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JPH06309714A - Method for manufacturing magneto-optical recording medium - Google Patents

Method for manufacturing magneto-optical recording medium

Info

Publication number
JPH06309714A
JPH06309714A JP9422193A JP9422193A JPH06309714A JP H06309714 A JPH06309714 A JP H06309714A JP 9422193 A JP9422193 A JP 9422193A JP 9422193 A JP9422193 A JP 9422193A JP H06309714 A JPH06309714 A JP H06309714A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magneto
recording medium
optical recording
dielectric layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9422193A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshimasa Shimizu
佳昌 清水
Toshimi Kobayashi
利美 小林
Chikayasu Fukushima
慎泰 福島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP9422193A priority Critical patent/JPH06309714A/en
Publication of JPH06309714A publication Critical patent/JPH06309714A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 本発明はプラスチック基板と記録層との付
着強度を大きくした光磁気記録媒体を生産性よく製造す
ることができる光磁気記録媒体の製造方法の提供を目的
とするものである。 【構成】 本発明による光磁気記録媒体の製造方法
は、プラスチック製の基板上に第一の誘電体層、記録
層、第二の誘電体層および反射層を順次形成した光磁気
記録媒体の製造方法において、少なくとも基板に接する
側の誘電体層を、酸化物を5重量%以上、30重量%以下
含有する Si3N4焼結体をターゲットとし、純Arガス中
でのスパッタリング法により成膜することを特徴とする
ものである。
(57) [Summary] (Modified) [Objective] The present invention provides a method for manufacturing a magneto-optical recording medium, which can manufacture with high productivity a magneto-optical recording medium in which the adhesion strength between a plastic substrate and a recording layer is increased. The purpose is. A method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention is a method for manufacturing a magneto-optical recording medium in which a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer and a reflective layer are sequentially formed on a plastic substrate. In the method, at least the dielectric layer on the side in contact with the substrate is formed by a sputtering method in pure Ar gas, using a Si 3 N 4 sintered body containing 5 wt% to 30 wt% of oxide as a target. It is characterized by doing.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録媒体の製造方
法、特にはプラスチック基板と記録層との付着強度を大
きくした光磁気記録媒体の製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magneto-optical recording medium, and more particularly to a method of manufacturing a magneto-optical recording medium in which the adhesion strength between a plastic substrate and a recording layer is increased.

【0002】[0002]

【従来の技術】光磁気記録媒体は一般に基板としてポリ
カーボネートなどのプラスチック板を用いて、この上に
第一の誘電体層、記録層、第二の誘電体層、反射層を順
次形成させたものとされている。そして、これらの各層
はDCあるいはRFスパッタリング法により形成されて
おり、この誘電体層は通常Siターゲットを用いて、A
r、N2 混合ガス雰囲気での反応性スパッタで形成され
ているが、このようにして形成された膜はプラスチック
基板との付着強度が十分でなく、剥離し易いという欠点
があった。
2. Description of the Related Art Generally, a magneto-optical recording medium uses a plastic plate such as polycarbonate as a substrate on which a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer and a reflective layer are sequentially formed. It is said that. Each of these layers is formed by a DC or RF sputtering method, and this dielectric layer is usually formed by using a Si target and
Although it is formed by reactive sputtering in an r, N 2 mixed gas atmosphere, the film thus formed has a drawback that it does not have sufficient adhesive strength with a plastic substrate and is easily peeled off.

