上に感光性樹脂層を転写形
成する方式が、特開昭４６−２１２１号公報、特公昭４
６−１０１１号公報、特公昭５６−４０８２４号公報等
に記載されている。

【０００５】しかしながらこれらの感光性転写シートを
使用する方法に於いても、次のような問題点がある。即
ち、基板と感光性樹脂層を貼り合わせた後、仮支持体を
剥離する際に、仮支持体及び感光性樹脂層が貼り合わさ
れた基板が剥離帯電し、周囲に存在する塵埃等がこれに
引き寄せられ、転写された感光性樹脂層上に付着する。
感光性樹脂層に塵埃が付着したまま露光、現像処理する
と、形成されたレジストパターンにピンホール等の欠陥
が発生し、製品歩留りを悪化させることになる。また、
仮支持体を指で剥離する際に人体に帯電して不快な電撃
ショックを受けることがある。

【０００６】また、半導体回路形成時のように、ミクロ
な凹凸（±０．５μｍ程度）が存在する基板（下地）を
使用する場合は、基板に感光性樹脂層を転写するとき
に、基板の凹凸に起因する気泡残りが基板と感光性樹脂
層との間に発生し、この残留する気泡のためにレジスト
パターンの欠落を発生させていた。更に、剥離層を介し
て露光を行う場合には、剥離層の層厚が厚いと剥離層中
で光の散乱が発生し、いわゆる焼きボケが生じ、十分な
レジスト解像力が得られていない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、感光
性樹脂層を有する感光性転写シートと感光性樹脂層を転
写すべき支持体とを貼り合わせた積層物から、仮支持体
を剥離する際に塵埃等が感光性樹脂層の上に付着するこ
との無い感光性転写シートを提供することにある。本発
明の他の目的は、表面に凹凸が形成された支持体に感光
性樹脂層を転写したときでも、支持体と感光性樹脂層と
の間に気泡残りが生ずることの無い感光性転写シートを
提供することにある。本発明の更に他の目的は、高解像
力でレジストパターンを形成することができる感光性転
写シートを提供することである。本発明の更に他の目的
は、このような感光性転写シートを使用して優れた品質
のレジストパターンを形成する方法を提供することにあ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、合成樹脂製の
仮支持体上に、バリヤー性剥離層又は剥離層及びバリヤ
ー層、並びにアルカリ現像型の感光性樹脂層がこの順で
積層されてなる感光性転写シートに於いて、仮支持体が
１０¹³Ω／□以下の表面電気抵抗値を有することを特徴
とする感光性転写シート。

【０００９】他の本発明は、上記の本発明の感光性転写
シートを、その感光性樹脂層表面で、感光性樹脂層を転
写すべき支持体に加熱下に貼り合せて積層物を形成する
工程、該積層物から仮支持体を剥離により除去する工
程、所望により該積層物からバリヤー性剥離層又は剥離
層及びバリヤー層を除去する工程、所定のパターンを有
するフォトマスクを介して露光することにより感光性樹
脂層に潜像を形成する工程、及び感光性樹脂層を現像処
理して支持体上にレジストパターンを形成する工程から
なることを特徴とするレジストパターン形成方法であ
る。

【００１０】本発明の好適な態様は下記の通りである。

【００１１】（１）上記感光性樹脂層が、アルカリ可溶
性樹脂及びキノンジアジド化合物を含むポジ型感光性樹
脂層、又はアルカリ可溶性樹脂、シリルエーテル及び光
酸発生性化合物を含むポジ型感光性樹脂層であることを
特徴とする上記の感光性転写シート。

【００１２】（２）上記仮支持体が、導電性を有する材
料を含有する合成樹脂から形成されるか、導電性を有す
る材料から形成された表面層を有する仮支持体であるこ
とを特徴とする上記の感光性転写シート。

【００１３】（３）上記バリヤー性剥離層又は剥離層
が、１０〜８０℃の範囲内の軟化点を有することを特徴
とする上記の感光性転写シート。

【００１４】（４）上記バリヤー性剥離層、剥離層及び
バリヤー層の何れかに、光消色性化合物が含有されてな
ることを特徴とする上記の感光性転写シート。

【００１５】（５）上記感光性樹脂層の上に、保護層が
積層されてなることを特徴とする上記の感光性転写シー
ト。

【００１６】（６）剥離層とバリヤー層との密着力が、
バリヤー層と感光性樹脂層との密着力よりも小さいこと
を特徴とする上記の感光性転写シート。

【００１７】本発明の感光性転写シートを、添付する図
面を参照して詳細に説明する。本発明の感光性転写シー
トは、合成樹脂製の仮支持体上に、バリヤー性剥離層又
は剥離層及びバリヤー層、並びにアルカリ現像型の感光
性樹脂層がこの順で積層されてなる構成を有し、仮支持
体とバリヤー性剥離層又は剥離層との間の密着力が他の
層間の密着力よりも小さく、且つ仮支持体が１０¹³Ω／
□以下の表面電気抵抗値を有することに特徴を有するも
のである。

【００１８】本発明の感光性転写シートに於いて、合成
樹脂性の仮支持体は１０¹³Ω／□以下、好ましくは１０
¹²Ω／□以下の表面電気抵抗値を有するものであり、こ
のような仮支持体は、導電性を有する材料を含有する合
成樹脂から形成された仮支持体、表面近傍の部分のみに
導電性を有する材料が含有されている仮支持体、１０¹³
Ω／□より大きい表面電気抵抗値を有する仮支持体本体
の少なくとも一方の面に導電性を有する層が積層されて
いる仮支持体、これらの構成が組み合わせられた仮支持
体等の何れの態様のものであってもよい。

【００１９】図１は、本発明の感光性転写シートの一実
施例の断面を模式的に示す断面図である。図１に於い
て、感光性転写シート１は、仮支持体２の片面にバリヤ
ー性剥離層３が積層され、その上に感光性樹脂層４が積
層され、更にその上に保護層５が積層されて構成されて
いる。

【００２０】仮支持体２は、導電性を有する材料を含有
する合成樹脂から形成されており、１０¹³Ω／□以下の
表面電気抵抗値を有している。仮支持体２を形成するた
めの合成樹脂としては、従来感光性転写シートの仮支持
体材料として使用されている化学的及び熱的に安定な合
成樹脂、好ましくは熱可塑性樹脂を使用することがで
き、特に好ましいものはポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート等である。

【００２１】仮支持体２に含有させる導電性を有する材
料としては、特に限定することなくそれ自体公知のもの
であってよいが、特に好ましいものは導電性金属酸化物
の微粒子及び帯電防止剤である。導電性金属酸化物の微
粒子及び帯電防止剤はそれぞれ単一成分であってもよく
混合物であってもよい。また導電性金属酸化物の微粒子
と帯電防止剤とを併用してもよい。