【0003】したがって、これについてはこの付着強度
を大きくするために、プラスチック基板の表面を酸素プ
ラズマで処理したり、成膜前にプラスチック基板を予め
スパッタエッチングする方法などが提案されているが、
これらはいずれも工程が多くなるために生産性が低下す
るし、装置も複雑になるという問題があった。
Therefore, in order to increase the adhesion strength, there have been proposed methods such as treating the surface of the plastic substrate with oxygen plasma, and sputter etching the plastic substrate in advance before film formation.
All of these have a problem that the number of processes is increased and thus the productivity is lowered and the apparatus is complicated.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】また、このプラスチッ
ク基板上に直接形成される第一の誘電体層は、基板から
放出される水分を記録層から遮断するという役割をもっ
ており、これはこの役割の他にこの光磁気記録媒体のカ
ー回転角を向上させる、カーエンハンス効果を得ること
も兼ねているのであるが、この誘電体層についてはこの
中に浮遊酸素があると、それによって誘電体の屈折率が
低下されるために同等のエンハンス効果を得るためには
この膜厚を大きくする必要があるのであるが、膜厚を大
きくすると成膜時間が長くかかり、生産性が悪くなると
いう問題がある。
The first dielectric layer formed directly on the plastic substrate has a role of blocking moisture released from the substrate from the recording layer. Besides, it also serves to improve the Kerr rotation angle of this magneto-optical recording medium and also to obtain the Kerr enhancement effect. However, when there is floating oxygen in this dielectric layer, it causes refraction of the dielectric by this. Since it is necessary to increase the film thickness in order to obtain the same enhancement effect due to the decrease in the rate, there is a problem that if the film thickness is increased, the film formation time becomes long and productivity deteriorates. .

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決した光磁気記録媒体の製造方法に関す
るものであり、これはプラスチック製の基板上に第一の
誘電体層、記録層、第二の誘電体層および反射層を順次
形成する光磁気記録媒体の製造方法において、少なくと
も基板に接する側の誘電体層を、酸化物を5重量%以
上、30重量%以下含有する Si3N4焼結体をターゲットと
する、純Arガス中でのスパッタリング法により成膜す
ることを特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a magneto-optical recording medium which solves the above disadvantages and problems, and it relates to a first dielectric layer, a recording layer, and a recording layer on a plastic substrate. In a method for manufacturing a magneto-optical recording medium in which a layer, a second dielectric layer and a reflective layer are sequentially formed, at least the dielectric layer on the side in contact with the substrate contains Si in an amount of 5% by weight or more and 30% by weight or less. It is characterized in that a film is formed by a sputtering method in a pure Ar gas targeting a 3 N 4 sintered body.

【0006】すなわち、本発明者らはプラスチック基板
と記録層との付着強度を大きくした光磁気記録媒体の製
造方法について種々検討した結果、プラスチック製基板
に第一誘電体層、記録層、第二誘電体層、反射層を順次
形成する光磁気記録媒体の製造方法において、この第一
の誘電体層を酸化物を含有する Si3N4焼結体をターゲッ
トとし、これを純Arガス雰囲気中でスパッタリングし
て成膜すると、ここに得られる誘電体層としてのSiN
層が付着強度の大きいものとなるし、これはまた屈折率
の大きいものになるということを見出し、これによれば
プラスチック基板と記録層の付着強度も大きい光磁気記
録媒体を有利に製造することができることを確認して本
発明を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。
That is, as a result of various studies on the manufacturing method of the magneto-optical recording medium in which the adhesion strength between the plastic substrate and the recording layer was increased, the present inventors found that the first dielectric layer, the recording layer and the second layer were formed on the plastic substrate. In a method of manufacturing a magneto-optical recording medium in which a dielectric layer and a reflective layer are sequentially formed, this first dielectric layer is targeted at a Si 3 N 4 sintered body containing an oxide, and this is placed in a pure Ar gas atmosphere. When sputtering to form a film, SiN as a dielectric layer is obtained here.
It has been found that the layer has a high adhesion strength, and this also has a high refractive index, and according to this, it is advantageous to manufacture a magneto-optical recording medium having a high adhesion strength between the plastic substrate and the recording layer. The present invention has been completed after confirming that the above can be achieved. This will be described in more detail below.

【0007】[0007]

【作用】本発明は光磁気記録媒体の製造方法に関するも
のであり、これは前記したようにプラスチック基板に第
一の誘電体層、記録層、第二の誘電体層および反射層を
順次形成する光磁気記録媒体の製造方法において、少な
くとも基板に接する側の誘電体層を、酸化物を5重量%
以上、30重量%以下含有する Si3N4をターゲットとす
る、純Arガス中でのスパッタリング法により成膜する
ことを特徴とするものであるが、これによればこの方法
で作られたSiNからなる誘電体層が接着強度の大きい
ものとなるので基板と記録層も付着強度の大きいものと
なるし、この誘電体層が屈折率の大きいものとなるので
これは薄くすることができ、したがって短い時間でこれ
を成膜させることができるという有利性が与えられる。
The present invention relates to a method of manufacturing a magneto-optical recording medium, which has a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer and a reflective layer formed in sequence on a plastic substrate as described above. In the method of manufacturing a magneto-optical recording medium, at least the dielectric layer on the side in contact with the substrate contains 5% by weight of oxide.
As described above, the feature is that the film is formed by the sputtering method in the pure Ar gas, which targets Si 3 N 4 containing 30% by weight or less. According to this, the SiN produced by this method is used. Since the dielectric layer made of has a high adhesive strength, the substrate and the recording layer also have a high adhesive strength, and since this dielectric layer has a high refractive index, it can be made thin and therefore This gives the advantage that it can be deposited in a short time.

【0008】本発明による光磁気記録媒体の製造は、ポ
リカーボネート樹脂などのプラスチック基板上に第一の
誘電体層、記録層、第二の誘電体層および反射層を順次
成膜するという公知の方法で行なわれるので、この光磁
気記録媒体自体は公知のもので新規なものではない。こ
の製造方法はプラスチック基板を90℃に設定されている
オーブン内での1時間以上の脱ガス処理工程を経てディ
スクキャリアに取付けたのち、真空排気室(ローディン
グチャンバー)内に入れるのであるが、このディスクキ
ャリアはローディングチャンバー内で真空に排気されて
成膜室に送られる。
The magneto-optical recording medium according to the present invention is manufactured by a known method in which a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer and a reflective layer are sequentially formed on a plastic substrate such as a polycarbonate resin. The magneto-optical recording medium itself is a known one and is not new. In this manufacturing method, a plastic substrate is attached to a disk carrier after a degassing process for 1 hour or more in an oven set at 90 ° C., and then placed in a vacuum exhaust chamber (loading chamber). The disk carrier is evacuated to a vacuum in the loading chamber and sent to the film forming chamber.

【0009】この成膜室では公知の成膜工程にしたがっ
て、このプラスチック基板に第一の誘電体層としてのS
iN層、記録層としての希土類金属と鉄系の非晶質合金
とからなる、例えばTbFeCo、GdDyFeCoなどの層が成膜さ
れ、この上にさらに第二の誘電体層としてのSiN層お
よび反射層としてのAl合金層が、それぞれDCまたは
RFスパッタリング法で成膜される。
In this film forming chamber, S as a first dielectric layer is formed on the plastic substrate according to a known film forming process.
A layer made of a rare earth metal and an iron-based amorphous alloy as an iN layer and a recording layer, for example, TbFeCo, GdDyFeCo, etc. is formed, and a SiN layer as a second dielectric layer and a reflective layer are further formed thereon. Al alloy layers are formed by DC or RF sputtering, respectively.

【0010】しかし、本発明ではこの第一の誘電体層の
成膜が常圧、ホットトプレスまたはHIP(Hot Isosta
tic Press )などの方法で作成された Si3N4焼結体をタ
ーゲットとして行なわれるのであるが、この Si3N4焼結
体ターゲットは金属または半金属の酸化物がバインダー
として用いたものとされる。この金属または半金属の酸
化物はMxOyで示され、このMはAl、Zr、Siおよび
Y、Scを含む希土類元素から選ばれる金属元素の少な
くとも1種とされるもので、このx、yはモル%を示
し、これは30≦x≦70、30≦y≦70であるものが好まし
いとされる。
However, in the present invention, the film formation of the first dielectric layer is carried out under normal pressure, hot press or HIP (Hot Isosta).
The target is a Si 3 N 4 sintered body created by a method such as tic press), and this Si 3 N 4 sintered body target is one in which a metal or semimetal oxide is used as a binder. To be done. This metal or metalloid oxide is represented by MxOy, and M is at least one metal element selected from rare earth elements including Al, Zr, Si and Y, Sc, where x and y are Mol%, which is preferably 30 ≦ x ≦ 70 and 30 ≦ y ≦ 70.