【００２２】上記導電性金属酸化物の好ましい例として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウ
ム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸
化バリウム、酸化モリブデン等の中から選ばれた少なく
とも１種の結晶性金属酸化物、及び／又はその複合酸化
物を主体とする微粒子を挙げることができる。導電性金
属酸化物の微粒子は、１０⁷ Ω・ｃｍ以下、特に１０⁵
Ω・ｃｍ以下の体積抵抗値を有するものであることが好
ましく、また、その粒子サイズは、０．０１〜０．７μ
ｍ、特に０．０２〜０．５μｍであることが好ましい。

【００２３】導電性金属酸化物の微粒子の製造方法につ
いては、例えば、特開昭５６−１４３４３０号公報に詳
細に記載されている。それらについて略述すれば、第１
に金属酸化物微粒子を焼成により作製し、導電性を向上
させる異種原子の存在下で熱処理する方法、第２に焼成
により金属酸化物微粒子を製造するときに導電性を向上
させる為の異種原子を共存させる方法、第３に焼成によ
り金属微粒子を製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げ
て、酸素欠陥を導入する方法等がある。

【００２４】導電性金属酸化物に含まれる異種原子の例
としては、例えば、ＺｎＯに対してＡｌ、Ｉｎ等、Ｔｉ
Ｏ₂ に対してはＮｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ₂ に対しては、Ｓ
ｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等が挙げられる。異種原子の添
加量は０．０１〜３０モル％の範囲が好ましく、０．１
〜１０モル％の範囲が特に好ましい。

【００２５】上記帯電防止剤の好ましい例としては、ア
ニオン界面活性剤としてアルキル燐酸塩系（例えば、花
王（株）のエレクトロストリッパーＡ、第一工業製薬
（株）のエレノンＮｏ１９等が、両性界面活性剤として
ベタイン系（例えば、第一工業製薬（株）のアモーゲン
Ｋ、等）が、非イオン界面活性剤としてポリオキシエチ
レン脂肪酸エステル系（例えば、日本油脂（株）のニツ
サンノニオンＬ、等）、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル系（例えば、花王（株）のエマルゲン１０６、１
２０、１４７、４２０、２２０、９０５、９１０、日本
油脂（株）のニツサンノニオンＥ、等）を挙げることが
できる。その他、非イオン界面活性剤としてポリオキシ
エチレンアルキルフェノールエーテル系、多価アルコー
ル脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキルアミン系
等の界面活性剤も有用である。

【００２６】仮支持体２の厚みは５μｍ〜３００μｍの
範囲内であることが好ましく、特に好ましくは２０μｍ
〜１５０μｍの範囲内である。仮支持体２の厚みが上記
範囲よりも小さいと、感光性転写シートを転写すべき支
持体と貼り合わせる際にシワを発生しやすく、また、厚
みが上記範囲よりも大きいと感光性転写シートのシート
カッティング時にゴミを発生しやすい。更に、剥離性の
観点から仮支持体２に対し種々の公知の離型処理を行っ
ても良い。また、滑り性を良化するため、または該感光
性樹脂層の仮支持体裏面との不都合な接着を防止するた
め、仮支持体の裏面に公知の微粒子含有滑り性組成物
や、シリコーン化合物を含有する離型剤組成物等を塗布
することも有用である。

【００２７】図２は、本発明の感光性転写シートの他の
実施例の断面を模式的に示す断面図である。図２に於い
て、感光性転写シート１１は、仮支持体１２が仮支持体
本体１２ａとその片面に設けられた導電性層１２ｂとか
ら構成され、仮支持体１２の導電性層１２ｂが設けられ
ていない面にバリヤー性剥離層１３が積層され、その上
に感光性樹脂層１４が積層され、更にその上に保護層１
５が積層されて構成されている。

【００２８】仮支持体本体１２ａは、従来感光性転写シ
ートの仮支持体材料として使用されている化学的及び熱
的に安定な合成樹脂（特に好ましくは、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート等）から成形されたシ
ート状支持体である。仮支持体本体１２ａの表面電気抵
抗値については特に考慮する必要は無く、１０¹³Ω／□
以上であっても、それより小さくてもよい。

【００２９】導電性層１２ｂは、導電性を有する材料と
バインダー又はポリマーとを含む層である。この導電性
を有する材料としては、特に限定されないが、前記の仮
支持体２に含有させることができる導電性金属酸化物の
微粒子が特に好ましい。

【００３０】導電性層１２ｂ中への導電性金属酸化物の
微粒子の含有量は、仮支持体本体１２ａと導電性層１２
ｂとを合わせた仮支持体１２の表面電気抵抗値が１０¹³
Ω／□以下になるような量であり、導電性金属酸化物、
バインダー又はポリマー、仮支持体本体等の電気抵抗
値、導電性層１２ｂ及び仮支持体本体１２ａの厚み等に
よって変わるが、一般に０．０５ｇ／ｍ² 〜２０ｇ／ｍ
² であることが好ましく、０．１ｇ／ｍ² 〜１０ｇ／ｍ
² であることが特に好ましい。

【００３１】導電性層１２ｂに含有させるバインダーと
しては、例えば、ゼラチン、セルロースナイトレート、
セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、
セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテー
トプロピオネート等のようなセルロースエステル；塩化
ビニリデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリ
ル、酢酸ビニル、アルキル（炭素数１〜４のアルキル基
が好ましい）アクリレート、ビニルピロリドン等を含む
モノマーのホモポリマー若しくはコポリマー；可溶性ポ
リエステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド等を
使用することができる。

【００３２】導電性層１２ｂに含有させるポリマーとし
ては、仮支持体本体１２ａの材料として使用できる熱可
塑性樹脂、上記のバインダー、及びその他の熱可塑性樹
脂の中から任意に選択されるポリマーを使用することが
できる。

【００３３】導電性層１２ｂの形成は、例えば、導電性
微粒子を必要に応じて溶剤中でバインダーに分散させた
導電性層形成用塗布液を、仮支持体本体１２ａの表面上
に例えば、ローラーコート、エアーナイフコート、グラ
ビアコート、バーコート、カーテンコート等の方法によ
って塗布した後乾燥する方法、仮支持体本体１２ａの表
面上に後記のような下塗層を設けその上に導電性微粒子
を被着させる方法、導電性微粒子及びポリマーの組成物
を、仮支持体本体１２ａを押出成形する際に共押し出し
することにより仮支持体本体１２ａ上に導電性層１２ｂ
を設ける方法等の方法によって行うことができる。特に
導電性層１２ｂを共押し出しにより設ける方法によれ
ば、接着性、耐傷性が優れた導電性層１２ｂを形成する
ことができ、後述するような疎水性重合体層を設けなく
てもよいので好ましい。

【００３４】導電性層形成用塗布液を調製するためにバ
インダー中へ導電性粒子を分散させるに際しては、チタ
ン系分散剤又はシラン系分散剤のような分散剤をこの塗
布液に添加してもよい。また必要に応じてバインダー架
橋剤等を加えてもよい。