【0011】この第一の誘電体層の成膜はこの Si3N4
結体ターゲットを使用し、圧力が 5.0×10-4〜 1.0×10
-2Torrの純Ar雰囲気中で、RF電圧を用いてスパッタ
リングすることによって行なえばよいが、この Si3N4
結体ターゲット中に含まれる酸化物の量は5重量%以上
で30重量%以下とすることがよく、これによればこれで
得られた誘電体層の付着強度が大きくなるので、基板と
記録層との付着強度も大きくすることができるし、この
膜が屈折率も高いものとなるのでこの膜厚を薄くするこ
とができ、したがって成膜時間を短くすることができ、
生産性よく光磁気記録媒体を得ることができるという有
利性が与えられる。
The first dielectric layer is formed by using this Si 3 N 4 sintered body target at a pressure of 5.0 × 10 −4 to 1.0 × 10 5.
It may be carried out by sputtering using an RF voltage in a pure Ar atmosphere of -2 Torr. The amount of oxide contained in the Si 3 N 4 sintered body target is 5% by weight or more and 30% by weight or more. The adhesive strength of the dielectric layer obtained by this is preferably increased, so that the adhesive strength between the substrate and the recording layer can also be increased, and this film also has a high refractive index. Therefore, it is possible to reduce this film thickness, and therefore the film formation time can be shortened,
The advantage that a magneto-optical recording medium can be obtained with high productivity is given.

【0012】この第一の誘電体層を成膜したのちの記録
層、第二の誘電体層、反射層の成膜は公知の方法で行な
えばよく、したがってこの記録層の形成は通常用いられ
ているTbFeCo、GdDyFeCoなどの組成からなる合金ターゲ
ットを用いて、Arガス雰囲気でのDCスパッタリング
で行えばよく、第二の誘電体層は上記した第一の誘電体
と同様の方法で成膜してもよいがこれは公知のSiまた
は Si3N4ターゲットを用いて、ArとN2 との混合ガス
雰囲気でのRF反応性スパッタリングで行なってもよ
く、この反射層はAlとその他の添加物からなるターゲ
ットを用いてArガス雰囲気でDCスパッタリングすれ
ばよい。
The formation of the recording layer, the second dielectric layer, and the reflective layer after the formation of the first dielectric layer may be performed by a known method, and thus the formation of this recording layer is usually used. It may be performed by DC sputtering in an Ar gas atmosphere using an alloy target having a composition such as TbFeCo or GdDyFeCo, and the second dielectric layer is formed by the same method as the above-mentioned first dielectric. However, this may be performed by RF reactive sputtering in a mixed gas atmosphere of Ar and N 2 using a known Si or Si 3 N 4 target, and the reflective layer is formed of Al and other additives. DC sputtering may be performed in an Ar gas atmosphere using a target made of

【0013】[0013]

【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例1〜3、比較例1〜4 直径86mmφ、厚さ 1.2mmのトラッキンググルーブ付のポ
リカーボネート基板を90℃に加熱されているオーブン中
に2時間放置して乾燥してからディスクキャリアに装着
し、ローディングチャンバー内に入れて真空排気を行な
った。
EXAMPLES Next, examples and comparative examples of the present invention will be described. Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to 4 A polycarbonate substrate with a diameter of 86 mm and a thickness of 1.2 mm and having a tracking groove is left in an oven heated to 90 ° C. for 2 hours to dry and then mounted on a disk carrier. Then, it was placed in the loading chamber and evacuated.

【0014】ついで、この基板の上に第一の誘電体層を
成膜するために、Al2O3 とY2O3を含む Si3N4をN2 ガス
雰囲気中においてホットプレスで焼結して得た Al2O3
Y2O3の含有量が後記の表1に示した量である3種の Si3
N4焼結体をターゲットとし、純Arガス雰囲気の 1.0×
10-3Torrの圧力下でRFスパッタリングして、この基板
上に第一の誘電体層を膜厚30nmで成膜したのち、公知の
方法でTbFeCoから記録層を膜厚13nmで成膜し、さらに第
二の誘電体層としてSiN層を25nmの膜厚で、またAl
反射層を膜厚60nmで順次成膜して光磁気記録媒体(実施
例1〜3)を作製した。
Then, in order to form a first dielectric layer on this substrate, Si 3 N 4 containing Al 2 O 3 and Y 2 O 3 is sintered by hot pressing in an N 2 gas atmosphere. Obtained with Al 2 O 3
The content of Y 2 O 3 is the amount shown in Table 1 below, and three types of Si 3
Targeting N 4 sintered body, 1.0 × in pure Ar gas atmosphere
After RF sputtering under a pressure of 10 -3 Torr to form a first dielectric layer with a thickness of 30 nm on this substrate, a recording layer is formed with a thickness of 13 nm from TbFeCo by a known method, Furthermore, as a second dielectric layer, a SiN layer with a thickness of 25 nm,
Magneto-optical recording media (Examples 1 to 3) were manufactured by sequentially forming a reflective layer with a film thickness of 60 nm.

【0015】また、この光磁気記録媒体については比較
のために、この第一および第二の誘電体層の成膜を公知
のSiをターゲットとし、Ar:N2 の流量比を10:3
に設定した雰囲気下に 1.0×10-3TorrでRF反応性スパ
ッタ法で行なったほかは実施例と同じ方法で記録層、第
二の誘電体層、反射層を成膜して3種の光磁気記録媒体
(比較例1〜3)を作製した。
For comparison of this magneto-optical recording medium, the first and second dielectric layers were formed by using a known Si target, and the flow ratio of Ar: N 2 was 10: 3.
A recording layer, a second dielectric layer, and a reflective layer were formed in the same manner as in Example 1 except that RF reactive sputtering was performed at 1.0 × 10 −3 Torr in an atmosphere set to 3. Magnetic recording media (Comparative Examples 1 to 3) were produced.

【0016】つぎにこのようにして得た6種類の光磁気
記録媒体の膜面に幅18mmの粘着テープを貼りつけ、この
粘着テープの両側の膜に切れ目を入れ、これを引っ張り
試験機に取りつけて膜の付着強度をしらべたところ、表
1に示したとおりの結果が得られ、実施例のものは比較
例のものにくらべて大きい付着強度を示した。
Next, an adhesive tape having a width of 18 mm was attached to the film surfaces of the 6 types of magneto-optical recording media obtained in this way, cuts were made on the films on both sides of this adhesive tape, and this was attached to a tensile tester. When the adhesion strength of the film was examined, the results shown in Table 1 were obtained, and the adhesive strength of the example was higher than that of the comparative example.

【0017】また、この光磁気記録媒体については上記
した Al2O3とY2O3の含有量とは異なる Al2O3が12重量
%、Y2O3が24重量%である Si3N4焼結体をターゲットと
して上記と同じ方法で第一の誘電体層を作り、記録層、
第二の誘電体層および反射層も上記と同じように成膜し
て比較例4の光磁気記録媒体を作り、この実施例1〜
3、比較例4の光磁気記録媒体の屈折率を測定したとこ
ろ、つぎの表2に示したとおりの結果が得られ、実施例
のものは比較例のものにくらべて屈折率が大きいので、
これはカーエンハンス効果を得るためにはこの膜面を薄
くすることができしたがって生産性を向上させることが
できた。
In this magneto-optical recording medium, the content of Al 2 O 3 and Y 2 O 3 which are different from each other is 12% by weight of Al 2 O 3 and 24% by weight of Y 2 O 3 Si 3 The first dielectric layer is formed by the same method as above using the N 4 sintered body as a target, and the recording layer,
The second dielectric layer and the reflective layer were also formed in the same manner as above to produce the magneto-optical recording medium of Comparative Example 4, and
3. When the refractive index of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 4 was measured, the results as shown in the following Table 2 were obtained, and since the example has a larger refractive index than the comparative example,
This is because the film surface can be thinned in order to obtain the car enhancement effect, and thus the productivity can be improved.