【００３５】チタン系分散剤としては、米国特許第４，
０６９，１９２号明細書、同第４，０８０，３５３号明
細書等に記載されているチタネート系カップリング剤、
及びプレンアクト（商品名：味の素（株）製）等を挙げ
ることができる。また、シラン系分散剤としては、例え
ばビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げること
ができ、「シランカップリング剤」として信越化学工業
（株）等から市販されているものも使用することができ
る。

【００３６】バインダー架橋剤としては、例えば、エポ
キシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系
架橋剤、エポキシ系架橋剤等を挙げることができる。

【００３７】図２に示すように、仮支持体本体１２ａの
バリヤー性剥離層１３を設けた面とは反対側の面に導電
性層１２ｂを設けた場合には、耐傷性を良好なものとす
るために、導電性層１２ｂの上に更に疎水性重合体層
（図示せず）を設けることが好ましい。この場合、疎水
性重合体層は、疎水性重合体の有機溶剤溶液又は水性ラ
テックスを塗布し乾燥することによって形成することが
できる。この疎水性重合体の塗布量は、乾燥重量にして
０．０５ｇ／ｍ² 〜１ｇ／ｍ² 程度であることが好まし
い。

【００３８】この疎水性重合体としては、セルロースエ
ステル（例えばニトロセルロース、セルロースアセテー
ト）、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレー
ト等を含むモノマーから製造されたビニル系ポリマーや
有機溶剤可溶性ポリアミド、ポリエステル等のポリマー
を挙げることができる。

【００３９】この疎水性重合体層には、すべり性を付与
するためのすべり剤、例えば特開昭５５−７９４３５号
公報に記載されたような有機カルボン酸アミド等を添加
しても差しつかえないし、またマット剤等を加えること
も何ら支障はない。このような疎水性重合体層を設けて
も、導電性層１２ｂが奏する作用効果は実質的に影響を
受けない。

【００４０】下塗層を設ける場合には、特開昭５１−１
３５５２６号公報、米国特許第３，１４３，４２１号明
細書、同第３，５８６，５０８号明細書、同第２，６９
８，２３５号明細書、同第３，５６７，４５２号明細書
等に記載されているような塩化ビニリデン系共重合体、
特開昭５１−１１４１２０号公報、米国特許第３，６１
５，５５６号明細書等に記載されているようなブタジエ
ン等のジオレフイン系共重合体、特開昭５１−５８４６
９号公報等に記載されているようなグリシジルアクリレ
ートまたはグリシジルメタアクリレート含有共重合体、
特開昭４８−２４９２３号公報等に記載されているよう
なポリアミド・エピクロルヒドリン樹脂、特開昭５０−
３９５３６号公報に記載されているような無水マレイン
酸含有共重合体等を用いることができる。

【００４１】本発明の感光性転写シートにおいては、ま
た、特開昭５６−８２５０４号公報、特開昭５６−１４
３４４３号公報、特開昭５７−１０４９３１号公報、特
開昭５７−１１８２４２号公報、特開昭５８−６２６４
７号公報、特開昭６０−２５８５４１号公報等に示され
ている導電性層を設けた仮支持体も適宜用いることがで
きる。

【００４２】仮支持体１２の厚み（仮支持体本体１２ａ
及び導電性層１２ｂの合計厚み）は５μｍ〜３００μｍ
の範囲内であることが好ましく、特に好ましくは２０μ
ｍ〜１５０μｍの範囲内である。仮支持体１２の厚みが
上記範囲よりも小さいと、感光性転写シートを転写すべ
き支持体と貼り合わせる際にシワを発生しやすく、ま
た、厚みが上記範囲よりも大きいと感光性転写シートの
シートカッティング時にゴミを発生しやすい。また、仮
支持体１２を仮支持体本体１２ａと導電性層１２ｂとか
ら構成する場合は、導電性層１２ｂの厚みを０．０１〜
１０μｍにすることが好ましい。

【００４３】また、導電性層１２ｂは、仮支持体本体１
２ａのバリヤー性剥離層１３が設けられた側の表面に設
けてもよく、仮支持体本体１２ａの両表面に設けてもよ
い。

【００４４】図１に於けるバリヤー性剥離層３は、感光
性転写シート１の製造に於いて感光性樹脂層４を塗布に
より形成する際に、感光性樹脂層形成用塗布液中に含ま
れる溶剤等の成分に対して仮支持体２及び／又はバリヤ
ー性剥離層３自体を保護し、且つ、レジストパターン形
成時に仮支持体２の剥離を容易にする機能を有するもの
である。更に、バリヤー性剥離層３は、レジストパター
ン形成時に、水又はアルカリ性水溶液によって露光前に
感光性樹脂層４から容易に除去できるか、又は感光性樹
脂層４の現像処理時に容易に除去できる性質を有してい
るものである。従来公知の感光性転写シートに於ても上
記のような機能を有するバリヤー性剥離層は知られてお
り、本発明の感光性転写シートに於ても従来公知のバリ
ヤー性剥離層を特に制限されることなく使用することが
できる。

【００４５】バリヤー性剥離層３の材料は、水又はアル
カリ性水溶液に溶解乃至膨潤し、且つ感光性樹脂層形成
用塗布液中に含まれる溶剤に対して耐性を有する樹脂で
あることが好ましく、公知のアルカリ可溶性樹脂、アル
カリ膨潤性樹脂、あるいは種々の水溶性樹脂［例えば、
「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連
盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査
会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載されてい
る有機高分子化合物］の中から適宜選択することができ
る。

【００４６】バリヤー性剥離層３の材料の具体的な例と
しては、特開昭４６−２１２１号公報や特公昭５６−４
０８２４号公報に記載のポリビニルエーテル／無水マレ
イン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性
塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル
澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピ
ロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性
ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エ
チレンオキサイド重合体、各種の澱粉及びその類似物の
水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネ
ート樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂は、一
種類のみであってもよく、また二種以上の組み合わせで
あってもよい。

【００４７】前記のように、本発明の感光性転写シート
はレジストパターンを形成する支持体（基体と言うこと
がある）に感光性樹脂層を転写するために使用するもの
であり、感光性樹脂層と支持体表面との間に気泡が残ら
ないように感光性樹脂層を支持体表面に転写するために
は、バリヤー性剥離層３が熱可塑性を有するものである
ことが重要である。特に、回路基板の中間製品のような
微細な凹凸（例えば、回路の段差）を有する支持体に対
して、感光性樹脂層を転写するための感光性転写シート
のバリヤー性剥離層３は、１０〜８０℃の範囲内の軟化
点を有するものであることが好ましい。このような軟化
点を有するバリヤー性剥離層３を形成するためには、バ
リヤー性剥離層を１０〜８０℃の軟化点を有する熱可塑
性樹脂で形成してもよく、また軟化点の高い熱可塑性樹
脂にこの樹脂と相溶性のある各種の可塑剤を添加して、
実質的な軟化点を上記の範囲内に調整した樹脂で形成し
てもよい。好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロ
ピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチ
ルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニ
ルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェー
ト、グリセリン誘導体等を挙げることができる。