【0018】[0018]

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明は光磁気記録媒体の製造方法に関
するものであり、これは前記したようにプラスチック製
の基板上に第一の誘電体層、記録層、第二の誘電体層お
よび反射層を順次形成した光磁気記録媒体の製造方法に
おいて、少なくとも基板に接する側の誘電体を、酸化物
を5重量%以上、30重量%以下含有する Si3N4焼結体を
ターゲットとし、純Arガス中でのスパッタリング法に
より成膜することを特徴とするものであるが、これによ
ればここに得られる誘電体層としてのSiN層を付着強
度の大きいものとすることができるので、プラスチック
基板と記録層との付着強度の大きい光磁気記録媒体を得
ることができるし、これを屈折率の大きいものとするこ
とができるのでこの誘電体を薄くすることができ、した
がって光磁気記録媒体を生産性よく製造することができ
るという有利性が与えられる。
As described above, the present invention relates to a method of manufacturing a magneto-optical recording medium, which comprises a plastic substrate, a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer and a reflective layer. In a method of manufacturing a magneto-optical recording medium in which layers are sequentially formed, at least the dielectric on the side in contact with the substrate is a Si 3 N 4 sintered body containing 5 wt% or more and 30 wt% or less of an oxide as a target. The present invention is characterized in that the film is formed by a sputtering method in Ar gas. According to this method, the SiN layer as the dielectric layer obtained here can be made to have a high adhesive strength, so that the plastic It is possible to obtain a magneto-optical recording medium in which the adhesion strength between the substrate and the recording layer is large, and it is possible to make the dielectric material thin because the refractive index of the medium can be large. Advantage is provided that can be produced with good productivity body.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プラスチック製の基板上に第一の誘電体
層、記録層、第二の誘電体層および反射層を順次形成し
た光磁気記録媒体の製造方法において、少なくとも基板
に接する側の誘電体層を、酸化物を5%以上、30重量%
以下含有する Si3N4焼結体をターゲットとする、純Ar
ガス中でのスパッタリング法により成膜することを特徴
とする光磁気記録媒体の製造方法。
1. In a method of manufacturing a magneto-optical recording medium, wherein a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer and a reflective layer are sequentially formed on a plastic substrate, at least the dielectric on the side in contact with the substrate. Body layer, oxide 5% or more, 30% by weight
Pure Ar targeting the Si 3 N 4 sintered body containing
A method of manufacturing a magneto-optical recording medium, which comprises forming a film by a sputtering method in a gas.
【請求項2】Si3N4 ターゲット中に含まれる酸化物がMx
Oy(ここにMはAl、Zr、SiまたはY、Scを含む
希土類元素から選ばれる1種以上の金属、x、yはモル
%で30≦x≦70、30≦y≦70)で示されるものである請
求項1に記載した光磁気記録媒体の製造方法。
2. The oxide contained in the Si 3 N 4 target is M x.
O y (where M is Al, Zr, Si or one or more metals selected from rare earth elements including Y and Sc, x and y are mol% 30 ≦ x ≦ 70, 30 ≦ y ≦ 70) The method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein
JP9422193A 1993-04-21 1993-04-21 Method for manufacturing magneto-optical recording medium Pending JPH06309714A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7087290B2 (en) 1999-02-12 2006-08-08 General Electric Data storage media utilizing a substrate including a plastic resin layer, and method thereof
US7179551B2 (en) 1999-02-12 2007-02-20 General Electric Company Poly(arylene ether) data storage media

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