【００４８】レジストパターン形成時に仮支持体２の剥
離を容易にするために、仮支持体２とバリヤー性剥離層
３との間の密着力は、バリヤー性剥離層３と感光性樹脂
層４との間の密着力よりも小さいものでなくてはならな
い。仮支持体２とバリヤー性剥離層３との間の密着力を
調節するために、バリヤー性剥離層３に、他の各種のポ
リマー、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えても
よい。

【００４９】バリヤー性剥離層３の形成は、例えば、上
記のようなバリヤー性剥離層３を構成する成分を溶剤中
に溶解させたバリヤー性剥離層形成用塗布液を、仮支持
体２の表面上に例えば、ローラーコート、エアーナイフ
コート、グラビアコート、バーコート、カーテンコート
等の方法によって塗布した後乾燥する方法によって行う
ことができる。

【００５０】バリヤー性剥離層３の厚みは、レジストパ
ターンを形成する支持体の表面形状により適当に調節す
ることが好ましい。表面に微細な凹凸が存在する支持体
に対して感光性樹脂層４を転写するための感光性転写シ
ート１に於ては、バリヤー性剥離層３の厚みは２μｍ〜
５０μｍであることが好ましく、表面の平滑性が優れた
支持体を転写対象にする場合は、バリヤー性剥離層３の
厚みは２μｍより小さくてもかまわない。

【００５１】また、感光性転写シート１を使用して形成
したレジストパターンの解像力を向上させるために、バ
リヤー性剥離層３に光消色性化合物を添加してもよい。
光消色性化合物を含むバリヤー性剥離層はいわゆるコン
トラストエンハンストレイヤーとしても作用し、レジス
トの解像度を高める結果となる。この光消色性化合物と
しては特開昭４９−８８４６６号公報に記載の公知の化
合物を使用できる。具体的な光消色性化合物としては、
ニトロン染料、ジアゾニウム塩及びスチルバゾリウム塩
等が挙げられる。

【００５２】感光性樹脂層４は、ポジ型感光性樹脂層で
あってもネガ型感光性樹脂層であってもよいが、アルカ
リ可溶性樹脂及びキノンジアジド化合物を含むポジ型感
光性樹脂層、又はアルカリ可溶性樹脂、シリルエーテル
及び光酸発生性化合物を含むポジ型感光性樹脂層である
ことが好ましい。

【００５３】感光性樹脂層４に用いられるアルカリ可溶
性樹脂は、５０℃〜１００℃の融点を有するアルカリ可
溶性樹脂であることが好ましく、その具体例としては、
フェノールノボラック樹脂、フェノールとクレゾールの
共縮合ノボラック樹脂、クレゾールとキシレノールとの
共縮合ノボラック樹脂などのポジ型フォトレジストに一
般的に用いられるノボラック樹脂、及び金属酸化物を触
媒としてフェノール類とホルムアルデヒドを縮合して得
られる、いわゆるハイオルソ型ノボラック樹脂等の中で
融点が５０℃から１００℃である物を挙げることができ
る。また、上記範囲の融点を示すような組成範囲で、ア
ルカリ可溶性樹脂の一部をレゾール型のフェノール樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等で置き換えてもよ
い。上記のようなノボラック樹脂に、ｔ−ブチルフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂のような単素数３〜８のア
ルキル基で置換されたフェノール又はクレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。また、カル
ボキシル基含有ポリアクリレート、ポリメタクリレー
ト、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド等を併用
することもできる。アルカリ可溶性樹脂の融点が５０℃
以下であると、感光性樹脂層４に室温下で若干のベタツ
キがあり、異物が感光性樹脂層４の表面に付着し易く、
転写不良を発生する虞れがある。また、アルカリ可溶性
樹脂の融点が１００℃以上であると転写時に感光性樹脂
層４が軟化し難く、転写対象の支持体との密着性が劣る
傾向がある。

【００５４】上記のキノンジアジド化合物としては、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンのο−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステル、２，３，４−トリヒド
ロキシベンゾフェノンのο−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ
ベンゾフェノンのο−ナフトキノンジアジドスルホン酸
エステル等の、ポジ型フォトレジストに一般的に用いら
れるキノンジアジド化合物、フェノール樹脂のキノンジ
アジドエステル、クミルフェノールのキノンジアジドエ
ステル、ビスフェノールのキノンジアジドエステル、ピ
ロガロール・アセトン樹脂のキノンジアジドエステル等
を挙げることができる。

【００５５】上記のシリルエーテル化合物としては、特
開昭６３−２３６０２８号公報等に記載のシリルエーテ
ル化合物が挙げられる。シリルエーテル化合物は、光酸
発生剤から生じた酸により分解して、アルカリ不溶性樹
脂をアルカリ可溶性樹脂に変える。

【００５６】上記の光酸発生剤としては、特開昭６３−
２３６０２８号公報に記載の公知の化合物を挙げること
ができる。具体的にはトリハロメチルトリアジン化合
物、トリハロメチルオキサジアゾール化合物、ヨードニ
ウム塩、スルホニウム塩、ジスルホン誘導体、イミドス
ルホネート誘導体が挙げられる。

【００５７】また、感光性樹脂層４には従来使用されて
いる種々の界面活性剤、密着改良剤、増感剤、染料等を
加えることができる。

【００５８】感光性樹脂層４の形成は、例えば、上記の
ような感光性樹脂層４を構成する成分を溶剤中に溶解さ
せた感光性樹脂層形成用塗布液を、バリヤー性剥離層３
の表面上に例えば、ローラーコート、エアーナイフコー
ト、グラビアコート、バーコート、カーテンコート等の
方法によって塗布した後乾燥する方法によって行うこと
ができる。

【００５９】感光性樹脂層４の上には、感光性転写シー
ト１を貯蔵する際に感光性樹脂層４を汚染や損傷から保
護するための保護層５が設けられている。保護層５は仮
支持体１を構成する合成樹脂と同じか又は類似の材料か
らなってもよいが、感光性樹脂層４から容易に分離でき
るものであることが必要である。保護層５としては、例
えばシリコーン被覆紙、ポリオレフィン又はポリテトラ
フルオルエチレンのシート又はフィルムが適当である。
保護層５の厚みは約５〜１００μｍであるのが好まし
い。特に好ましい保護層５は、１０〜３０μｍ厚のポリ
エチレンフィルム又はポリプロピレンフィルムである。
本発明の感光性転写シートに於いて、保護層５は無くて
もよいが、感光性転写シートの取り扱い、輸送、貯蔵の
際の安全のために設けることが好ましい。

【００６０】感光性転写シート１は、仮支持体２上にバ
リヤー性剥離層形成用塗布液を塗布し、乾燥することに
よりバリヤー性剥離層３を設け、その後、バリヤー性剥
離層３上にバリヤー性剥離層３を溶解しない溶剤を含む
感光性樹脂層形成用塗布液を塗布し、乾燥する。最終的
には、感光性樹脂層４上に保護層５を設けて感光性転写
シート１を製造する。

【００６１】また、保護層５上に感光性樹脂層４を設け
てシート状物を作り、他方仮支持体２上にバリヤー性剥
離層３を設けて他のシート状物を作り、両方のシート状
物をバリヤー性剥離層３と感光性樹脂層４とが接するよ
うに貼り合わせることによって、感光性転写シート１を
製造することもできる。

【００６２】図２に示す感光性転写シート１１に於い
て、バリヤー性剥離層１３、感光性樹脂層１４及び保護
層１５は、それぞれ図１に示す感光性転写シート１に於
けるバリヤー性剥離層３、感光性樹脂層４及び保護層５
と同様のものであり、感光性転写シート１について説明
したことと同様にして形成できる。また感光性転写シー
ト１１は感光性転写シート１と同様にして製造すること
ができる。

【００６３】図３は、本発明の感光性転写シートの他の
実施例の断面を模式的に示す断面図である。図３に於い
て、感光性転写シート２１は、仮支持体２２の片面に剥
離層２３、バリヤー層２４、感光性樹脂層２５及び保護
層２６が積層されて構成されている。

【００６４】図３に示す感光性転写シート２１に於い
て、仮支持体２２、感光性樹脂層２５及び保護層２６
は、それぞれ図１に示す感光性転写シート１に於ける仮
支持体２、感光性樹脂層４及び保護層５と同様のもので
ある。

【００６５】図３に示す感光性転写シート２１に於い
て、剥離層２３及びバリヤー層２４は、図１に示すバリ
ヤー性剥離層３の機能を分割して、それぞれの層に担わ
せたものである。即ち、剥離層２３は、レジストパター
ン形成時に仮支持体２２の剥離を容易にする機能を有す
るものであり、バリヤー層２４は、感光性転写シート２
１の製造に於いて感光性樹脂層２５を塗布により形成す
る際に、感光性樹脂層形成用塗布液中に含まれる溶剤等
の成分に対して剥離層２３を保護する機能を有するもの
である。更に、剥離層２３及びバリヤー層２４は、レジ
ストパターン形成時に、水又はアルカリ性水溶液によっ
て露光前に感光性樹脂層２５から容易に除去できるか、
又は感光性樹脂層２５の現像処理時に容易に除去できる
性質を有しているものである。従来公知の感光性転写シ
ートに於ても上記のような機能を有する剥離層２３及び
バリヤー層２４は知られており、本発明の感光性転写シ
ートに於ても従来公知の剥離層及びバリヤー層を特に制
限されることなく使用することができる。

【００６６】剥離層２３の材料は、水又はアルカリ性水
溶液に溶解乃至膨潤し得る樹脂であることが好ましい。
剥離層２３の材料としては、前記の感光性転写シート１
のバリヤー性剥離層３の材料として例示したものを使用
することができ、更にバリヤー層としての機能を有する
必要がないことから、エチレンとアクリル酸エステル共
重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エス
テル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）ア
クリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）ア
クリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビ
ニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケ
ン化物などの材料も使用することができる。

【００６７】感光性樹脂層２５と感光性樹脂層を転写す
べき支持体表面との間に気泡が残らないように感光性樹
脂層２５を支持体表面に転写するためには、剥離層２３
が熱可塑性を有するものであることが重要である。特
に、回路基板の中間製品のような微細な凹凸（例えば、
回路の段差）を有する支持体に対して、感光性樹脂層を
転写するための感光性転写シートの剥離層２３は、１０
〜８０℃の範囲内の軟化点を有するものであることが好
ましい。このような軟化点を有する剥離層２３を形成す
るためには、バリヤー性剥離層を１０〜８０℃の軟化点
を有する熱可塑性樹脂で形成してもよく、また軟化点の
高い熱可塑性樹脂にこの樹脂と相溶性のある各種の可塑
剤を添加して、実質的な軟化点を上記の範囲内に調整し
た樹脂で形成してもよい。好ましい可塑剤の具体例はバ
リヤー性剥離層３について記載したものを挙げることが
できる。

【００６８】レジストパターン形成時に仮支持体２２の
剥離を容易にするために、仮支持体２２と剥離層２３と
の間の密着力は、剥離層２３とバリヤー層２４との間の
密着力及びバリヤー層２４と感光性樹脂層２５との間の
密着力よりも小さいものでなくてはならない。仮支持体
２２と剥離層２３との間の密着力を調節するために、剥
離層２３に、他の各種のポリマー、密着改良剤、界面活
性剤、離型剤等を加えてもよい。

【００６９】剥離層２３の形成は、例えば、上記のよう
な剥離層２３を構成する成分を溶剤中に溶解させた剥離
層形成用塗布液を、仮支持体２２の表面上に例えば、ロ
ーラーコート、エアーナイフコート、グラビアコート、
バーコート、カーテンコート等の方法によって塗布した
後乾燥する方法によって行うことができる。

【００７０】剥離層２３の厚みは、レジストパターンを
形成する支持体の表面形状により適当に調節することが
好ましい。表面に微細な凹凸が存在する支持体に対して
感光性樹脂層２５を転写するための感光性転写シート２
１に於ては、剥離層２３の厚みは２μｍ〜５０μｍであ
ることが好ましく、表面の平滑性が優れた支持体を転写
対象にする場合は、剥離層２３の厚みは２μｍより小さ
くてもかまわない。

【００７１】また、感光性転写シート２１を使用して形
成したレジストパターンの解像力を向上させるために、
剥離層２３に前記のような光消色性化合物を添加しても
よい。

【００７２】バリヤー層２４の材料は、前記の感光性転
写シート１のバリヤー性剥離層３の材料として例示した
ものを使用することができる。バリヤー層２４に、他の
各種のポリマー、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を
加えてもよい。

【００７３】剥離層２３とバリヤー層２４との間の密着
力は、バリヤー層２４と感光性樹脂層２５との間の密着
力よりも小さいものであることが好ましい。仮支持体及
び各層間の密着力をこのようにすることにより、感光性
樹脂層２５を支持体に転写した後の露光工程に於いて、
感光性樹脂層２５の解像度に応じて、剥離層２３の上か
らパターンを露光することも、また剥離層２３のみを剥
離してバリヤー層２４の上からパターンを露光すること
も可能になる。

【００７４】バリヤー層２４の形成は、例えば、上記の
ようなバリヤー層２４を構成する成分を溶剤中に溶解さ
せたバリヤー層形成用塗布液を、剥離層２３の表面上に
前記のような方法によって塗布した後乾燥する方法によ
って行うことができる。

【００７５】バリヤー層２４の厚みは、剥離層２３を保
護する目的のみの場合には、約０．１〜５μｍ、特に
０．１〜２μｍであれば十分である。剥離層２３に比較
して薄くすることによって、前記のように感光性樹脂層
２５の解像度に応じた露光操作（剥離層２３及びバリヤ
ー層２４を通して露光するか、バリヤー層２４のみを通
して露光するか選択する）に於いて、バリヤー層２４の
機能がより一層発揮される。しかしながら、バリヤー層
２４の厚みは、それ単独で定める必要は無く、剥離層２
３とバリヤー層２４との合計の厚みが、感光性転写シー
ト１のバリヤー性剥離層３の厚みと同程度になるよう
に、剥離層２３の厚みとの相対関係で定めることが好ま
しい。例えば、表面に微細な凹凸が存在する支持体に対
して感光性樹脂層２５を転写するための感光性転写シー
ト２１に於て、剥離層２３の厚みを薄くして、代わりに
バリヤー層２４の厚みを厚くして、剥離層２３とバリヤ
ー層２４との合計の厚みが２μｍ〜５０μｍになるよう
にしてもよい。

【００７６】また、感光性転写シート２１を使用して形
成したレジストパターンの解像力を向上させるために、
バリヤー層２４に前記のような光消色性化合物を添加し
てもよい。

【００７７】図４は、本発明の感光性転写シートの他の
実施例の断面を模式的に示す断面図である。図４に於い
て、感光性転写シート３１は、仮支持体３２が仮支持体
本体３２ａとその片面に設けられた導電性層３２ｂとか
ら構成され、仮支持体３２の導電性層３２ｂが設けられ
ていない面に剥離層３３が積層され、その上にバリヤー
層３４、感光性樹脂層３５及び保護層３６が積層されて
構成されている。

【００７８】図４に示す感光性転写シート３１に於い
て、仮支持体３２は図２に示す感光性転写シート１１の
仮支持体１２と同様に二層構成を有するものであり、剥
離層３３、バリヤー層３４、感光性樹脂層３５及び保護
層３６は、それぞれ図３に示す感光性転写シート２１の
剥離層２３、バリヤー層２４、感光性樹脂層２５及び保
護層２６と同様のものである。従って、感光性転写シー
ト３１の詳細な内容については、繰り返して説明するま
でも無く前記のそれぞれについての説明から明らかであ
ろう。

【００７９】次ぎに、本発明のレジストパターン形成方
法について説明する。本発明のレジストパターン形成方
法は、感光性転写シートを使用する従来のレジストパタ
ーン形成方法に於いて、感光性転写シートとして本発明
の感光性転写シートを使用する他は、操作方法、操作条
件等は従来のレジストパターン形成方法と同様である。

【００８０】即ち、先ず、保護層が設けられている感光
性転写シート（バリヤー性剥離層を有する）を使用する
場合は予め保護層を取除き、感光性樹脂層を必要により
加圧を併用して加熱下に、感光性樹脂層を転写すべき支
持体上に貼り合わせて積層物を形成する。この貼り合わ
せには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーターが
使用でき、より生産性を高めるためには、オートカツト
ラミネーターの使用も可能である。その後この積層物か
ら仮支持体を剥離除去した後、所定のマスクを使用し
て、バリヤー性剥離層を介して露光して感光性樹脂層に
潜像を形成し、次いで現像するか、あるいは、仮支持体
を剥がした後でバリヤー性剥離層を溶解除去し、同様に
して露光し、次いで現像する。また、剥離層及びバリヤ
ー層を有する感光性転写シートを使用する場合は、露光
の際に剥離層及びバリヤー層を介して露光するか、又は
感光性樹脂層が影響を受けない水又はアルカリ性水溶液
で剥離層又は剥離層及びバリヤー層を溶解除去して露光
する他は、バリヤー性剥離層を有する感光性転写シート
を使用する場合と同様である。

【００８１】現像は公知の方法で溶剤もしくは水性の現
像液、特にアルカリ水溶液に浸漬するか、スプレーから
現像液の噴霧を与えること、さらにブラシでのこすりま
たは超音波を照射しつつ処理することで行なわれる。

【００８２】本発明の感光性樹脂層のアルカリ現像液
は、アルカリ性物質の希薄水溶液であるが、これに水と
混和性の有機溶剤を少量添加したものも含まれる。

【００８３】適当なアルカリ性物質はアルカリ金属水酸
化物類（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、
アルカリ金属炭酸塩類（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（ケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）アルカリ金属メタケ
イ酸塩類（メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モ
ノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアン
モンニウムヒドロキシド類（例えばテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド）または燐酸三ナトリウムである。
アルカリ性物質の濃度は、０．０１重量％〜３０重量％
であり、ｐＨは８〜１４が好ましい。

【００８４】適当な水と混和性の有機溶剤は、メタノー
ル、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノー
ル、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエー
テル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブ
チロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳
酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン
である。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１重量％〜
３０重量％である。またさらに公知の界面活性剤を添加
することができる。界面活性剤の濃度は０．０１重量％
〜１０重量％が好ましい。

【００８５】以下、実施例により本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００８６】［実施例１〜６］ （Ａ）感光性転写シートの作成 下記の手順により図２に示すような層構成を有する感光
性転写シートを作成した。

【００８７】（仮支持体の作成） 仮支持体（ａ）の作成 塩化第二錫水和物６５重量部と三塩化アンチモン１．５
重量部をエタノール１０００重量部に溶解して均一溶液
を得た。この溶液に１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を滴
下してそのｐＨを３に調整してコロイド状酸化第二錫と
酸化アンチモンとを共沈澱させ、５０℃で２４時間放置
して赤褐色のコロイド状沈澱を得た。

【００８８】この沈澱を遠心分離により分離した。過剰
なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心分離によって水
洗した。この操作を３回繰り返し過剰イオンを除去し
た。

【００８９】この沈澱１００重量部を水１，０００重量
部と混合し、混合液を６５０℃に加熱した焼成炉中へ噴
霧し平均粒子径＝０．１５μｍの青味がかった導電性微
粒子を得た。

【００９０】上記導電性微粒子を下記処方で、ペイント
シェーカー（（株）東洋精材製作所製）を使用して５時
間分散して、導電性微粒子の分散液を調製した。 上記導電性微粒子 ２００重量部 塩化ビニリデン系共重合体（旭化成工業（株）製、サランＦ−３１０） １０重量部 メチルエチルケトン １５０重量部

【００９１】この導電性微粒子の分散液を用いて、次の
処方の導電性層形成用塗布液を調製した。 上記導電性微粒子の分散液 １５重量部 サランＦ−３１０ ３重量部 メチルエチルケトン １００重量部 シクロヘキサノン ２０重量部 ｍ−クレゾール ５重量部

【００９２】上記導電性層形成用塗布液を、厚みが１０
０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（仮支持
体本体）の片面に、乾燥塗布量が１．３ｇ／ｍ² になる
ように塗布し１３０℃で２分間乾燥して、導電性層を有
する仮支持体を作成した。

【００９３】次いで、この導電性層の上に次の処方の液
を乾燥塗布量が０．２ｇ／ｍ² になるように塗布し、１
３０℃で１分間乾燥して疎水性重合体層を形成して、仮
支持体（ａ）を作成した。 セルローズトリアセテート １重量部 メチレンジクロリド ６０重量部 エチレンジクロリド ４０重量部 エルカ酸アミド ０．０１重量部

【００９４】この仮支持体（ａ）の表面電気抵抗値を絶
縁抵抗測定器（川口電極社製ＶＥ−３０型）で測定した
ところ、２５℃、２５％ＲＨで７×１０⁸ Ω／□であっ
た。 仮支持体（ｂ）〜（ｆ）の作成

【００９５】上記導電性微粒子の分散液の処方中の導電
性微粒子の添加量を変えた他は仮支持体（ａ）の作成と
同様にして、下記表１に示す表面電気抵抗値を有する仮
支持体（ｂ）〜（ｆ）を作成した。

【００９６】

【表１】

【００９７】（バリヤー性剥離層の形成）上記の仮支持
体（ａ）の導電性層が設けられた面とは反対側の面に、
下記処方Ａから成るバリヤー性剥離層形成用塗布液を塗
布した後、乾燥して、乾燥膜厚が１．６μｍのバリヤー
性剥離層を形成した。

【００９８】 処方Ａ： ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ２０５、鹸化率＝８０％） １３０重量部 ポリビニルピロリドン（ＧＡＦコーポレーション社製ＰＶＰ、Ｋ−９０） ６０重量部 弗素系界面活性剤（旭硝子（株）社製、サーフロンＳ−１３１） １０重量部 蒸留水 ３３５０重量部

【００９９】（感光性樹脂層の形成）上記のバリヤー性
剥離層の上に、富士ハントエレクトロテクノロジー社製
ポジレジスト液、ＦＨ２１３０（このレジストは主成分
は融点が５０℃から６５℃のノボラック樹脂とキノンジ
アジド感光物とからなる）を塗布した後、乾燥させ、乾
燥膜厚が２．０μｍの感光性樹脂層を形成した。

【０１００】（保護層の形成）上記感光性樹脂層の上に
ポリプロピレン（厚さ１２μｍ）のフィルムを圧着して
保護層を形成し、実施例１の感光性転写シートを作成し
た。

【０１０１】仮支持体（ａ）の代わりに仮支持体（ｂ）
〜（ｆ）を使用した他は実施例１の感光性転写シートの
作成と同様にして、それぞれ実施例２〜６の感光性転写
シートを作成した。

【０１０２】（Ｂ）レジストパターンの形成 上記のようにして得られた実施例１〜６の感光性転写シ
ートを用いて、以下の様にして透明導電膜（ＩＴＯ）の
パターニングを行った。

【０１０３】感光性転写シートの保護層を剥離して露出
させた感光性樹脂層面を、感光性樹脂層を転写すべき支
持体である透明ガラス基板上にスパッタ法で形成された
ＩＴＯ膜（抵抗値３０Ω／□）面に、ラミネーター（大
成ラミネータ（株）製、ＶＰ−ＩＩ）を用いて加圧
（０．８ｋｇ／ｃｍ² ）下に、加熱（１３０℃）して貼
り合わせて積層物を形成した。続いてこの積層物の仮支
持体とバリヤー性剥離層との界面で剥離することによっ
て、積層物から仮支持体を除去した。

【０１０４】次に所定のフォトマスクを介して露光し
（光源：超高圧水銀灯、露光条件：１００ｍｊ／ｃｍ
² ）、０．２４Ｎの水酸化ナトリウム水溶液で現像して
不要部を除去し、ガラス基板上にレジストパターンを形
成した。

【０１０５】どの実施例の感光性転写シートを使用した
場合も、仮支持体の剥離時に剥離帯電は発生せず、バリ
ヤー性剥離層表面への異物の付着も観察されず、欠落の
ないレジストパターンが形成された。これらの場合、最
小解像度（ライン＆スペース＝１：１）は３μｍであっ
た。

【０１０６】さらに所定のＩＴＯエッチング液にて透明
ガラス基板上のＩＴＯをエッチングし、レジスト剥離し
たところ断線の無いＩＴＯパターンが得られた。

【０１０７】［比較例１］仮支持体として導電性層を設
けない１００μ厚ポリエチレンテレフタレートフィルム
を使用した他は、実施例１に於けると同様にしてバリヤ
ー性剥離層、感光性樹脂層及び保護層を積層して感光性
転写シートを作成した。この感光性転写シートを使用し
て実施例１に於けると同じ方法でＩＴＯ基板上にレジス
トパターンを作成した。この場合、仮支持体を剥離する
時に剥離帯電が生じ、基板上のバリヤー性剥離層表面に
異物の付着が観察され、得られたパターンは欠落が多く
発生していた。続いてＩＴＯエッチング、さらにレジス
ト剥離したところ、得られたＩＴＯパターンにはショー
トが生じていた。

【０１０８】［実施例７］実施例１の感光性転写シート
を用いて、実施例１に於けると同様にして感光性樹脂層
を透明ガラス基板のＩＴＯ膜面に張り合せて積層物を形
成した。この積層物から、仮支持体を剥離する時に剥離
帯電は発生せず、バリヤー性剥離層表面への異物の付着
も観察されなかった。

【０１０９】次いで水洗によりバリヤー性剥離層を除去
した後、実施例１に於けると同じ方法で露光、及び現像
を行ってレジストパターンを作成したところ、欠落のな
いレジストパターンが形成された。この場合の最小解像
度（ライン＆スペース＝１：１）は２μｍであった。

【０１１０】さらに所定のＩＴＯエッチング液にてＩＴ
Ｏをエッチングし、レジスト剥離したところ断線の無い
ＩＴＯパターンが得られた。

【０１１１】［実施例８−１３］ （Ａ）感光性転写シートの作成 下記の手順により図４に示すような層構成を有する感光
性転写シートを作成した。

【０１１２】（仮支持体の作成）それぞれ実施例１〜６
に於けると同様にして、仮支持体（ａ）〜（ｆ）を作成
した。

【０１１３】（剥離層の形成）それぞれの仮支持体
（ａ）〜（ｆ）の導電性層が設けられた面とは反対側の
面に、下記処方Ｂからなる剥離層形成用塗布液を塗布し
た後、乾燥して、乾燥膜厚が１０μｍ厚の剥離層を形成
した。 処方Ｂ： メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比） ＝５５／２８．８／１１．７／４．５、重量平均分子量＝９００００） １５重量部 ポリプロピレングリコールジアクリレート（平均分子量＝８２２） ６．５重量部 テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５重量部 ｐ−トルエンスルホンアミド ０．５重量部 ベンゾフェノン １．０重量部 メチルエチルケトン ３０重量部

【０１１４】（バリヤー層の形成）得られたそれぞれの
剥離層の上に、実施例１〜６で用いたバリヤー性剥離層
形成用塗布液と同じ組成（処方Ａ）を有するバリヤー層
形成用塗布液を塗布した後、乾燥して、乾燥膜厚が１．
６μｍのバリヤー層を形成した。

【０１１５】（感光性樹脂層の形成）上記のバリヤー層
の上に、富士ハントエレクトロテクノロジー社製ポジレ
ジスト液、ＦＨ２１３０を塗布した後、乾燥させ、乾燥
膜厚が２．０μｍの感光性樹脂層を形成した。

【０１１６】（保護層の形成）上記感光性樹脂層の上に
ポリプロピレン（厚さ１２μｍ）のフィルムを圧着して
保護層を形成し、それぞれ仮支持体（ａ）〜（ｆ）に対
応する実施例８〜１３の感光性転写シートを作成した。

【０１１７】（Ｂ）レジストパターンの形成 上記のようにして得られた実施例８〜１３の感光性転写
シートを用い、感光性樹脂層を転写すべき支持体とし
て、±０．１μｍの凹凸が形成されＩＴＯ膜が設けられ
た透明ガラス基板を使用した他は、実施例１に於けると
同様にしてレジストパターンを形成した。

【０１１８】どの実施例の感光性転写シートを使用した
場合も、仮支持体の剥離時に剥離帯電は発生せず、バリ
ヤー性剥離層表面への異物の付着も観察されず、欠落の
ないレジストパターンが形成された。また、感光性樹脂
層の転写時に、透明ガラス基板の凹凸に起因する気泡残
りは皆無であった。また、最小解像度（ライン＆スペー
ス＝１：１）は１０μｍであった。

【０１１９】さらに所定のＩＴＯエッチング液にて透明
ガラス基板上のＩＴＯをエッチングし、レジスト剥離し
たところ断線の無いＩＴＯパターンが得られた。

【０１２０】［実施例１４］処方Ａのバリヤー層形成用
塗布液の代わりに、下記処方Ｃのバリヤー層形成用塗布
液を使用した他は実施例８に於けると同様にして、感光
性転写シートを作成した。 処方Ｃ： ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ２０５、鹸化率＝８０％） １３０重量部 ポリビニルピロリドン（ＧＡＦコーポレーション社製ＰＶＰ、Ｋ−９０） ６０重量部 弗素系界面活性剤（旭硝子（株）社製サーフロンＳ−１３１） １０重量部 ４−Ｎ，Ｎジメチルアミノベンゼン− ジアゾニウムトリフルオロメタンスルホネート ８０重量部 蒸留水 ３３５０重量部

【０１２１】上記のようにして得られた感光性転写シー
トを用い、実施例１に於けると同様にしてレジストパタ
ーンを形成した。仮支持体の剥離時に剥離帯電は発生せ
ず、バリヤー性剥離層表面への異物の付着も観察され
ず、欠落のないレジストパターンが形成された。また、
最小解像度（ライン＆スペース＝１：１）は２μｍであ
った。

【０１２２】さらに所定のＩＴＯエッチング液にて透明
ガラス基板上のＩＴＯをエッチングし、レジスト剥離し
たところ断線の無いＩＴＯパターンが得られた。

【０１２３】［実施例１５〜２８］実施例１〜１４に於
いて感光性樹脂層形成用塗布液として使用した富士ハン
トエレクトロテクノロジー社製ポジレジストＦＨ２１３
０の代りに、下記の処方Ｄからなる感光性樹脂層形成用
塗布液を用いた以外は、それぞれ実施例１〜１４に於け
ると同様にして、それぞれ実施例１５〜２８の感光性転
写シートを作成した。 処方Ｄ ビス（２−ヒドロキシエチル）２，４−トリレンジカルバメートと ジクロロジメチルシランとの反応生成物 １１０重量部 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 ５０重量部 ２−（ｐ−メトキシフェニル）４，６−ビストリクロロメチル −ｓ−トリアジン ２重量部 メチルエチルケトン ５００重量部 メチルセロソルブ １５００重量部

【０１２４】上記実施例１５〜２８の感光性転写シート
を使用し、実施例１に於けると同様にしてレジストパタ
ーンを形成したところ、仮支持体の剥離時に剥離帯電は
発生せず、バリヤー性剥離層表面への異物の付着も観察
されず、欠落のないレジストパターンが形成され、断線
の無いＩＴＯパターンが得られた。

【０１２５】

【発明の効果】本発明の感光性転写シートは、それを感
光性樹脂層を転写すべき支持体とを貼り合わせた積層物
から、仮支持体を剥離する際に、剥離帯電が発生せず、
塵埃等が感光性樹脂層の上に付着することが無いという
顕著な効果を奏する。また本発明の感光性転写シート
は、表面に凹凸が形成された支持体に感光性樹脂層を転
写したときでも、支持体と感光性樹脂層との間に気泡残
りが生ずることが無く、高解像力でレジストパターンを
形成することができるという顕著な効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の感光性転写シートの一実施例の断面
を模式的に示す断面図である。

【図２】 本発明の感光性転写シートの他の実施例の断
面を模式的に示す断面図である。

【図３】 本発明の感光性転写シートの他の実施例の断
面を模式的に示す断面図である。

【図４】 本発明の感光性転写シートの他の実施例の断
面を模式的に示す断面図である。

【符号の説明】

１ 感光性転写シート ２ 仮支持体 ３ バリヤー性剥離層 ４ 感光性樹脂層 ５ 保護層 １１ 感光性転写シート １２ 仮支持体 １２ａ 仮支持体本体 １２ｂ 導電性層 １３ バリヤー性剥離層 １４ 感光性樹脂層 １５ 保護層 ２１ 感光性転写シート ２２ 仮支持体 ２３ 剥離層 ２４ バリヤー層 ２５ 感光性樹脂層 ２６ 保護層 ３１ 感光性転写シート ３２ 仮支持体 ３２ａ 仮支持体本体 ３２ｂ 導電性層 ３３ 剥離層 ３４ バリヤー層 ３５ 感光性樹脂層 ３６ 保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｊ 6921−4Ｅ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 合成樹脂製の仮支持体上に、バリヤー性
   剥離層又は剥離層及びバリヤー層、並びにアルカリ現像
   型の感光性樹脂層がこの順で積層されてなる感光性転写
   シートに於いて、仮支持体が１０¹³Ω／□以下の表面電
   気抵抗値を有することを特徴とする感光性転写シート。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の感光性転写シートを、
   その感光性樹脂層表面で、感光性樹脂層を転写すべき支
   持体に加熱下に貼り合せて積層物を形成する工程、該積
   層物から仮支持体を剥離により除去する工程、所望によ
   り該積層物からバリヤー性剥離層又は剥離層及びバリヤ
   ー層を除去する工程、所定のパターンを有するフォトマ
   スクを介して露光することにより感光性樹脂層に潜像を
   形成する工程、及び感光性樹脂層を現像処理して支持体
   上にレジストパターンを形成する工程からなることを特
   徴とするレジストパターン形成方法。